CN111133345A - 抗反射膜、偏光板和显示装置 - Google Patents

抗反射膜、偏光板和显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明涉及抗反射膜，其包括：透光基底；硬涂层；和低折射层，其中所述低折射层包括：第一区域，所述第一区域包含粘合剂树脂和高折射无机纳米颗粒；以及第二区域，所述第二区域包含粘合剂树脂和低折射无机纳米颗粒，并且对于第一区域和第二区域中的每一者，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至柯西模型时，满足预定要求。

Description

抗反射膜、偏光板和显示装置
技术领域
相关申请的交叉引用
本申请要求于2018年3月16日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0030717号的权益，其公开内容在此通过引用整体并入。
本发明涉及抗反射膜、偏光板和显示装置。
背景技术
通常，在诸如PDP、LCD等的平板显示设备中，安装抗反射膜以使来自外部的入射光的反射最小化。
用于使光的反射最小化的方法包括：将诸如无机细颗粒等的填料分散在树脂中，将其涂覆在基底膜上并且形成不均匀性的方法(防眩光：AG涂覆)；通过在基底膜上形成具有不同折射率的多个层来利用光干涉的方法(抗反射；AR涂覆)；一起使用它们的方法等。
其中，在AG涂覆的情况下，虽然反射光的绝对量等于常见的硬涂覆，但是经由利用通过不均匀性的光散射来减少进入眼睛的光的量可以获得低反射效果。然而，由于AG涂覆因表面不均匀性而具有降低的屏幕清晰度，因此，最近，对AR涂覆进行了许多研究。
作为利用AR涂覆的膜，具有其中在基底膜上堆叠有硬涂层(高折射率层)、低反射涂层等的多层结构的膜正在被商业化。然而，由于形成多个层的方法分别进行形成各个层的过程，因此其缺点在于由于弱的层间粘合性(界面粘合性)而使耐刮擦性降低，并且由于重复过程而使生产成本增加。
此外，先前为了改善抗反射膜中包括的低折射层的耐刮擦性，主要尝试了添加各种纳米尺寸的颗粒(例如，二氧化硅、氧化铝、沸石等)的方法。然而，当使用纳米尺寸的颗粒时，难以在降低低折射层的反射率的同时提高耐刮擦性，并且由于纳米尺寸的颗粒，低折射层的表面的防污性显著劣化。
因此，为了减少来自外部的入射光的绝对反射量并且改善表面的防污性以及耐刮擦性，正在进行许多研究，但是所得的特性改善程度不令人满意。
发明内容
技术问题
本发明的一个目的是提供抗反射膜，其具有高透光率、高耐刮擦性和防污性，并且同时实现低反射率，因此，可以提高显示装置的屏幕清晰度。
本发明的另一个目的是通过包括以上实现低反射率的抗反射膜来提供具有高清晰度和优异耐久性的偏光板。
本发明的另一个目的是提供显示装置，所述显示装置包括以上抗反射膜并且提供高屏幕清晰度。
技术方案
本文提供了一种抗反射膜，其包括：透光基底；形成在透光基底上的硬涂层；和形成在硬涂层上的低折射层，其中所述低折射层包括：第一区域，所述第一区域包含粘合剂树脂和高折射无机纳米颗粒并且在550nm的波长下具有1.55或更大的折射率；以及第二区域，所述第二区域包含粘合剂树脂和低折射无机纳米颗粒并且在550nm的波长下具有1.45或更小的折射率，并且对于低折射层中包括的第一区域和第二区域中的每一者，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下方程式1的柯西模型时，第一区域的A值与第二区域的A值之差为0.200或更大。
[方程式1]
Figure BDA0002423521340000021
在方程式1中，n(λ)为在λ波长下的折射率，λ为300nm至1800nm的范围，以及A、B和C为柯西参数。
本文还提供了一种抗反射膜，其包括：透光基底；形成在透光基底上的硬涂层；和形成在硬涂层上的低折射层，其中所述低折射层包括：第一区域，所述第一区域包含粘合剂树脂和高折射无机纳米颗粒并且在550nm的波长下具有1.55或更大的折射率；以及第二区域，所述第二区域包含粘合剂树脂和低折射无机纳米颗粒并且在550nm的波长下具有1.45或更小的折射率，并且对于低折射层中包括的第一区域，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以上方程式1的柯西模型时，满足A为1.50至2.00，B为0至0.10，以及C为0至0.01的要求：
本文还提供了包括上述抗反射膜的偏光板。
本文还提供了包括上述抗反射膜的显示装置。
在下文中，将更详细地说明根据本发明的具体实施方案的抗反射膜、偏光板、和显示装置。
如本文所使用的，可光聚合化合物通常指如果照射光(例如，可见光或紫外线)则引起聚合反应的化合物。
含氟化合物意指化合物中含有至少一个氟原子的化合物。
术语(甲基)丙烯酰基包括丙烯酰基和甲基丙烯酰基二者。
术语(共聚)聚合物包括共聚物和均聚物二者。
术语二氧化硅中空颗粒意指源自硅化合物或有机硅化合物的二氧化硅颗粒，其中在二氧化硅颗粒的表面上和/或内部存在空的空间。
根据本发明的一个实施方案，提供了一种抗反射膜，其包括：透光基底；形成在透光基底上的硬涂层；和形成在硬涂层上的低折射层，
其中所述低折射层包括第一区域，所述第一区域包含粘合剂树脂和高折射无机纳米颗粒并且在550nm的波长下具有1.55或更大的折射率；以及第二区域，所述第二区域包含粘合剂树脂和低折射无机纳米颗粒并且在550nm的波长下具有1.45或更小的折射率，并且
对于低折射层中包括的第一区域和第二区域中的每一者，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下方程式1的柯西模型时，第一区域的A值与第二区域的A值之差为0.200或更大。
[方程式1]
Figure BDA0002423521340000031
在方程式1中，n(λ)为在λ波长下的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内，以及A、B和C为柯西参数。
先前，为了控制抗反射膜的反射率，添加了一种或更多种细颗粒，但是将反射率降低至低于一定水平是有限制的，并且存在抗反射膜的耐刮擦性或防污性劣化的问题。
因此，本发明人对抗反射膜进行了研究，通过实验确定如果抗反射膜中包括的低折射层包括第一区域和第二区域，并且对于第一区域和第二区域中的每一者，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下方程式1的柯西模型时，第一区域的A值与第二区域的A值之差为0.200或更大，则抗反射膜可以具有显著低水平的反射率和高透射率，并且同时，实现高耐刮擦性和防污性，并且完成了本发明。
柯西参数A与在最大波长下的折射率有关，并且由于第一区域的A值与第二区域的A值之差为0.200或更大、0.200至0.500、或者0.200至0.400，因此以上实施方案的抗反射膜可以保持最佳的折射率分布，并且同时，实现较低的反射率，并且具有抗刮擦或外部污染物的相对稳定的结构。
更具体地，对于低折射层中包括的第一区域，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以上方程式1的柯西模型时，第一区域的A可以为1.50至2.00、1.53至1.90、或1.55至1.85。
此外，对于低折射层中包括的第二区域，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以上方程式1的柯西模型时，第二区域的A可以为1.0至1.40、1.1至1.40、或1.2至1.40。
通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度和相关的椭圆偏光法数据(Ψ，Δ)可以通过通常已知的方法和设备来测量。例如，对于低折射层中包括的第一区域和第二区域，使用J.A.Woollam Co.M-2000设备，可以施加70°的入射角并且可以在380nm至1000nm的波长范围下测量线偏振。测量的椭圆偏光法数据(Ψ，Δ)可以分为第一区域和第二区域并且使用Complete EASE软件应用于以上方程式1的柯西模型，并进行拟合使得均方误差(meansquared error，MSE)可以变为5或更小、或者3或更小。
众所周知，均方误差是误差的平方的平均值并且是统计估计的精确度的定性度量，并且可以说MSE越低，估计的精确度越高。均方误差(MSE)可以通过已知的方法或统计程序来计算，并且例如，可以计算椭圆偏光法数据的最小二乘估计量，并且可以使用计算的最小二乘估计量得到均方误差(MSE)。
同时，根据本发明的另一个实施方案，提供了一种抗反射膜，其包括：透光基底；形成在透光基底上的硬涂层；和形成在硬涂层上的低折射层，
其中低折射层包括第一区域，所述第一区域包含粘合剂树脂和高折射无机纳米颗粒并且在550nm的波长下具有1.55或更大的折射率；以及第二区域，所述第二区域包含粘合剂树脂和低折射无机纳米颗粒并且在550nm的波长下具有1.45或更小的折射率，并且
对于低折射层中包括的第一区域，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下方程式1的柯西模型时，满足A为1.50至2.00，B为0至0.10，以及C为0至0.01的要求。
[方程式1]
Figure BDA0002423521340000051
在方程式1中，n(λ)为在λ波长下的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内，以及A、B和C为柯西参数。
先前，为了控制抗反射膜的反射率，添加了一种或更多种细颗粒，但是在将反射率降低至低于一定水平方面存在限制，并且存在抗反射膜的耐刮擦性或防污性劣化的问题。
因此，本发明人对抗反射膜进行了研究，通过实验确定如果抗反射膜中包括的低折射层包含粘合剂树脂和高折射无机纳米颗粒并且包括上述第一区域和第二区域，并且当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下方程式1的柯西模型时，第一区域满足A为1.50至2.00，B为0至0.10，以及C为0至0.01的要求，则抗反射膜可以具有显著低水平的反射率和高透射率，并且同时，实现高耐刮擦性和防污性，并且完成了本发明。
具体地，低折射层中包括的第一区域可以满足以下要求：A为1.50至2.00、1.53至1.90、或1.55至1.85，B为0至0.10、0至0.05、或0至0.01，以及C为0至0.01、或0至0.005、或0至0.001，因此，以上实施方案的抗反射膜可以保持最佳的折射率分布，并且同时，实现较低的反射率，并且具有抗刮擦或外部污染物的相对稳定的结构。
此外，对于低折射层中包括的第二区域，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以上方程式1的柯西模型时，可以满足以下要求：A为1.0至1.40、1.10至1.40、或1.20至1.40，B为0至0.1、0至0.05、或0至0.01，以及C为0至0.01、0至0.005、或0至0.001。
低折射层中包括的第一区域和第二区域的柯西参数A、B和C分别与根据波长的折射率和消光系数的变化有关，并且如果第一区域满足作为拟合至以上方程式1的柯西模型的结果的柯西参数A、B和C的范围，则抗反射膜可以在内部保持最佳的电子密度和折射率分布，并因此实现显著低水平的反射率，并且同时具有抗刮擦或外部污染物的相对稳定的结构。
具体地，柯西参数A与在最大波长下的折射率有关，以及B和C与折射率根据波长的变化程度有关。因此，如果低折射层中包括的第一区域和第二区域中的每一者满足作为拟合至以上方程式1的柯西模型的结果的柯西参数A、B和C的范围，则上述效果可以进一步得到改善和最大化。
通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度和相关的椭圆偏光法数据(Ψ，Δ)可以通过通常已知的方法和设备来测量。更具体地，通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度可以通过施加70°的入射角并在380nm至1000nm的波长范围下测量线偏振来确定。
在下文中，将详细说明上述实施方案的抗反射膜。
在上述实施方案的抗反射膜中，第一区域和第二区域可以根据所包含的颗粒的种类的不同、颗粒的折射率的不同、或各区域的折射率的不同来区分。
低折射层的第一区域和第二区域的三维形状和截面形状没有特别限制，并且例如，第一区域和第二区域可以具有其中边界或其间的界面不清晰的分布形状，第一区域和第二区域各自可以为具有预定厚度的层，并且第一区域和第二区域各自可以为当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至方程式1的柯西模型时确定的计算层，而不是目视区分的层。
如上所述，由于上述实施方案的抗反射膜满足上述特定结构，因此其可以实现显著低水平的反射率，并且例如，其在380nm至780nm的可见光波长区域内的平均反射率可以为0.6％或更小、0.5％或更小、0.4％或更小、或者0.3％或更小。抗反射膜的平均反射率可以在用深色处理后侧之后来测量。
如上所述，低折射层可以包括第一区域，所述第一区域包含粘合剂树脂和高折射无机纳米颗粒；以及第二区域，所述第二区域包含粘合剂树脂和低折射无机纳米颗粒。
如果第一区域满足A为1.5至2.00，B为0至0.10，以及C为0至0.01的要求，第二区域满足A为1.0至1.40，B为0至0.10，以及C为0至0.01的要求，或者第一区域的A值与第二区域的A值之差为0.200或更大，则可以有效地发生在各界面处反射的光的相消干涉，从而实现非常低的反射率。
虽然高折射无机纳米颗粒和低折射无机纳米颗粒的种类没有特别限制，但是高折射无机纳米颗粒的折射率可以为1.5或更大、或者1.55或更大，低折射无机纳米颗粒的折射率可以为1.45或更小、或者1.40或更小。
高折射无机纳米颗粒的具体实例可以包括选自以下中的一者或更多者：二氧化钛(TiO2)、三氧化二锑(Sb2O3)、二氧化锆(ZrO2)、氧化锡(SnO2)、氧化镁(MgO)、氧化锌(ZnO)、钛酸钡(BaTiO3)、氧化铝(Al2O3)、氧化铈(CeO2)、钛酸锆、和钛酸锶。
低折射无机纳米颗粒的具体实例可以包括选自氟化镁(MgF2)、中空二氧化硅、和介孔二氧化硅中的一者或更多者。
基于100重量份的粘合剂树脂，第一区域和第二区域各自可以包含30重量份至600重量份的高折射无机纳米颗粒和低折射无机纳米颗粒。
如果无机纳米颗粒的含量在第一区域和第二区域中的每一者中变得过量，则可以将两种颗粒混合以增加反射率，并且可能过度产生表面不均匀性以使耐刮擦性和防污性劣化。
低折射无机纳米颗粒的平均颗粒直径与高折射无机纳米颗粒的平均颗粒直径之比可以为0.008至0.55、或0.05至0.5。本发明人确定如果将两种颗粒的平均颗粒直径之间的差异控制为上述比率，则可以在最终制备的抗反射膜中确保较低的反射率，并且同时，可以实现改善的耐刮擦性和防污性。
更具体地，当低折射层中的低折射无机纳米颗粒的平均颗粒直径与高折射无机纳米颗粒的平均颗粒直径之比为0.008至0.55、或0.05至0.5时，高折射无机纳米颗粒和低折射无机纳米颗粒在低折射层中可以表现出不同的存在和分布形态，并且例如，其中主要分布高折射无机纳米颗粒和低折射无机纳米颗粒的位置可以在距离硬涂层与低折射层之间的界面不同的距离处。
如所说明的，由于低折射层中主要分布高折射无机纳米颗粒和低折射无机纳米颗粒的区域不同，因此低折射层可以具有独特的内部结构和组分布置形态，并因此可以具有较低的反射率，并且低折射层的表面特性也可以变得不同，由此实现进一步改善的耐刮擦性和防污性。
高折射无机纳米颗粒和低折射无机纳米颗粒各自的平均颗粒直径可以为通过测量在抗反射膜的TEM照片(例如，在25,000的放大倍率下)中确定的高折射无机纳米颗粒和低折射无机纳米颗粒的最短颗粒直径获得的平均值。
高折射无机纳米颗粒的平均颗粒直径可以为1nm至66nm、或2nm至55nm，以及低折射无机纳米颗粒的平均颗粒直径可以为10nm至120nm、或30nm至120nm，因此抗反射膜可以具有上述特性，例如，较低的反射率和高透光率，并且同时实现进一步改善的耐刮擦性和防污性。
高折射无机纳米颗粒的直径可以为1nm至66nm。
低折射无机纳米颗粒的直径可以为10nm至120nm。
高折射无机纳米颗粒和低折射无机纳米颗粒的直径可以意指在低折射层的截面处确定的最短直径。
同时，在上述实施方案的抗反射膜中，第一区域可以位于比第二区域更靠近硬涂层与低折射层之间的界面。更具体地，第一区域可以接触硬涂层与低折射层之间的界面，以及第二区域可以形成在相反侧上。
由于第一区域位于硬涂层与低折射层之间的界面附近，第二区域位于抗反射膜的低折射层中的界面的相反侧上，因此可以在低折射层中形成具有不同折射率的两个或更多个部分或者两个或更多个层，并因此抗反射膜的反射率可能由于在每个界面处反射的光的有效相消干涉而降低。
如上所述，虽然第一区域和第二区域可以为低折射层中的区分的层，但是它们可以以连续相存在，但可以根据所包含的颗粒的种类分为两个区域以实现较低的反射率。即，低折射层可以为包括第一区域和第二区域的单层聚合物膜。
如本文所使用的，“单层聚合物膜”意指其中存在由具有预定组成的涂覆溶液或原料制备的连续相的单层的膜，并且例如，其还包括这样的膜：所述膜包括包含相同的粘合剂树脂并且通过不同种类的颗粒来区分的第一区域和第二区域的子层。单层膜区别于通过将具有不同组成或结构的多个膜层合而形成的多层层合膜。
此外，如上所述，第一区域和第二区域存在于低折射层中的事实可以目视确定。例如，第一区域和第二区域存在于低折射层中的事实可以使用扫描电子显微镜、透射电子显微镜等目视确定。
在低折射层中，第一区域和第二区域各自可以在相应的区域中具有共同的光学特性，并因此可以被定义为一个区域。更具体地，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至方程式1的柯西模型时，第一区域和第二区域各自可以具有特定的柯西参数A、B和C，并且因此，第一区域和第二区域可以彼此区分。此外，由于第一区域和第二区域的厚度也可以通过将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至方程式1的柯西模型得到，因此第一区域和第二区域也可以被定义为低折射层中的层。
同时，通过将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至方程式1的柯西模型而得到的柯西参数A、B和C可以为一个区域中的平均值。因此，如果在第一区域与第二区域之间存在界面，则可以存在其中第一区域和第二区域的柯西参数A、B和C重叠的区域。然而，即使在这种情况下，也可以指定满足第一区域和第二区域的柯西参数A、B和C的平均值的区域的厚度和位置。
同时，在低折射层中形成包含粘合剂树脂和高折射无机纳米颗粒的第一区域以及包含粘合剂树脂和低折射无机纳米颗粒的第二区域的方法没有特别限制。例如，对于包含高折射无机纳米颗粒和低折射无机纳米颗粒的涂覆溶液，可以调节干燥温度、干燥方法、涂覆方法等，并且具体地，可以使用热空气干燥。
同时，第一区域的厚度可以为20nm至300nm、50nm至270nm、或60nm至250nm。此外，第二区域的厚度可以为70nm至400nm、80nm至300nm、或90nm至200nm。
第一区域和第二区域的厚度也可以通过将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至方程式1的柯西模型来确定。
同时，第一区域与第二区域的厚度比可以为0.25至4、0.3至3、或0.4至2.5。如果第二区域与第一区域的厚度比为0.25至4，则可以适当地发生在每个界面处反射的光的相消干涉。
同时，在上述实施方案的抗反射膜中，低折射层中包括的第一区域和第二区域可以具有不同的折射率范围。
更具体地，低折射层中包括的第一区域在550nm下的折射率可以为1.55至2.50、1.55至2.30、1.55至2.10、或1.55至2.00。
此外，低折射层中包括的第二区域在550nm下的折射率可以为1.0至1.45、1.1至1.45、或1.2至1.45。
折射率可以通过通常已知的方法来测量，并且例如，对于低折射层中包括的第一区域和第二区域中的每一者，在550nm下的折射率可以使用在380nm至1000nm的波长下测量的椭圆偏振和柯西模型来计算和确定。
由于低折射层中包括的第一区域和第二区域各自具有上述折射率，因此可以有效地发生在每个界面处反射的光的相消干涉，由此实现低反射率。
同时，低折射层中包含的粘合剂树脂可以包含可光聚合化合物的(共聚)聚合物和含有光反应性官能团的含氟化合物的交联(共聚)聚合物。
具体地，可光聚合化合物可以包括包含(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物。更具体地，可光聚合化合物可以包括包含一个或更多个、两个或更多个、或者三个或更多个(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物。
包含(甲基)丙烯酸酯的单体或低聚物的具体实例可以包括季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、亚乙基二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷聚乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、丁二醇二甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸六乙酯、甲基丙烯酸丁酯，或者其两种或更多种的混合物，或者氨基甲酸酯改性的丙烯酸酯低聚物、环氧丙烯酸酯低聚物、醚丙烯酸酯低聚物、树枝状丙烯酸酯低聚物，或者其两种或更多种的混合物。在此，优选低聚物的分子量为1000至10,000。
作为包含乙烯基的单体或低聚物的具体实例，可以提及二乙烯基苯、苯乙烯、和对甲基苯乙烯。
同时，除了上述单体或低聚物之外，可光聚合化合物还可以包括基于氟的基于(甲基)丙烯酸酯的单体或低聚物。如果可光聚合化合物还包括基于氟的基于(甲基)丙烯酸酯的单体或低聚物，则基于氟的基于(甲基)丙烯酸酯的单体或低聚物与包含(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物的重量比可以为0.1％至10％。
同时，在低折射层中，可以包括衍生自含有光反应性官能团的含氟化合物的部分。
在含有光反应性官能团的含氟化合物中，可以包含或取代有一个或更多个光反应性官能团，并且光反应性官能团意指能够通过光的照射(例如，可见光或UV的照射)参与聚合反应的官能团。光反应性官能团可以包括已知能够通过光的照射参与聚合反应的各种官能团，并且作为其具体实例，可以提及(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基、和硫醇基。
每种含有光反应性官能团的含氟化合物可以分别具有2000至200,000，优选5000至100,000的重均分子量(通过GPC测量的根据聚苯乙烯的重均分子量)。
如果含有光反应性官能团的含氟化合物的重均分子量太小，则含氟化合物可能无法均匀且有效地排列在可光固化涂覆组合物的表面上并且可能位于最终制备的低折射层的内部，因此低折射层的防污性可能劣化，并且低折射层的交联密度可能降低，从而使机械特性例如总强度、耐刮擦性等劣化。
此外，如果含有光反应性官能团的含氟化合物的重均分子量太高，则与可光固化涂覆组合物中的其他成分的相容性可能降低，并因此最终制备的低折射层的雾度可能增加或透光率可能降低，并且低折射层的强度也可能劣化。
具体地，含有光反应性官能团的含氟化合物可以包括选自以下中的一者或更多者：i)被一个或更多个光反应性官能团取代的脂族化合物或脂环族化合物，其中至少一个碳被一个或更多个氟原子取代；ii)被一个或更多个光反应性官能团取代的杂脂族化合物或杂脂环族化合物，其中至少一个氢被氟取代并且至少一个碳被硅取代；iii)被一个或更多个光反应性官能团取代的基于聚二烷基硅氧烷的聚合物(例如，基于聚二甲基硅氧烷的聚合物)，其中至少一个硅被一个或更多个氟原子取代；iv)被一个或更多个光反应性官能团取代的聚醚化合物，其中至少一个氢被氟取代；以及i)至iv)中的两者或更多者的混合物或共聚物。
基于100重量份的可光聚合化合物，可光固化涂覆组合物可以包含20重量份至300重量份的含有光反应性官能团的含氟化合物。
如果与可光聚合化合物相比过量添加含有光反应性官能团的含氟化合物，则可光固化涂覆组合物的可涂覆性可能劣化，或者由可光固化涂覆组合物获得的低折射层可能不具有足够的耐久性或耐刮擦性。此外，如果与可光聚合化合物相比，含有光反应性官能团的含氟化合物的含量太少，则由可光固化涂覆组合物获得的低折射层可能不具有足够的机械特性例如防污性、耐刮擦性等。
含有光反应性官能团的含氟化合物还可以包含硅或含硅化合物。即，含有光反应性官能团的含氟化合物可以任选地包含硅或含硅化合物，并且具体地，含有光反应性官能团的含氟化合物中的硅的含量可以为0.1重量％至20重量％。
含有光反应性官能团的含氟化合物中包含的硅可以增加与可光固化涂覆组合物中包含的其他组分的相容性，并因此可以防止在最终制备的低折射层中产生雾度，由此增加透明度。同时，如果含有光反应性官能团的含氟化合物中的硅的含量变得太高，则含氟化合物与可光固化涂覆组合物中包含的其他组分的相容性可能反而劣化，因此最终制备的低折射层或抗反射膜可能不具有足够的透光率或抗反射性能，并且表面的防污性也可能劣化。
同时，作为硬涂层，可以没有具体限制地使用通常已知的硬涂层。
硬涂层的一个实例可以包括包含含有可光固化树脂的粘合剂树脂和分散在粘合剂树脂中的有机细颗粒或无机细颗粒的硬涂层。
硬涂层中包含的可光固化树脂可以为本领域通常已知的如果照射光(例如，UV等)能够引起聚合反应的可光固化化合物的聚合物。具体地，可光固化树脂可以包括选自以下中的一者或更多者：反应性丙烯酸酯低聚物，例如氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物、环氧丙烯酸酯低聚物、聚酯丙烯酸酯、和聚醚丙烯酸酯；以及多官能丙烯酸酯单体，例如二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇羟基五丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、三亚甲基丙基三丙烯酸酯、丙氧基化甘油三丙烯酸酯、三甲基丙烷乙氧基三丙烯酸酯、1,6-己二醇丙烯酸酯、丙氧基化甘油三丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、和乙二醇二丙烯酸酯。
虽然有机细颗粒或无机细颗粒的颗粒直径没有特别限制，但是例如，有机细颗粒的颗粒直径可以为1μm至10μm，无机细颗粒的颗粒直径可以为1nm至500nm、或1nm至300nm。有机细颗粒或无机细颗粒的颗粒直径可以定义为体积平均颗粒直径。
此外，虽然硬涂层中包含的有机细颗粒或无机细颗粒的具体实例没有限制，但是例如，有机细颗粒或无机细颗粒可以为选自丙烯酸类树脂、基于苯乙烯的树脂、环氧树脂、和尼龙树脂的有机细颗粒，或选自硅氧化物、二氧化钛、铟氧化物、锡氧化物、锆氧化物、和锌氧化物的无机细颗粒。
硬涂层的粘合剂树脂还可以包括重均分子量为10,000或更大的高分子量(共聚)聚合物。高分子量(共聚)聚合物可以为选自以下中的一者或更多者：基于纤维素的聚合物、基于丙烯酰基的聚合物、基于苯乙烯的聚合物、基于环氧化物的聚合物、基于尼龙的聚合物、基于氨基甲酸酯的聚合物、和基于聚烯烃的聚合物。
同时，硬涂层的另一个实例可以包括：包含可光固化树脂的粘合剂树脂和分散在粘合剂树脂中的抗静电剂的硬涂层。
硬涂层中包含的可光固化树脂可以为本领域通常已知的通过光(例如，UV等)的照射能够引起聚合反应的可光固化化合物的聚合物。然而，优选地，可光固化化合物可以为多官能基于(甲基)丙烯酸酯的单体或低聚物，其中在确保硬涂层的特性方面有利的是基于(甲基)丙烯酸酯的官能团的数目为2至10，优选2至8，并且更优选2至7。更优选地，可光固化化合物可以为选自以下中的一者或更多者：季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三亚基二异氰酸酯(thrylenediisocyanate)、二甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、和三羟甲基丙烷聚乙氧基三(甲基)丙烯酸酯。
抗静电剂可以为：季铵盐化合物；吡啶盐；具有1至3个氨基的阳离子化合物；阴离子化合物，例如磺酸碱、硫酸酯碱、磷酸酯碱、膦酸碱等；两性化合物，例如基于氨基酸或基于氨基硫酸酯的化合物等；非离子化合物，例如基于亚氨基醇的化合物、基于甘油的化合物、基于聚乙二醇的化合物等；有机金属化合物，例如含有锡或钛的金属醇盐化合物等；金属螯合物化合物，例如有机金属化合物的乙酰丙酮盐等；这些化合物中的两种或更多种的反应物或聚合产物；或者这些化合物中的两种或更多种的混合物。在此，季铵盐化合物可以为在分子中具有一个或更多个季铵盐基团的化合物，并且可以没有限制地使用低分子型或高分子型。
作为抗静电剂，还可以使用导电聚合物和金属氧化物细颗粒。作为导电聚合物，可以提及芳族共轭的聚(对亚苯基)、杂环共轭的聚吡咯、聚噻吩、脂族共轭的聚乙炔、含杂原子的共轭聚苯胺、混合共轭聚(亚苯基亚乙烯基)、多链型共轭化合物(其是在分子中具有多个共轭链的共轭化合物)、其中将共轭聚合物链接枝在饱和聚合物上或与饱和聚合物嵌段共聚的导电复合物等。作为金属氧化物细颗粒，可以提及锌氧化物、锑氧化物、锡氧化物、铈氧化物、铟锡氧化物、铟氧化物、铝氧化物、掺杂锑的锡氧化物、掺杂铝的锌氧化物等。
包含可光固化树脂的粘合剂树脂和分散在粘合剂树脂中的抗静电剂的硬涂膜还可以包含选自基于烷氧基硅烷的低聚物和基于金属醇盐的低聚物的一种或更多种化合物。
虽然基于烷氧基硅烷的化合物可以是本领域中常用的基于烷氧基硅烷的化合物，但是优选地，其可以包括选自以下中的一种或更多种化合物：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、和缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷。
基于金属醇盐的低聚物可以通过包含基于金属醇盐的化合物和水的组合物的溶胶-凝胶反应来制备。溶胶-凝胶反应可以通过与上述基于烷氧基硅烷的低聚物的制备方法类似的方法来进行。
然而，由于基于金属醇盐的化合物可以快速地与水反应，因此溶胶-凝胶反应可以通过将基于金属醇盐的化合物在有机溶剂中稀释，然后向其中缓慢滴加水来进行。此时，考虑到反应效率，优选将基于金属醇盐的化合物与水的摩尔比(基于金属离子)控制在3至170的范围内。
在此，基于金属醇盐的化合物可以为选自四异丙醇钛、异丙醇锆、和异丙醇铝的一种或更多种化合物。
硬涂层的厚度可以为0.1μm至100μm。
如上所述，硬涂层可以没有具体限制地由已知可用于抗反射膜的材料制成。具体地，硬涂层可以通过将用于形成硬涂层的聚合物树脂组合物涂覆在基底上并使其光固化来形成。用于形成硬涂层的组分为如以上关于一个实施方案的抗反射膜所说明的。
在使用于形成硬涂层的聚合物树脂组合物光固化的步骤中，可以照射200nm至400nm波长的UV或可见光，并且曝光量可以优选为100mJ/cm2至4,000mJ/cm2。曝光时间没有特别限制，并且可以根据所使用的曝光装置、照射的光线的波长、或曝光量而适当地改变。在使用于形成硬涂层的聚合物树脂组合物光固化的步骤中，可以进行氮气吹扫等以便施加氮气气氛条件。
以上实施方案的抗反射膜可以包括结合在硬涂层的另一侧上的透光基底。透光基底的具体种类或厚度没有特别限制，并且可以没有具体限制地使用已知用于低折射层或抗反射膜的制备中的基底。
更具体地，透光基底可以为具有90％或更大的透光率和1％或更小的雾度的透明膜。
透光基底可以包括选自以下中的一者或更多者：环烯烃聚合物膜、基于聚(甲基)丙烯酸酯的膜、聚碳酸酯膜、三乙酰纤维素(TAC)膜、聚降冰片烯膜、和聚酯膜。
考虑到生产率等，透光基底的厚度可以为10μm至300μm，但不限于此。
更具体地，抗反射膜还可以包括这样的透光基底：在400nm至800nm的波长下测量的厚度方向延迟(Rth)为3000nm或更大、或者5000nm或更大、或者5000nm至20,000nm。作为这样的透光基底的具体实例，可以提及单轴拉伸的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜或双轴拉伸的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
如果抗反射膜包括与使用3000nm或更小的延迟相比，在400nm至800nm的波长下测量的厚度方向延迟(Rth)为3000nm或更大、5000nm或更大、或者5000nm至20,000nm的透光基底，则可以减少由于可见光的干涉引起的彩虹现象，并且由于低的湿气透过率，因此可以在显示装置中减少漏光。
厚度方向延迟(Rth)可以通过通常已知的测量方法和装置来确定。例如，作为厚度方向延迟(Rth)的测量装置，可以提及由AXOMETRICS,Inc.制造的AxoScan。
例如，厚度方向延迟(Rth)可以通过如下来计算：将透光基底膜的折射率值(589nm)输入测量装置中，然后在25℃的温度和40％的湿度下使用590nm波长的光测量透光基底膜的厚度方向延迟，并基于厚度方向延迟的测量值(通过测量装置的自动测量(自动计算)获得的值)，将其转换为每10μm膜厚度的延迟值。透光基底的尺寸没有特别限制，只要其比测量装置的工作台的侧灯部(直径：约1cm)大即可，但是其可以具有76mm的高度、52mm的宽度、和13μm的厚度的尺寸。
此外，用于厚度方向延迟(Rth)的测量的「透光基底的折射率(589nm)」的值可以通过如下来计算：形成包括与形成待测量延迟的膜的透光基底相同种类的树脂膜的未经拉伸的膜，然后使用未经拉伸的膜作为测量样品(如果待测量的膜为未经拉伸的膜，则膜本身可以用作测量样品)，使用折射测量装置(由Atagoa Co,.Ltd制造的产品名称「NAR-1TSOLID」)，使用589nm的光源，并且在23℃的温度条件下，对测量样品的面内方向(垂直于厚度方向的方向)的589nm光的折射率进行测量。
根据本发明的另一个实施方案，提供了包括根据以上实施方案的抗反射膜的偏光板。
偏光板可以包括偏振膜和形成在偏振膜的至少一侧上的抗反射膜。
偏振膜的材料和制备方法没有特别限制，并且可以使用本领域中通常已知的材料和制备方法。例如，偏振膜可以为基于聚乙烯醇的偏振膜。
在偏振膜与抗反射膜之间，可以设置保护膜。
虽然保护膜的实例没有限制，但是例如，其可以为以下中的一者或更多者：基于COP(环烯烃聚合物)的膜、基于丙烯酰基的膜、基于TAC(三乙酰纤维素)的膜、基于COC(环烯烃共聚物)的膜、基于PNB(聚降冰片烯)的膜、和基于PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)的膜。
作为保护膜，可以按照原样使用在制备抗反射膜时用于形成单个涂层的基底。
偏振膜和抗反射膜可以通过粘合剂例如水性粘合剂或非水性粘合剂等来层合。
根据本发明的又一个实施方案，提供了包括上述抗反射膜的显示装置。
虽然显示装置的具体实例没有限制，但是例如，其可以为液晶显示器、等离子体显示装置、有机发光二极管等。
例如，显示装置可以为液晶显示装置，该液晶显示装置包括：一对彼此面对的偏光板；在一对偏光板之间顺序堆叠的薄膜晶体管、滤色器、和液晶单元；以及背光单元。
在显示装置中，抗反射膜可以位于显示面板的观察者的一侧或背光的最外表面上。
在包括抗反射膜的显示装置中，抗反射膜可以位于一对偏光板中距离背光单元相对远的偏光板的一侧上。
此外，显示装置可以包括显示面板、位于面板的至少一侧上的偏振膜、和位于相反侧上的抗反射膜。
有益效果
根据本发明，可以提供抗反射膜、包括抗反射膜的偏光板、以及包括抗反射膜并且提供高屏幕清晰度的显示装置，所述抗反射膜具有高透光率、高耐刮擦性、和高防污性，并且同时实现低反射率，并因此可以增加显示装置的屏幕清晰度。
具体实施方式
在以下实施例中将详细说明本发明。然而，这些实施例仅作为本发明的示例来提供，并且本发明的范围不限于此。
<制备例>
制备例1：硬涂膜(HD1)的制备
用#10Mayer棒将由KYOEISHA公司制造的盐型抗静电硬涂覆液(固体含量50重量％，产品名称：LJD-1000)涂覆在三乙酰纤维素(TAC)膜上，并在90℃下干燥1分钟，然后通过150mJ/cm2的UV照射以制备厚度为约5μm的硬涂膜。
制备例2：硬涂膜(HD2)的制备
将30g季戊四醇三丙烯酸酯、2.5g高分子量共聚物(BEAMSET 371，Arakawa Co.，环氧丙烯酸酯，分子量40,000)、20g甲基乙基酮和0.5g流平剂(Tego Wet 270)均匀混合，然后添加2g丙烯酰基-苯乙烯共聚物(体积平均颗粒直径：2μm，制造公司：Sekisui Plastics)作为具有1.525的折射率的细颗粒以制备硬涂覆组合物。
用#10Mayer棒将获得的硬涂覆组合物涂覆在PET膜(厚度80μm，延迟10,000nm)上，并在90℃下干燥1分钟。通过150mJ/cm2的UV照射干燥的产物以制备厚度为5μm的硬涂层。
<实施例1至6：抗反射膜的制备>
(1)用于形成低折射层的可光固化涂覆组合物的制备
实施例1
将100重量份的季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、190重量份的中空二氧化硅纳米颗粒(直径：约50nm至60nm，JSC Catalysts and Chemicals)、572重量份的固体类型的ZrO2颗粒(直径：约16nm)、73重量份的含氟化合物(RS-923，DIC Corp.)和16.2重量份的引发剂(Irgacure 127，Ciba Company)在甲基异丁基酮(MIBK)中稀释至3重量％的固体浓度。
实施例2
将100重量份的三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯(TMPTA)、97.5重量份的中空二氧化硅纳米颗粒(直径：约50nm至60nm，JSC Catalysts and Chemicals)、244重量份的固体类型的ZrO2颗粒(直径：约16nm)、37.5重量份的含氟化合物(RS-923，DIC Corp.)和9.3重量份的引发剂(Irgacure 127，Ciba Company)在甲基异丁基酮(MIBK)中稀释至3.2重量％的固体浓度。
实施例3
将100重量份的二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、133重量份的中空二氧化硅纳米颗粒(直径：约50nm至60nm，JSC Catalysts and Chemicals)、433重量份的固体类型的TiO2颗粒(直径：约18nm)、51.3重量份的含氟化合物(RS-923，DIC Corp.)和11.3重量份的引发剂(Irgacure 127，Ciba Company)在甲基异丁基酮(MIBK)中稀释至3.1重量％的固体浓度。
实施例4
将100重量份的季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、190重量份的中空二氧化硅纳米颗粒(直径：约50nm至60nm，JSC Catalysts and Chemicals)、590重量份的固体类型的TiO2颗粒(直径：约18nm)、33.5重量份的含氟化合物(RS-923，DIC Corp.)和10重量份的引发剂(Irgacure 127，Ciba Company)在甲基异丁基酮(MIBK)中稀释至3.3重量％的固体浓度。
实施例5
将100重量份的二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、185重量份的中空二氧化硅纳米颗粒(直径：约50nm至60nm，JSC Catalysts and Chemicals)、244重量份的固体类型的TiO2颗粒(直径：约18nm)、50重量份的含氟化合物(RS-923，DIC Corp.)和9.3重量份的引发剂(Irgacure 127，Ciba Company)在甲基异丁基酮(MIBK)中稀释至3.2重量％的固体浓度。
实施例6
将100重量份的二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、155重量份的中空二氧化硅纳米颗粒(直径：约50nm至60nm，JSC Catalysts and Chemicals)、220重量份的固体类型的CeO2颗粒(直径：约11nm)、45.2重量份的含氟化合物(RS-923，DIC Corp.)和8.1重量份的引发剂(Irgacure 127，Ciba Company)在甲基异丁基酮(MIBK)中稀释至3.4重量％的固体浓度。
(2-1)低折射层和抗反射膜的制备
在制备例1的硬涂层(HD1)上，用#5Mayer棒涂覆以上获得的可光固化涂覆组合物至约250nm的厚度，并使用下表1中所述的温度和时间进行干燥和固化。在固化期间，在氮气吹扫下通过252mJ/cm2的UV照射干燥的涂层。
(2-2)低折射层和抗反射膜的制备
在制备例2的硬涂层(HD2)上，用#5Mayer棒涂覆以上获得的可光固化涂覆组合物至约260nm的厚度，并使用下表1中所述的温度和时间进行干燥和固化。在固化期间，在氮气吹扫下通过252mJ/cm2的UV照射干燥的涂层。
[表1]
干燥温度 干燥时间
实施例1 40℃ 2分钟
实施例2 60℃ 1分钟
实施例3 80℃ 1分钟
实施例4 60℃ 2分钟
实施例5 60℃ 3分钟
实施例6 90℃ 1分钟
<比较例：抗反射膜的制备>
比较例1
通过与实施例1相同的方法制备用于形成低折射层的可光固化涂覆组合物，并且通过相同的方法制备抗反射膜，不同之处在于在室温下干燥2分钟。
比较例2
将100重量份的季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、281重量份的中空二氧化硅纳米颗粒(直径：约50nm至60nm，JSC Catalysts and Chemicals)、63重量份的固体类型的SiO2颗粒(直径：约12nm)、150重量份的含氟化合物(RS-537，DIC Corp.)和31重量份的引发剂(Irgacure 127，Ciba Company)在甲基异丁基酮(MIBK)中稀释至3重量％的固体浓度。
比较例3
通过与实施例2相同的方法制备用于形成低折射层的可光固化涂覆组合物，不同之处在于用110nm固体类型的ZnO2颗粒代替固体类型的ZrO2颗粒，并且通过与实施例2相同的方法制备抗反射膜。
<实验例：抗反射膜的特性的测量>
对于实施例和比较例中获得的抗反射膜，进行以下实验。
1.抗反射膜的平均反射率的测量
用深色处理实施例和比较例中获得的抗反射膜的后侧，然后使用SolidSpec 3700设备(SHIMADZU)的反射模式测量在380nm至780nm的波长区域内的平均反射率。
2.防污性的测量
在实施例和比较例中获得的抗反射膜的表面上，用细黑色毡笔绘制长度为5cm的直线，并用洁净的擦拭物摩擦，确定线被擦除时的摩擦次数以测量防污性。
<测量标准>
O：线被擦除时的摩擦次数为10或更少
△：线被擦除时的摩擦次数为11至20
X：线被擦除时的摩擦次数大于20
3.耐刮擦性的测量
通过施加至钢丝绒(#0000)的负荷和以27rpm往复运动10次来摩擦实施例和比较例中获得的抗反射膜的表面。测量通过肉眼可观察到的一个或更少的1cm或更小的划痕时的最大负荷。
4.椭圆偏光法测量
对于实施例和比较例中获得的各低折射层，通过椭圆偏光法测量偏振椭圆度。
具体地，对于实施例和比较例中获得的各低折射层，使用J.A.Woollam Co.,M-2000的装置，施加70°入射角并且在380nm至1000nm的波长范围下测量线偏振。对于低折射层的层1和层2，使用Complete EASE软件，将测量的椭圆偏光法数据(Ψ，Δ)拟合至以下方程式1的柯西模型使得MSE变为3或更小。
[方程式1]
Figure BDA0002423521340000211
在方程式1中，n(λ)为在λ波长下的折射率，λ为300nm至1800nm的范围，以及A、B和C为柯西参数。
5.折射率的测量
对于实施例中获得的低折射层中包括的第一区域和第二区域中的每一者，使用在380nm至1000nm的波长下的椭圆偏振和柯西模型来计算在550nm下的折射率。
[表2]
Figure BDA0002423521340000212
Figure BDA0002423521340000213
[表3]
实施例1 实施例2 实施例3 实施例4 实施例5 实施例6
层1 1.65 1.63 1.7 1.63 1.61 1.60
层2 1.30 1.29 1.31 1.30 1.30 1.38
如表2中确定的，对于低折射层中包括的第二区域，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至方程式1的柯西模型时，满足A为1.0至1.40，B为0至0.10以及C为0至0.01的要求，对于低折射层中包括的第一区域，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至方程式1的柯西模型时，满足A为1.50至2.00，B为0至0.10以及C为0至0.01的要求。
此外，如表2所示，确定实施例的抗反射膜在可见光区域表现出0.50％或更小的低反射率，并且同时，实现高耐刮擦性和防污性。此外，如表3所示，确定实施例的低折射层中包括的第一区域和第二区域表现出不同的折射率范围，并且具体地，低折射层的第一区域表现出1.55或更大的折射率，而低折射层的第二区域表现出1.45或更小的折射率。
还确定当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至方程式1的柯西模型时，比较例1至3的抗反射膜表现出与实施例的抗反射膜不同范围的测量结果和柯西模型拟合结果，并且表现出相对高的反射率，并且具有低的耐刮擦性和防污性。
特别地，确定实施例的抗反射膜实现了0.4％或更小的平均反射率，而比较例1和3的抗反射膜表现出1.2％或1.3％的平均反射率，并且比较例2的抗反射膜表现出0.68％的平均反射率，因此实施例的抗反射膜可以实现显著降低的平均反射率。

Claims (18)

1.一种抗反射膜，包括：
透光基底；
形成在所述透光基底上的硬涂层；和
形成在所述硬涂层上的低折射层，
其中所述低折射层包括：第一区域，所述第一区域包含粘合剂树脂和高折射无机纳米颗粒并且在550nm的波长下具有1.55或更大的折射率；以及第二区域，所述第二区域包含粘合剂树脂和低折射无机纳米颗粒并且在550nm的波长下具有1.45或更小的折射率，并且
对于所述低折射层中包括的所述第一区域和所述第二区域中的每一者，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下方程式1的柯西模型时，所述第一区域的A值与所述第二区域的A值之差为0.200或更大：
[方程式1]
Figure FDA0002423521330000011
其中，在方程式1中，n(λ)为在λ波长下的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内，以及A、B和C为柯西参数。
2.一种抗反射膜，包括：
透光基底；
形成在所述透光基底上的硬涂层；和
形成在所述硬涂层上的低折射层，
其中所述低折射层包括：第一区域，所述第一区域包含粘合剂树脂和高折射无机纳米颗粒并且在550nm的波长下具有1.55或更大的折射率；以及第二区域，所述第二区域包含粘合剂树脂和低折射无机纳米颗粒并且在550nm的波长下具有1.45或更小的折射率，并且
对于所述低折射层中包括的所述第一区域，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下方程式1的柯西模型时，满足A为1.50至2.00，B为0至0.10，以及C为0至0.01的要求：
[方程式1]
Figure FDA0002423521330000021
其中，在方程式1中，n(λ)为在λ波长下的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内，以及A、B和C为柯西参数。
3.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中，
对于所述低折射层中包括的所述第一区域和所述第二区域中的每一者，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下方程式1的柯西模型时，
所述第一区域满足A为1.50至2.00的要求，以及
所述第二区域满足A为1.00至1.40的要求：
[方程式1]
Figure FDA0002423521330000022
其中，在方程式1中，n(λ)为在λ波长下的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内，以及A、B和C为柯西参数。
4.根据权利要求2所述的抗反射膜，其中
对于所述低折射层中包括的所述第二区域，当将通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度拟合至以下方程式1的柯西模型时，满足A为1.0至1.40，B为0至0.10，以及C为0至0.01的要求：
[方程式1]
Figure FDA0002423521330000023
其中，在方程式1中，n(λ)为在λ波长下的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内，以及A、B和C为柯西参数。
5.根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其中
所述抗反射膜在380nm至780nm的可见光波长区域内的反射率为0.4％或更小。
6.根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其中
所述第一区域的厚度为20nm至300nm，以及
所述第二区域的厚度为70nm至400nm。
7.根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其中
所述低折射无机纳米颗粒的平均颗粒直径与所述高折射无机纳米颗粒的平均颗粒直径之比为0.008至0.55。
8.根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其中
所述高折射无机纳米颗粒包括选自以下中的一者或更多者：二氧化钛(TiO2)、三氧化二锑(Sb2O3)、二氧化锆(ZrO2)、氧化锡(SnO2)、氧化镁(MgO)、氧化锌(ZnO)、钛酸钡(BaTiO3)、氧化铝(Al2O3)、氧化铈(CeO2)、钛酸锆、和钛酸锶，以及
所述低折射无机纳米颗粒包括选自氟化镁(MgF2)、中空二氧化硅和介孔二氧化硅中的一者或更多者。
9.根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其中
所述第一区域接触所述硬涂层与所述低折射层之间的界面，以及
所述第二区域形成在界面接触侧的相反侧上。
10.根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其中
所述低折射层中包含的所述高折射无机纳米颗粒的70体积％或更多存在于所述第一区域中，以及
所述低折射层中包含的所述低折射无机纳米颗粒的70体积％或更多存在于所述第二区域中。
11.根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其中
所述低折射层中包含的所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物的(共聚)聚合物和含有光反应性官能团的含氟化合物的交联(共聚)聚合物。
12.根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其中
所述低折射层中包括的所述第一区域在550nm下的折射率为1.45或更小，以及
所述低折射层中包括的所述第二区域在550nm下的折射率为1.55或更大。
13.根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其中
所述硬涂层包含含有可光固化树脂的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机细颗粒或无机细颗粒。
14.根据权利要求13所述的抗反射膜，其中
所述有机细颗粒的颗粒直径为1μm至10μm，以及所述无机细颗粒的颗粒直径为1nm至500nm。
15.根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其中
所述透光基底包括选自以下中的一者或更多者：环烯烃聚合物膜、基于聚(甲基)丙烯酸酯的膜、聚碳酸酯膜、三乙酰纤维素(TAC)膜、聚降冰片烯膜、和聚酯膜。
16.根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其中
所述透光基底为在400nm至800nm的波长下测量的厚度方向延迟(Rth)为3000nm或更大的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
17.一种偏振板，包括根据权利要求1或2所述的抗反射膜。
18.一种显示装置，包括根据权利要求1或2所述的抗反射膜。
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