CN104531369A - 一种高效率易清洗的硅片清洗剂 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了新型硅片清洗液，本发明一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其组成成分包括（按重量份数计）:二醇醚20-50份、二醇酯7-12份、油酸羟乙基咪唑啉7-19份、十二烷基苯磺酸钠19-21份、磷酸氢钾15-27份、丙二醇3-9份、氟化铵7-10份、一号溶剂7-13份、二号溶剂3-6份、三号溶剂20-33份。可有效提高对硅片的清洁程度，配方简单易于操作，对环境无不利影响，去污力强，高效且易清洗，提高了硅片的清洗速度与耐用性能，有利于提高硅片清洗的清洁率，使硅片清洁率达到99.99％。
Description
技术领域
本发明涉及一种清洗剂，特别涉及一种高效率易清洗的硅片清洗剂。
背景技术
随着社会的发展，能源危机日益严重的今天，开发利用新能源已经越来越收到人们的关注，太阳能由于器无污染、可再生、无地域性等优点，越来越受到人们的青睐，太阳能产业也来越得以发展。而伴随太阳能光伏产业的成熟，硅片的使用也越来越多。
清洗最为硅片的一个生产工序之一，清洗的好坏程度对硅片的使用性能有着很大的影响。清洗的主要目的是为了清洗掉切割过程中产生的沙粒，残留的切削磨料、金属离子及指纹等，使硅片表面达到无腐蚀、无氧化、无残留等技术指标。传统的硅片清洗，由于各个方法不一样，采用的清洗剂也不一样。现有技术中的清洗剂清洗效果较差，对于硅片表面的污渍难以做到更好的去除，降低了硅片的使用效果。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种能将硅片清洗干净，使用简单的高效率清洗剂。
为了解决上述技术问题，本发明一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其组成成分包括（按重量份数计）:
二醇醚 20-50份
二醇酯 7-12份
油酸羟乙基咪唑啉 7-19份
十二烷基苯磺酸钠 19-21份
磷酸氢钾 15-27份
丙二醇 3-9份
氟化铵 7-10份
一号溶剂 7-13份
二号溶剂 3-6份
三号溶剂 20-33份。
上述一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其特征在于，优选地，其组成成分包括（按重量份数计）:
二醇醚 35份
二醇酯 9份
油酸羟乙基咪唑啉 15份
十二烷基苯磺酸钠 21份
磷酸氢钾 21份
丙二醇 7份
氟化铵 9份
一号溶剂 13份
二号溶剂 5份
三号溶剂 25份。
上述一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其中，所述一号溶剂为乙醇溶液。
上述一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其中，所述乙醇溶液浓度为75%。
上述一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其中，所述二号溶剂为柑橘油。
上述一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其中，所述三号溶剂为去离子水。
本发明一种高效率易清洗的硅片清洗剂，可有效提高对硅片的清洁程度，配方简单易于操作，对环境无不利影响，去污力强，高效且易清洗，提高了硅片的清洗速度与耐用性能，有利于提高硅片清洗的清洁率，使硅片清洁率率达到99.99％。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。
实施例一
一种高效率易清洗的硅片清洗剂，由二醇醚35份、二醇酯9份、油酸羟乙基咪唑啉15份、十二烷基苯磺酸钠21份、磷酸氢钾21份、丙二醇7份、氟化铵 9份、乙醇溶液13份、柑橘油5份、去离子水25份组成。以重量份数计，将上述原料以120r/min的速度下，搅拌15 分钟。
性能指标：清洗硅片1000片，清洗洁净程度达到99.99%
实施例二
一种高效率易清洗的硅片清洗剂，由二醇醚45份、二醇酯11份、油酸羟乙基咪唑啉11份、十二烷基苯磺酸钠17份、磷酸氢钾19份、丙二醇8份、氟化铵10份、乙醇溶液8份、柑橘油3份、去离子水29份组成。以重量份数计，将上述原料以120r/min的速度下，搅拌15 分钟。性能指标：清洗硅片1000片，清洗洁净程度达到99.13%
实施例三
一种高效率易清洗的硅片清洗剂，由二醇醚38份、二醇酯13份、油酸羟乙基咪唑啉13份、十二烷基苯磺酸钠19份、磷酸氢钾25份、丙二醇9份、氟化铵 7份、乙醇溶液11份、柑橘油4份、去离子水21份组成。以重量份数计，将上述原料以120r/min的速度下，搅拌15 分钟。
性能指标：清洗硅片1000片，清洗洁净程度达到99.91%
本发明一种高效率易清洗的硅片清洗剂，可有效提高对硅片的清洁程度，配方简单易于操作，对环境无不利影响，去污力强，高效且易清洗，提高了硅片的清洗速度与耐用性能，有利于提高硅片清洗的清洁率，使硅片清洁率率达到99.99％。
本技术领域中的普通技术人员应当认识到，以上的实施例仅是用来说明本 发明的目的，而并非用作对本发明的限定，只要在本发明的实质范围内，对以上所述实施例的变化、变型都将落在本发明的权利要求的范围内。
Claims (6)
1.一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其特征在于，其组成成分包括（按重量份数计）:
二醇醚 20-50份
二醇酯 7-12份
油酸羟乙基咪唑啉 7-19份
十二烷基苯磺酸钠 19-21份
磷酸氢钾 15-27份
丙二醇 3-9份
氟化铵 7-10份
一号溶剂 7-13份
二号溶剂 3-6份
三号溶剂 20-33份。
2.如权利要求1所述的一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其特征在于，优选地，其组成成分包括（按重量份数计）:
二醇醚 35份
二醇酯 9份
油酸羟乙基咪唑啉 15份
十二烷基苯磺酸钠 21份
磷酸氢钾 21份
丙二醇 7份
氟化铵 9份
一号溶剂 13份
二号溶剂 5份
三号溶剂 25份。
3.如权利要求1所述的一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其中，所述一号溶剂为乙醇溶液。
4.如权利要求1所述的一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其中，所述乙醇溶液浓度为75%。
5.如权利要求1所述的一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其中，所述二号溶剂为柑橘油。
6.如权利要求1所述的一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其中，所述三号溶剂为去离子水。
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