CN112795438A - 一种电池片清洗剂及其清洗方法 - Google Patents
一种电池片清洗剂及其清洗方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112795438A CN112795438A CN202011634642.9A CN202011634642A CN112795438A CN 112795438 A CN112795438 A CN 112795438A CN 202011634642 A CN202011634642 A CN 202011634642A CN 112795438 A CN112795438 A CN 112795438A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- parts
- weight
- cleaning
- medicament
- agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 64
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 34
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 33
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 24
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 11
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229960001484 edetic acid Drugs 0.000 claims abstract description 6
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000003814 drug Substances 0.000 claims description 85
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 27
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 22
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 19
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 17
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229940051841 polyoxyethylene ether Drugs 0.000 claims description 12
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 claims description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 10
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 claims description 6
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 claims description 5
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 claims description 5
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 abstract description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 15
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 9
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 7
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 6
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 5
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 description 3
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000002173 cutting fluid Substances 0.000 description 2
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020453 SiO2+2NaOH Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011538 cleaning material Substances 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910001447 ferric ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001448 ferrous ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003116 impacting effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- -1 peroxide ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/66—Non-ionic compounds
- C11D1/83—Mixtures of non-ionic with anionic compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/02—Inorganic compounds ; Elemental compounds
- C11D3/04—Water-soluble compounds
- C11D3/044—Hydroxides or bases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
- C11D3/2003—Alcohols; Phenols
- C11D3/2041—Dihydric alcohols
- C11D3/2044—Dihydric alcohols linear
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
- C11D3/2075—Carboxylic acids-salts thereof
- C11D3/2079—Monocarboxylic acids-salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
- C11D3/2075—Carboxylic acids-salts thereof
- C11D3/2086—Hydroxy carboxylic acids-salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/26—Organic compounds containing nitrogen
- C11D3/33—Amino carboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/02—Anionic compounds
- C11D1/12—Sulfonic acids or sulfuric acid esters; Salts thereof
- C11D1/22—Sulfonic acids or sulfuric acid esters; Salts thereof derived from aromatic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/66—Non-ionic compounds
- C11D1/72—Ethers of polyoxyalkylene glycols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/22—Electronic devices, e.g. PCBs or semiconductors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
本发明公开了一种电池片清洗剂及其清洗方法,该清洗剂包括第一药剂和第二药剂,第一药剂按重量份包括氢氧化钾30‑32.5份、氢氧化钠60‑65份、乙二胺四乙酸22.5‑27.5份、氨基三乙酸20‑22.5份、柠檬酸10‑11.5份和水342.5‑356份,第二药剂按重量份包括表面活性剂220‑245份、增溶剂45‑55份和水840‑865份,并提供一种电池片的清洗方法。本发明的清洗剂和清洗方法匹配电池端取消粗抛工艺、单片上下面平超清洗效果好。
Description
技术领域
本发明涉及一种清洗剂及其清洗方法,尤其涉及一种电池片清洗剂及其清洗方法。
背景技术
随着金刚线切割的发展,硅片加工降本、电池端工艺优化等环境下,电池端的碱粗抛工艺的取消,快速制绒成为了主流,对于硅片加工端的硅片表面洁净度提出了很高的要求。在清洗能力,及电池端的匹配性,清洗的工艺方法需要进行优化研究。
目前随着电池端的降本增效,电池端植绒脏污以及金属离子残留较多,致使电池片效率偏低。
双组分清洗剂不可以由单组份清洗剂直接加片碱制得,其中单组份清洗剂单独加片碱配置会导致槽体药剂产生分层,不仅清洗脏污严重且会导致硅片药剂氧化。
金刚线的细线化,硅片尺寸的增大,使得硅片表面硅粉的残留,切割液残留与之前比大大增加。
发明内容
发明目的:本发明的第一目的为提供一种匹配电池端取消粗抛工艺、单片上下面平超清洗效果好的电池片清洗剂,本发明的第二目的为提供一种利用电池片清洗剂的电池片清洗方法。
技术方案:本发明的电池片清洗剂,包括第一药剂和第二药剂,第一药剂按重量份包括氢氧化钾30-32.5份、氢氧化钠60-65份、乙二胺四乙酸22.5-27.5份、氨基三乙酸20-22.5份、柠檬酸10-11.5份和水342.5-356份,第二药剂按重量份包括表面活性剂220-245份、增溶剂45-55份和水840-865份。
进一步地,表面活性剂按重量份包括如下原料组分制成:壬基酚聚氧乙烯醚130-140份、异构十醇聚氧乙烯醚50-60份、十二烷基苯磺酸钠40-45份。活性剂种类的增多,增加去污能力使得有机物有了更好的剥离,硅粉的分散也大大增强。
增溶剂按重量份包括如下原料组分制成:二甘醇35-40份、氢化蓖麻油10-15份。
本发明的电池片清洗剂,碱性物质(以氢氧化钾、氢氧化钠为主),用高强度碱液,以软化、松动、乳化及分散硅片表面脏污。
Si+NaOH+H2O=Na2SiO3+2H2原理都是先和水反应生成相应的酸,然后再和碱反应生成相应的酸盐和水。
SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O。
氢氧化钾、氢氧化钠这些强碱性物质对硅片表面的腐蚀,在去除硅片表面脏污的同时,也去除了硅片在金刚线切割过程中产生的表面损伤层,使得硅片表面有了反射率较低的表面结构,增加了硅片制成电池后的转化效率。
在配合物中中心离子与配位体通过配位键结合。配位键是一种特殊的共价键,通常的共价键是由两个成键原子各出一个电子形成共同电子对的,而在配位键中是由一个原子提供电子对,另一原子提供空轨道形成的。为了区别把共价键用"一"表示,如H·+·H=H:H(H-H),配位键用"←"表示,箭头指向提供空轨道的原子,如Cu+NH3=CuNH3(Cu←NH3)。如果配位体中只有一个配位原子,则中心离子与配位体之间只能形成一个配位键。而有些配位体分子中含有两个以上的配位原子,当两个原子间相隔着两至三个其他非配位原子时,这个配体就可以与中心离子(或原子)同时形成两个以上的配位键,并形成一个包括两个配位五元或六元环的特殊结构同时具有一定的分散能力,可提高硅酸钠的分散性。
螯合剂种类与选择:
通过络合能力,EDTA-2Na与NTA-3Na组合最佳,组合比例:EDTA-2Na:NTA-3Na=1.2:1
硅片表面金属离子来源主要是切割过程中金刚线,金刚线在电镀过程中可能存在镍离子、铜离子、铬离子等重金属,钢线本身的亚铁离子,三价铁离子。
为了使金属离子能彻底清除,在双组份清洗剂中使用了多种络合剂组合,最终选择了EDTA-2Na、NTA-3Na、柠檬酸三种组合,用量EDTA-2Na:NTA-3Na:柠檬酸=1.2:1:0.5。
为了达到清洗能力,选择阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂,在达到清洗能力的同时,也易于漂洗,减少残留。
考虑硅片表面存在负电荷和脏污的主要成分是硅粉及切割液等前端加工工艺中带入的活性剂,双组份清洗剂中选择了壬基酚聚氧乙烯醚中NP-10,异构十醇聚氧乙烯醚的E-1007,十二烷基苯磺酸钠组合,在生产过程中,几种活性剂的混合有略微的分层现象,因此加入了少量增溶剂。
本发明的电池片清洗剂的电池片清洗方法,包括如下步骤:
(1)将硅片进行超声清洗后加入第一药剂和第二药剂,再次进行超声清洗;
(2)进行氧化反应清洗、漂洗;
(3)烘干。
步骤(1)中,两次超声清洗的温度为35-45℃。第一药剂和第二药剂的药剂温度为50-60℃。
优选的,步骤(2)中,氧化反应清洗的药剂为双氧水。第一药剂、第二药剂与双氧水的质量比为8-14:4-7:50-75。步骤(2)中,氧化反应清洗的温度为35-45℃。步骤(2)中,漂洗的温度为35-80℃。
步骤(3)中,烘干的温度为85-97℃。
步骤(1)中,超声清洗利用机械振动冲击硅片表面,使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的,去除表面的团聚硅粉脏污。加入第一药剂和第二药剂的作用是无机碱溶于水性能稳定,能够有效溶解硅片表面残留的有机物,对硅片表面附着的碳化硅、硅粉、油污、悬浮液等杂质进行清除。再次进行超声清洗利用机械振动冲击硅片表面,使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的,进行脏污清洗玻璃。
步骤(2)中,进行氧化反应清洗全部更换产生过氧根离子,氧化有机物,去除硅片表面的有机沾污,避免产生制绒白斑。漂洗中溢流纯水去除表面药剂残留。
有益效果:与现有技术相比,本发明具有如下显著优点:试验工艺导入后车间整体综合污片率对比同期下降0.2%,且清洗效果以及制绒绒面对比单组份期间表现优异。此试验工艺的实施推广加快了下游电池片工艺取消粗抛工艺带来提升转化效率提升的工艺优化。
附图说明
图1为本发明的工艺流程图;
图2为客户端表现。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明的技术方案作进一步说明。
实施例1
本实施例的电池片清洗剂,包括第一药剂和第二药剂,第一药剂按重量份包括氢氧化钾30份、氢氧化钠60份、乙二胺四乙酸22.5份、氨基三乙酸20份、柠檬酸10份和水342.5份,所述第二药剂按重量份包括表面活性剂220份、增溶剂45份和水840份。表面活性剂按重量份包括如下原料组分制成:壬基酚聚氧乙烯醚130份、异构十醇聚氧乙烯醚50份、十二烷基苯磺酸钠40份。增溶剂按重量份包括如下组分制成:二甘醇35份、氢化蓖麻油10份。
如图1所示,本实施例的电池片清洗剂的电池片清洗方法,包括如下步骤:
(1)将硅片进行超声清洗后加入第一药剂和第二药剂,再次进行超声清洗;
(2)进行氧化反应清洗、漂洗;
(3)烘干。
步骤(1)中,两次超声清洗的温度为35℃。第一药剂和第二药剂的药剂温度为50℃。步骤(2)中,氧化反应清洗的药剂为双氧水。第一药剂、第二药剂与双氧水的质量比为8:4:50。步骤(2)中,氧化反应清洗的温度为35℃。步骤(2)中,漂洗的温度为35℃。步骤(3)中,烘干的温度为85℃。电池片污片率为0.42%。
实施例2
本实施例的电池片清洗剂,包括第一药剂和第二药剂,第一药剂按重量份包括氢氧化钾32.5份、氢氧化钠65份、乙二胺四乙酸27.5份、氨基三乙酸22.5份、柠檬酸11.5份和水356份,所述第二药剂按重量份包括表面活性剂245份、增溶剂55份和水865份。表面活性剂按重量份包括如下原料组分制成:壬基酚聚氧乙烯醚140份、异构十醇聚氧乙烯醚60份、十二烷基苯磺酸钠45份。增溶剂按重量份包括如下组分制成:二甘醇40份、氢化蓖麻油15份。
本实施例的电池片清洗剂的电池片清洗方法,包括如下步骤:
(1)将硅片进行超声清洗后加入第一药剂和第二药剂,再次进行超声清洗;
(2)进行氧化反应清洗、漂洗;
(3)烘干。
步骤(1)中,两次超声清洗的温度为45℃。第一药剂和第二药剂的药剂温度为60℃。步骤(2)中,氧化反应清洗的药剂为双氧水。第一药剂、第二药剂与双氧水的质量比为14:7:75。步骤(2)中,氧化反应清洗的温度为45℃。步骤(2)中,漂洗的温度为80℃。步骤(3)中,烘干的温度为97℃。清洗制程污片率为0.46%。
实施例3
本实施例的电池片清洗剂,包括第一药剂和第二药剂,第一药剂按重量份包括氢氧化钾31份、氢氧化钠62份、乙二胺四乙酸25份、氨基三乙酸21份、柠檬酸11份和水350份,所述第二药剂按重量份包括表面活性剂230份、增溶剂50份和水850份。表面活性剂按重量份包括如下原料组分制成:壬基酚聚氧乙烯醚135份、异构十醇聚氧乙烯醚55份、十二烷基苯磺酸钠42份。增溶剂按重量份包括如下组分制成:二甘醇38份、氢化蓖麻油12份。
本实施例的电池片清洗剂的电池片清洗方法,包括如下步骤:
(1)将硅片进行超声清洗后加入第一药剂和第二药剂,再次进行超声清洗;
(2)进行氧化反应清洗、漂洗;
(3)烘干。
步骤(1)中,两次超声清洗的温度为40℃。第一药剂和第二药剂的药剂温度为55℃。步骤(2)中,氧化反应清洗的药剂为双氧水。第一药剂、第二药剂与双氧水的质量比为10:5:60。步骤(2)中,氧化反应清洗的温度为40℃。步骤(2)中,漂洗的温度为50℃。步骤(3)中,烘干的温度为90℃。清洗制程污片率为0.45%。
对比例1
第一药剂和第二药剂的质量比为1:1,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,实验跟踪清洗产能416片,污片率100%(硅粉污片)。
对比例2
第一药剂和第二药剂的质量比1.5:1.5,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,实验跟踪清洗产能416片,污片率100%(硅粉污片)。
对比例3
第一药剂和第二药剂的质量比2:2,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,实验跟踪清洗产能416片,污片率100%(硅粉污片)。
对比例4
第一药剂和第二药剂的质量比2:1,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,实验跟踪清洗产能416片,污片率0.42%(车间同期单组分加碱1.32%)。配方加量验证246万,污片率0.42%。
对比例5
第一药剂和第二药剂的质量比3:1,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,实验跟踪清洗产能416片,污片率3.75%(车间同期单组分加碱1.32%)。
对比例6
第一药剂和第二药剂的质量比4:1,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,实验跟踪清洗产能416片,污片率4.32%(车间同期单组分加碱1.32%)。
对比例7
第一药剂和第二组份的质量比1:2,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,实验跟踪清洗产能416片,污片率100%(硅粉污片)。
对比例8
第一药剂和第二药剂的质量比1:3,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,实验跟踪清洗产能416片,污片率100%(硅粉污片)。
对比例9
第一药剂和第二药剂的质量比2:4,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,实验跟踪清洗产能416片,污片率100%(硅粉污片)。
对比例10
第一药剂和第二药剂的药剂槽温度40度,第一药剂和第二药剂质量比2:1,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,污片率23%。
对比例11
第一药剂和第二药剂的药剂槽温度45度,第一药剂和第二药剂的质量比2:1,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,污片率7%。
对比例12
第一药剂和第二药剂的药剂槽温度50度,第一药剂和第二药剂的质量比2:1,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,污片率0.47%。
对比例13
第一药剂和第二药剂的药剂槽温度55度,第一药剂和地热药剂的质量比2:1,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,污片率0.43%。加量验证175万,污片率0.44%。
对比例14
第一药剂和第二药剂的药剂槽温度60度,第一药剂和第二药剂的质量比2:1,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,污片率0.46%。
对比例15
第一药剂和第二药剂的药剂槽温度65度,第一药剂和第二药剂的质量比2:1,其他原料、配比、清洗步骤和检测方法均与实施例1相同,污片率4.75%(硅粉和药剂氧化)。
对比例16
第一药剂和第二药剂的药剂槽温度70度,第一药剂和第二药剂的质量比例2:1,污片率100%(药剂氧化)。
对比例17
试验无粗抛工艺对比对比实施例1车间同期单组份工艺污片率下降明显,综合污片率下降0.9%。
类型 | 产能 | 污片数量 | 污片率 |
无粗抛试验工艺 | 453525 | 1904.81 | 0.42% |
车间同期工艺 | 6789512 | 89621.6 | 1.32% |
客户端表现:
如图2所示,使用无粗抛工艺后在客户端植绒绒面表面改善明显,综合污片率下降0.83%。
Claims (10)
1.一种电池片清洗剂,其特征在于:包括第一药剂和第二药剂,所述第一药剂按重量份包括氢氧化钾30-32.5份、氢氧化钠60-65份、乙二胺四乙酸22.5-27.5份、氨基三乙酸20-22.5份、柠檬酸10-11.5份和水342.5-356份,所述第二药剂按重量份包括表面活性剂220-245份、增溶剂45-55份和水840-865份。
2.根据权利要求1所述的电池片的清洗剂,其特征在于,所述表面活性剂按重量份包括如下原料组分制成:壬基酚聚氧乙烯醚130-140份、异构十醇聚氧乙烯醚50-60份、十二烷基苯磺酸钠40-45份。
3.根据权利要求1所述的电池片的清洗剂,其特征在于:所述增溶剂按重量份包括如下原料组分制成:二甘醇35-40份和氢化蓖麻油10-15份。
4.一种利用权利要求1所述电池片清洗剂的电池片清洗方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)将硅片进行超声清洗后加入第一药剂和第二药剂,再次进行超声清洗;
(2)进行氧化反应清洗、漂洗;
(3)烘干。
5.根据权利要求4所述的电池片清洗方法,其特征在于:步骤(1)中,所述两次超声清洗的温度为35-45℃。
6.根据权利要求4所述的电池片清洗方法,其特征在于:步骤(1)中,所述第一药剂和第二药剂的药剂温度为50-60℃。
7.根据权利要求4所述的电池片清洗方法,其特征在于:步骤(2)中,所述氧化反应清洗的药剂为双氧水,所述第一药剂、第二药剂与双氧水的质量比为8-14:4-7:50-75。
8.根据权利要求4所述的电池片清洗方法,其特征在于:步骤(2)中,所述氧化反应清洗的温度为35-45℃。
9.根据权利要求4所述的电池片清洗方法,其特征在于:步骤(2)中,所述漂洗的温度为35-80℃。
10.根据权利要求4所述的电池片清洗方法,其特征在于:步骤(3)中,所述烘干的温度为85-97℃。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011634642.9A CN112795438A (zh) | 2020-12-31 | 2020-12-31 | 一种电池片清洗剂及其清洗方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011634642.9A CN112795438A (zh) | 2020-12-31 | 2020-12-31 | 一种电池片清洗剂及其清洗方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112795438A true CN112795438A (zh) | 2021-05-14 |
Family
ID=75808555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202011634642.9A Pending CN112795438A (zh) | 2020-12-31 | 2020-12-31 | 一种电池片清洗剂及其清洗方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112795438A (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114276871A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-04-05 | 雅安市中甫新能源开发有限公司 | 一种钒电池电堆清洗剂及其制备方法与电堆清洗方法 |
CN117736809A (zh) * | 2023-11-06 | 2024-03-22 | 浙江众益电源有限公司 | 一种半导体用清洗剂、制备方法及清洗方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103710179A (zh) * | 2013-12-09 | 2014-04-09 | 长沙艾森设备维护技术有限公司 | 一种太阳能单晶硅片清洗剂 |
CN108300583A (zh) * | 2018-02-14 | 2018-07-20 | 常州协鑫光伏科技有限公司 | 硅片清洗剂及硅片清洗方法 |
CN108330025A (zh) * | 2018-05-23 | 2018-07-27 | 苏州浩顺光伏材料有限公司 | 一种太阳能硅片用高效清洗剂 |
CN109585272A (zh) * | 2018-11-29 | 2019-04-05 | 扬州荣德新能源科技有限公司 | 一种提高光电效率的硅片清洗方法 |
CN109825380A (zh) * | 2019-01-21 | 2019-05-31 | 安徽华顺半导体发展有限公司 | 一种高效率太阳能硅片清洗液及其使用方法 |
CN111286415A (zh) * | 2020-03-26 | 2020-06-16 | 常州高特新材料股份有限公司 | 一种双组份硅片清洗液 |
-
2020
- 2020-12-31 CN CN202011634642.9A patent/CN112795438A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103710179A (zh) * | 2013-12-09 | 2014-04-09 | 长沙艾森设备维护技术有限公司 | 一种太阳能单晶硅片清洗剂 |
CN108300583A (zh) * | 2018-02-14 | 2018-07-20 | 常州协鑫光伏科技有限公司 | 硅片清洗剂及硅片清洗方法 |
CN108330025A (zh) * | 2018-05-23 | 2018-07-27 | 苏州浩顺光伏材料有限公司 | 一种太阳能硅片用高效清洗剂 |
CN109585272A (zh) * | 2018-11-29 | 2019-04-05 | 扬州荣德新能源科技有限公司 | 一种提高光电效率的硅片清洗方法 |
CN109825380A (zh) * | 2019-01-21 | 2019-05-31 | 安徽华顺半导体发展有限公司 | 一种高效率太阳能硅片清洗液及其使用方法 |
CN111286415A (zh) * | 2020-03-26 | 2020-06-16 | 常州高特新材料股份有限公司 | 一种双组份硅片清洗液 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114276871A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-04-05 | 雅安市中甫新能源开发有限公司 | 一种钒电池电堆清洗剂及其制备方法与电堆清洗方法 |
CN117736809A (zh) * | 2023-11-06 | 2024-03-22 | 浙江众益电源有限公司 | 一种半导体用清洗剂、制备方法及清洗方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN112795438A (zh) | 一种电池片清洗剂及其清洗方法 | |
CN101942667B (zh) | 用于cmp后清洗的配方和方法 | |
CN101092591A (zh) | 光学玻璃清洗剂 | |
CN102477358A (zh) | 硅片清洗剂 | |
CN103589538A (zh) | 一种太阳能硅片的清洗液及其使用方法 | |
CN1858133A (zh) | 用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液 | |
CN108949374B (zh) | 一种酸性玻璃清洗剂 | |
TW201107465A (en) | Aqueous alkaline cleaning compositions and methods of their use | |
CN109537058A (zh) | 湿法黑硅制备工艺 | |
CN112745994B (zh) | 一种双组份清洗剂及其制备方法和应用 | |
CN101255386A (zh) | 半导体硅片化学机械抛光用清洗液 | |
CN114361272A (zh) | 一种太阳能电池片制绒后酸洗添加剂及使用方法 | |
CN108559650B (zh) | 一种抗菌玻璃清洗剂及其制备方法与应用 | |
CN112745990B (zh) | 一种无磷双组份清洗剂及其制备方法和应用 | |
CN109037028A (zh) | 一种硅料清洗方法 | |
CN100554395C (zh) | 低浓度节水型洗衣液及其制备方法 | |
CN104928059A (zh) | 硅片清洗剂 | |
CN116144432A (zh) | 太阳能电池硅片清洗剂及其应用 | |
CN112980599B (zh) | 一种碳化硅单晶清洗剂及其应用 | |
CN115029708B (zh) | 一种低泡耐碱型水基金属清洗剂 | |
CN111286415A (zh) | 一种双组份硅片清洗液 | |
CN113980747B (zh) | 一种半导体材料表面脱脂处理的清洗剂 | |
CN109972153A (zh) | 一种用于清洗钢板表面的脱脂剂 | |
CN102168279B (zh) | 除灰清洗防锈剂及其制备方法 | |
CN113667991A (zh) | 一种新能源铝电池壳除油除灰碳氢清洗剂及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20210514 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |