CN111103715B - 显示面板及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示面板及其制作方法,通过在显示面板的GOA过渡区设置垫高层,使得所述显示面板的地形整体较为平缓,减小在配向膜制作时诸如聚酰亚胺等制作配向膜的材料在GOA过渡区堆积的现象,并且,所述垫高层采用位于所述非过孔子区内的第一垫高子层和位于所述过孔子区内的第二垫高子层的结构,结合第一垫高子层的材料与色阻材料相同,方便与色阻层一体成型,同时,第二垫高子层的材料与隔垫物的材料相同,方便与隔垫层一体成型的同时,也解决了在过孔子区由于地形复杂不方便采用色阻垫高的问题,整体的制作工艺上,没有额外增加工序,工艺成熟,便于批量制作。
Description
技术领域
本申请涉及显示面板技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制作方法。
背景技术
随着显示技术的发展,阵列基板行驱动GOA(Gate Driver On Array)技术以其利用薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)液晶显示器阵列制成将栅极扫描驱动电路制作在薄膜晶体管阵列基板上,从而实现逐行扫描的驱动方式,具有降低生产成本和实现面板窄边框设计的优点,得到了广泛的发展。但现有的GOA显示面板由于显示区部分的厚度大于GOA区以及GOA区与所述显示区之间GOA过渡区的厚度,在进行配向膜的制作时,容易造成诸如聚酰亚胺等制作配向膜的材料流向GOA区和GOA过渡区,造成聚酰亚胺堆积,影响配向膜的制作。
目前,通常采用隔垫物在设置于所述GOA区以垫高该处地形,而在GOA过渡区由于与显示区相邻且地形较低,如果采用隔垫物垫高则会在制作过程中,造成诸如用于制作隔垫物的PS光阻材料堆积在GOA过渡区,使得GOA过渡区整面覆盖隔垫物,而高于显示区的地形,从而使得在制作配向膜时,造成诸如聚酰亚胺等制作配向膜的材料由显示区扩散至GOA过渡区受阻,反而回流入显示区;并且,在GOA过渡区还存在多组过孔以及过孔处的公共电极,结构较为复杂,目前还没有很好的技术方案解决GOA过渡区地形偏低造成诸如聚酰亚胺等制作配向膜材料流向GOA过渡区并堆积的问题。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板及其制作方法,以解决现有显示面板的GOA过渡区地形偏低造成在制作配向膜时,诸如聚酰亚胺等制作配向膜材料流向GOA过渡区并堆积的问题。
本申请实施例提供一种显示面板,包括显示区和邻设于所述显示区外侧的GOA过渡区,所述GOA过渡区包括非过孔子区和过孔子区;所述显示面板包括:
衬底;
TFT层,设于所述衬底上;
色阻层,设于所述TFT层上,且与所述显示区相对应;
隔垫物层,设于所述色阻层上;
垫高层,设于所述TFT层上,且位于所述GOA过渡区内,所述垫高层包括位于所述非过孔子区内的第一垫高子层和位于所述过孔子区内的第二垫高子层;
其中,所述第一垫高子层与所述色阻层的材料相同,所述第二垫高子层与所述隔垫物层的材料相同。
根据本申请一优选实施例,所述第一垫高子层与所述色组层为一体成型结构。
根据本申请一优选实施例,所述第二垫高子层与所述隔垫物层为一体成型结构。
根据本申请一优选实施例,所述TFT层包括:
第一金属层,设于所述衬底上;
绝缘层,设于所述衬底和所述第一金属层上且覆盖所述第一金属层;
第二金属层,设于所述绝缘层上;
钝化保护层,设于所述绝缘层和所述第二金属层上且覆盖所述第二金属层;
第一过孔,位于所述过孔子区内,所述第一过孔设置于所述第一金属层上方且穿过所述绝缘层和钝化保护层;
第二过孔,位于所述过孔子区内,所述第二过孔设置于所述第二金属层上方且穿过所述钝化保护层;
所述第一垫高子层设置于所述钝化保护层上,所述第二垫高子层设置于所述第一过孔和所述第二过孔处。
根据本申请一优选实施例,所述TFT层上设有位于所述显示区和所述过孔子区内的公共电极层,所述公共电极层位于所述过孔子区内的部分一端填充于所述第一过孔内且与所述第一金属层连接,另一端填充于所述第二过孔内且与所述第二金属层连接,所述第二垫高子层设于所述公共电极层上且与所述第一过孔和第二过孔的位置相对应。
根据本申请一优选实施例,还包括PFA保护层和配向膜,所述PFA保护层设置于所述色阻层、第一垫高子层和所述钝化保护层上且覆盖所述色阻层和所述第一垫高子层,所述隔垫物层设置于所述PFA保护层上,所述配向膜设置于所述PFA保护层、隔垫物层、公共电极层和所述第二垫高子层上。
根据本申请一优选实施例,所述隔垫物层包括主隔垫柱和副隔垫柱,所述第二垫高子层与所述副隔垫柱的厚度相同。
根据本申请的上述目的,本实施还提供一种显示面板的制作方法,包括如下步骤:
提供一衬底,在所述衬底上形成TFT层,所述显示面板包括显示区和邻设于所述显示区外侧的GOA过渡区,所述GOA过渡区包括非过孔子区和过孔子区;
在所述TFT层上形成与所述显示区相对应的色阻层;
在所述色阻层上形成隔垫物层;
在所述TFT层上形成位于所述GOA过渡区内的垫高层,所述垫高层包括形成于所述非过孔子区内的第一垫高子层和形成于所述过孔子区内的第二垫高子层,所述第一垫高子层与所述色阻层的材料相同,所述第二垫高子层与所述隔垫物层的材料相同。
根据本申请一优选实施例,所述色阻层与所述第一垫高子层采用同一道制程一体成型。
根据本申请一优选实施例,所述隔垫物层与所述第二垫高子层采用同一道制程一体成型。
本申请实施例提供的一种显示面板及其制作方法,通过在显示面板的GOA过渡区设置垫高层,使得所述显示面板的地形整体较为平缓,减小在配向膜制作时诸如聚酰亚胺等制作配向膜的材料在GOA过渡区堆积的现象,并且,所述垫高层采用位于所述非过孔子区内的第一垫高子层和位于所述过孔子区内的第二垫高子层的结构,结合第一垫高子层的材料与色阻材料相同,方便与色阻层一体成型,同时,第二垫高子层的材料与隔垫物的材料相同,方便与隔垫层一体成型的同时,也解决了在过孔子区由于地形复杂不方便采用色阻垫高的问题,整体的制作工艺上,没有额外增加工序,工艺成熟,便于批量制作。
附图说明
下面结合附图,通过对本申请的具体实施方式详细描述,将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本申请实施例提供的显示面板的结构示意图;
图2为本申请实施例提供显示面板的制作方法的流程示意框图;
图3为本申请实施例提供另一种显示面板的制作方法的流程示意框图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接或可以相互通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本申请。此外,本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
具体的,请参阅图1,本申请实施例提供一种显示面板,包括显示区10和邻设于所述显示区10外侧的GOA过渡区20,所述GOA过渡区20包括非过孔子区21和过孔子区22;所述显示面板包括:
衬底100;
TFT层200,设于所述衬底100上;
色阻层300,设于所述TFT层200上,且与所述显示区10相对应;
隔垫物层400,设于所述色阻层300上;
垫高层500,设于所述TFT层200上,且位于所述GOA过渡区20内,所述垫高层500包括位于所述非过孔子区21内的第一垫高子层510和位于所述过孔子区22内的第二垫高子层520;
其中,所述第一垫高子层510与所述色阻层300的材料相同,所述第二垫高子层520与所述隔垫物层400的材料相同。
可以理解的是,本申请主要解决在GOA过渡区20的地形偏低造成在制作配向膜时,诸如聚酰亚胺等制作配向膜材料流向GOA过渡区20并堆积的问题,而在GOA区则可采用隔垫物层400或其它方式进行垫高,在此不再赘述。
值得注意的是,所述GOA过渡区20包括非过孔子区21和过孔子区22,由于在所述过孔子区22内的过孔和相应的公共电极的存在,导致结构较为复杂,在常规制作步骤中,所述色阻层300是在公共电极层600之前制作的,而第二垫高子层520是设置在所述公共电极层600之上,如果位于所述过孔子区22内第二垫高子层520的材料也采用色组层材料,则需要与色组层分开制作,从而导致制作工艺成本的增加,并且,采用所述色组层的材料覆盖所述过孔子区22也有水汽腐蚀的风险;此外,在实际的显示面板的结构中,所述非过孔子区21的面积远大于所述过孔子区22,所以本申请中在所述过孔子区22的所述第二垫高子层520,虽然采用所述隔垫物层400的形式设置会使所述过孔子区22内存在如图1中所示的凹槽,但该部分的体积相对于整个显示面板而言较小,不会影响到后面配向膜的制作;进一步的,如图1所示,虽然所述GOA过渡区20通过所述垫高层500垫高地形,但整体上,只是减小了所述显示面板中的所述显示区10部分与所述GOA过渡区20部分之间的高度差,并且存在一定的高度差,也可以便于在制作配向膜时,诸如聚酰亚胺等制作配向膜材料向四周扩散。
在一实施例中,由于所述第一垫高子层510与所述色阻层300的材料相同,所述第二垫高子层520与所述隔垫物层400的材料相同;所述第一垫高子层510与所述色组层为一体成型结构;所述第二垫高子层520与所述隔垫物层400为一体成型结构;采用该结构方式,可以将所述第一垫高子层510和所述第二垫高子层520融入到现有的色阻层300制作和隔垫物层400的制作上,避免在现有显示面板的制作方法中额外增加工艺步骤,在起到垫高所述显示面板GOA过渡区20的同时,又避免增加额外的工艺步骤导致生产成本的增加。
在一实施例中,如图1所示,所述TFT层200包括:
第一金属层210,设于所述衬底100上;
绝缘层220,设于所述衬底100和所述第一金属层210上且覆盖所述第一金属层210;
第二金属层230,设于所述绝缘层220上;
钝化保护层240,设于所述绝缘层220和所述第二金属层230上且覆盖所述第二金属层230;
第一过孔250,位于所述过孔子区22内,所述第一过孔250设置于所述第一金属层210上方且穿过所述绝缘层220和钝化保护层240;
第二过孔260,位于所述过孔子区22内,所述第二过孔260设置于所述第二金属层230上方且穿过所述钝化保护层240;
所述第一垫高子层510设置于所述钝化保护层240上,所述第二垫高子层520设置于所述第一过孔250和所述第二过孔260处。
在一实施例中,所述TFT层200上设有位于所述显示区10和所述过孔子区22内的公共电极层600,所述公共电极层600位于所述过孔子区22内的部分一端填充于所述第一过孔250内且与所述第一金属层210连接,另一端填充于所述第二过孔260内且与所述第二金属层230连接,所述第二垫高子层520设于所述公共电极层600上且与所述第一过孔250和第二过孔260的位置相对应。
可以理解的是,所述TFT层200还可以是诸如顶栅等多种结构,所述第一过孔250为深孔,所述第二过孔260为浅孔,所述公共电极层600设置于所述TFT层200的上方,两端分别穿过所述第二过孔260和所述第一过孔250,且两端分别与所述第二金属层230和所述第一金属层210连接,从而实现第二金属层230与所述第一金属层210的连接。
在一实施例中,还包括PFA保护层700和配向膜(图中未出示),所述PFA保护层700设置于所述色阻层300、第一垫高子层510和所述钝化保护层240上且覆盖所述色阻层300和所述第一垫高子层510,所述隔垫物层400设置于所述PFA保护层700上,所述配向膜设置于所述PFA保护层700、隔垫物层400、公共电极层600和所述第二垫高子层520上。
在一实施例中,所述隔垫物层400包括主隔垫柱和副隔垫柱,所述第二垫高子层520与所述副隔垫柱的厚度相同;可以理解的是,虽然所述第二垫高子层520与所述副隔垫柱的厚度相同,但由于所述第二垫高子层520与所述副隔垫柱所处的区域高度不同,实际上,所述第二垫高子层520与所述副隔垫柱之间还是存在一定的高度差,但由于所述第二垫高子层520与所述副隔垫柱的厚度相同,在一定程度上便于所述第二垫高子层520与所述副隔垫柱一体成型。
根据本申请的上述目的,本实施还提供一种显示面板的制作方法,如图2所示,包括如下步骤:
步骤S10:提供一衬底100,在所述衬底100上形成TFT层200,所述显示面板包括显示区10和邻设于所述显示区10外侧的GOA过渡区20,所述GOA过渡区20包括非过孔子区21和过孔子区22;
步骤S20:在所述TFT层200上形成与所述显示区10相对应的色阻层300;
步骤S30:在所述色阻层300上形成隔垫物层400;
步骤S40:在所述TFT层200上形成位于所述GOA过渡区20内的垫高层500,所述垫高层500包括形成于所述非过孔子区21内的第一垫高子层510和形成于所述过孔子区22内的第二垫高子层520,所述第一垫高子层510与所述色阻层300的材料相同,所述第二垫高子层520与所述隔垫物层400的材料相同。
在一实施例中,所述色阻层300与所述第一垫高子层510采用同一道制程一体成型;所述隔垫物层400与所述第二垫高子层520采用同一道制程一体成型。通过此种制作方式,可以将步骤S40融合到步骤S20和步骤S30中,具体的,如图3所示,可以是:
步骤S21:在所述TFT层200上形成与所述显示区10相对应的色阻层300,同时,在所述TFT层200上形成位于所述非过孔子区21内的第一垫高子层510,所述第一垫高子层510与所述色阻层300的材料相同。
步骤S31:在所述色阻层300上形成隔垫物层400,同时,在所述TFT层200上形成位于所述过孔子区22内的第二垫高子层520,所述第二垫高子层520与所述隔垫物层400的材料相同。
综上,本申请提供的一种显示面板及其制作方法,通过在显示面板的GOA过渡区20设置垫高层500,使得所述显示面板的地形整体较为平缓,减小在配向膜制作时诸如聚酰亚胺等制作配向膜的材料在GOA过渡区20堆积的现象,并且,所述垫高层500采用位于所述非过孔子区21内的第一垫高子层510和位于所述过孔子区22内的第二垫高子层520的结构,结合第一垫高子层510的材料与色阻材料相同,方便与色阻层300一体成型,同时,第二垫高子层520的材料与隔垫物的材料相同,方便与隔垫层一体成型的同时,也解决了在过孔子区22由于地形复杂不方便采用色阻垫高的问题,整体的制作工艺上,没有额外增加工序,工艺成熟,便于批量制作。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,包括显示区和邻设于所述显示区外侧的GOA过渡区,所述GOA过渡区包括非过孔子区和过孔子区;所述显示面板包括:
衬底;
TFT层,设于所述衬底上,所述TFT层包括:第一过孔,位于所述过孔子区内;第二过孔,位于所述过孔子区内;
色阻层,设于所述TFT层上,且与所述显示区相对应;
隔垫物层,设于所述色阻层上;
垫高层,设于所述TFT层上,且位于所述GOA过渡区内,所述垫高层包括位于所述非过孔子区内的第一垫高子层和位于所述过孔子区内的第二垫高子层;
所述TFT层上设有位于所述显示区和所述过孔子区内的公共电极层,所述公共电极层位于所述过孔子区内的部分一端填充于所述第一过孔内,另一端填充于所述第二过孔内,所述第二垫高子层设于所述公共电极层上且与所述第一过孔和第二过孔的位置相对应;
其中,所述第一垫高子层与所述色阻层的材料相同,所述第二垫高子层与所述隔垫物层的材料相同。
2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一垫高子层与所述色阻层为一体成型结构。
3.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二垫高子层与所述隔垫物层为一体成型结构。
4.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述TFT层包括:
第一金属层,设于所述衬底上;
绝缘层,设于所述衬底和所述第一金属层上且覆盖所述第一金属层;
第二金属层,设于所述绝缘层上;
钝化保护层,设于所述绝缘层和所述第二金属层上且覆盖所述第二金属层;
所述第一过孔设置于所述第一金属层上方且穿过所述绝缘层和钝化保护层;
所述第二过孔设置于所述第二金属层上方且穿过所述钝化保护层;
所述第一垫高子层设置于所述钝化保护层上。
5.如权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述公共电极层位于所述过孔子区内的部分一端填充于所述第一过孔内且与所述第一金属层连接,另一端填充于所述第二过孔内且与所述第二金属层连接。
6.如权利要求5所述的显示面板,其特征在于,还包括PFA保护层和配向膜,所述PFA保护层设置于所述色阻层、第一垫高子层和所述钝化保护层上且覆盖所述色阻层和所述第一垫高子层,所述隔垫物层设置于所述PFA保护层上,所述配向膜设置于所述PFA保护层、隔垫物层、公共电极层和所述第二垫高子层上。
7.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述隔垫物层包括主隔垫柱和副隔垫柱,所述第二垫高子层与所述副隔垫柱的厚度相同。
8.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
提供一衬底,在所述衬底上形成TFT层,所述显示面板包括显示区和邻设于所述显示区外侧的GOA过渡区,所述GOA过渡区包括非过孔子区和过孔子区,所述TFT层包括:第一过孔,位于所述过孔子区内;第二过孔,位于所述过孔子区内;
在所述TFT层上形成位于所述显示区和所述过孔子区内的公共电极层,所述公共电极层位于所述过孔子区内的部分一端填充于所述第一过孔内,另一端填充于所述第二过孔内;
在所述TFT层上形成与所述显示区相对应的色阻层;
在所述色阻层上形成隔垫物层;
在所述TFT层上形成位于所述GOA过渡区内的垫高层,所述垫高层包括形成于所述非过孔子区内的第一垫高子层和形成于所述过孔子区内的第二垫高子层,所述第二垫高子层设于所述公共电极层上且与所述第一过孔和第二过孔的位置相对应,所述第一垫高子层与所述色阻层的材料相同,所述第二垫高子层与所述隔垫物层的材料相同。
9.如权利要求8所述显示面板的制作方法,其特征在于,所述色阻层与所述第一垫高子层采用同一道制程一体成型。
10.如权利要求8所述显示面板的制作方法,其特征在于,所述隔垫物层与所述第二垫高子层采用同一道制程一体成型。
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