CN111029392A - 显示面板及其制备方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开一种显示面板及其制备方法和显示装置，显示面板包括第一显示区；第一显示区内包括层叠设置的第一基底、第二基底、第一驱动阵列层、第一平坦化层和第一像素限定层，第一像素限定层包括多个第一开口；第一驱动阵列层包括元件区与非元件区，且第一驱动阵列层封装第一平坦化层和第一像素限定层；至少两个相邻的第一开口之间设置有过孔，在显示面板的厚度方向上，非元件区覆盖过孔；过孔至少贯穿第二基底；过孔中填充透明材料，有利于提高第一显示区的光透过率；可以在保证光透过率的基础上，使得过孔区域不会形成中空结构，使得显示面板受力时，面板不易变形，保证显示面板的可靠性；并有利于防止水氧从过孔处进入，提高封装性能。

Description

显示面板及其制备方法和显示装置

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法和显示装置。

背景技术

随着显示终端的快速发展，用户对屏幕占比的要求越来越高，使得显示终端的全面屏显示受到业界越来越多的关注。

现有技术中的全面屏多为开槽或开孔的方式，均是在摄像头、传感器等元件对应的显示屏区域开槽或开孔。在实现拍照功能时，外部光线通过显示屏上的槽或孔射入显示屏下方的摄像头，从而实现拍照。

但是，不论是刘海屏还是打孔屏，均不是真正的全面屏，因此，业界急需研发出真正的全面屏。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板及其制备方法和显示装置，以实现全面屏显示。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括第一显示区；第一显示区内包括层叠设置的第一基底、第二基底、第一驱动阵列层、第一平坦化层和第一像素限定层，第一像素限定层包括多个第一开口；

第一驱动阵列层包括元件区与非元件区，且第一驱动阵列层封装第一像素限定层；至少两个相邻的第一开口之间设置有过孔，在显示面板的厚度方向上，非元件区覆盖过孔；过孔至少贯穿第二基底，且过孔中填充透明材料。

可选的，第一开口限定出第一子像素，第一子像素包括自第一平坦化层远离第一基底一侧依次层叠设置的第一电极、第一发光层和第二电极，第二电极包括镂空区和非镂空区，在显示面板的厚度方向上，镂空区与过孔在第二基底或者第一基底上的投影区域部分重叠或者完全重叠。

可选的，第一像素限定层和第一平坦化层的材料均为有机材料；过孔中填充的透光材料包括层叠设置的至少一层有机材料层和至少一层无机材料层；其中，无机材料层与第一基底的距离小于第一平坦化层与第一基底的距离，有机材料层的材料均与第一像素限定层和/或第一平坦化层的材料相同。

可选的，第一驱动阵列层包括自第二基底远离第一基底一侧层叠设置的多个金属层，以及相邻金属层之间的无机绝缘层，其中，无机材料层至少与一无机绝缘层续接。

可选的，第一像素限定层和第一平坦化层的材料均为有机材料；第一驱动阵列层包括自第二基底远离第一基底一侧层叠设置的多个金属层，以及相邻金属层之间的无机绝缘层，过孔贯穿任一无机绝缘层与第二基底之间的膜层以及第二基底，过孔中填充的材料全部为第一像素限定层和/或第一平坦化层的材料。

可选的，第一基底的材料为无色聚酰亚胺。

可选的，第一像素限定层的材料为无机材料。

可选的，显示面板还包括第二显示区，第二显示区完全或部分围绕第一显示区；第二显示区内包括层叠设置的第三基底、第四基底以及自第四基底远离第一基底一侧依次层叠设置的第二驱动阵列层、第二平坦化层和第二像素限定层；

第一基底和第三基底相拼接，第二基底和第四基底相拼接；或者第一基底和第三基底为一体结构，第二基底和第四基底为一体结构。

第二方面，本发明实施例还提供的一种显示面板的制备方法，该显示面板的制备方法包括：

提供层叠设置的第一基底和第二基底；

在第二基底远离第一基底的一侧形成第一驱动阵列层，且在形成第一驱动阵列层最远离第一基底的绝缘层之前，在第一驱动阵列的非元件区形成过孔，过孔至少贯穿第二基底，并在过孔中填充透明材料；

在第一驱动阵列层远离第一基底的一侧依次形成第一平坦化层和第一像素限定层，并图形化第一像素限定层形成多个第一开口；

其中，在显示面板的厚度方向上，过孔形成于相邻的两个第一开口之间。

第三方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括：

设备本体，具有器件区；

以及第一方面提供的显示面板，显示面板覆盖在设备本体上；

其中，器件区位于显示面板的第一显示区下方，且器件区中设置有透过第一显示区发射或者采集光线的感光器件。

本发明实施例提供了一种显示面板及其制备方法和显示装置，其中显示面板包括第一显示区；第一显示区内包括层叠设置的第一基底、第二基底、第一驱动阵列层、第一平坦化层和第一像素限定层，第一驱动阵列层封装第一平坦化层和第一像素限定层，第一像素限定层包括多个第一开口；至少两个相邻的第一开口之间设置有过孔，在显示面板的厚度方向上，非元件区覆盖过孔；过孔至少贯穿第二基底；进而可以使得对应于过孔的区域只存在一层基底的结构，有利于提高第一显示区的光透过率；过孔中填充透明材料，可以在保证光透过率的基础上，使得过孔区域不会形成中空结构，使得显示面板受力时，面板不易变形，保证显示面板的可靠性；并且因过孔中填充透明材料，第一驱动阵列层封装第一像素限定层，有利于防止水氧从过孔处进入，提高封装性能。

附图说明

图1是本发明实施例提供的一种显示面板的俯视图；

图2是本发明实施例提供的一种显示面板的剖视图；

图3是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图4是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图5是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图7是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图8是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图9是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图；

图10是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程图；

图11是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

正如背景技术中所述，现有技术中不论是刘海屏还是打孔屏，均无法实现真正的全面屏。经发明人研究发现，若要实现全面屏，需要将显示面板直接覆盖在摄像头等感光器件上，使得感光器件对应的区域既具有显示功能，又具有摄像等功能，这就要求位于摄像头等感光器件上方的显示面板具有高透光率，故透明显示面板是实现全面屏的一种方式。透明显示面板通常包括层叠设置的基底、驱动阵列层和多个发光器件，摄像头等感光器件设置于基底远离驱动阵列层的一侧。现有显示面板中，为了提供足够的支撑或缓冲作用，基底通常为双层结构，使得部分光线无法穿透双层基底，因此使得透明显示面板的光透过率降低，影响摄像头等感光器件的感光效果，给全面屏的实现带来障碍。

基于上述原因，本发明实施例提供一种显示面板，图1是本发明实施例提供的一种显示面板的俯视图，图2是本发明实施例提供的一种显示面板的俯视图，其中图2可对应图1剖面线A-A’剖切得到。参考图1和图2，该显示面板包括第一显示区1a；第一显示区1a内包括层叠设置的第一基底110、第二基底120、第一驱动阵列层130、第一平坦化层140和第一像素限定层150，第一像素限定层150包括多个第一开口151；

第一驱动阵列层130包括元件区1301与非元件区1302，且第一驱动阵列层130封装第一平坦化层140和所述第一像素限定层150；至少两个相邻的第一开口151之间设置有过孔160，在显示面板的厚度方向上，非元件区1302覆盖过孔160；过孔160至少贯穿第二基底120，且过孔160中填充透明材料。

参考图1，具体的，第一基底110和第二基底120可以为显示装置提供缓冲、保护或支撑等作用。第一基底110和第二基底120可以是柔性基底，柔性基底的材料可以是聚酰亚胺(PI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或者聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等，也可以是上述多种材料的混合材料。第二基底120也可以为采用玻璃等材料形成的硬质基底。

第一驱动阵列层130可以包括多个薄膜晶体管和电容元件，第一驱动阵列层130还可以包括多条信号线。其中，第一驱动阵列层130的元件区1301为设置有薄膜晶体管、电容等元件和信号线的区域，第一驱动阵列层130的非元件区1302为未设置有薄膜晶体管、电容等元件和信号线的区域，第一驱动阵列层130的非元件区1302透光。在显示面板的厚度方向上，非元件区1302覆盖过孔160，例如，薄膜晶体管、电容等元件和信号线可以围绕过孔160设置，进而使得过孔160的设置不会对第一驱动阵列层130的驱动效果造成影响。第一驱动电路层的表面易出现不平整，第一平坦化层140设置于第一驱动阵列层130远离第二基底120的一侧，第一平坦化层140远离第二基底120一侧可形成较为平整的表面。第一像素限定层150设置于第一平坦化层140远离第二基底120的一侧，并具有多个第一开口151，第一开口151可限定出第一子像素170，第一子像素170的发光层可形成于第一开口151中。其中，第一平坦化层140和第一像素限定层150的材料可均为透明材料，例如透明有机胶。

继续参考图1，因显示面板包括第一基底110和第二基底120双层基底结构，并且现有显示面板中第一基底110和第二基底120通常采用聚酰亚胺材料，使得第一基底110和第二基底120通常为黄色，降低了第一基底110和第二基底120的光透过率，在第一基底110远离第二基底120一侧设置摄像头等感光器件时，使得感光器件可以接收到的光线有限，影响感光器件的感光效果，或者使得感光器件发射的光线中，可以穿透显示面板的光线有限。例如感光器件为摄像头时，使得摄像头的摄像效果较差。

继续参考图1和图2，本实施例的显示面板中，在至少相邻的两个第一开口151之间设置有过孔160，过孔160至少贯穿第二基底120，并且过孔160中填充有透明材料，使得在对应于过孔160的区域，不存在第二基底120，进而使得过孔160对应的区域只存在一层基底结构，进而有利于提高第一显示区1a的光透过率。示例性的，当第一基底110和第二基底120采用常用的聚酰亚胺材料时，可以使得对应于过孔160区域只存在一层黄色基底，光线从显示面板的显示侧进入时，依次穿过过孔160中透明材料远离第二基底120一侧的一些透光膜层、过孔中透明材料和第一基底110，即是主要穿过一层基底，进而提高对应与过孔160区域的光透过率。并且通过在过孔160中填充透明材料，可以在保证光透过率的基础上，使得过孔160区域不会形成中空结构，进而保证显示面板结构的紧凑性，使得显示面板受力时，面板不易变形，保证显示面板的可靠性。因过孔160区域不会形成中空结构，使得水氧不易通过过孔160进入到第一平坦化层140远离第一基底110一侧的第一子像素170内，进而有利于提高封装性能，延长显示面板的使用寿命。并且因过孔160中填充的透明材料可以包括与第一像素限定层150和/或第一平坦化层140相同的材料，进而使得填充的透明材料采用现有显示面板中用到的材料填充即可，无需开发新的透明材料，在保证过孔160对应区域的光透过率的基础上，节约成本。

第一驱动阵列层130可以包括多个金属膜层以及金属膜层之间的绝缘层，其中绝缘层通常采用无机材料，具有良好的阻水氧性能。形成过孔160需在形成第一驱动阵列层130最远离第一基底110的绝缘层，或者说最靠近第一平坦化层140的绝缘层之前，并且过孔160中填充有透明材料，进而保证第一驱动阵列层130可以对第一平坦化层140、第一像素限定层150和发光器件形成封装，即借用第一驱动阵列层130中的绝缘层对第一平坦化层140、第一像素限定层150和发光器件形成封装，进而防止水氧入侵，保证显示面板良好的封装性能。

在对过孔160进行填充时，可以采用常规的胶旋涂浸润方式，也可采用注入或喷墨打印的方式，本实施例在此不做具体限定。

本实施例提供的显示面板，包括第一显示区；第一显示区内包括层叠设置的第一基底、第二基底、第一驱动阵列层、第一平坦化层和第一像素限定层，第一像素限定层包括多个第一开口；至少两个相邻的第一开口之间设置有过孔，在显示面板的厚度方向上，非元件区覆盖过孔；过孔至少贯穿第二基底；进而可以使得对应于过孔的区域只存在一层基底的结构，有利于提高第一显示区的光透过率；过孔中填充透明材料，可以在保证光透过率的基础上，使得过孔区域不会形成中空结构，使得显示面板受力时，面板不易变形，保证显示面板的可靠性；并且因过孔中填充透明材料，第一驱动阵列层封装第一像素限定层，有利于防止水氧从过孔处进入，提高封装性能。

继续参考图1和图2，可选的，第一开口151限定出第一子像素170，第一子像素170包括自第一平坦化层140远离第一基底110一侧依次层叠设置的第一电极171、第一发光层172和第二电极，第二电极包括镂空区1731和非镂空区1732，在显示面板的厚度方向上，镂空区1731与过孔160在第二基底120或者第一基底110上的投影区域部分重叠或者完全重叠。

可选的，第一电极171为阳极，第二电极173为阴极。第一电极171即阳极可以为不透光电极，阳极可以采用三层结构，其中第一层与第三层可为金属氧化物层例如可以是铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、铝锌氧化物(AZO)，中间的第二层可为金属层(如银或铜)。可选的，第一电极171也可以为透光电极，其材料可以仅包括透明导电材料，如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、铝锌氧化物(AZO)。第二电极173，即阴极可以是镁银合金，第二电极173通常为半透光电极，即第二电极173透光，但光透过率小于100％，且第二电极173通常为整面电极。设置第二电极173包括镂空区1731和非镂空区1732，其中，第二电极173的镂空区1731可以是在形成整面的第二电极173材料后，通过激光刻蚀等工艺刻蚀掉一部分第二电极173，进而使得被刻蚀掉的第二电极173的部分形成镂空区1731，未被刻蚀掉的第二电极173即形成第二电极173的非镂空区1732。在显示面板的厚度方向上，镂空区1731与过孔160在第二基底120或者第一基底110上的投影区域部分重叠或者完全重叠，进而可以使得在显示面板厚度方向上，过孔160对应的区域的膜层结构较少，进而提高第一显示区的光透过率。可选的，在显示面板的厚度方向上，第二电极173的镂空区1731覆盖过孔160(图2中以在显示面板厚度方向上，第二电极173的镂空区1731与过孔160重合为例进行了示例性示出)，进而使得在显示面板厚度方向上，过孔160对应的区域不存在第二电极173，进而可以进一步提高过孔160区域的光透过率。

第一发光层172可以只包括单层膜层，即只包括发光材料层；也可以包括自第一电极171依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、发光材料层、电子传输层、电子注入层等形成的多层结构。并且，不同第一子像素170的第一发光层172可以只发出相同颜色的单色光，不同第一子像素170的第一发光层172还可以发出不同颜色的光，例如不同第一子像素170的第一发光层172至少包括红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层，进而可实现多种颜色的显示。

图3是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，参考图3，可选的，过孔160贯穿第一驱动阵列层130的非元件区1302和第二基底120，过孔160中填充的材料与第一平坦化层140的材料相同。

具体的，第一驱动阵列层130远离第二基底120的表面直接与平坦化层接触。过孔160贯穿第一驱动阵列层130的非元件区1302和第二基底120，具体可以是在形成驱动阵列层时，在第一驱动阵列层130的部分或全部非元件区1302形成贯穿第一驱动阵列层130和第二基底120的过孔160，然后在第一驱动阵列层130远离第二基底120的一侧形成第一平坦化层140，形成第一平坦化层140的过程中，第一平坦化层140的材料填充至过孔160，进而使得过孔160的填充无需额外的工艺，进而简化工艺步骤。

可选的，第一像素限定层150和第一平坦化层140的材料均为有机材料；图4是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，参考图4，可选的，过孔160中填充的透明材料至少包括层叠设置的至少一层有机材料层和至少一层无机材料层；其中，无机材料层与第一基底110的距离d1小于第一平坦化层140与第一基底110的距离d2，有机材料层的材料均与第一像素限定层150和/或第一平坦化层140的材料相同。

参考图4，其中，无机材料层与第一基底110的距离d1可以是无机材料层靠近第一基底110的表面与第一基底110靠近无机材料层的表面的距离。第一平坦化层140与第一基底110的距离d2可以是第一平坦化层140靠近第一基底110的表面与第一基底110靠近第一平坦化层140的表面的距离。

图4以过孔160充填充的透明材料包括层叠设置的第一有机材料层161、无机材料层162和第二有机材料层163为例进行了示出。如上述实施例中所述的，显示面板中，第一平坦化层140远离基底的一侧设置有第一子像素170，第一子像素170中中的第一电极171、第二电极173和第一发光层172受到水氧侵蚀后，会使得显示面板的使用寿命降低。因无机材料层162对水氧有良好的阻隔作用，本实施例中，通过设置过孔160中填充的透明材料包括无机材料层162，且无机材料层162与第一基底110的距离d1小于第一平坦化层140与第一基底110的距离d2，可以使得水氧等难以入侵到显示面板的第一平坦化层140以及第一平坦化层140以上的膜层(即第一平坦化层140远离第二基底120一侧的膜层)，进而可以有效避免水氧侵入到第一子像素170，提高显示面板的使用寿命。相对于有机材料，无机材料不易填充于过孔160中，因此，可以在过孔160中填充部分有机材料后，采用沉积的方式形成较薄的一层无机材料层162，然后可以继续填充有机材料，则可形成图4所示结构。当然，当沉积无机材料层162后，若过孔160已经被填满，则可不再填充有机材料层，形成过孔160中只包括一层有机材料层和一层无机材料层162的结构。因此，本实施例的显示面板，无需将整个过孔160中全部填充无机材料，进而使得过孔160的填充在工艺上较为容易实现。过孔160中有机材料的材料可以是与第一像素限定层150和/或第一平坦化层140的材料相同，例如可以是有机透明胶，过孔160中无机材料可以是氧化硅和/或氮化硅等。

图5是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，参考图5，可选的，第一驱动阵列层130包括自第二基底120远离第一基底110一侧层叠设置的多个金属层，以及相邻金属层之间的无机绝缘层，其中，无机材料层162至少与一无机绝缘层续接。

参考图5，图5以显示面板包括第一金属层131、第二金属层(图中未示出)、第三金属层132，以及位于第一金属层131与有源层之间的第一无机绝缘层133，第一金属层131与第二金属层之间的第二无机绝缘层134，以及第二金属层与第三金属层132之间的第三无机绝缘层135为例进行了示出。其中，各无机绝缘层可采用氧化硅、氮化硅等具有一定光透过率的材料，以保证第一显示区的光透过率。第一驱动阵列中薄膜晶体管的栅极可以位于第一金属层131，第一驱动阵列中的电容元件的一个极板可以位于第一金属层131，电容元件的另一个极板可以位于第二金属层，薄膜晶体管的源漏极可以位于第三金属层132。图5中以过孔160中填充的透明材料包括第一有机材料层161，无机材料层162和第二有机材料层163为例进行了示出，其中，无机材料层162与第二无机绝缘层134续接，进而可以保证过孔中的无机材料层162与金属层之间的无机绝缘层形成整层的无机层结构，进而可以避免过孔中无机材料层162与无机绝缘层之间形成断层时给水氧提供入侵路径，即尽可能地减少了水氧的入侵路径，更加有效的阻止水氧的入侵，延长显示面板的使用寿命。

需要说明的是，图5只是以过孔160中的无机材料层162与第二无机绝缘层134续接为例进行了示例，过孔160中的无机材料层162还可以与第一无机绝缘层133或第三无机绝缘层135续接，只要形成整层的无机层即可，本发明实施例在此不做具体限定。

图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，参考图6，可选的，可选的，第一像素限定层150和第一平坦化层140的材料均为有机材料；第一驱动阵列层130包括自第二基底120远离第一基底110一侧层叠设置的多个金属层，以及相邻金属层之间的无机绝缘层，过孔160贯穿任一无机绝缘层与第二基底120之间的膜层以及第二基底120，过孔160中填充的材料全部为第一像素限定层150和/或第一平坦化层140的材料。

参考图6，图6以显示面板包括第一金属层131、第二金属层(图中未示出)、第三金属层132，以及位于第一金属层131与有源层之间的第一无机绝缘层133，第一金属层131与第二金属层之间的第二无机绝缘层134，以及第二金属层与第三金属层132之间的第三无机绝缘层135为例进行了示出。其中，第一驱动阵列中薄膜晶体管的栅极可以位于第一金属层131，第一驱动阵列中的电容元件的一个极板可以位于第一金属层131，电容元件的另一个极板可以位于第二金属层，薄膜晶体管的源漏极可以位于第三金属层132。图6中以过孔160贯穿第二无机绝缘层134与第二基底120之间的膜层以及第二基底120为例进行了示意性示出。本实施例提供的显示面板，通过设置过孔160贯穿任一无机绝缘层与第二基底120之间的膜层以及第二基底120，过孔160中填充的材料全部为第一像素限定层150和/或第一平坦化层140的材料，即过孔160中填充的材料全部为有机材料，使得填充过孔160时工艺上更加简单，容易实现。并且，过孔160中的有机材料远离第二基底120的表面覆盖第二无机绝缘层134，可以使得水氧难以通过第二无机绝缘层134以及第二无机绝缘层134以上的绝缘层侵入到第一子像素170，延长显示面板的使用寿命。

需要说明的是，图6只是以过孔160贯穿第二无机绝缘层134和第二基底120之间的膜层和第二基底120为例进行了示例性示出，过孔160还可贯穿第一无机绝缘层133与第二基底120之间的膜层和第二基底120，以及还可贯穿第三无机绝缘层135与第二基底120之间的膜层和第二基底120，本发明实施例在此不做具体限定。

在上述技术方案的技术上，可选的，第一基底110的材料为无色聚酰亚胺(CPI)。因无色聚酰亚胺相对于常规聚酰亚胺的材料更浅，因此无色聚酰亚胺的光透过率相对于常规聚酰亚胺也更高。通过设置第一基底110的材料为无色聚酰亚胺，可以使得过孔160区域对应的光透过率更高，进而进一步提高第一显示区的光透过率，将感光器件设置于第一显示区下方时，感光器件可以接收到更多的光线，进而提高感光性能。

可选的，第一像素限定层150的材料为无机材料，示例性的，第一像素限定层的材料可以是氧化硅或氮化硅等，因氧化硅、氮化硅等无机材料透光，且对水氧等具有良好的阻隔作用，因此可以在保证第一显示区的透过率的基础上，进一步提高显示面板的封装性能。

图7是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，参考图7，可选的，显示面板还包括位于第一基底110和第二基底120之间的第一阻挡层180，以及位于第二基底120远离第一基底110一侧的第二阻挡层190。其中，过孔160可贯穿或不贯穿第二阻挡层190。第一阻挡层180和第二阻挡层190均可以包括层叠设置的氮化硅层和氧化硅层。通过设置第一阻挡层180和第二阻挡层190，可以更加有效防止水氧从第一基底110和第二基底120侧侵入，进一步延长显示面板的使用寿命。

图8是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，图9是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图，参考图8和图9，可选的，显示面板1还包括第二显示区1b，图9可对应图8所示显示面板中部分第二显示区1b的剖视图，第二显示区1b完全或部分围绕第一显示区1a；第二显示区1b内包括层叠设置的第三基底210、第四基底220以及自第四基底220远离第一基底110一侧依次层叠设置的第二驱动阵列层230、第二平坦化层240和第二像素限定层250；

第一基底110和第三基底210相拼接，第二基底120和第四基底220相拼接；或者第一基底110和第三基底210为一体结构，第二基底120和第四基底220为一体结构。

其中，第二像素限定层250可以包括第二开口251，第二开口251限定出第二子像素260。第二子像素260包括第三电极261、第四电极263以及第三电极261和第四电极263之间的第二发光层262；

可选的，第三电极261为块状结构，第四电极263为面电极；

参考图2、图8和图9，可选的，第一显示区1a和第二显示区1b的部分膜层位于同一层，其中，第一显示区1a和第二显示区1b的部分膜层位于同一层满足以下至少一种情况：第一驱动阵列层130和第二驱动阵列层230位于同一层，第一平坦化层140和第二平坦化层240位于同一层，第一像素限定层150和第二像素限定层250位于同一层，第一电极171和第三电极261位于同一层，第一发光层172和第二发光层262位于同一层，第二电极173和第四电极263位于同一层；

可选的，第一显示区1a为透明显示区；

可选的，显示面板还包括至少位于第二显示区1b的偏光片(图中未示出)，偏光片位于第四电极263远离第四基底220的一侧；

并且可选的，第三电极261可以是阳极和阴极二者中的一个，第四电极263为二者中的另一个。并且，可选的，第三电极261与第一显示区1a的第一电极171同为阳极或阴极，第四电极263和第一显示区1a的第二电极173同为阴极或阳极。可选的，第三电极261为阳极，第四电极263为阴极，第二发光层262为有机发光层。并且，不同第二子像素260的第二发光层262可以只发出相同颜色的光，不同第二子像素260的第二发光层262还可以发出不同颜色的光，例如不同第二子像素260的第二发光层262至少包括红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层，进而可实现多种颜色的显示。

第一子像素170可以为AM驱动，也可为PM驱动。当为AM驱动时，第一电极171为块状电极。当为PM驱动时，第一电极171为条状电极，沿行(或列)方向延伸，对应地，第二电极173也为条状电极，沿列(或行)方向延伸，其中，行方向可以是第二子像素260排布的行方向，列方向可以是第二子像素260排布的列方向，第一电极171和第二电极173交叉点形成第一子像素170。当为AM驱动时，第二电极173可以为面电极。

第二子像素260可以为AM驱动，也可以为PM驱动。当为AM驱动时，第三电极261为块状电极。当为PM驱动时，第三电极261为条状电极，沿行(或列)方向延伸，对应地，第四电极263也为条状电极，沿列(或行)方向延伸，其中，行方向可以是第二子像素260排布的行方向，列方向可以是第二子像素260排布的列方向，第三电极261和第四电极263交叉点形成第二子像素260。当为AM驱动时，第四电极263可以为面电极。

另外，在制作显示面板时，第一显示区1a和第二显示区1b中位于同一层的膜层可以同时制作，形成一体结构的显示面板，进而简化工艺步骤，降低制备成本。第一显示区1a和第二显示区1b的各个膜层也可分开制作，使得第一显示区1a和第二显示区1b可以制作成更加灵活的形状，然后将第一显示区1a和第二显示区1b拼接在一起，例如第一显示区1a可以是图8所示的矩形，还可以是水滴形，圆形，梯形，条形，或者与显示面板显示时状态栏的形状大小相切合，本发明在此不做具体限定。并且，第一显示区1a的位置不限定于图8所示的刘海区域，还可以是位于整个显示面板的任一区域，本发明实施例在此不做具体限定。本实施例提供的显示面板，可实现全面屏显示。

图10是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程图，参考图10，该显示面板的制备方法包括：

步骤310、提供层叠设置的第一基底和第二基底；

步骤320、在第二基底远离第一基底的一侧形成第一驱动阵列层，且在形成第一驱动阵列层最远离第一基底的绝缘层之前，在第一驱动阵列的非元件区形成过孔，过孔至少贯穿第二基底，并在过孔中填充透明材料；

具体的，在形成第一驱动阵列层最远离第一基底的绝缘层之前，在第一驱动阵列的非元件区形成过孔，可以保证至少第一驱动阵列层可以对第一平坦化层、第一像素限定层和发光器件形成封装，即借用第一驱动阵列层中的绝缘层对第一平坦化层、第一像素限定层和发光器件形成封装，进而有利于提高显示面板的封装性能，延长显示面板的使用寿命。

步骤330、在第一驱动阵列层远离第一基底的一侧依次形成第一平坦化层和第一像素限定层，并图形化第一像素限定层形成多个第一开口；

其中，在显示面板的厚度方向上，过孔形成于相邻的两个第一开口之间。

本发明实施例提供的显示面板的制备方法，在形成第一驱动阵列层最远离第一基底的绝缘层之前，在第一驱动阵列的非元件区形成过孔，过孔至少贯穿第二基底，并在过孔中填充透明材料，进而可以使得对应于过孔的区域只存在一层基底的结构，有利于提高第一显示区的光透过率；过孔中填充透明材料，可以在保证光透过率的基础上，使得过孔区域不会形成中空结构，使得显示面板受力时，面板不易变形，保证显示面板的可靠性；并且因过孔中填充透明材料，第一驱动阵列层封装第一像素限定层，有利于防止水氧从过孔处进入，提高封装性能，延长显示面板的使用寿命。

本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置可为手机、电脑、智能手表、智能手环等设备。图11是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，参考图11，该显示装置10包括：

设备本体30，具有器件区31；

以及本发明任意实施例提供的显示面板1，显示面板1覆盖在设备本体30上；

其中，器件区31位于显示面板的第一显示区1a下方，且器件区31中设置有透过第一显示区1a发射或者采集光线的感光器件311。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括第一显示区；所述第一显示区内包括层叠设置的第一基底、第二基底、第一驱动阵列层、第一平坦化层和第一像素限定层，所述第一像素限定层包括多个第一开口；

所述第一驱动阵列层包括元件区与非元件区，且所述第一驱动阵列层封装所述第一平坦化层和所述第一像素限定层；至少两个相邻的第一开口之间设置有过孔，在所述显示面板的厚度方向上，所述非元件区覆盖所述过孔；所述过孔至少贯穿所述第二基底，且所述过孔中填充透明材料。

2.根据权利要求1所述显示面板，其特征在于，所述第一开口限定出第一子像素，所述第一子像素包括自所述第一平坦化层远离所述第一基底一侧依次层叠设置的第一电极、第一发光层和第二电极，所述第二电极包括镂空区和非镂空区，在所述显示面板的厚度方向上，所述镂空区与所述过孔在所述第二基底或者所述第一基底上的投影区域部分重叠或者完全重叠。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素限定层和所述第一平坦化层的材料均为有机材料；所述过孔中填充的透光材料包括层叠设置的至少一层有机材料层和至少一层无机材料层；其中，所述无机材料层与所述第一基底的距离小于所述第一平坦化层与所述第一基底的距离，所述有机材料层的材料均与所述第一像素限定层和/或所述第一平坦化层的材料相同。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一驱动阵列层包括自所述第二基底远离所述第一基底一侧层叠设置的多个金属层，以及相邻金属层之间的无机绝缘层，其中，所述无机材料层至少与一所述无机绝缘层续接。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素限定层和所述第一平坦化层的材料均为有机材料；所述第一驱动阵列层包括自所述第二基底远离所述第一基底一侧层叠设置的多个金属层，以及相邻金属层之间的无机绝缘层，所述过孔贯穿任一所述无机绝缘层与所述第二基底之间的膜层以及第二基底，所述过孔中填充的材料全部为第一像素限定层和/或第一平坦化层的材料。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一基底的材料为无色聚酰亚胺。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素限定层的材料为无机材料。

8.根据权利要求1-7任一项所述的显示面板，其特征在于，还包括第二显示区，所述第二显示区完全或部分围绕所述第一显示区；所述第二显示区内包括层叠设置的第三基底、第四基底以及自所述第四基底远离所述第一基底一侧依次层叠设置的第二驱动阵列层、第二平坦化层和第二像素限定层；

所述第一基底和所述第三基底相拼接，所述第二基底和所述第四基底相拼接；或者所述第一基底和第三基底为一体结构，所述第二基底和所述第四基底为一体结构。

9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供层叠设置的第一基底和第二基底；

在所述第二基底远离所述第一基底的一侧形成第一驱动阵列层，且在形成所述第一驱动阵列层最远离所述第一基底的绝缘层之前，在所述第一驱动阵列的非元件区形成过孔，所述过孔至少贯穿所述第二基底，并在所述过孔中填充透明材料；

在所述第一驱动阵列层远离所述第一基底的一侧依次形成第一平坦化层和第一像素限定层，并图形化所述第一像素限定层形成多个第一开口；

其中，在所述显示面板的厚度方向上，所述过孔形成于相邻的两个所述第一开口之间。

10.一种显示装置，其特征在于，包括：

设备本体，具有器件区；

以及权利要求1-8任一项所述的显示面板，所述显示面板覆盖在所述设备本体上；

其中，所述器件区位于所述显示面板的第一显示区下方，且所述器件区中设置有透过所述第一显示区发射或者采集光线的感光器件。

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