CN114156419A - 透明显示面板及其制作方法、以及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开一种透明显示面板及其制作方法、以及显示装置。在一具体实施方式中，透明显示面板包括设置在衬底上的发光单元层，包括透光区、围绕透光区的显示区、以及位于透光区与显示区之间的隔离区，发光单元层包括阴极材料层，其中，透光区包括贯通阴极材料层的开口；显示区包括阵列排布的发光单元；隔离区包括至少一个隔离槽，用于隔离开口和发光单元。该实施方式通过包括至少一个隔离槽的隔离区隔离开透光区的阴极材料层的开口与发光单元，使得在图案化阴极材料层形成开口时不会将水汽引入发光单元，从而以现有工艺和设备能够形成阴极材料层具有开口的透明显示面板。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域。更具体地，涉及一种透明显示面板及其制作方法、以及显示装置。
背景技术
透明显示面板具有一定的透光性，以用于透明显示装置或者面板下方设置光学感测器或相机的局部透明显示装置。特别是对于局部透明显示装置来说，需要具有像素级的透光区的透明显示面板以保证能够保证良好的感测精度，这就需要透明显示面板具有良好的透光性。
但是目前的透明显示面板，特别是像素级透明显示面板，为了提高显示面板的透光性，主要通过：1)、将基板更换为透明基板以增加穿透度；2)、将金属走线更换为透明走线以增加开口率；3)、将发光单元中的阴极图案化。其中，对于显示面板来说，通常阴极为整层铺设的金属层，其透光率(透光率52％)相较于基板(透光率76％)、背板(透光率89％)、盖板(透光率92％，500nm厚度)透光率最低，通过对阴极图案化改进透光性是最有效的方法。但是，现有技术进行阴极图案化的工艺成本非常高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种透明显示面板及其制作方法、以及显示装置，以解决现有技术存在的问题中的至少一个。
为达到上述目的，本发明采用下述技术方案：
本发明第一方面提供了一种透明显示面板，包括设置在衬底上的发光单元层，还包括透光区、围绕透光区的显示区、以及位于透光区与显示区之间的隔离区，发光单元层包括阴极材料层，其中，
透光区包括贯通阴极材料层的开口；
显示区包括阵列排布的发光单元；
隔离区包括至少一个隔离槽，用于隔离开口和发光单元。
在一些可选的实施例中，透明显示面板还包括设置在衬底与发光单元层之间的功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层，
隔离槽为设置在平坦化层内的开槽。
在一些可选的实施例中，透明显示面板还包括设置在衬底与发光单元层之间的功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层，
隔离槽为设置在平坦化层内的开槽。
在一些可选的实施例中，透明显示面板还包括设置在衬底与发光单元层之间的功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层，
隔离槽为自平坦化层贯通至驱动电路层中的开槽。
在一些可选的实施例中，透明显示面板还包括设置在衬底与发光单元层之间的功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层，
隔离槽为自平坦化层贯通至衬底的开槽；
或者
隔离槽为自平坦化层贯通至衬底中的开槽。
在一些可选的实施例中，
隔离区包括两个隔离槽、以及两个隔离槽之间形成的隔离柱。
在一些可选的实施例中，透明显示面板还包括设置在衬底与发光单元层之间的功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层，
显示区的驱动电路层包括薄膜晶体管，
隔离区的驱动电路层包括与薄膜晶体管的源漏电极层同层设置的第一金属层，
隔离槽为贯通平坦化层和第一金属层的开槽。
在一些可选的实施例中，
开口自阴极材料层贯通至驱动电路层；
或者
开口自阴极材料层贯通至驱动电路层中；
或者
开口自阴极材料层贯通至衬底中。
在一些可选的实施例中，发光单元层还包括有机发光层，有机发光层在隔离区断开。
在一些可选的实施例中，还包括设置在衬底与发光单元层之间的功能层，
功能层包括设置在衬底上的驱动电路层、设置在驱动电路层上的平坦化层、以及设置在平坦化层上的刻蚀阻挡层，平坦化层具有相对于刻蚀阻挡层的沿平行于衬底方向的内缩结构。
在一些可选的实施例中，透明显示面板还包括：设置在发光单元层上的且覆盖透光区、显示区和隔离区的封装层，封装层包括：
第一封装层，覆盖阴极材料层；
第二封装层，包括第一子层和第二子层，第一子层覆盖第一封装层，第二子层覆盖第一子层和开口，第一子层的材料为光阻材料，第二子层的材料为透明的IJP涂布有机材料；以及
第三封装层，覆盖第二封装层。
本发明第二方面提供一种显示装置，包括上文所述的透明显示面板。
本发明第三方面提供一种制作上文所述的透明显示面板的方法，包括：
在衬底上形成发光单元层以形成显示基板，显示基板包括透光区、围绕透光区的显示区、以及位于透光区与显示区之间的隔离区，发光单元层包括阴极材料层，其中
透光区包括贯通阴极材料层的开口；
显示区包括阵列排布的发光单元；
隔离区包括至少一个隔离槽，用于隔离开口和发光单元。
在一些可选的实施例中，在在衬底上形成发光单元层以形成显示基板之前，方法还包括：
在衬底上形成功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层；
在平坦化层内形成至少一个开槽以形成至少一个隔离槽，
或者
在衬底上形成功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层，显示区的驱动电路层包括薄膜晶体管，隔离区的驱动电路层包括与薄膜晶体管的源漏电极层同层设置的第一金属层；
形成贯通平坦化层和第一金属层的至少一个开槽以形成至少一个隔离槽，或者
在衬底上形成功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层；
形成自平坦化层贯通至驱动电路层中的至少一个开槽以形成至少一个隔离槽，
或者
在衬底上形成功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层；
形成自平坦化层贯通至衬底的至少一个开槽以形成至少一个隔离槽，
在衬底上形成功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层；
形成自平坦化层贯通至衬底中的至少一个开槽以形成至少一个隔离槽。
在一些可选的实施例中，在衬底上形成发光单元层以形成显示基板进一步包括：
在衬底上形成阴极材料层；
形成覆盖阴极材料层第一封装材料层；
形成覆盖第一封装材料层的第一子材料层，第一子材料层的材料为光阻材料；
对第一子材料层进行图案化形成第一子层；
对第一封装材料层进行图案化形成第一封装层，并且对阴极材料层进行图案化，以在阴极材料层中形成开口；
形成覆盖第一子层和开口的第二子层，第二子层的材料为透明的IJP涂布有机材料；
形成覆盖第二封装层的第三封装层。
在一些可选的实施例中，对第一封装材料层进行图案化形成第一封装层，并且对阴极材料层进行图案化，以在阴极材料层中形成开口进一步包括：
对阴极材料层进行图案化以在阴极材料层中形成所述开口，
或者
对阴极材料层进行图案化以形成贯通至驱动电路层的开口，
或者
对阴极材料层进行图案化以形成自阴极材料层贯通至衬底中的开口。
本发明的有益效果如下：
本发明针对目前现有的问题，制定一种透明显示面板及其制作方法、以及显示装置，并通过提供包括至少一个隔离槽的隔离区来隔离开透光区的阴极材料层的开口与发光单元，使得在图案化阴极材料层形成开口时，阻断了水汽进入发光单元的可能路径，从而在图案化阴极材料层形成透光的开口时不会将水汽引入发光单元，进而不必在全真空设备中对阴极进行图案化，实现了以现有工艺和设备形成阴极材料层中的开口，以极低的工艺成本有效提高透明显示面板的透光率，具有广泛的应用前景。
附图说明
下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。
图1示出根据本发明实施例的透明显示面板的示意性俯视图；
图2示出根据本发明实施例的透明显示面板中透光区和隔离区的示例性剖视图；
图3示出根据本发明另一实施例的透明显示面板中透光区和隔离区的示例性剖视图；
图4示出沿图1中的线AA′截取的根据本发明实施例的透明显示面板的示意性剖视图；
图5示出沿图1中的线AA′截取的根据本发明另一实施例的透明显示面板的示意性剖视图；
图6示出沿图1中的线AA′截取的根据本发明另一实施例的透明显示面板的示意性剖视图；
图7示出沿图1中的线AA′截取的根据本发明另一实施例的透明显示面板的示意性剖视图；
图8至图11示出根据本发明实施例的透明显示面板的制作方法的示意性工艺流程图。
具体实施方式
为了更清楚地说明本发明，下面结合实施例和附图对本发明做进一步的说明。附图中相似的部件以相同或相似的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本发明的保护范围。
需要说明的是，本发明中描述的“具有”、“包含”、“包括”等均为开式的含义，即，当描述模块“具有”、“包含”或“包括”第一元件、第二元件和/或第三元件时，表示该模块除了第一元件、第二元件和/或第三元件外还包括其他的元件。另外，本发明中“第一”、“第二”和“第三”等序数词并不旨在限定具体的顺序，而仅在于区分各个部分。
本发明中所述的“在……上”、“在……上形成”和“设置在……上”可以表示一层直接形成或设置在另一层上，也可以表示一层间接形成或设置在另一层上，即两层之间还存在其它的层。
另外，在本发明中，所采用的术语“同层设置”指的是两个层、部件、构件、元件或部分可以通过相同制备工艺(例如构图工艺等)形成，并且，这两个层、部件、构件、元件或部分一般由相同的材料形成。例如两个或更多个功能层同层设置指的是这些同层设置的功能层可以采用相同的材料层并利用相同制备工艺形成，从而可以简化显示基板的制备工艺。
经发明人研究发现，现有技术中，若以增加透明显示面板的透光率为目的对阴极材料层进行图案化的设备和工艺成本是极高的，将大幅提高显示设备的制作成本。这是因为，若按照现有设备直接对阴极图案化，需要在阴极上形成开口，而显示单元中像素的发光层对水汽是极为敏感的，水汽进入将严重影响像素的显示效果。若对阴极图案化的图案化级别是像素级的，即，阴极的开口尺寸相对于像素尺寸差别较小，从而每隔几个、十几个或二十几个子像素即需要存在一个阴极开口，这样的应用场景下，一旦阴极图案化过程引入水汽对显示面板的显示效果影响极大。因此，目前对阴极图案化形成透光的开口的工艺步骤均需要将工艺设备升级改造为全真空设备，甚至于后续显示面板封装的过程也需要在全真空环境下进行，无法兼容现有的工艺设备，而新增的工艺和设备成本高，提高产品生产成本，不利于推广量产。
基于以上问题之一，本发明的实施例提供了一种透明显示面板，包括设置在衬底上的发光单元层，还包括透光区、围绕透光区的显示区、以及位于透光区与显示区之间的隔离区，发光单元层包括阴极材料层，其中，
透光区包括贯通阴极材料层的开口；
显示区包括阵列排布的发光单元；
隔离区包括至少一个隔离槽，用于隔离开口和发光单元。
在本实施例中，通过提供包括至少一个隔离槽的隔离区来隔离开透光区的阴极材料层的开口与发光单元，使得在图案化阴极材料层形成开口时，阻断了水汽进入发光单元的可能路径，从而在图案化阴极材料层形成透光的开口时不会将水汽引入发光单元，进而不必在全真空设备中对阴极进行图案化，实现了以现有工艺和设备形成阴极材料层中的开口，以极低的工艺成本有效提高透明显示面板的透光率，具有广泛的应用前景。
在一个具体的示例中，参照图1所示，透明显示面板包括设置在衬底100上的发光单元层(俯视图所示出的层)，透明显示面板还包括阵列包括透光区CC、围绕透光区CC的显示区AA(图2和图3中标示)和设置在透光区CC与显示区AA之间的隔离区BB。其中显示区AA包括阵列排布的多个发光单元10。在本申请中发光单元层包括发光单元的层，发光单元包括：阳极、像素界定层、有机发光层和阴极。在本申请中，有机发光层在隔离区断开。
图中仅旨在示出透光区CC为设置在发光单元10之间的像素级的透光区域，图中的发光单元10为蓝色(B)、绿色(G)和红色(R)的排布顺序并不旨在限制于此，发光单元10也可以是其他排布顺序。此外，发光单元10也可以是仅发射一种颜色的光，在此不再赘述。
具体地，结合图1、图2和图3所示，发光单元层包括阴极材料层304，透光区CC包括贯通阴极材料层304的开口，隔离区BB设置在显示区AA与透光区CC之间，隔离区BB包括隔离槽KK，隔离槽KK隔离阴极材料层304中的开口与发光单元。通过该设置，在阴极材料层304的每个开口与其周围的显示区AA之间均设置隔离区，通过围绕开口的隔离区中的隔离槽阻断水汽进入显示区AA中的发光单元的通路，从而对每个开口周围的发光单元形成良好的保护作用，从而能够对阴极材料层304进行图案化时，不会对发光单元10的有机发光层造成破坏，从而能够利用现有的图案化设备和工艺步骤即可以对阴极材料层304图案化，以较低的成本实现可透光面板的高透光率。
需要特别指出的是，本申请并不限制隔离区BB中所包含的隔离槽KK的数量。参照图2所示，隔离区BB可以仅包含一个隔离槽。较为优选地，参照图3所示，隔离区BB可以包含两个隔离槽以及两个隔离槽之间形成的隔离柱，通过两个隔离槽形成了围绕开口的隔离柱，相对于单独的隔离槽能够更好地阻挡水汽进入每个显示单元，对显示区AA形成更有效的保护作用。当然，在空间尺寸允许的情况下隔离槽的数量还可以增多，即增加隔离柱的数量，在此不再赘述。
为了更好地理解本申请实施例的可透光显示装置的结构，下面给出沿图1中的线AA′截取的剖视图，给出各种可选的实施例。驱动电路层210和平坦化层220统称为功能层。
在一个可选的实施例中，如图4所示，透明显示面板包括形成在衬底100上的驱动电路层210、平坦化层220、发光单元层300、和封装层400。
衬底100例如可以为柔性地，材料可以为聚酰亚胺(PI)，也可以为刚性地，例如玻璃。较为优选地，衬底100可以选择透明的材料，以提高透明显示面板的透光性。衬底100可以设置在支撑层上，因为支撑层与隔离区的功能没有直接关系，本申请的图中不特别进行标号。
驱动电路层210可以包括缓冲层211、有源层212、介电层213、栅极214、栅极绝缘层215、源漏电极层216。其中，缓冲层211、有源层212、介电层213、栅极214、栅极绝缘层215、源漏电极层216共同组成了晶体管的主要结构。源漏电极层216的材料例如可以为金属或合金，可以为一层或多层，例如，钛铝钛(Ti/Al/Ti)。在本申请中并不限制薄膜晶体管的具体类型，视具体应用产品而定，且图4示出了底栅结构，这只是晶体管层叠结构的一个示例，具体应用中也可以为顶栅结构。
平坦化层220设置在驱动电路层210上，平坦化层220可以为一层也可以为多层，本申请不作限制。
较为优选地，在平坦化层220上还可以包括刻蚀阻挡层(PVX)(未标号)，刻蚀阻挡层(PVX)时，其可以用作刻蚀平坦化层220时的阻挡层，使得刻蚀后平坦化层220具有相对于刻蚀阻挡层的沿平行于衬底方向的内缩结构。同时，本领域技术人员还可以理解，该刻蚀阻挡层作为无机材料层同时可以用来保护源漏电极层。通过在平行于衬底方向的内缩结构能够有效阻断水汽的路径，在图案化阴极材料层304形成开口时有效保护有机发光层不被破坏。
发光单元层200包括阳极303、限定发光单元10的像素界定层302、有机发光层303、阴极材料层304，位于显示区AA中的阴极材料层304构成发光单元10的阴极。有机发光层303在隔离区BB断开。
参照图4所示，在本实施例中，隔离槽KK1为设置在平坦化层220内的开槽。隔离槽KK1的开槽深度不限，既可以如图中所示部分贯通平坦化层220，也可以完全贯通平坦化层220。本领域技术人员可以理解，因为刻蚀阻挡层设置在平坦化层220之上，隔离槽KK1必然贯穿刻蚀阻挡层，在此不再赘述。
本实施例中，通过设置在平坦化层220中的隔离槽KK1使得透光区CC中阴极材料层304的开口位置与发光单元层300中的发光单元的有机发光层303被隔离槽KK1隔离开，使得后续图案化阴极材料层304形成开口时，不会对有机发光层303造成破坏。特别是对于像素级的阴极开口来说，因为开口数量相对更大，与开口相关的发光单元10更多，通过形成围绕透光区CC的隔离区，隔离区和开口的形成工艺均简单，无需增加真空设备，具有广泛的应用前景。
为了在对阴极材料层304图案化时更好地保护发光单元层300中的有机发光层303，除了增加隔离区BB中隔离槽的数量，还可以通过增大隔离区BB中每个隔离槽的深度增大隔离效果。
在一个可选的实施例中，参照图5所示，透明显示面板包括形成在衬底100上的驱动电路层210、平坦化层220、发光单元层300、和封装层400。隔离槽KK2为自平坦化层220贯通至驱动电路层210中的开槽。
如上文所述，驱动电路层210可以包括缓冲层211、有源层212、介电层213、栅极214、栅极绝缘层215、源漏电极层216。其中，缓冲层211、有源层212、介电层213、栅极214、栅极绝缘层215、源漏电极层216共同组成了晶体管的主要结构。在本申请中并不限制薄膜晶体管的具体类型，视具体应用产品而定，且图4旨在于示出了底栅结构，这只是薄膜晶体管层叠结构的一个示例，具体应用中也可以为顶栅结构。
图5中，隔离槽KK2自平坦化层220贯通至栅极绝缘层215中。当然，本实施例并不限于此，隔离槽KK2可以自平坦化层220贯通至驱动电路层210中的任一层，例如，贯通至缓冲层211、介电层213，当驱动电路层210还包括其他绝缘层时，隔离槽KK2也可以自平坦化层220贯通这些绝缘层中的任一层，在此不作特别限制。
本领域技术人员应理解，当完全贯通驱动电路层210时，隔离槽为自平坦化层220贯通至衬底100的开槽。
特别地，在一些显示面板中，为了改善显示效果在显示区AA之外的区域也会设置与驱动电路层210中的源漏电极层216同层设置的第一金属层。这种情况下，如图6所示，当隔离区BB中的驱动电路层210包括该第一金属层时，隔离槽KK3也可以为贯通该平坦化层220和该第一金属层的开槽。此时，若隔离区BB包括两个隔离槽时，即隔离区BB包括隔离槽KK3、以及两个隔离槽KK3之间形成的隔离柱时，如图6中所示，隔离区BB将包括与薄膜晶体管的源漏电极层同层设置的第一金属层。
在一个可选的实施例中，隔离槽的深度还可以进一步增大。具体地，参照图7所示，隔离槽KK4可以为自平坦化层220贯通至衬底100中的开槽。本实施例并不旨在限制隔离槽KK4在衬底100的开槽深度，以不影响对显示面板的支撑能力为准。
通过以上设置，随着隔离槽KK的开槽深度的加深，隔离区BB对阴极材料层304中的开口与发光单元10中的有机发光层的隔离作用越好。
进一步参照图4至图7所示，透明显示面板还包括封装层400。封装层400设置在发光单元层300上、且覆盖透光区CC、显示区AA和隔离区BB。
可选地，封装层400包括：第一封装层410、第二封装层和第三封装层430。通常为了保证对显示面板的保护作用，第一封装层410为无机材料层，第二封装层为有机材料层，第三封装层430为无机材料层。
通常无机材料层的防水性优良，但透光性不如有机材料，为了增强透光区CC的透光性，在本实施例中，第一封装层410覆盖阴极材料层304，即，第一封装层410具有与阴极材料层304同样的开口。
较为优选地，第二封装层包括第一子层421和第二子层422，且第一子层421和第二子层422的材料不同。在本实施例中，第一子层421的材料为光阻材料，第二子层422的材料为透明的IJP涂布有机材料，并且第一子层421覆盖第一封装层410，第二子层422覆盖所述第一子层421和开口。因为通常第二封装层的厚度很大，通过该设置，利用透光率不甚优良的光阻材料作为第一子层实现满意的封装厚度，同时，光阻材料在图案化更容易，利用光阻材料的曝光显影作用图案化可以保证开口精度，之后利用透明度更好的透明的IJP涂布有机材料覆盖第一子层421和开口，保证光线透过率，从而以精确的开口尺寸实现满意的透光率。
通过将第一子层421设置为与第二子层422材料不同的光阻材料，最后，第三封装层430可以为常规的无机封装材料层，在此不再赘述。
除此以外，透光区CC的透光率还与透光区CC中的开口深度有关，透光区CC中的开口的深度越大，则透光区CC的透光效果也越好。
因此，在一些可选的实施例中，开口自阴极材料层304贯通至驱动电路层210。
此外，开口还可以自阴极材料层304贯通至驱动电路层210中。具体地，开口可以自阴极材料层304贯通至驱动电路层210中的任一层，例如，贯通至缓冲层211、介电层213，当驱动电路层210还包括其他绝缘层时，开口也可以自阴极材料层304贯通这些绝缘层中的任一层，在此不作特别限制。
本领域技术人员还应理解，当完全贯通驱动电路层210时，开口为自阴极材料层304贯通至衬底100。
又或者，开口还可以进一步加深至自阴极材料层304贯通至衬底100中。
通过以上设置，随着开口的加深，透光区CC中遮光的材料层将越少，透光区CC的透光率越高，具有广泛的应用前景。
相应于透明显示面板，本发明的实施例还提供一种制作以上实施例所述的透明显示面板的方法，包括：
在衬底上形成发光单元层以形成显示基板，显示基板包括透光区、围绕透光区的显示区、以及位于透光区与显示区之间的隔离区，发光单元层包括阴极材料层，其中
透光区包括贯通所述阴极材料层的开口；
显示区包括阵列排布的发光单元；
隔离区包括至少一个隔离槽，用于隔离开口和发光单元。
在本实施例中，通过设置至少一个隔离槽的隔离区来隔离开透光区的阴极材料层的开口与发光单元，使得在图案化阴极材料层形成开口时，阻断了水汽进入发光单元的可能路径，从而在图案化阴极材料层形成透光的开口时不会将水汽引入发光单元，进而不必在全真空设备中对阴极进行图案化，实现了以现有工艺和设备形成阴极材料层中的开口，以极低的工艺成本有效提高透明显示面板的透光率，具有广泛的应用前景。
可选地，在衬底上形成发光单元层以形成显示基板之前，方法还包括：
在衬底上形成功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层；
在平坦化层内形成至少一个开槽以形成至少一个隔离槽，
或者
在衬底上形成功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层，显示区的驱动电路层包括薄膜晶体管，隔离区的驱动电路层包括与薄膜晶体管的源漏电极层同层设置的第一金属层；
形成贯通平坦化层和第一金属层的至少一个开槽以形成至少一个隔离槽，或者
在衬底上形成功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层；
形成自平坦化层贯通至驱动电路层中的至少一个开槽以形成至少一个隔离槽，
或者
在衬底上形成功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层；
形成自平坦化层贯通至衬底的至少一个开槽以形成至少一个隔离槽，
在衬底上形成功能层，功能层包括设置在衬底上的驱动电路层和设置在驱动电路层上的平坦化层；
形成自平坦化层贯通至衬底中的至少一个开槽以形成至少一个隔离槽。
具体每个开槽位置的典型示例与图4至图7相对应，在此不再赘述。
通过以上设置，通过在透光区与显示区之间形成隔离区，利用隔离区中的至少一个隔离槽将阴极材料层的开口与显示区中的发光单元隔离开，从而保证在刻蚀阴极材料层形成开口时不会破坏显示区中的发光单元。此外，随着隔离槽的深度越大，隔离效果越优良。
通过本审请的实施例，形成隔离槽的工艺和对阴极材料层进行图案化的工艺均较为简单，不必在真空设备中对阴极材料层进行图案化，从而在以对阴极材料层进行图案化形成透光开口来提高可透光面板的透光率时，与现有工艺设备兼容，降低工艺成本，利于这种具有高透光率的显示面板实现产品量产。
进一步地，下面结合图8至图11制作封装层的步骤。为了便于理解封装层的制作工艺，在图8至图11的工艺流程图中省略了显示区AA的具体层结构，并完整示出具有开口的透光区CC和隔离区BB。
具体地，在衬底上形成发光单元层以形成显示基板进一步包括：
参照图8所示，在衬底上形成阴极材料层；形成覆盖阴极材料层304和开口的第一封装材料层410-1；形成覆盖第一封装材料层410-1的第一子材料层421-1，第一子材料层421-1的材料为光阻材料，因为光阻材料的图案化精度高于对其他有机材料的刻蚀方法，例如IJP材料等，第一子材料层421-1的厚度可以尽量厚，从而可以简化封装层图案化的过程；
参照图9所示，对第一子材料层421-1进行图案化形成第一子层421；
参照图10所示，对第一封装材料层410-1进行图案化形成第一封装层410，并且对阴极材料层304进行图案化，以在阴极材料层304中形成开口；通过将第一子层421的材料设置为光阻材料，从而即使第一子层421厚度很厚，依然可以形成精确的开口，在对第一封装材料层410-1进行图案化时可以利用第一子层421为图案化的掩模，既可以简化图案化的工艺步骤同时能够保证开口的精确度；
参照图11所示，形成覆盖第一子层421和开口的第二子层422，第二子层422的材料为透明的IJP涂布有机材料；
形成覆盖第二封装层的第三封装层430，以形成图3所示的透明显示面板。
在一些可选的实施例中，在衬底上形成发光单元层以形成显示基板进一步包括：
对阴极材料层进行图案化以在阴极材料层中形成开口，
或者
对阴极材料层进行图案化以形成贯通至驱动电路层的开口，
或者
对阴极材料层进行图案化以形成自阴极材料层贯通至衬底中的开口。
通过以上设置，随着开口的加深，透光区CC中遮光的材料层将越少，透光区CC的透光率越高，具有广泛的应用前景。
在本申请的实施例中，进一步改进封装层的制作方法，提高透光区CC的开口精度，并进一步增加透光率。
基于同一发明构思，本发明的实施例还提供一种显示装置，包括上文实施所述的透明显示面板。
由于本申请实施例提供的显示装置中包括的透明显示面板与上述几种实施例提供的透明显示面板相对应，因此在前实施方式也适用于本实施例，在本实施例中不再详细描述。
在本实施例中，显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、车载显示器、数码相框或导航仪等任何具有显示功能的产品或部件，通过加载以上透明显示面板，显示装置可以适应于各种光感检测功能下的应用场景，或者通过加载上述透明显示面板，可以适应于各种透明显示的应用场景，具有良好的透光率，提高产品光感检测灵敏度和透明显示效果。
本发明针对目前现有的问题，制定一种透明显示面板及其制作方法、以及显示装置，并通过提供包括至少一个隔离槽的隔离区来隔离开透光区的阴极材料层的开口与发光单元，使得在图案化阴极材料层形成开口时，阻断了水汽进入发光单元的可能路径，从而在图案化阴极材料层形成透光的开口时不会将水汽引入发光单元，进而不必在全真空设备中对阴极进行图案化，实现了以现有工艺和设备形成阴极材料层中的开口，以极低的工艺成本有效提高透明显示面板的透光率，具有广泛的应用前景。
显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定，对于本领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举，凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。
Claims (15)
1.一种透明显示面板，包括设置在衬底上的发光单元层，其特征在于，还包括透光区、围绕所述透光区的显示区、以及位于所述透光区与所述显示区之间的隔离区，所述发光单元层包括阴极材料层，其中，
所述透光区包括贯通所述阴极材料层的开口；
所述显示区包括阵列排布的发光单元；
所述隔离区包括至少一个隔离槽，用于隔离所述开口和所述发光单元。
2.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，还包括设置在所述衬底与发光单元层之间的功能层，所述功能层包括设置在所述衬底上的驱动电路层和设置在所述驱动电路层上的平坦化层，
所述隔离槽为设置在所述平坦化层内的开槽。
3.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，还包括设置在所述衬底与发光单元层之间的功能层，所述功能层包括设置在所述衬底上的驱动电路层和设置在所述驱动电路层上的平坦化层，
所述隔离槽为自所述平坦化层贯通至所述驱动电路层中的开槽。
4.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，还包括设置在所述衬底与发光单元层之间的功能层，所述功能层包括设置在所述衬底上的驱动电路层和设置在所述驱动电路层上的平坦化层，
所述隔离槽为自所述平坦化层贯通至所述衬底的开槽；
或者
所述隔离槽为自所述平坦化层贯通至所述衬底中的开槽。
5.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，
所述隔离区包括两个所述隔离槽、以及两个所述隔离槽之间形成的隔离柱。
6.根据权利要求5所述的透明显示面板，其特征在于，还包括设置在所述衬底与发光单元层之间的功能层，所述功能层包括设置在所述衬底上的驱动电路层和设置在所述驱动电路层上的平坦化层，
所述显示区的驱动电路层包括薄膜晶体管，
所述隔离区的驱动电路层包括与所述薄膜晶体管的源漏电极层同层设置的第一金属层，
所述隔离槽为贯通所述平坦化层和所述第一金属层的开槽。
7.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，所述发光单元层还包括有机发光层，所述有机发光层在所述隔离区断开。
8.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，还包括设置在所述衬底与所述发光单元层之间的功能层，
所述功能层包括设置在所述衬底上的驱动电路层、设置在所述驱动电路层上的平坦化层、以及设置在所述平坦化层上的刻蚀阻挡层，所述平坦化层具有相对于所述刻蚀阻挡层的沿平行于衬底方向的内缩结构。
9.根据权利要求2-8中任一项所述的透明显示面板，其特征在于，
所述开口自所述阴极材料层贯通至所述驱动电路层；
或者
所述开口自所述阴极材料层贯通至所述驱动电路层中；
或者
所述开口自所述阴极材料层贯通至所述衬底中。
10.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，还包括：设置在所述发光单元层上的且覆盖所述透光区、所述显示区和所述隔离区的封装层，所述封装层包括：
第一封装层，覆盖所述阴极材料层；
第二封装层，包括第一子层和第二子层，所述第一子层覆盖所述第一封装层，第二子层覆盖所述第一子层和所述开口，所述第一子层的材料为光阻材料，所述第二子层的材料为透明的IJP涂布有机材料；以及
第三封装层，覆盖所述第二封装层。
11.一种显示装置，包括权利要求1-10中任一项所述的透明显示面板。
12.一种制作权利要求1-10中任一项所述的透明显示面板的方法，其特征在于，包括：
在衬底上形成发光单元层以形成显示基板，所述显示基板包括透光区、围绕所述透光区的显示区、以及位于所述透光区与所述显示区之间的隔离区，所述发光单元层包括阴极材料层，其中
所述透光区包括贯通所述阴极材料层的开口；
所述显示区包括阵列排布的发光单元；
所述隔离区包括至少一个隔离槽，用于隔离所述开口和所述发光单元。
13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，在所述在衬底上形成发光单元层以形成显示基板之前，所述方法还包括：
在衬底上形成功能层，所述功能层包括设置在所述衬底上的驱动电路层和设置在所述驱动电路层上的平坦化层；
在所述平坦化层内形成至少一个开槽以形成至少一个所述隔离槽，
或者
在衬底上形成功能层，所述功能层包括设置在所述衬底上的驱动电路层和设置在所述驱动电路层上的平坦化层，所述显示区的驱动电路层包括薄膜晶体管，所述隔离区的驱动电路层包括与所述薄膜晶体管的源漏电极层同层设置的第一金属层；
形成贯通所述平坦化层和所述第一金属层的至少一个开槽以形成至少一个所述隔离槽，
或者
在衬底上形成功能层，所述功能层包括设置在所述衬底上的驱动电路层和设置在所述驱动电路层上的平坦化层；
形成自所述平坦化层贯通至所述驱动电路层中的至少一个开槽以形成至少一个所述隔离槽，
或者
在衬底上形成功能层，所述功能层包括设置在所述衬底上的驱动电路层和设置在所述驱动电路层上的平坦化层；
形成自所述平坦化层贯通至所述衬底的至少一个开槽以形成至少一个所述隔离槽，
在衬底上形成功能层，所述功能层包括设置在所述衬底上的驱动电路层和设置在所述驱动电路层上的平坦化层；
形成自所述平坦化层贯通至所述衬底中的至少一个开槽以形成至少一个所述隔离槽。
14.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，在所述在衬底上形成发光单元层以形成显示基板进一步包括：
在所述衬底上形成阴极材料层；
形成覆盖所述阴极材料层第一封装材料层；
形成覆盖所述第一封装材料层的第一子材料层，所述第一子材料层的材料为光阻材料；
对所述第一子材料层进行图案化形成第一子层；
对所述第一封装材料层进行图案化形成第一封装层，并且对所述阴极材料层进行图案化，以在所述阴极材料层中形成所述开口；
形成覆盖所述第一子层和所述开口的第二子层，所述第二子层的材料为透明的IJP涂布有机材料；
形成覆盖所述第二封装层的第三封装层。
15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述对所述第一封装材料层进行图案化形成第一封装层，并且对所述阴极材料层进行图案化，以在所述阴极材料层中形成所述开口进一步包括：
对所述阴极材料层进行图案化以在所述阴极材料层中形成所述开口，
或者
对所述阴极材料层进行图案化以形成贯通至所述驱动电路层的所述开口，
或者
对所述阴极材料层进行图案化以形成自所述阴极材料层贯通至所述衬底中的所述开口。
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