CN111279045A - 用于制造智能窗的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及用于制造智能窗的方法。根据本发明的用于制造智能窗的方法,可以制造这样的智能窗:其中经由通过选择合适的密封剂和工艺优化来改善密封线的均匀性例如厚度偏差、线宽度偏差和直线度,改善了产品品质和生产率。
Description
技术领域
本申请涉及用于制造智能窗的方法。
本申请要求基于于2017年11月8日提交的韩国专利申请第10-2017-0147938号的优先权的权益,其公开内容通过引用整体并入本文。
背景技术
智能窗是能够调节透光率的窗,也称为智能帘、电子幕、透射率可变玻璃或调光玻璃等。在使用塑料膜的智能窗的情况下,可以通过诸如液晶注入和ODF(One Drop Filling,滴下式注入)(专利文件1:韩国未审查专利公开第2012-0092247号)的方法来实现产品。
此时,使用密封剂将液晶限制在活性区内。根据密封剂的特性和工艺条件,可能会发生诸如因液晶溢出而导致的密封剂污染的缺陷。如果密封剂特性和工艺条件不合适,则发生密封线断开或者厚度和宽度不均匀,从而导致产品品质和生产率劣化。
发明内容
技术问题
本申请的一个目的是解决上述问题,并且本申请提供了用于制造智能窗的方法,其中经由通过选择合适的密封剂和工艺优化来改善密封线的均匀性例如厚度偏差、线宽度偏差和直线度,改善了产品品质和生产率。
技术方案
本申请涉及用于制造智能窗的方法。本申请可以为例如用于制造具有图1的结构的智能窗的方法。如图1所示,智能窗100可以具有其中在布置成彼此相对的第一电极膜10与第二电极膜40之间存在光调制层30的结构。光调制层30可以存在于由密封线20分隔的内部区域中,并且第一电极膜10和第二电极膜40可以经由密封线20结合在一起。在下文中,当由密封线分隔的内部区域中存在光调制层时,其可以被称为活性区(active area)。
根据本申请的用于制造智能窗的方法,密封线20可以双重形成,其包括内部密封线20A和外部密封线20B。光调制层可以存在于由内部密封线20A分隔的内部区域中。即,内部密封线可以比外部密封线更靠近光调制层而存在。
本申请的用于制造智能窗的方法可以包括以下步骤:使用第一喷嘴在第一电极膜上绘制第一密封剂以形成内部密封线,并使用第二喷嘴在内部密封线的外侧绘制第二密封剂以形成外部密封线。在下文中,第一密封剂和第二密封剂可以分别被称为内部密封剂和外部密封剂。
根据本申请,通过选择合适的密封剂作为内部密封剂和外部密封剂以及在形成内部密封线和外部密封线的步骤中进行工艺优化,可以改善密封线的均匀性例如厚度偏差、线宽度偏差和直线度。
在一个实例中,内部密封剂的粘度可以高于外部密封剂的粘度。当内部密封线的粘度高时,其具有低铺展性,因此当将第一电极膜和第二电极膜结合在一起时可以形成均匀的密封线。另一方面,当内部密封线的粘度低时,其具有高铺展性,因此可能阻碍密封线的均匀性。如果外部密封线的粘度低,则铺展性良好,并因此可以有利地减小密封线区与活性区之间的高度差。
内部密封剂的粘度可以在例如100000mPas至300000mPas的范围内。具体地,内部密封剂的粘度可以为110000mPas或更大、120000mPas或更大、130000mPas或更大、140000mPas或更大、150000mPas或更大、160000mPas或更大、170000mPas或更大、180000mPas或更大、190000mPas或更大、或者200000mPas或更大,并且可以为300000mPas或更小、290000mPas或更小、280000mPas或更小、270000mPas或更小、260000mPas或更小、250000mPas或更小、240000mPas或更小、230000mPas或更小、220000mPasor或更小、或者210000mPas或更小。根据本申请的一个实例,内部密封剂的粘度可以在例如190000mPas至210000mPas的范围内。
外部密封剂的粘度可以为例如60000mPas或更小。外部密封剂的粘度的下限可以为例如15000mPas或更大。具体地,外部密封剂的粘度可以为59000mPas或更小、58000mPas或更小、57000mPas或更小、56000mPas或更小、55000mPas或更小、54000mPas或更小、53000mPas或更小、或者52000mPas或更小,并且可以为20000mPas或更大、25000mPas或更大、30000mPas或更大、35000mPas或更大、40000mPas或更大、45000mPas或更大、或者50000mPas或更大。根据本申请的一个实例,外部密封剂的粘度可以在例如51000mPas至53000mPas的范围内。如果外部密封剂的粘度太高,则其具有低铺展性,因此密封线的厚度不均匀性在结合之后可能变得更大,并因此优选外部密封剂的粘度在上述范围内。
密封剂的粘度可以通过本领域已知的方法来调节。在一个实例中,密封剂的粘度可以通过粘度调节剂来调节。粘度调节剂包括粘度增加剂或粘度降低剂,其中可以根据要实现的密封剂的粘度来添加适当量的粘度调节剂。作为粘度调节剂,可以使用本领域已知的粘度调节剂,例如,可以使用二氧化硅、碳酸钾、滑石、铝氧化物、氧化铝、黄土或玻璃粉等。
考虑到密封剂的粘度,可以适当地调节粘度调节剂的含量。相对于100重量份的密封剂的基础树脂,粘度调节剂可以以例如1重量份至30重量份、1重量份至20重量份或1重量份至15重量份的比率包含在内。根据本申请的一个实例,相对于100重量份的基础树脂,第一密封剂可以以10重量份至15重量份的比率包含粘度调节剂,相对于100重量份的基础树脂,第二密封剂可以以1重量份至5重量份的比率包含粘度调节剂。
密封剂可以包含可固化树脂作为基础树脂。作为基础树脂,可以使用已知可用于本领域的密封剂的可紫外线固化树脂或热固性树脂。可紫外线固化树脂可以为可紫外线固化单体的聚合物。热固性树脂可以为热固性单体的聚合物。作为密封剂的基础树脂,例如,可以使用丙烯酸酯树脂、环氧树脂、氨基甲酸酯树脂、酚树脂或这些树脂的混合物。在一个实例中,基础树脂可以为丙烯酸酯树脂,其中丙烯酸酯树脂可以为丙烯酸类单体的聚合物。丙烯酸类单体可以为例如多官能丙烯酸酯。在一个实例中,密封剂还可以在基础树脂中包含单体组分。单体组分可以为例如单官能丙烯酸酯。在本说明书中,单官能丙烯酸酯可以意指具有一个丙烯酸基的化合物,而多官能丙烯酸酯可以意指具有两个或更多个丙烯酸基的化合物。可固化树脂可以通过用紫外线照射和/或加热来固化。紫外线照射条件或加热条件可以在不损害本申请的目的的范围内适当地进行。根据需要,密封剂还可以包含引发剂,例如光引发剂或热引发剂。
在一个实例中,可以通过配备有第一喷嘴的分配器在第一电极膜上绘制第一密封剂。可以通过配备有第二喷嘴的分配器在内部密封线外侧的第一电极膜上绘制第二密封剂。
作为分配器,可以使用螺杆分配机(screw master)。图2示意性地示出了分配器200的结构。分配器设置有用于排出密封剂的喷嘴,其中喷嘴可以包括针50。在本申请中,本申请的目的可以通过优化第一密封剂和第二密封剂的工艺条件来实现。
在一个实例中,第一喷嘴的内部密封剂排出量可以小于第二喷嘴的外部密封剂排出量。如果第一喷嘴的内部密封剂排出量大于第二喷嘴的外部密封剂排出量,则当第二电极膜与第一电极膜结合在一起从而挤压密封剂时,铺展区域变宽,并因此,铺展区域的偏差也增加,因此可能降低密封线的直线度。相反,如果第一喷嘴的内部密封剂排出量小于第二喷嘴的外部密封剂排出量,则当第二电极膜与第一电极膜结合在一起时,密封剂铺展区域减小,并因此铺展区域的偏差也减小,因此可以改善密封线的直线度。
第一喷嘴的内部密封剂排出量可以在例如70rpm至180rpm的范围内。具体地,第一喷嘴的内部密封剂排出量可以为70rpm或更大、80rpm或更大、90rpm或更大、100rpm、120rpm或更大、130rpm或更大、140rpm或更大、或者150rpm或更大,并且可以为180rpm或更小、170rpm或更小、160rpm或更小、150rpm或更小、140rpm或更小、130rpm或更小、120rpm或更小、或者110rpm或更小。根据本申请的一个实例,第一喷嘴的内部密封剂排出量可以例如在145rpm至155rpm的范围内或在95rpm至105rpm的范围内。
第二喷嘴的外部密封剂排出量可以例如在200rpm至500rpm的范围内。具体地,第二喷嘴的外部密封剂排出量可以为200rpm或更大、210rpm或更大、220rpm或更大、230rpm或更大、240rpm或更大、250rpm或更大、260rpm或更大、270rpm或更大、280rpm或更大、或者290rpm或更大,并且可以为500rpm或更小、490rpm或更小、480rpm或更小、470rpm或更小、460rpm或更小、450rpm或更小、440rpm或更小、430rpm或更小、420rpm或更小、410rpm或更小、或者400rpm或更小。根据本申请的一个实例,第二喷嘴的内部密封剂排出量可以例如在290rpm至310rpm的范围内或在390rpm至410rpm的范围内。
单位rpm(转/分钟)意指表示在旋转时运行的装置一分钟旋转的次数的单位。当第一喷嘴和第二喷嘴的排出量在上述范围内时,从改善密封线的直线度的观点来看可以是有利的。
在一个实例中,第一喷嘴的内径可以小于第二喷嘴的内径。图3是示意性地示出喷嘴的内径I的示意图。喷嘴的内径可以影响当密封剂从分配器中排出时密封剂的排出量。如果喷嘴的内径不合适,则难以控制密封剂的排出量,或者可能发生密封剂漏出。在一个实例中,可能有利的是,排出量越小,内径越小,以及可能有利的是,排出量越大,内径越大。如果在大排出量的情况下喷嘴的内径小,则喷嘴被堵塞而无法排出,因此可能发生密封剂破损,或者相反地,如果在小排出量的情况下喷嘴的内径大,则可能发生密封剂漏出。因此,可能有利的是,就可排出性和可加工性而言,排出量小的第一喷嘴的内径小于排出量大的第二喷嘴的内径。
第一喷嘴的内径可以在例如0.05mm至0.15mm的范围内。具体地,第一喷嘴的内径可以为0.05mm或更大、0.06mm或更大、0.07mm或更大、0.08mm或更大、0.09mm或更大,并且可以为0.15mm或更小、0.14mm或更小、0.13mm或更小、0.12mm或更小、或者0.11mm或更小。根据本申请的一个实例,第一喷嘴的内径可以例如在0.09mm至0.11mm的范围内。第二喷嘴的内径可以例如在0.21mm至0.52mm的范围内。具体地,第二喷嘴的内径可以为0.21mm或更大、0.22mm或更大、0.23mm或更大、0.24mm或更大、0.25mm或更大、或者0.26mm或更大,并且可以为0.52mm或更小、0.50mm或更小、0.45mm或更小、0.40mm或更小、0.35mm或更小、0.30mm或更小、0.27mm或更小、或者0.26mm或更小。根据本申请的一个实例,第二喷嘴的内径可以例如在0.25mm至0.27mm的范围内。当第一喷嘴和第二喷嘴的内径在上述范围内时,就密封剂的可加工性和可排出性而言可以是有利的。
在一个实例中,内部密封剂和外部密封剂的绘制速度可以分别在1000mm/分钟至3000mm/分钟的范围内。具体地,内部密封剂和外部密封剂的绘制速度可以为1000mm/分钟或更大、1100mm/分钟或更大、1200mm/分钟或更大、1300mm/分钟或更大、1400mm/分钟或更大、1500mm/分钟或更大、1600mm/分钟或更大、1700mm/分钟或更大、1800mm/分钟或更大、1900mm/分钟或更大、或者2000mm/分钟或更大,并且可以为3000mm/分钟或更小、2900mm/分钟或更小、2800mm/分钟或更小、2700mm/分钟或更小、2600mm/分钟或更小、2500mm/分钟或更小、2400mm/分钟或更小、2300mm/分钟或更小、2200mm/分钟或更小、或者2100mm/分钟或更小。根据本申请的一个实例,内部密封剂和外部密封剂的绘制速度可以例如在1900mm/分钟至2100mm/分钟的范围内。
绘制速度可以意指在第一电极膜被固定的状态下分配器的绘制速度。图2中的S意指分配器的绘制行进方向。在一个实例中,内部密封剂和外部密封剂的绘制速度可以相同或不同。如果分配器的绘制速度过高,则可能发生绘制形状变形和密封剂破损现象。如果分配器的绘制速度太低,则生产率可能降低并且排出量可能过度增加。在内部密封剂和外部密封剂的绘制速度在上述范围内的工艺条件下,可能有利于改善密封线的均匀性,例如厚度偏差、线宽度偏差和直线度。
在一个实例中,在绘制内部密封剂的步骤中,即在形成内部密封线的步骤中,第一喷嘴的针与第一电极膜之间的距离可以在120μm至230μm的范围内。具体地,第一喷嘴的针与第一电极膜之间的距离可以为120μm或更大、130μm或更大、140μm或更大、145μm或更大、150μm或更大,并且可以为230μm或更小、215μm或更小、205μm或更小、200μm或更小、180μm或更小、170μm或更小、160μm或更小、155μm或更小、或者150μm或更小。根据本申请的一个实例,第一喷嘴的针与第一电极膜之间的距离可以在例如145μm至155μm的范围内、或者在195μm至205μm的范围内。
在一个实例中,在绘制外部密封剂的步骤中,即在形成外部密封线的步骤中,第二喷嘴的针与第一电极膜之间的距离可以在150μm至330μm的范围内。第二喷嘴的针与第一电极膜之间的距离可以为150μm或更大、160μm或更大、170μm或更大、180μm或更大、190μm或更大、195μm或更大、200μm或更大、220μm或更大、240μm或更大、260μm或更大、280μm或更大、或者300μm或更大,并且可以为330μm或更小、315μm或更小、300μm或更小、275μm或更小、250μm或更小、240μm或更小、230μm或更小、220μm或更小、210μm或更小、或者205μm或更小。根据本申请的一个实例,第二喷嘴的针与第一电极膜之间的距离可以在例如195μm至205μm的范围内或在295μm至305μm的范围内。
在一个实例中,第一喷嘴的针与第一电极膜之间的距离可以短于第二喷嘴的针与第二电极膜之间的距离。在内部密封剂的情况下,排出量小,并因此可以有利的是距离相对短使得排出的密封剂可以接触第一电极膜。否则,由于排出量少,可能出现排出的密封剂无法转移至第一电极膜的缺陷。相反地,在外部密封剂的情况下,由于排出量大,因此排出的密封剂一定能够接触电极膜。如果第二喷嘴的针与第一电极膜之间的距离太近,则由于膜和载物台台阶(stage step)等,针接触电极膜,从而可能损坏电极膜或可能损坏针。
根据本申请的用于制造智能窗的方法,可以通过改善密封线的均匀性例如厚度偏差、线宽度偏差和直线度,来制造具有改善的产品品质和生产率的智能窗。
在一个实例中,密封线区的高度(H1)与活性区的高度(H2)之间的差(H1-H2)可以小于5μm。由于高度差较小,可以意味着形成具有均匀厚度的密封线。制造方法还可以包括在形成外部密封线的步骤之后在由内部密封线分隔的区域中形成光调制层的步骤。光调制层可以在将第一电极膜和第二电极膜结合在一起之前进行(如下所述)或者也可以在结合之后进行。在一个实例中,当在结合之前进行形成光调制层的步骤时,可以经由例如通过ODF(滴下式注入)工艺在由内部密封线分隔的区域中施加光调制材料来形成光调制材料。在另一个实例中,当在结合之后进行形成光调制层的步骤时,可以通过将光调制材料通过内部密封线和外部密封线的一些区域注入到由内部密封线分隔的区域中的步骤形成光调制层。
在此,作为光调制层,可以应用已知能够进行光调制(例如,光透射或阻挡,或者色彩转换)的已知层。例如,光调制层可以为通过电压(例如垂直电场或水平电场)的通断在散射模式与透明模式之间切换的液晶层、在透明模式与黑暗模式之间切换的液晶层、在透明模式与色彩模式之间切换的液晶层、或在不同色彩的色彩模式之间切换的液晶层。
能够执行上述功能的各种光调制层例如液晶层是公知的。作为一种示例性光调制层,可以使用在典型的液晶显示器中使用的液晶层。液晶层可以包含液晶或者液晶和二色性染料的混合物。
在另一个实例中,光调制层还可以为各种类型的聚合物分散液晶层、像素隔离液晶层、悬浮颗粒层或电致变色层。
在本申请中,聚合物分散液晶层(PDLC层)是上位概念,其包括所谓的PILC层(像素隔离液晶层)、PDLC层(聚合物分散液晶层)、PNLC层(聚合物网络液晶层)或PSLC层(聚合物稳定液晶层)等。
制造方法还可以包括在形成外部密封线的步骤之后将第二电极膜结合至第一电极膜的步骤。如上所述,第一电极膜与第二电极膜的结合可以在形成光调制层之前进行或者可以在形成之后进行。根据本申请的一个实例,结合步骤可以在形成光调制层之后进行。
在将第一电极膜和第二电极膜结合在一起之后,可以通过已知的密封剂固化方法(例如,诸如热施加和/或紫外线照射的方法)来使密封剂固化以制造智能窗。
在一个实例中,在将第一电极膜和第二电极膜结合在一起的过程中,内部密封剂和外部密封剂可以通过铺展彼此靠近。即,在绘制外部密封线的过程中,以距内部密封线预定的距离绘制外部密封剂,但是在将第一电极膜和第二电极膜结合在一起的过程中,可以看出,内部密封线和外部密封线彼此靠近以构成整体密封剂。第一电极膜和第二电极膜可以各自包括塑料膜和形成在塑料膜上的导电层。
塑料膜可以例示为:聚酯膜,例如PC(聚碳酸酯)膜、PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)膜或PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜;丙烯酸类膜,例如PMMA(聚(甲基丙烯酸甲酯))膜;纤维素聚合物膜,例如TAC(三乙酰基纤维素);烯烃膜,例如PE(聚乙烯)膜、PP(聚丙烯)膜或COP(环烯烃聚合物)膜;聚苯并咪唑膜、聚苯并唑膜、聚苯并吡咯(polybenzazole)膜、聚苯并噻唑膜或聚酰亚胺膜等,但不限于此。可以考虑要应用至一般智能窗的材料的水平来选择膜的厚度等。
作为导电层,可以使用通过沉积导电聚合物、导电金属、导电纳米线或金属氧化物(例如ITO(氧化铟锡))而形成的层。除此之外,已知能够形成透明电极的各种材料和形成方法,其可以没有限制地应用。
此外,还可以在第一电极膜和第二电极膜上进一步形成诸如液晶取向膜、阻挡层或硬涂层的功能层。
本申请涉及智能窗。可以根据上述制造方法来制造示例性智能窗。示例性智能窗可以具有优异的密封线均匀性,例如,厚度偏差、线宽度偏差和直线度。
图1示意性地示出了智能窗。示例性智能窗100可以包括设置成彼此相对的第一电极膜10和第二电极膜40、在第一电极膜10与第二电极膜40之间的光调制层30、和将第一电极膜10和第二电极膜40结合在一起的密封线20。光调制层30可以存在于由密封线20分隔的内部区域中。密封线20可以包括内部密封线20A和外部密封线20B。内部密封线20A可以比外部密封线20B更靠近光调制层30存在。内部密封线20A的粘度可以高于外部密封线20B的粘度。对于其他事项,可以同样应用在用于制造智能窗的方法中描述的内容。
示例性智能窗可以包括具有均匀厚度的密封线。在一个实例中,密封线区的高度(H1)与活性区的高度(H2)之间的差(H1-H2)可以小于5μm。当在由密封线分隔的内部区域中存在光调制层时,其可以被称为活性区。高度(H2)的差(H1-H2)具体地可以为4μm或更小、3μm或更小、或者2μm或更小。由于高度差(H1-H2)较小,其意味着形成具有均匀厚度的密封线,并因此下限没有特别限制,但是其可以例如大于0μm或者为1μm或更大。通过选择合适的密封剂和工艺优化,示例性智能窗可以包括如上具有均匀厚度的密封线。
示例性智能窗可以包括具有均匀线宽度的密封线。在一个实例中,密封线的最大宽度(W1)与最小宽度(W2)之间的差(W1-W2)可以小于2mm。宽度差(W1-W2)具体地可以为1.5mm或更小、1mm或更小、或者0.5mm或更小。由于宽度差(W1-W2)较小,则其意味着形成具有均匀线宽度的密封线,并因此下限没有特别限制,但是其可以例如大于0mm或者为0.1mm或更大。通过选择合适的密封剂和工艺优化,示例性智能窗可以包括如上具有均匀线宽度的密封线。
示例性智能窗可以包括具有优异的连续性或直线度的密封线。在一个实例中,密封线可以具有两个或更少个、或者一个或更少个发生破损的区域,或者没有发生破损的区域。发生破损的区域可以意指基于密封线的宽度在某些区中发生破损的区域或者在整个区中发生破损而引起断开的区域。通过选择合适的密封剂和工艺优化,示例性智能窗可以包括如上具有优异的连续性或直线度的密封线。
本申请涉及智能窗的用途。示例性智能窗具有优异的密封线均匀性,例如厚度偏差、线宽度偏差和直线度,由此可以改善产品品质和生产率。这样的智能窗可以应用于各种应用,其包括需要控制透射率的各种建筑物或车辆材料,或者眼镜例如用于增强现实体验或运动的护目镜、太阳镜,或者头盔。
有益效果
根据本发明的用于制造智能窗的方法,通过选择合适的密封剂和优化工艺,改善了密封线的均匀性,例如厚度偏差、线宽度偏差和直线度,由此可以制造具有改善的产品品质和生产率的智能窗。
附图说明
图1是智能窗结构的示意图。
图2是密封剂分配器的示意图。
图3是示出针的内径的示意图。
图4是比较例1中的智能窗的制造方法的示意图。
图5是实施例1中的智能窗的制造方法的示意图。
图6是示出实施例1和比较例2中的密封剂宽度均匀性的显微镜图像。
具体实施方式
在下文中,将通过实施例的方式具体地描述本申请,但是本申请的范围不受以下实施例的限制。
比较例1
根据图4的制造方法制造比较例1的智能窗。具体地,准备各自在其一个表面上形成有ITO(氧化铟锡)层的两个PET膜分别作为第一电极膜和第二电极膜。通过使用图2的分配器在第一电极膜的ITO层上绘制粘度为200000mPas的密封剂使得活性区的面积为宽度×长度=180mm×150mm(基于密封线的外部尺寸)形成密封线。密封剂以70:15:15:3:12的重量比包含丙烯酸酯树脂、HEA(丙烯酸羟乙基酯)、IBOA(丙烯酸异冰片酯)、Igarcure 819(引发剂)和二氧化硅(粘度调节剂)。此时,应用内径为0.25mm的针作为喷嘴,将喷嘴的针与第一电极膜之间的距离保持在200μm,并且将喷嘴的旋转调节为400rpm以控制密封剂的排出量。将分配器中的密封剂的绘制速度设定为2000mm/分钟。接着,在第一电极膜的ITO层上的活性区中施加液晶和染料的混合物。接着,将第二电极膜层合在其上形成有密封线的第一电极膜上,将第一电极膜和第二电极膜结合在一起,然后用波长为380nm的紫外线以3000mJ的强度照射密封剂并使其固化以制造智能窗。
实施例1
根据图5的制造方法制造实施例1的智能窗。具体地,准备各自在其一个表面上形成有ITO(氧化铟锡)层的两个PET膜分别作为第一电极膜和第二电极膜。通过使用图2的分配器在第一电极膜的ITO层上绘制粘度为200000mPas的第一密封剂使得活性区的面积为180mm(宽度)×150mm(长度)(基于外部尺寸)形成内部密封线。第一密封剂以70:15:15:3:12的重量比包含丙烯酸酯树脂、HEA(丙烯酸羟乙基酯)、IBOA(丙烯酸异冰片酯)、Igarcure819(引发剂)和二氧化硅(粘度调节剂)。应用内径为0.1mm的针作为喷嘴,将喷嘴的针与第一电极膜之间的距离保持在150μm,并且将喷嘴的旋转调节为150rpm以控制第一密封剂的排出量。接着,将粘度为52000mPas的第二密封剂绘制至内部密封线的外侧以形成外部密封线。第二密封剂以70:15:15:3:2的重量比包含丙烯酸酯树脂、HEA(丙烯酸羟乙基酯)、IBOA(丙烯酸异冰片酯)、Igarcure 819(引发剂)和二氧化硅(粘度调节剂)。此时,应用内径为0.26mm的针作为喷嘴,将喷嘴的针与第一电极膜之间的距离保持在200μm,并且将喷嘴的旋转调节为300rpm以控制第二密封剂的排出量。将分配器中的第一密封剂和第二密封剂的绘制速度设定为2000mm/分钟。接着,在ITO/PET膜的ITO层上的由密封线分隔的区域中施加液晶。接着,将第二电极膜层合在其上形成有密封线的第一电极膜上,将第一电极膜和第二电极膜结合在一起,然后用波长为380nm的紫外线以3000mJ的强度照射密封剂并使其固化以制造智能窗。
实施例2至4和比较例2
以与实施例1中相同的方式制造实施例2至4和比较例2的智能窗,不同之处在于如下表1所示改变密封线形成工艺条件。
[表1]
评估例1.密封线高度台阶的评估
对于比较例1和2以及实施例1至4中的每一者,通过tesa u hite测量装置评估密封线区的高度(H2)与活性区的高度(H2)之间的差(H1-H2)并且结果描述于表2中。
评估例2.密封线连续性的评估
对于比较例1和2以及实施例1至4中的每一者,通过钢直尺评估对密封线连续性进行评估并结果描述于表2中。将不存在破损的情况评估为3,将密封剂破损点的数目为1个或更少个的情况评估为2,将密封剂破损点的数目为2个或更多个的情况评估为1。
评估例3.密封线宽度均匀性的评估
对于比较例1和2以及实施例1至4中的每一者,通过钢直尺评估对密封线的最大宽度(W1)与最小宽度(W2)之间的差(W1-W2)进行评估并结果描述于表2中。将密封剂宽度偏差为0.5mm或更小的情况评估为3,将密封剂宽度偏差为1mm或更小的情况评估为2,将密封剂宽度偏差为2mm或更小的情况评估为1。
图4和图5中的S3分别是示出比较例1和实施例1的密封线的宽度均匀性的示意图。如图4所示,在比较例1中,密封线不均匀,并且由于液晶溢出而在密封剂中出现液晶污染,而如图5所示,在实施例1中,可以均匀地形成密封线并且在密封剂内部未出现液晶污染。
图6是比较例2(左)和实施例1(右)的智能窗的密封线图像。在比较例2中,外部密封线和内部密封线的宽度不均匀,而在实施例1中,外部密封线和内部密封线的宽度均匀,由此可以确定密封线具有优异的直线度。
[表2]
[附图标记说明]
100:智能窗,10:第一电极膜,40:第二电极膜,30:光调制层,20:密封线,20A:内部密封线,20B:外部密封线,200:分配器,50:喷嘴的针,60:螺杆分配机,70:空气软管,80:注射器,I:针的内径,S:绘制行进方向,D:针与第一电极膜之间的距离
Claims (15)
1.一种用于制造智能窗的方法,包括以下步骤:使用第一喷嘴在第一电极膜上绘制第一密封剂以形成内部密封线以及使用第二喷嘴在所述内部密封线的外侧绘制第二密封剂以形成外部密封线,其中所述第一密封剂的粘度高于所述第二密封剂的粘度,所述第一喷嘴的排出量小于所述第二喷嘴的排出量,以及所述第一喷嘴的内径小于所述第二喷嘴的内径。
2.根据权利要求1所述的用于制造智能窗的方法,其中所述第一密封剂的粘度在200000mPas至300000mPas的范围内。
3.根据权利要求1所述的用于制造智能窗的方法,其中所述第二密封剂的粘度为60000mPas或更小。
4.根据权利要求1所述的用于制造智能窗的方法,其中所述第一喷嘴的排出量在100rpm至180rpm的范围内。
5.根据权利要求1所述的用于制造智能窗的方法,其中所述第二喷嘴的排出量在200rpm至400rpm的范围内。
6.根据权利要求1所述的用于制造智能窗的方法,其中所述第一喷嘴的内径在0.05mm至0.15mm的范围内。
7.根据权利要求1所述的用于制造智能窗的方法,其中所述第二喷嘴的内径在0.21mm至0.52mm的范围内。
8.根据权利要求1所述的用于制造智能窗的方法,其中所述第一密封剂和所述第二密封剂的绘制速度各自在1000mm/分钟至3000mm/分钟的范围内。
9.根据权利要求1所述的用于制造智能窗的方法,其中在绘制所述第一密封剂的步骤中,所述第一喷嘴的针与所述第一电极膜之间的距离在120μm至180μm的范围内。
10.根据权利要求1所述的用于制造智能窗的方法,其中在绘制所述第二密封剂的步骤中,所述第二喷嘴的针与所述第一电极膜之间的距离在150μm至250μm的范围内。
11.根据权利要求1所述的用于制造智能窗的方法,还包括在形成所述外部密封线的步骤之后在由所述内部密封线分隔的内部区域中形成光调制层的步骤。
12.根据权利要求11所述的用于制造智能窗的方法,其中所述光调制层包含液晶或者液晶和染料的混合物。
13.根据权利要求1所述的用于制造智能窗的方法,还包括在形成所述外部密封线的步骤之后将第二电极膜与所述第一电极膜结合在一起的步骤。
14.根据权利要求13所述的用于制造智能窗的方法,其中所述第一电极膜和所述第二电极膜各自包括塑料膜和形成在所述塑料膜上的导电层。
15.一种智能窗,包括:设置成彼此相对的第一电极膜和第二电极膜;所述第一电极膜与所述第二电极膜之间的光调制层和将所述第一电极膜和所述第二电极膜结合在一起的密封线,其中所述密封线包括内部密封线和外部密封线,所述内部密封线的粘度高于所述外部密封线的粘度,以及密封线区的高度(H1)与其中存在所述光调制层的活性区的高度(H2)之间的差(H1-H2)小于5μm。
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