CN203625462U - 一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置 - Google Patents

一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置 Download PDF

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Abstract

本实用新型涉及一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置。本一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置,包括:集成盒装置,该集成盒装置包括用于收集靶材表面颗粒物的盒子,盒子内形成容置空间,还包括位于盒子上方的擦除装置和位于擦除装置下方的上下驱动装置;导向装置,该导向装置包括安装在盒子两端的固定轴,一端固定轴的端部设有轴承,轴承可滑动地安装在轴承导向轨道中,另一端固定轴的端部设有连接件;水平驱动装置,通过与导向装置另一端固定轴端部的连接件相连,连接并设置在集成盒装置的下方,以驱动集成盒装置做水平往返运动。本实用新型可用于防止靶材物质在暗区内成团簇状或片状脱落对基板造成的不良。

Description

一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置
技术领域
本实用新型属于真空溅射镀膜技术领域,特别设计一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置。
背景技术
目前,靶材从形状上分大致可分为圆柱形靶材及平面形矩形靶材,由于圆柱形靶材及所需的旋转靶座成本较高,从成本方面考虑价格成本相对较低的平面矩形靶材及靶座为优选。 
靶材从材质上又分为金属类靶材、陶瓷类靶材、合金类靶材。磁控溅射设备内磁场又分为固定式和移动式。当使用陶瓷类靶材和固定式磁场分布的情况下,根据磁场排列情况会在靶材表面的固定区域内形成“暗区”,“暗区”的意思就是靶材原子在该区域内沉积的速度大于被溅射下去的速度。故该区域内会形成靶材物质的颗粒聚集物,当颗粒物不足以附着在靶材上时就会成团簇状或片状脱落,这些颗粒物脱落至底部基板上,造成基板不良。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是如何克服现有技术的上述缺陷,提供一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置。该一种自动清理磁控溅射设备平面靶材的装置可用于防止靶材物质在暗区内成团簇状或片状脱落对基板造成的不良。
为解决上述技术问题,本一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置,包括:
集成盒装置,该集成盒装置包括用于收集靶材表面颗粒物的上方开口的长方体盒子,盒子内形成容置空间,还包括至少有一部分位于盒子上方的擦除装置和位于擦除装置下方用于驱动擦除装置做上下往返运动的上下驱动装置,上下驱动装置设置在盒子的内部;
导向装置,该导向装置包括安装在盒子两端、且与盒子长度方向平行的固定轴,一端固定轴的端部设有轴承,轴承可滑动地安装在轴承导向轨道中、能够沿盒子宽度方向做往返运动,另一端固定轴的端部设有连接件;
水平驱动装置,通过与导向装置另一端固定轴端部的连接件相连,连接并设置在集成盒装置的下方,以驱动集成盒装置做水平往返运动。
靶材内嵌入靶座上,靶座和侧边防护遮罩顶部设有密封外壳。工作时,集成盒装置位于靶材下方。
如此设计,集成盒装置通过水平驱动装置和导向装置在靶材下方移动、并通过上下驱动装置接触靶材表面时,可以将靶材表面的颗粒物通过擦除装置刷至盒子中,通过定期清理盒子中的颗粒物来达到减少常规清洁靶材表面的目的。
作为优化,盒子宽度方向内侧设有用于放置擦除装置的卡槽;擦除装置包括刷子毛,该刷子毛底部设有与其尺寸相匹配的刷子基座,刷子基座中间开有圆孔、两端卡设在卡槽上。如此设计,便于安装和加工、且使用很方便。
作为优化,上下驱动装置包括电机Ⅰ以及由丝杠Ⅰ和螺母Ⅰ配套组成的滚珠丝杆副Ⅰ,滚珠丝杆副Ⅰ竖直安装在电机Ⅰ上,螺母Ⅰ安装在刷子基座中间的圆孔内。如此设计,便于安装和加工、且使用很方便。
作为优化,盒子为金属外壳,且其内部设有金属框,盒子和金属框之间设有防止颗粒物飞溅的硅胶板,该硅胶板突出金属外壳上沿、且其顶部比刷子毛顶端低。如此设计,可以使集成盒装置上升后硅胶板刚刚接处靶材表面,同时刷子毛比硅胶板高,能够将靶材表面颗粒物清扫至集尘盒中。
作为优化,丝杠Ⅰ外设有护套波纹管Ⅰ。如此设计,防止了颗粒物杂质对丝杆Ⅰ的污染,增加了丝杆Ⅰ和螺母Ⅰ的使用寿命。
作为优化,水平驱动装置包括安装于腔室内的由丝杠Ⅱ及螺母Ⅱ配套组成的滚珠丝杆副Ⅱ,以及设置在腔室外的带动丝杠Ⅱ转动的电机Ⅱ、两个齿轮和皮带,其中,一个齿轮和电机Ⅱ的电机轴连接,另一个齿轮连接丝杠Ⅱ的一端,丝杠Ⅱ另一端端部设有支撑轴承,支撑轴承设置在固定块上,该固定块设置在腔室内部边缘。如此设计,便于加工和安装,并驱动集成盒装置做水平往返运动。
作为优化,导向装置固定轴端部的连接件与螺母Ⅱ相连。如此设计,便于连接导向装置和水平驱动装置。
作为优化,腔室外设有密封用磁流体。
作为优化,还包括位于腔室内、设置在轴承导向轨道侧的用于定位和控制集成盒装置的三个sensor,顺序安装分别为sensorⅠ、sensorⅡ和sensorⅢ,其中,sensorⅠ和sensorⅡ之间的距离与靶材长度等距,sensorⅢ靠近固定块。如此设计,便于对集成盒装置进行定位和控制。
作为优化,轴承导向轨道侧设有挡板。如此设计,可防止靶材物质溅射到轴承导向轨道及轴承内,增加轴承及轴承导向轨道轨道的使用寿命。
作为优化,丝杠Ⅱ外设有护套波纹管Ⅱ。如此设计,防止了颗粒物杂质对丝杆Ⅱ的污染,增加了丝杆Ⅱ和螺母Ⅱ的使用寿命。
本实用新型一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置具有以下有益效果:
1、结构简单、设计科学、构思巧妙,使用方便,维护及易耗品成本低,可用于定期清理平面靶材表面颗粒物杂质,防止靶材物质在暗区内成团簇状或片状脱落对基板造成的不良。
2、除去靶材表面粉尘可以不用打破腔室真空就可以做到清洁的目的,减少常规开腔体保养的次数,大大缩短了保养时间。
3、使用灵活方便,可随时进行靶材清洁,也可进行定期清洁。
4、粉尘收集在集尘盒中,降低腔室污染的程度,增加产品质量。
附图说明
下面结合附图对本一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置作进一步说明:
图1是本一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置的集成盒装置和导向装置装配结构示意图;
图2是本一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置的集成盒装置主视结构示意图;
图3是本一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置的集成盒装置俯视结构示意图;
图4是本一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置的水平驱动装置俯视结构示意图。 
图中:1为密封上盖、2为靶座、3为靶材、4为集成盒装置、4-1为盒子、4-2为擦除装置、4-2-1为刷子毛、4-2-2为刷子基座、4-3为上下驱动装置、4-3-1为电机Ⅰ、4-3-2为丝杠Ⅰ、4-3-3为螺母Ⅰ、4-3-4为护套波纹管Ⅰ、4-4为卡槽、4-5为硅胶板、4-6为金属框、5为线槽、6为固定轴、7为挡板、8为轴承、9为轴承导向轨道、10为腔室、11为丝杠Ⅱ、12为螺母Ⅱ、13为支撑轴承、14为护套波纹管Ⅱ、15为磁流体、16为齿轮、17为皮带、18为电机Ⅱ、19为sensorⅠ、20为sensorⅡ、21为sensorⅢ、22为固定块。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下参照附图并举实施例,对本实用新型进一步详细说明。
如图1至图4所示,本一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置,包括:
集成盒装置4,该集成盒装置4包括用于收集靶材3表面颗粒物的上方开口的长方体盒子4-1,盒子4-1内形成容置空间,还包括至少有一部分位于盒子4-1上方的擦除装置4-2和位于擦除装置4-2下方用于驱动擦除装置4-2做上下往返运动的上下驱动装置4-3,上下驱动装置4-3设置在盒子4-1的内部;
导向装置,该导向装置包括安装在盒子4-1两端、且与盒子4-1长度方向平行的固定轴6,一端固定轴6的端部设有轴承8,轴承8可滑动地安装在轴承导向轨道9中、能够沿盒子4-1宽度方向做往返运动,另一端固定轴6的端部设有连接件;
水平驱动装置,通过与导向装置另一端固定轴6端部的连接件相连,连接并设置在集成盒装置4的下方,以驱动集成盒装置4做水平往返运动。
盒子4-1宽度方向内侧设有用于放置擦除装置4-2的卡槽4-4;擦除装置4-2包括刷子毛4-2-1,该刷子毛4-2-1底部设有与其尺寸相匹配的刷子基座4-2-2,刷子基座4-2-2中间开有圆孔、两端卡设在卡槽4-4上;上下驱动装置4-3包括电机Ⅰ4-3-1以及由丝杠Ⅰ4-3-2和螺母Ⅰ4-3-3配套组成的滚珠丝杆副Ⅰ,滚珠丝杆副Ⅰ竖直安装在电机Ⅰ4-3-1上,螺母Ⅰ4-3-3安装在刷子基座4-2中间的圆孔内;盒子4-1为金属外壳,且其内部设有金属框4-6,盒子4-1和金属框4-6之间设有防止颗粒物飞溅的硅胶板4-5,该硅胶板4-5突出金属外壳上沿、且其顶部比刷子毛4-2-1顶端低2mm;丝杠Ⅰ4-3-2外设有护套波纹管Ⅰ4-3-4。
水平驱动装置包括安装于腔室10内的由丝杠Ⅱ11及螺母Ⅱ12配套组成的滚珠丝杆副Ⅱ,以及设置在腔室10外的带动丝杠Ⅱ11转动的电机Ⅱ18、两个齿轮16和皮带17,其中,一个齿轮16和电机Ⅱ18的电机轴连接,另一个齿轮16连接丝杠Ⅱ11的一端,丝杠Ⅱ11另一端端部设有支撑轴承13,支撑轴承13设置在固定块22上,该固定块22设置在腔室10内部边缘;导向装置固定轴6端部的连接件与螺母Ⅱ12相连;腔室10外设有密封用磁流体15。
还包括位于腔室10内、设置在轴承导向轨道9侧的三个sensor,顺序安装分别为sensorⅠ19、sensorⅡ20和sensorⅢ21,其中,sensorⅠ19和sensorⅡ20之间的距离与靶材3长度等距,sensorⅢ21靠近固定块22;丝杠Ⅱ11外设有护套波纹管Ⅱ14。轴承导向轨道9侧设有挡板7。
还包括给集成盒装置4内电机Ⅰ4-3-1供电的电线及线槽5;以及,给腔体10外电机Ⅱ18供电的电线和线槽。
靶材3内嵌入靶座2上,靶座2和侧边防护遮罩顶部设有密封外壳1。
工作原理为:本一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置初始时处于sensorⅢ21的位置,当本一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置工作后,腔室10外部电机Ⅱ18转动,带动丝杆Ⅱ11转动,从而带动与螺母Ⅱ12连接的导向装置移动,导向装置带动集成盒装置4向sensorⅡ20方向水平移动,当集尘盒装置4到达sensorⅡ20处时停止;然后盒子4-1内电机Ⅰ4-3-1转动使刷子毛4-2-1上升,上升到刚好使得硅胶板4-5抵至靶材表面,电机Ⅰ4-3-1停止转动,此时腔室10外部电机Ⅱ18继续转动,使集尘盒装置4从sensorⅡ20至sensorⅠ19方向运动,在运动的过程中刷子毛4-2-1会将靶材3表面的粉尘清扫至盒子4-1中,且由于刷子毛4-2-1比硅胶板4-5高2mm,集尘盒装置4在移动方向上移动时硅胶板4-5不会刮蹭到靶材3表面粉尘,集尘盒装置4到达sensorⅠ19处时,腔室10外电机Ⅱ18反转,集尘盒装置4又从sensorⅠ19至sensorⅡ20处运动。如此往复,通过刷子毛4-2-1将粉尘清扫至盒子4-1中,根据工艺需要可设定往返运动次数,靶材3表面清扫完成后,盒子4-1内电机Ⅰ4-3-1反转,使刷子毛4-2-1降低,腔室10外电机Ⅱ18反转,使集尘盒装置4返回至sensorⅢ21处,工作结束。
 上述具体实施方式仅是本实用新型的具体个案,并非是对本实用新型作其它形式的限制,任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施方式。但是凡是未脱离本实用新型技术原理的前提下,依据本实用新型的技术实质对以上实施方式所作的任何简单修改、等同变化与改型,皆应落入本实用新型的专利保护范围。

Claims (10)

1.一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置,其特征在于:包括:
集成盒装置(4),该集成盒装置(4)包括用于收集靶材(3)表面颗粒物的上方开口的长方体盒子(4-1),盒子(4-1)内形成容置空间,还包括至少有一部分位于盒子(4-1)上方的擦除装置(4-2)和位于所述擦除装置(4-2)下方用于驱动所述擦除装置(4-2)做上下往返运动的上下驱动装置(4-3),所述上下驱动装置(4-3)设置在所述盒子(4-1)的内部;
导向装置,该导向装置包括安装在盒子(4-1)两端、且与盒子(4-1)长度方向平行的固定轴(6),所述一端固定轴(6)的端部设有轴承(8),所述轴承(8)可滑动地安装在轴承导向轨道(9)中、能够沿盒子(4-1)宽度方向做往返运动,另一端固定轴(6)的端部设有连接件; 
水平驱动装置,通过与所述导向装置另一端固定轴(6)端部的连接件相连,连接并设置在所述集成盒装置(4)的下方,以驱动所述集成盒装置(4)做水平往返运动。
2.如权利要求1所述的一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置,其特征在于:所述盒子(4-1)宽度方向内侧设有用于放置所述擦除装置(4-2)的卡槽(4-4);所述擦除装置(4-2)包括刷子毛(4-2-1),该刷子毛(4-2-1)底部设有与其尺寸相匹配的刷子基座(4-2-2),所述刷子基座(4-2-2)中间开有圆孔、两端卡设在卡槽(4-4)上。
3.如权利要求2所述的一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置,其特征在于:所述上下驱动装置(4-3)包括电机Ⅰ(4-3-1)以及由丝杠Ⅰ(4-3-2)和螺母Ⅰ(4-3-3)配套组成的滚珠丝杆副Ⅰ,所述滚珠丝杆副Ⅰ竖直安装在电机Ⅰ(4-3-1)上,所述螺母Ⅰ(4-3-3)安装在所述刷子基座(4-2)中间的圆孔内。
4.如权利要求3所述的一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置,其特征在于:所述盒子(4-1)为金属外壳,且其内部设有金属框(4-6),所述盒子(4-1)和金属框(4-6)之间设有防止颗粒物飞溅的硅胶板(4-5),该硅胶板(4-5)突出所述金属外壳上沿、且其顶部比所述刷子毛(4-2-1)顶端低。
5.如权利要求4所述的一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置,其特征在于:所述丝杠Ⅰ(4-3-2)外设有护套波纹管Ⅰ(4-3-4)。
6.如权利要求1或5所述的一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置,其特征在于:所述水平驱动装置包括安装于腔室(10)内的由丝杠Ⅱ(11)及螺母Ⅱ(12)配套组成的滚珠丝杆副Ⅱ,以及设置在腔室(10)外的带动丝杠Ⅱ(11)转动的电机Ⅱ(18)、两个齿轮(16)和皮带(17),其中,一个齿轮(16)和电机Ⅱ(18)的电机轴连接,另一个齿轮(16)连接丝杠Ⅱ(11)的一端,所述丝杠Ⅱ(11)另一端端部设有支撑轴承(13),所述支撑轴承(13)设置在固定块(22)上,该固定块(22)设置在腔室(10)内部边缘。
7.如权利要求6所述的一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置,其特征在于:所述导向装置固定轴(6)端部的连接件与螺母Ⅱ(12)相连。
8.如权利要求7所述的一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置,其特征在于:所述腔室(10)外设有密封用磁流体(15)。
9.如权利要求8所述的一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置,其特征在于:还包括位于腔室(10)内、设置设置在所述轴承导向轨道(9)侧的三个sensor,顺序安装分别为sensorⅠ(19)、sensorⅡ(20)和sensorⅢ(21),其中,sensorⅠ(19)和sensorⅡ(20)之间的距离与靶材(3)长度等距,sensorⅢ(21)靠近固定块(22);轴承导向轨道(9)侧设有挡板(7)。
10.如权利要求9所述的一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置,其特征在于:所述丝杠Ⅱ(11)外设有护套波纹管Ⅱ(14)。
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