CN111029476A - 显示器及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种显示器及其制备方法，所述制备方法包括：S10提供基板；S20形成第一电极层于所述基板上；S30形成氧化锌材料于所述第一电极层上；S40对所述氧化锌材料进行图案化，以形成对应所述第一电极层的氧化锌层；S50形成像素定义层于所述第一电极层之间；以及S60形成量子点层于所述氧化锌层上。

Description

显示器及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种显示器及其制备方法，尤其涉及一种量子点发光二极体显示器及其制备方法。
背景技术
氧化锌(ZnO)具有和量子点(quantum-dot,QD)匹配的导带能级和更高的载流子迁移率，是适用于量子点发光二极体(quantum-dot light-emitting diode,QLED)的最佳电子传输(electron transporting,HT)材料。一般ZnO薄膜都是通过溶液沉积的方式制备，且量产着重的方向在于开发适合喷墨打印(ink-jet printing,IJP)的ZnO墨水。但目前开发的ZnO墨水并不成熟，器件性能和打印性能无法兼顾，而且需要低温保存，稳定性较差，限制QLED的商业化。溅镀(sputter)虽然能沉积致密均一的ZnO薄膜，但通常需要高温热退火来提高ZnO薄膜性能，QDs层一般无法承受退火温度，同时，溅镀制程产生的高能粒子可能会破坏下面的QDs层，影响器件性能。
为了解决在实际喷墨打印的量子点发光二极体显示器中，以溅镀的方式形成氧化锌层而对量子点层的破坏，亟需一种崭新的显示器及显示器的制备方法来解决上述问题。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种显示器及其制备方法，采用溅镀的方式将氧化锌层直接沉积在第一电极层(ITO)上，通过黄光制程刻蚀将其进行图案化，再经过高温热退火改善薄膜性能。在本发明所提出的显示器及其制备方法中，先形成氧化锌层再形成量子点层，如此一来，不仅避免了因溅镀氧化锌而对量子点层造成的破坏，还因仅需打印量子点层(QDlayer)，降低了喷墨打印(IJP)的工艺难度，可显着改善薄膜均一性，从而改善显示器亮度均一性和色度均匀性，提高器件性能。
据此，依据本发明的一实施例，本发明提供了一种显示器，包括：基板；氧化锌层配置于所述基板上；以及量子点层配置于所述氧化锌层上。
在本发明的一实施例中，所述基板包括电晶体基板。
在本发明的一实施例中，在所述基板与所述氧化锌层之间，所述显示器更包括：第一电极层。
在本发明的一实施例中，所述显示器更包括：像素定义层，配置于所述基板上，其中所述像素定义层在所述基板上定义出凹槽，且所述第一电极层与所述像素定义层交错配置，以及所述氧化锌层对应所述第一电极层且配置于所述凹槽中
在本发明的一实施例中，所述显示器更包括：空穴传输层配置于所述量子点层上；空穴注入层配置于所述空穴传输层上；以及第二电极层配置于所述空穴注入层上。
在本发明的一实施例中，所述氧化锌层与所述第一电极层具有相同图案。
依据本发明的另一实施例，本发明提供了一种显示器的制备方法，包括：
S10提供基板；
S20形成第一电极层于所述基板上；
S30以溅镀方式形成氧化锌材料于所述第一电极层上；
S40利用黄光蚀刻方式，对所述氧化锌材料进行图案化，以形成对应所述第一电极层的氧化锌层；
S50形成像素定义层于所述第一电极层之间，使所述第一电极层与所述像素定义层交错配置；以及
S60形成量子点层，对应配置于所述氧化锌层上。
在本发明的一实施例中，在步骤S60中，对应氧化锌层，以打印的方式形成量子点层于所述氧化锌层上。
在本发明的一实施例中，在步骤S40与步骤S50之间，更包括:步骤S45对所述氧化锌层在400℃至600℃下退火40-120分钟。
在本发明的一实施例中，所述基板包括电晶体基板。
在本发明的一实施例中，所述制备方法还包括：S70形成空穴传输层于所述量子点层上；S80形成空穴注入层于所述空穴传输层上；以及S90形成第二电极层于所述空穴注入层上。
在本发明的一实施例中，在步骤S70、S80、及S90中，以真空热蒸镀的方式，依序形成所述空穴传输层、所述空穴注入层、以及所述第二电极层。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1A-1C为依据本发明的一实施例之显示器的制备方法，于各步骤中显示器的结构示意图。
图2为依据本发明的一实施例之显示器的结构示意图。
图3为依据本发明的一实施例之显示器的制备方法流程图。
具体实施方式
为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式作详细说明。
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[纵向]、[横向]、[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
在实际喷墨打印的量子点发光二极体显示器中，以溅镀的方式形成氧化锌层，会对氧化锌层下方的量子点层的造成破坏，本发明提供一种显示器及其制备方法，采用溅镀的方式将氧化锌层直接沉积在第一电极层(ITO)上，通过黄光制程刻蚀将其进行图案化，再经过高温热退火改善薄膜性能。在本发明所提出的显示器及其制备方法中，先形成氧化锌层再形成量子点层，如此一来，不仅避免了因溅镀氧化锌而对量子点层造成的破坏，还因仅需打印量子点层(QD layer)，降低了喷墨打印(IJP)的工艺难度，可显着改善薄膜均一性，从而改善显示器亮度均一性和色度均匀性，提高器件性能。
据此，依据本发明的一实施例，本发明提供了一种显示器的制备方法，参见图1A-1C及图2。图1A-1C为依据本发明的一实施例之显示器的制备方法，于各步骤中显示器的结构示意图。图2为依据本发明的一实施例之显示器的结构示意图。图3为依据本发明的一实施例之显示器的制备方法流程图。
如图1A-1C、图2及图3所示，具体而言，本发明所提供的显示器100的制备方法，包括：
S10提供基板1，如图1A所示；
S20形成第一电极层2于所述基板1上，如图1A所示；
S30以溅镀方式形成氧化锌材料于所述第一电极层2上；
S40利用黄光蚀刻方式，对所述氧化锌材料进行图案化，以形成对应所述第一电极层2的氧化锌层3，如图1B所示；
S50形成像素定义层4于所述第一电极层2之间，使所述第一电极层2与所述像素定义层4交错配置，如图1C所示；以及
S60形成量子点层5，对应配置于所述氧化锌层3上，如图2所示。
在本发明的一实施例中，在步骤S60中，对应氧化锌层3，以打印的方式形成量子点层5于所述氧化锌层3上。
在本发明的一实施例中，在步骤S40与步骤S50之间，更包括:步骤S45对所述氧化锌层3在400℃至600℃下退火40-120分钟。
在上述实施例中，所述像素定义层4可利用涂覆光阻材料后，再进行瀑光显影而得。
参见图2，在本发明的一实施例中，所述制备方法还包括：S70形成空穴传输层6于所述量子点层5上；S80形成空穴注入层7于所述空穴传输层6上；以及S90形成第二电极层8于所述空穴注入层7上。
在本发明的一实施例中，在步骤S70、S80、及S90中，以真空热蒸镀的方式，依序形成所述空穴传输层6、所述空穴注入层7、以及所述第二电极层8。
依据本发明的另一实施例，本发明提供了一种显示器，参见图1A-1C及图2。如图1A-1C及图2所示，具体而言，本发明所提供的显示器100包括：基板1；氧化锌层3配置于所述基板1上；以及量子点层5配置于所述氧化锌层3上。
在本发明的一实施例中，所述基板1包括电晶体基板1。
如图1B所示，在本发明的一实施例中，在所述基板1与所述氧化锌层3之间，所述显示器更包括：第一电极层2。
如图1C所示，在本发明的一实施例中，所述显示器更包括：像素定义层4，配置于所述基板1上，其中所述像素定义层4在所述基板1上定义出凹槽，且所述第一电极层2与所述像素定义层4交错配置，所述氧化锌层3对应所述第一电极层2且配置于所述凹槽中，以及所述量子点层5对应所述氧化锌层3且配置于所述凹槽中。
在上述实施例中，所述像素定义层4除了配置于第一电极层2之间的基板1上以外，所述像素定义层4还进一步地配置于所述氧化锌层的侧壁及邻近侧壁的上表面上，如图1C所示。
如图1B所示，在本发明的一实施例中，所述氧化锌层3与所述第一电极层2可具有相同图案；所述所述量子点层5与所述氧化锌层3可具有相同图案。
在本发明的一实施例中，所述显示器更包括：空穴传输层6配置于所述量子点层5上；空穴注入层7配置于所述空穴传输层6上；以及第二电极层8配置于所述空穴注入层7上。在上述实施例中，所述空穴传输层6、所述空穴注入层7、以及所述第二电极层8对应所述量子点层7。所述空穴传输层6、所述空穴注入层7、以及所述第二电极层8的数量可为一或多个。
据此，本发明提供一种显示器及其制备方法，采用溅镀的方式将氧化锌层直接沉积在第一电极层(ITO)上，通过黄光制程刻蚀将其进行图案化，再经过高温热退火改善薄膜性能。在本发明所提出的显示器及其制备方法中，先形成氧化锌层再形成量子点层，如此一来，不仅避免了因溅镀氧化锌而对量子点层造成的破坏，还因仅需打印量子点层(QDlayer)，降低了喷墨打印(IJP)的工艺难度，可显着改善薄膜均一性，从而改善显示器亮度均一性和色度均匀性，提高器件性能。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种显示器，其特征在于，包括：
基板；
氧化锌层配置于所述基板上；以及
量子点层配置于所述氧化锌层上。
2.根据权利要求1所述的显示器，其特征在于，所述基板包括电晶体基板。
3.根据权利要求1所述的显示器，其特征在于，在所述基板与所述氧化锌层之间，所述显示器更包括：
第一电极层，配置于所述基板上；
所述显示器更包括：
像素定义层，配置于所述基板上，其中所述像素定义层在所述基板上定义出凹槽，且所述第一电极层与所述像素定义层交错配置，以及所述氧化锌层对应所述第一电极层且配置于所述凹槽中；
空穴传输层配置于所述量子点层上；
空穴注入层配置于所述空穴传输层上；以及
第二电极层配置于所述空穴注入层上。
4.根据权利要求3所述的显示器，其特征在于，所述氧化锌层与所述第一电极层具有相同图案。
5.一种显示器的制备方法，包括：
S10提供基板；
S20形成第一电极层于所述基板上；
S30以溅镀方式形成氧化锌材料于所述第一电极层上；
S40利用黄光蚀刻方式，对所述氧化锌材料进行图案化，以形成对应所述第一电极层的氧化锌层；
S50形成像素定义层于所述第一电极层之间，使所述第一电极层与所述像素定义层交错配置；以及
S60形成量子点层，对应配置于所述氧化锌层上。
6.根据权利要求5所述的显示器的制备方法，其特征在于，在步骤S60中，对应氧化锌层，以打印的方式形成量子点层于所述氧化锌层上。
7.根据权利要求5所述的显示器的制备方法，其特征在于，在步骤S40与步骤S50之间，更包括:步骤S45对所述氧化锌层在400℃至600℃下退火40-120分钟。
8.根据权利要求5所述的显示器的制备方法，其特征在于，所述基板包括电晶体基板。
9.根据权利要求5所述的显示器的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：
S70形成空穴传输层于所述量子点层上；
S80形成空穴注入层于所述空穴传输层上；以及
S90形成第二电极层于所述空穴注入层上。
10.根据权利要求9所述的显示器的制备方法，其特征在于，
在步骤S70、S80、及S90中，以真空热蒸镀的方式，依序形成所述空穴传输层、所述空穴注入层、以及所述第二电极层。
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