CN111051543A - 处理装置和用于去除涂层的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及处理装置(1)和去除涂层的方法，其包括具有输送通道(3)的振动输送机(2)，输送通道(3)为槽形构造，以配置出装有除涂层介质(41)的处理池(4)，该处理装置具有块状物料(20)的进料端(5)和出料端(6)，其中输送通道(3)的输送方向(R)从进料端(5)向出料端(6)延伸。输送通道(3)具有位于处理池(4)表面下方的至少一个除涂层介质(41)的进给设备(7)和至少一个除涂层介质(41)的排放设备(8)。

Description

处理装置和用于去除涂层的方法
本发明涉及权利要求1前序部分的振动输送机设备，以及权利要求15前序部分的用于去除涂层的方法。
带有涂层的纯铜和/或铜合金的大规模应用，为再加工或材料回收积累了数量可观的物料。对于金属原材料，可重复使用的材料循环已经很好地建立了很长一段时间。例如，在采用铜材料带材制备冲压和弯曲构件，例如插座接头时，大约50％到 60％的所用带材通常会累积为冲压废料。如果所述冲压废料是单一类型的，则可以将其再次熔化，并再加工以形成新的带材。对于涂层的带材，例如带有锡、银或其他元素及其合金涂层的铜带材，冲压废料通常不能再加工以形成新的带材，因为在基材的合金成分中一定不需要涂层材料的成分。通常必须将以这种方式“污染”的废料熔炼。由此而产生了熔炼成本，并且由于合金和涂层元素的损失而导致相当可观的金属价值损失。对于具有局部涂层或局部镀层的带材进行再加工时，也会出现相同的问题。局部涂层可以由例如锡、金或银组成。局部镀层可以包括，例如铝的辊压接合带材。与全表面涂层或镀层相比，带有局部涂层或局部镀层的冲压废料具有可重复使用性不同的第一区域和第二区域。
文献WO 2012/110239 A1公开了一种用于去除废料上的涂层的方法。为实现该目的，将废料与液体接触，并且在去除涂层的过程中，将废料在振动输送机的输送通道中，沿着输送方向，从输送通道的进料端移向出料端。在对废钢材料进行脱锌时，该方法具有特别重要的意义。因此，在进行该类脱锌处理时，准确监测反应时间，以使不期望的铁的溶解保持在合理的范围内是非常重要的。
描述了一种具有输送通道的振动输送机，涂层的去除在该振动输送机中进行。这种类型的振动输送机是适用于不同类型块状物料的机械输送单元，其通过振动而实现待输送介质的移动。典型的振动输送机沿输送方向向上和向后倾斜地移动，以用于输送目的，从而，该移动通常在输送方向上包括垂直分量和水平分量。通过这种方式，待输送的物料向上移动，并且在振动输送机本身移动返回之后，在沿输送方向更靠近输送通道的出料端的区域中再次接触。因此，待输送物料通过进料端移动到输送通道上，并通过振动在朝出料端的方向，向上连续地被抛掷而逐步地移动。每次振动时，待输送物料的移动距离大约等于移动振幅的水平矢量。新型的输送通道可以设置精确的振动类型，从而可以设置频率、脉冲、角度等。振动通道的输送通道通常由大体平坦的底板和沿纵向延伸的侧面边框组成。在运行过程中，待输送物料从一端，即进料端移到或移入输送通道，然后沿输送方向上进一步移至另一端，即出料端。
本发明的目的是开发一种用于去除涂层的装置。
本发明涉及具有权利要求1的特征的装置以及具有权利要求15的特征的用于去除涂层的方法。基于该引用基础的从属权利要求涉及本发明的优选实施方式和改进。
本发明包括一种用于去除涂层的处理装置，该装置具有振动输送机，该振动输送机具有槽形构造的输送通道，以便配置处理池，该处理池装有液体的除涂层介质，该处理装置具有用于块状材料的进料端和出料端。输送通道的输送方向从进料端向出料端延伸。输送通道具有至少一个进给设备，并且在处理池的表面下方具有至少一个用于除涂层介质的排放设备。
可以通过在处理池的表面上方和/或下方的进给设备引入除涂层介质，并且可以由此引发除涂层介质的流动。
通过振动输送机的通道中池的除涂层介质液位下方和/或上方的进口和出口，产生相对于输送通道中所输送的块状物料的输送方向的单向流、逆流或交叉流。在此，除了振动输送机的摆动运动之外，还产生了除涂层介质在块状物料表面上的附加流动。流动的强度可以在方向和分量方面发生变化，并且可以有助于进一步辅助加快去除层。块状物料表面的附加伴随流动还减小了块状物料表面上的反应层的厚度，并有助于有效地去除层。除涂层介质可以是例如，酸性水溶液，特别是具有硫酸成分的水溶液。也可以使用碱性溶液。
如果将进给设备和排放设备布置在处理池的表面下方，则如有需要，可以以简单的方式实现逆流。所谓的脉冲作业也可以通过具有快速间隔顺序的逆流来实现。脉冲作业在块状物料的表面上产生连续变化的流动，以进一步助力去除层。
具有涂层的扁平的块状废料特别优选地用作块状物料。此处，例如，这些可以是包含锡涂层的铜合金材料的冲压废料，该冲压废料应尽可能是单一类型的，以便进一步循环利用，因此必须进行预处理。
通过除涂层介质的流动，还可以设置有利的浓度梯度，并且可以从处理池中排出溶解的物质以进行再处理。此外，去除的涂层成分可以在限定的方向上以预定的速度运走，从而确保有效且高效地去除所用涂层的块状物料的层，而不受振动输送通道中材料的填充量和通过量的影响。
通过流动，也可以减少去除涂层的接触时间。此外，确保了除涂层介质能够很好地润湿块状物料的各个表面。
本发明的解决方案的一个特别的优点是，通过在封闭的池液位下移动的除涂层介质中，对块状物料的表面进行尽可能全方位的良好的润湿，显著改善了层的去除效果。
在本发明的一种优选的改进方案中，至少一个进给设备可以布置在块状物料的进料端处。至少一个排放设备可以布置在块状物料的出料端处，或者也可以布置在进料端与出料端之间的位置。从而，在块状物料的运动方向上产生了均匀的流动，该均匀的流动促进了块状物料的运输。
至少一个排放设备可以优选地布置在块状物料的进料端。至少一个进给设备可以布置在块状物料的出料端处，或者布置在进料端与出料端之间的位置。从而，产生了与块状物料的运动方向相反的流动，该流动促进了除涂层介质在所述块状物料的表面上的流动，以有效地去除层。
优选地，至少一个进给设备和至少一个排放设备可以有利地相对于输送方向横向地布置成彼此相对，并且位于块状物料的进料端和出料端之间。从而，在输送方向上的输送作业受到的影响较小，但是仍然在块状物料的表面上产生了利于去除涂层的附加的有利的流动特性。
在本发明的进一步优选的方案中，输送通道的底部可以水平地延伸。当采用水平底部时，用于从装备中移除处理过的块状物料的自动输送设备优选地在出料端处到达槽状池中，该槽状池在所有侧面上均被侧壁包围。
优选地，输送通道的底部在输送方向上至少局部倾斜地延伸。以这种方式，除涂层介质在进料端或出料端集聚，从而，可以对处理池的尺寸做进一步有利的技术改进。
在本发明的一种优选的实施方式中，输送通道的底部可以以在输送方向上从进料端向出料端上升或下降的方式延伸。当采用上升的输送通道时，输送通道的底部的出料端优选地升高到池液位以上。因此，在出料端不设侧壁，从而，在装备运行期间，块状物料可以通过出料端直接掉落到收集箱中或其他运输工具上。
在本发明的另一优选的实施形式中，输送通道的底部可以在从进料端向出料端延伸的输送方向上以3°至10°的倾斜角上升或下降。倾斜角的精确选择取决于以下事实，即在出料端不再有侧壁，并且此处，处理池主要配置在进料端或出料端。无论如何，倾斜角都应选择得足够大，以使处理池至少在限定的输送路径上足够深，以便能够润湿块状物料的所有面。
在一个特别优选的实施方式中，输送通道的底部可以至少局部地具有凸起。这些凸起旨在带来一定的粗糙度或表面结构，从而，在装备运行期间，液体除涂层介质还可以以改进的方式润湿块状物料的底部表面。这种凸起可以，例如利用成型技术，通过压制或者仅通过喷砂来制造。
在本发明的另一优选的改进方案中，输送通道的底部可以配置为双壁的，并且做为流动导管，用于将除涂层介质通过通孔引入到处理池中。因此，流动导管在待输送的块状物料下方延伸。在装备运行期间，除涂层介质通过通孔直接从下方进入处理池，首先围绕通常很难到达的块状物料的底侧流动。从而，除涂层介质可以在待处理的块状物料的所有侧面上流动。由于液体从底侧进入，抵靠底部的块状物料也从输送通道的底部升高，因此避免了粘附。具有通孔的壁部分可以配置为穿孔板。孔的顺序和孔径根据以下事实确定，即任何块状物料都不可能穿孔向下掉落。在此，输送通道的双壁部分也可以是多个零件，从而，例如，可以更换具有不同穿孔并且可能还有不同表面结构的穿孔板，因此可以适应于待处理的块状物料的几何形状。
优选地，输送通道的底部可以具有凹槽或通道。这种类型的凹槽或通道优选地在输送方向上延伸，并用于将除涂层介质分布在处理池中，因为其位于块状物料下方。从而，产生了用于除涂层介质的底侧引导结构。
在本发明的一种优选的实施方式中，进给设备或排放设备可以在处理池的最低点处布置在振动输送机上。从而，配置了底部沟道，如果需要维护和清洁装备，可以通过该底部沟道排尽处理池而没有残留物。
在本发明的一种优选的实施方式中，处理池可以是液密的和/或气密的配置。振动输送机优选地配置有可打开或移除的盖，该盖将振动输送机与进料端的入口点和出料端的出口点密封隔开。可以在入口点和出口点处布置锁定设备，通过该锁定设备，可以在边界线处以液密或气密的方式封闭处理空间。因此，可以有效地防止产生意料外的除涂层介质的出口端。
此外，清洗设备优选可以布置在输送通道的区域中。为达到清洁目的，可以在振动输送机的内部空间中布置喷嘴系统，该喷嘴系统可以，例如在除涂层介质去除之后，用冲洗介质来清洁处理空间。在此，清洁介质同样可以通过输送通道中的底侧排放沟道被排放至另一个可更换的收集箱中。
本发明的另一方面包括一种通过根据本发明的处理装置，通过以下依次进行的步骤用于去除涂层的方法：
-将块状物料通过输送通道的进料端引入到具有除涂层介质的处理池中，
-在输送通道中将块状物料沿输送方向输送到出料端，
-在出料端移除处理过的块状物料。
在此，本发明在所述的方面同样是基于这样的考虑，即通过将块状物料表面置于封闭的池液位以下的除涂层介质中，直至在各个面上获得满意的润湿效果，从而显著改善去除涂层的效果。
附图说明
将基于附图，更详细地描述本发明的其他示例性实施方式，其中：
图1示出了处理装置的示意图，
图2示出了处理装置的另一实施方式的示意图，该处理装置具有以上升方式倾斜的输送通道，并且
图3示出了处理装置的另一实施方式的示意图，该处理装置具有以下降的方式倾斜的输送通道。
在所有附图中，彼此对应的部件采用相同的附图标记。
图1示出了用于去除涂层的处理装置1，其具有振动输送机2，该振动输送机2 具有槽形构造的输送通道3，以便配置处理池4，该处理池4装有液体的除涂层介质 41。从储料箱51进料装备的涂层的块状物料20，并分别地，经由进料端5和出料端 6，经由输送设备61排出。输送通道3的输送方向R从进料端5向出料端6延伸。输送通道3在处理池4的表面42下方，具有用于除涂层介质41的至少一个进给设备7和至少一个排放设备8。
溶解的物质通过除涂层介质41的流动，从处理池4中排出以进行再处理。经由排放设备8，一定比例的除涂层介质41经由泵设备10被输送到再处理设备9中。在再处理设备9中，溶解的涂层材料可以，例如通过化学工艺，再次被沉积。在进一步的过程中，再处理的除涂层介质41经由进给设备7被进给到用于去除涂层的处理池 4中。
进给设备7和排放设备8优选地通过弹性软管或具有弹性连接器的管附接到输送通道3，这旨在防止装备运行期间的振动传递。
输送通道3的底部31配置为双壁构造，并且做为流动导管35，用于将除涂层介质41通过通孔36引入到处理池4中。由此，流动导管35在待要输送的块状物料下方延伸。经由通孔36，除涂层介质41从下方进入位于上方的处理池4中，由此，流体也最先从通常相对难以到达的块状物料的底侧流过。具有通孔36的壁部分配置为穿孔板。
振动输送机2的输送通道3设置为：在用作块状物料的机械输送单元的装备运行期间，通过振动设备32振动。振动驱动器33使输送通道3在输送方向R上向上和向后倾斜地移动以用于输送目的，从而，该运动包括在输送方向R上的垂直分量和水平分量。通过振动操作，从进料端5引入到输送通道3中的待被输送的物料被逐步地朝出料端6的方向移动。弹性悬架34使得输送通道3可以相对于下表面进行振动运动。设置振动的频率、脉冲和角度。此外，处理装置1具有清洁设备37，该清洁设备37安装在装备上部的盖体38中。
图2示出了具有倾斜的输送通道3的处理装置1的另一实施方式的示意图。输送通道3的底部31在输送方向R上从进料端5向出料端6以上升的方式延伸。因此，除涂层介质41聚集在进料端5处的处理池4中，并且输送通道3的底部31的出料端6升高到池液位42上方。从而，在装备运行期间，块状物料20可以从储料箱51引入到输送通道3中出料端6处，并且可以通过敞开的出料端6落入收集箱62 中。此时，进给设备7布置在块状物料20的进料端5。排放设备8布置在进料端5 和出料端6之间的位置。为清楚起见，图2没有更详细地显示再处理设备和泵设备。
图3示出了具有倾斜的输送通道3的处理装置1的另一实施方式的示意图。输送通道3的底部31在输送方向R上从进料端5向出料端6以下降的方式延伸。从而，除涂层介质41聚集在出料端6处的处理池4中，并且输送通道3的底部31的进料端5升高到池液位42上方。
装备中涂层的块状物料20从储料箱51进给，分别地，经由进料端5和出料端 6，经由输送设备61排出。输送通道3具有位于处理池4的表面42上方，用于除涂层介质41的进给设备7，以及位于处理池4的表面42下方的用于除涂层介质41的排放设备8。在这种情况下，排放设备8布置在块状物料20的出料端6。为清楚起见，在图3中未进一步详细示出再处理设备和泵设备。
附图标记清单
1-处理设备；
2-振动输送机；
3-输送通道；
31-底部；
32-振动设备；
33-振动驱动器；
34-弹性悬架；
35-流动导管；
36-通孔；
37-清洁设备；
38-盖体；
4-处理池；
41-除涂层介质；
42-处理池表面；池液位
5-进料端；
51-储料箱；
6-出料端；
61-输送设备；
62-收集箱；
7-除涂层介质的进给设备；
8-除涂层介质的排放设备；
9-再加工设备；
10-泵设备；
20块状物料；
R-输送方向。

Claims (15)

1.一种用于去除涂层的处理装置(1)，其具有振动输送机(2)，该振动输送机具有槽形构造的输送通道(3)，以便配置出处理池(4)，该处理池(4)装有液体的除涂层介质(41)，该处理装置还具有块状物料(20)的进料端(5)和出料端(6)，输送通道(3)的输送方向(R)从进料端(5)向出料端(6)延伸，其特征在于，
-输送通道(3)具有至少一个除涂层介质的进给设备(7)和至少一个除涂层介质的排放设备(8)，该排放设备(8)设在处理池(4)的表面(42)下方。
2.根据权利要求1的处理装置(1)，其特征在于，至少一个进给设备(7)布置在块状物料(20)的进料端(5)处。
3.根据权利要求1的处理装置(1)，其特征在于，至少一个排放设备(8)布置在块状物料(20)的进料端(5)处。
4.根据权利要求1所述的处理装置(1)，其特征在于，至少一个进给设备(7)和至少一个排放设备(8)相对于输送方向(R)横向地布置成彼此相对，并且位于块状物料(20)的进料端(5)和出料端(6)之间。
5.根据权利要求1～4任一所述的处理装置(1)，其特征在于，输送通道(3)的底部(31)水平延伸。
6.根据权利1～4任一所述的处理装置(1)，其特征在于，输送通道(3)的底部(31)在输送方向上至少局部倾斜地延伸。
7.根据权利要求6所述的处理装置(1)，其特征在于，输送通道(3)的底部(31)延伸，从而在从进料端(5)向出料端(6)的输送方向上升高或降低。
8.根据权利要求7所述的处理装置(1)，其特征在于，输送通道(3)的底部(31)延伸，从而在从进料端(5)向出料端(6)的输送方向上，以3°～10°的倾斜角升高或降低。
9.根据权利要求1～8任一所述的处理装置(1)，其特征在于，输送通道(3)的底部(31)至少局部地具有凸起。
10.根据权利要求1～9任一所述的设备(1)，其特征在于，输送通道(3)的底部(31)配置为双壁结构，并作为流动导管(35)，使除涂层介质(41)通过通孔(36)进入到处理池(4)中。
11.根据权利要求1～10任一所述的处理装置(1)，其特征在于，输送通道(3)的底部(31)具有凹槽。
12.根据权利要求1～11任一所述的处理装置(1)，其特征在于，进给设备(7)或排放设备(8)布置在振动输送机(2)中处理池(4)的最低点处。
13.根据权利要求1～12任一所述的处理装置(1)，其特征在于，处理池(4)为液密和/或气密配置。
14.根据权利要求1～13任一所述的处理装置(1)，其特征在于，清洗设备(37)布置在输送通道(3)的区域内。
15.利用权利要求1～14任一所述的处理装置(1)用于去除涂层的方法，其特征在于，依次进行以下步骤：
-通过输送通道(3)的进料端(5)将块状物料(20)引入到装有除涂层介质的处理池(4)中；
-将块状物料(20)在输送通道中(3)中沿输送方向(R)输送到出料端(6)；
-在出料端(6)移除处理过的块状物料(20)。
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