CN111286415A - 一种双组份硅片清洗液 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及硅片清洗技术领域，具体涉及一种双组份硅片清洗液。该硅片清洗液由A组分和B组分按照2:1的质量比组成。其中，A组分由氢氧化物，二甲基吡啶胺，络合剂和助溶剂组成；B组分由表面活性剂，柠檬酸，硅烷偶联剂和醇、醚类有机溶剂组成。本发明将表面活性剂、柠檬酸和碱分别放在两个组分中，制成双组份硅片清洗液，能够提高表面活性剂的用量，且做成双组份清洗液，可以加入柠檬酸，利用柠檬酸的络合作用，能够防止清洗下来的粒子重新沉积，使得清洗液的清洗效果更好。本发明硅片清洗液清洗能力较强，能够有效的去除附着在硅片表面的杂质，确保了硅片表面的洁净度，从而大大提高了成品率，有效保证了产品的质量。
Description
技术领域
本发明涉及硅片清洗技术领域，具体涉及一种双组份硅片清洗液。
背景技术
太阳能由于其无污染、可再生、无地域性等优点，越来越受到人们的青睐，太阳能产业也得以发展。伴随太阳能光伏产业的成熟，硅片的使用也越来越多。
硅片是太阳能光伏发电设备中重要的组件，清洗作为硅片的一个生产工序之一，清洗的好坏程度对硅片的使用性能有着很大的影响。清洗的主要目的是为了清洗掉切割过程中产生的沙粒，残留的切削磨料、金属离子及指纹等，使硅片表面达到无腐蚀、无氧化、无残留等技术指标。
传统的氢氧化钠，氢氧化钾硅片清洗液清洗硅片后容易产生白斑，花斑，清洗后会造成有1-3％的硅片损伤无法正常使用，而单组分清洗液存在清洗效果较差的问题。
发明内容
为了解决现有技术中存在的技术问题，本发明提供了一种双组份硅片清洗液，所述硅片清洗液由A组分和B组分按照2:1的质量比组成。
其中，A组分由氢氧化物，二甲基吡啶胺，络合剂和助溶剂组成；
A组分按照质量份数其组成为：氢氧化物10-20份，二甲基吡啶胺10-15份，络合剂6-10份；溶剂3-5份；
上述氢氧化物为氢氧化钠或氢氧化钾；
二甲基吡啶胺为2，2’-二甲基吡啶胺；
络合剂为乙二胺四乙酸二钠或乙二胺四乙酸四钠；
助溶剂为丙酮，乙醇，乙醚、环氧丙烷等；
B组分由表面活性剂，柠檬酸，硅烷偶联剂和醇、醚类有机溶剂组成；
B组分按照质量份数其组成为，表面活性剂8-10份，柠檬酸3-6份，硅烷偶联剂1-2份，醇、醚类有机溶剂10-13份。
上述表面活性剂为聚氧乙烯醚；
硅烷偶联剂为KH-550，KH-570，KH-560，A-151，A-171。
醇、醚类有机溶剂为丙二醇甲醚、丙二醇二甲醚、二丙二醇甲醚、二丙二醇二甲醚或丙二醇乙醚。
本发明还提供了一种双组份硅片清洗液的使用方法，其具体使用方法为：
将A组分和B组分分别加入20～25倍的去离子水进行稀释，然后混合均匀后，在常温下将硅片放入清洗液中进行清洗。
有益效果
本发明将表面活性剂、柠檬酸和碱分别放在A，B两个组分中，制成双组份硅片清洗液，能够提高表面活性剂的用量，且做成双组份清洗液，可以加入柠檬酸，利用柠檬酸的络合作用，能够防止清洗下来的粒子重新沉积，从而使得清洗液用于清洗硅片的效果更好。
本发明硅片清洗液能够有效的去除附着在硅片表面的杂质，确保硅片表面的洁净度，清洗液的去污能力更强，从而大大提高了成品率，有效保证了产品的质量。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步描述，但不限于此。
实施例1
硅片清洗液由A组分和B组分按照2:1的质量比组成。
A组分按照质量份数其组成为：氢氧化钠15份，二甲基吡啶胺12份，乙二胺四乙酸二钠8份；乙醇4份；
B组分按照质量份数其组成为，聚氧乙烯醚9份，柠檬酸5份，KH-550 1份，丙二醇甲醚12份。
将A组分和B组分分别加入20倍的去离子水稀释，然后混合均匀后得到清洗液，在常温下将硅片放入清洗液中进行清洗。
清洗后的硅片经水接触角测量仪测得水接触角≤5°，经自动分选仪分选后良率≥99％。
实施例2
硅片清洗液由A组分和B组分按照2:1的质量比组成。
A组分按照质量份数其组成为：氢氧化钾10份，二甲基吡啶胺10份，乙二胺四乙酸二钠6份；乙醚4份；
B组分按照质量份数其组成为，聚氧乙烯醚8份，柠檬酸3份，KH-570 1份，二丙二醇甲醚10份。
将A组分和B组分分别加入20倍的去离子水稀释，然后混合均匀后得到清洗液，在常温下将硅片放入清洗液中进行清洗。
清洗后的硅片经水接触角测量仪测得水接触角≤5°，经自动分选仪分选后良率≥99％。
实施例3
硅片清洗液由A组分和B组分按照2:1的质量比组成。
A组分按照质量份数其组成为：氢氧化钾20份，二甲基吡啶胺15份，乙二胺四乙酸四钠10份；乙醚5份；
B组分按照质量份数其组成为，聚氧乙烯醚10份，柠檬酸6份，KH-570 2份，二丙二醇甲醚13份。
将A组分和B组分分别加入25倍的去离子水稀释，然后混合均匀后得到清洗液，在常温下将硅片放入清洗液中进行清洗。
清洗后的硅片经水接触角测量仪测得水接触角≤5°，经自动分选仪分选后良率≥99％。
实施例4
硅片清洗液由A组分和B组分按照2:1的质量比组成。
A组分按照质量份数其组成为：氢氧化钾18份，二甲基吡啶胺13份，乙二胺四乙酸二钠9份；丙酮4份；
B组分按照质量份数其组成为，聚氧乙烯醚9份，柠檬酸5份，KH-570 2份，丙二醇二甲醚12份。
将A组分和B组分分别加入20倍的去离子水稀释，然后混合均匀后得到清洗液，在常温下将硅片放入清洗液中进行清洗。
清洗后的硅片经水接触角测量仪测得水接触角≤5°，经自动分选仪分选后良率≥99％。
实施例5
硅片清洗液由A组分和B组分按照2:1的质量比组成。
A组分按照质量份数其组成为：氢氧化钾17份，二甲基吡啶胺12份，乙二胺四乙酸四钠7份；乙醚5份；
B组分按照质量份数其组成为，聚氧乙烯醚10份，柠檬酸6份，A-151 2份，二丙二醇甲醚11份。
将A组分和B组分分别加入25倍的去离子水稀释，然后混合均匀后得到清洗液，在常温下将硅片放入清洗液中进行清洗。
清洗后的硅片经水接触角测量仪测得水接触角≤5°，经自动分选仪分选后良率≥99％。
实施例6
硅片清洗液由A组分和B组分按照2:1的质量比组成。
A组分按照质量份数其组成为：氢氧化钠16份，二甲基吡啶胺11份，乙二胺四乙酸二钠9份；乙醚5份；
B组分按照质量份数其组成为，聚氧乙烯醚9份，柠檬酸5份，A-151 2份，丙二醇二甲醚11份。
将A组分和B组分分别加入25倍的去离子水稀释，然后混合均匀后得到清洗液，在常温下将硅片放入清洗液中进行清洗。
清洗后的硅片经水接触角测量仪测得水接触角≤5°，经自动分选仪分选后良率≥99％。
对比实施例1
硅片清洗液按照质量份数其组成为：氢氧化钠15份，二甲基吡啶胺12份，乙二胺四乙酸二钠8份；乙醇4份，聚氧乙烯醚9份，柠檬酸5份，KH-550 1份，丙二醇甲醚12份。
向得到的清洗液中加入20倍的去离子水稀释，在常温下将硅片放入清洗液中进行清洗。
清洗后的硅片经水接触角测量仪测得水接触角＞50°，经自动分选仪分选后良率小于97％。
对比实施例2
硅片清洗液由A组分和B组分按照2:1的质量比组成。
A组分按照质量份数其组成为：氢氧化钠15份，二甲基吡啶胺12份，乙醇4份；
B组分按照质量份数其组成为，聚氧乙烯醚9份，柠檬酸5份，KH-550 1份，丙二醇甲醚12份。
将A组分和B组分分别加入20倍的去离子水稀释，然后混合均匀后得到清洗液，在常温下将硅片放入清洗液中进行清洗。
清洗后的硅片经水接触角测量仪测得水接触角＞15°，经自动分选仪分选后良率小于98％。
对比实施例3
硅片清洗液由A组分和B组分按照2:1的质量比组成。
A组分按照质量份数其组成为：氢氧化钠15份，二甲基吡啶胺12份，乙二胺四乙酸二钠8份；乙醇4份；
B组分按照质量份数其组成为，聚氧乙烯醚9份，KH-550 1份，丙二醇甲醚12份。
将A组分和B组分分别加入20倍的去离子水稀释，然后混合均匀后得到清洗液，在常温下将硅片放入清洗液中进行清洗。
清洗后的硅片经水接触角测量仪测得水接触角＞15°，经自动分选仪分选后良率小于98％。
对比实施例4
硅片清洗液由A组分和B组分按照2:1的质量比组成。
A组分按照质量份数其组成为：氢氧化钠15份，二甲基吡啶胺12份，乙醇4份；
B组分按照质量份数其组成为，聚氧乙烯醚9份，KH-550 1份，丙二醇甲醚12份。
将A组分和B组分分别加入20倍的去离子水稀释，然后混合均匀后得到清洗液，在常温下将硅片放入清洗液中进行清洗。
清洗后的硅片经水接触角测量仪测得水接触角＞18°，经自动分选仪分选后良率小于97％。
所述实施例为本发明的优选的实施方式，但本发明并不限于上述实施方式，在不背离本发明的实质内容的情况下，本领域技术人员能够做出的任何显而易见的改进、替换或变型均属于本发明的保护范围。
Claims (8)
1.一种双组份硅片清洗液，其特征在于，所述硅片清洗液由A组分和B组分按照2:1的质量比组成；
其中，A组分由氢氧化物，二甲基吡啶胺，络合剂和助溶剂组成；
B组分由表面活性剂，柠檬酸，硅烷偶联剂和醇、醚类有机溶剂组成。
2.根据权利要求1所述的双组份硅片清洗液，其特征在于，所述A组分按照质量份数其组成为：氢氧化物10-20份，二甲基吡啶胺10-15份，络合剂6-10份；助溶剂3-5份。
3.根据权利要求2所述的双组份硅片清洗液，其特征在于，所述氢氧化物为氢氧化钠或氢氧化钾；二甲基吡啶胺为2，2’-二甲基吡啶胺。
4.根据权利要求2所述的双组份硅片清洗液，其特征在于，所述络合剂为乙二胺四乙酸二钠或乙二胺四乙酸四钠；助溶剂为丙酮，乙醇，乙醚，环氧丙烷中的一种。
5.根据权利要求1所述的双组份硅片清洗液，其特征在于，所述B组分按照质量份数其组成为：表面活性剂8-10份，柠檬酸3-6份，硅烷偶联剂1-2份，醇、醚类有机溶剂10-13份。
6.根据权利要求4所述的双组份硅片清洗液，其特征在于，所述表面活性剂为聚氧乙烯醚；硅烷偶联剂为KH-550，KH-570，KH-560，A-151，A-171中的一种。
7.根据权利要求4所述的双组份硅片清洗液，其特征在于，所述醇、醚类有机溶剂为丙二醇甲醚、丙二醇二甲醚、二丙二醇甲醚、二丙二醇二甲醚或丙二醇乙醚。
8.根据权利要求1所述的双组份硅片清洗液的使用方法，其特征在于，所述双组份硅片清洗液的使用方法为：向A组分和B组分中分别加入20-25倍的去离子水稀释，然后将两个组分混合均匀后，在常温下将硅片放入清洗液中进行清洗。
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