CN103695190A - 新型硅片清洗液 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了新型硅片清洗液，由表面活性剂20-50份、三羟乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化铵7-10份、柑橘油3-6份、水20-33份组成，以重量份数计。本发明可有效提高对硅片的清洁程度，配方简单易于操作，对环境无不利影响，去污力强，提高了硅片的清洗速度与耐用性能，有利于提高硅片清洗的清洁率，使硅片清洁率率达到99.9％。

Description

新型硅片清洗液
技术领域
本发明涉及一种清洗液，特别涉及一种新型硅片清洗液。
背景技术
随着社会的发展，能源危机日益严重的今天，开发利用新能源已经越来越收到人们的关注，太阳能由于器无污染、可再生、无地域性等优点，越来越受到人们的青睐，太阳能产业也来越得以发展。而伴随太阳能光伏产业的成熟，硅片的使用也越来越多。
清洗最为硅片的一个生产工序之一，清洗的好坏程度对硅片的使用性能有着很大的影响。清洗的主要目的是为了清洗掉切割过程中产生的沙粒，残留的切削磨料、金属离子及指纹等，使硅片表面达到无腐蚀、无氧化、无残留等技术指标。传统的硅片清洗，由于各个方法不一样，采用的清洗液也不一样。现有技术中的清洗液清洗效果较差，对于硅片表面的污渍难以做到更好的去除，降低了硅片的使用效果。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种能将硅片清洗干净，使用简单的新型清洗液。
为了解决上述技术问题，本发明新型硅片清洗液，由表面活性剂20-50份、三羟乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化铵7-10份、柑橘油3-6份、水 20-33份组成，以重量份数计。
上述新型硅片清洗液，其中，由表面活性剂27份、三羟乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化铵9份、柑橘油2.5份、水 31份组成。
上述新型硅片清洗液，其中，所述表面活性剂为非离子表面活性剂。
上述新型硅片清洗液，其中，所述表面活性剂为单硬脂酸甘油酯。
上述新型硅片清洗液，其中，所述水为去离子水。
本发明可有效提高对硅片的清洁程度，配方简单易于操作，对环境无不利影响，去污力强，提高了硅片的清洗速度与耐用性能，有利于提高硅片清洗的清洁率，使硅片清洁率率达到99.9％。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。
实施例一
新型硅片清洗液，将单硬脂酸甘油酯27份、三羟乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化铵9份、柑橘油2.5份、水 31份组成。以重量份数计，将上述原料以120r/min的速度下，搅拌15 分钟。
性能指标：清洗硅片1000片，清洗洁净程度达到99.9%
实施例二
新型硅片清洗液，将单硬脂酸甘油酯38份、三羟乙基胺10份、乙醇7份、丙二醇5份、氟化铵8份、柑橘油5份、水 22份组成。以重量份数计，将上述原料以120r/min的速度下，搅拌15 分钟。
性能指标：清洗硅片1000片，清洗洁净程度达到99.1%
实施例三
新型硅片清洗液，将单硬脂酸甘油酯41份、三羟乙基胺7份、乙醇7份、丙二醇4份、氟化铵7份、柑橘油4份、水28份组成。以重量份数计，将上述原料以120r/min的速度下，搅拌15 分钟。
性能指标：清洗硅片1000片，清洗洁净程度达到99.9%
本发明可有效提高对硅片的清洁程度，配方简单易于操作，对环境无不利影响，去污力强，提高了硅片的清洗速度与耐用性能，有利于提高硅片清洗的清洁率，使硅片清洁率率达到99.9％。
本技术领域中的普通技术人员应当认识到，以上的实施例仅是用来说明本 发明的目的，而并非用作对本发明的限定，只要在本发明的实质范围内，对以上所述实施例的变化、变型都将落在本发明的权利要求的范围内。

Claims (5)

1.新型硅片清洗液，其特征在于，由表面活性剂20-50份、三羟乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化铵7-10份、柑橘油3-6份、水 20-33份组成，以重量份数计。
2.如权利要求1所述的新型硅片清洗液，其特征在于，由表面活性剂27份、三羟乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化铵9份、柑橘油2.5份、水 31份组成。
3.如权利要求1所述的新型硅片清洗液，其特征在于，所述表面活性剂为非离子表面活性剂。
4.如权利要求1所述的新型硅片清洗液，其特征在于，所述表面活性剂为单硬脂酸甘油酯。
5.如权利要求1所述的新型硅片清洗液，其特征在于，所述水为去离子水。
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