CN115079400A - 一种阵列基板、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种阵列基板、显示面板及显示装置，包括显示区，显示区包括开口区和非开口区，非开口区围绕开口区，包括透光控制区；衬底；衬垫组，位于衬底的一侧，位于开口区，包括同层且成对设置的第一衬垫和第二衬垫；电润湿限制层，位于衬底的一侧，形成有腔室，腔室位于透光控制区；电润湿材料，填充于腔室内；第一电润湿电极和第二电润湿电极，垂直于衬底所在平面的方向，第一电润湿电极位于电润湿限制层与衬底之间，第二电润湿电极与第一电润湿电极相对，位于电润湿限制层远离衬底一侧，用于根据施加的电压，控制电润湿材料在平行于衬底所在平面上的展开面积。在屏幕亮度较低时，可以降低透光控制区的透过率，以提高显示对比度。

Description

一种阵列基板、显示面板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。

背景技术

在屏幕亮度较低时，显示面板存在对比度不足的情况，导致用户无法看清其显示的图像。

发明内容

本发明提供一种阵列基板、显示面板及显示装置，在屏幕亮度较低时，可以降低透光控制区的透过率，以提高显示对比度。

第一方面，本发明实施例提供一种阵列基板，包括显示区，所述显示区包括开口区和非开口区，多个所述开口区阵列排布，所述非开口区围绕所述开口区，包括透光控制区；

衬底；

衬垫组，位于所述衬底的一侧，位于所述开口区，包括同层且成对设置的第一衬垫和第二衬垫；

电润湿限制层，位于所述衬底的一侧，形成有腔室，所述腔室位于所述透光控制区；

电润湿材料，填充于所述腔室内；

第一电润湿电极和第二电润湿电极，垂直于所述衬底所在平面的方向，所述第一电润湿电极位于所述电润湿限制层与所述衬底之间，所述第二电润湿电极与所述第一电润湿电极相对，位于所述电润湿限制层远离所述衬底一侧，用于根据施加的电压，控制所述电润湿材料在平行于所述衬底所在平面上的展开面积。

第二方面，本发明实施例提供一种显示面板，包括第一方面所述的阵列基板和多个发光二极管，所述发光二极管包括阳极和阴极，所述阳极与第一衬垫电连接，所述阴极与第二衬垫电连接。

第三方面，本发明实施例提供一种显示装置，包括第二方面所述的显示面板。

本发明提供一种阵列基板，在非开口区中设置透光控制区。在透光控制区中设置电润湿限制层、电润湿材料、第一电润湿电极和第二电润湿电极。通过控制为第一电润湿电极和第二电润湿电极施加的电压，控制控制电润湿材料在平行于衬底所在平面上的展开面积，从而控制透光控制区的透过率。在为第一电润湿电极和第二电润湿电极分别施加不同的电压时，透光控制区的透过率较高。不为第一电润湿电极和第二电润湿电极施加电压，或者，为第一电润湿电极和第二电润湿电极施加相同的电压时，透光控制区的透过率较低。由此，在屏幕亮度较低时，可以降低透光控制区的透过率，以提高显示对比度。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图；

图2为沿图1中AA’方向的剖面结构示意图；

图3为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图4为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图5为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图6为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图7为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图8为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图9为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图10为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图11为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图12为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图13为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图14为本发明实施例提供的一种第一电润湿电极和第二电润湿电极的连接关系示意图；

图15为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图16为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图17为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图18为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图19为本发明实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；

图20为本发明实施例提供的一种显示装置的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

图1为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图，图2为沿图1中AA’方向的剖面结构示意图，参考图1和图2，阵列基板包括显示区01。在一实施方式中，阵列基板可以仅包括显示区01而不包括非显示区，从而采用该阵列基板形成的显示面板可以实现全面屏。在另一实施方式中，阵列基板还可以包括非显示区，非显示区位于显示区01的外围。

显示区01包括开口区011和非开口区012。多个开口区011阵列排布，非开口区012围绕开口区011。开口区011为显示区01中的发光区域。显示区01中除开口区011外的区域为非开口区012。非开口区012为显示区01中的非发光区域。非开口区012包括透光控制区013。

阵列基板包括衬底11、衬垫组12、电润湿限制层21、电润湿材料23、第一电润湿电极241和第二电润湿电极242。衬垫组12位于衬底11的一侧，衬垫组12位于开口区011，衬垫组12包括同层且成对设置的第一衬垫121和第二衬垫122。电润湿限制层21位于衬底11的一侧，电润湿限制层21形成有腔室22。腔室22位于透光控制区013。电润湿限制层21可以包括一个或者多个膜层。电润湿材料23填充于腔室22内。垂直于衬底11所在平面的方向，第一电润湿电极241位于电润湿限制层21与衬底11之间，第二电润湿电极242与第一电润湿电极241相对，第二电润湿电极242位于电润湿限制层21远离衬底11一侧。第一电润湿电极241和第二电润湿电极242分别位于电润湿限制层21的相对两侧。第一电润湿电极241和第二电润湿电极242用于根据施加的电压，控制电润湿材料23在平行于衬底11所在平面上的展开面积。

在一实施方式中，电润湿材料23包括吸光材料，光线无法穿过电润湿材料23。为第一电润湿电极241和第二电润湿电极242分别施加不同的电压，第一电润湿电极241和第二电润湿电极242之间产生的电场，将电润湿材料23收缩在第一电润湿电极241和第二电润湿电极242之间。电润湿材料23的展开面积比较小，光线可以透过腔室22继续传播。不为第一电润湿电极241和第二电润湿电极242施加电压，或者，为第一电润湿电极241和第二电润湿电极242施加相同的电压时，第一电润湿电极241和第二电润湿电极242之间不产生电场，电润湿材料23扩散流动，并占据腔室22，电润湿材料23的展开面积比较大，光线无法透过腔室22继续传播。

本发明提供一种阵列基板，在非开口区012中设置透光控制区013。在透光控制区013中设置电润湿限制层21、电润湿材料23、第一电润湿电极241和第二电润湿电极242。通过控制为第一电润湿电极241和第二电润湿电极242施加的电压，控制控制电润湿材料23在平行于衬底11所在平面上的展开面积，从而控制透光控制区013的透过率。在为第一电润湿电极241和第二电润湿电极242分别施加不同的电压时，透光控制区013的透过率较高。不为第一电润湿电极241和第二电润湿电极242施加电压，或者，为第一电润湿电极241和第二电润湿电极242施加相同的电压时，透光控制区013的透过率较低。由此，在屏幕亮度较低时，可以降低透光控制区013的透过率，以提高显示对比度。其中，本发明各实施例中的透过率指的是，在可见光范围内的透过率。

图3为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图3，阵列基板还包括像素限定层31，像素限定层31位于衬底11的一侧。像素限定层31设置有多个像素限定层开口32。衬垫组12位于像素限定层开口32中。电润湿限制层21的至少部分膜层与像素限定层31同层设置，从而在形成像素限定层31时，可以采用同种材料，并在同一工艺中形成电润湿限制层21的至少部分膜层，节省了工艺制程。

示例性地，参考图3，电润湿限制层21与像素限定层31同层设置，电润湿限制层21与像素限定层31采用相同的材料，并可以在同一工艺中形成。

图4为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图4，阵列基板还包括平坦化层33。垂直于衬底11所在平面的方向，平坦化层33位于衬垫组12与衬底11之间。电润湿限制层21的至少部分膜层与平坦化层33同层设置，从而在形成平坦化层33时，可以采用同种材料，并在同一工艺中形成电润湿限制层21的至少部分膜层，节省了工艺制程。

示例性地，参考图4，电润湿限制层21与平坦化层33同层设置，电润湿限制层21与平坦化层33采用相同的材料，并可以在同一工艺中形成。

图5为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图5，阵列基板还包括像素限定层31和平坦化层33。垂直于衬底11所在平面的方向，平坦化层33位于衬底11与像素限定层31之间。电润湿限制层21中临近衬底11一侧的膜层与平坦化层33同层设置，电润湿限制层21中临近衬底11一侧的膜层与平坦化层33可以采用同种材料并在同一工艺中形成。电润湿限制层21中远离衬底11一侧的膜层与像素限定层31同层设置，电润湿限制层21中远离衬底11一侧的膜层与像素限定层31可以采用同种材料并在同一工艺中形成。

示例性地，参考图1和图2，非开口区012的透过率大于开口区011的透过率。非开口区012可以为透光区，光线可以由阵列基板的一侧，通过非开口区012穿透到阵列基板的另一侧。由此，包括该阵列基板的显示面板可以实现透明显示，即，在显示图像的同时，可以看到显示面板背面的环境图像。在为第一电润湿电极241和第二电润湿电极242分别施加不同的电压时，透光控制区013的透过率较高，提高了非开口区012的透过率，有利于用户看到显示面板背面的环境图像。其中，环境图像指的是外界环境中的各个物体。

可以理解的是，像素限定层31和平坦化层33均为有机绝缘层，有机绝缘层的透过率高，成膜性能好，且具有比无机绝缘层更大的厚度，便于在电润湿限制层21中形成腔室22。

示例性地，参考图3，电润湿限制层21与像素限定层31同层设置。电润湿限制层21设置于平坦化层33远离衬底11的一侧。在垂直于衬底11所在平面的方向，电润湿限制层21与平坦化层33交叠。

图6为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图6，电润湿限制层21与像素限定层31同层设置。平坦化层33在电润湿限制层21所在区域做了避让设计，平坦化层33在电润湿限制层21所在区域的部分被去除。在垂直于衬底11所在平面的方向，电润湿限制层21与平坦化层33不交叠，从而提高了电润湿限制层21所在区域的透过率，提高了非开口区012的透过率。

可选地，参考图3，第一电润湿电极241与衬垫组12同层设置。也就是说，第一电润湿电极241、第一衬垫121和第二衬垫122同层设置，第一电润湿电极241、第一衬垫121和第二衬垫122采用同种材料，并在同一工艺中形成，从而节省了工艺制程。

示例性地，参考图3，第一电润湿电极241与衬垫组12同层设置，第二电润湿电极242可以另设金属膜层形成，该金属膜层可以位于衬垫组12远离衬底11一侧。

可选地，参考图4-图6，第二电润湿电极242与衬垫组12同层设置。也就是说，第二电润湿电极242、第一衬垫121和第二衬垫122同层设置，第二电润湿电极242、第一衬垫121和第二衬垫122采用同种材料，并在同一工艺中形成，从而节省了工艺制程。

可选地，参考图4-图6，阵列基板还包括像素驱动电路40。垂直于衬底11所在平面的方向，像素驱动电路40位于衬底11与衬垫组12之间。像素驱动电路40包括多个金属膜层。第一电润湿电极241与金属膜层同层设置。第一电润湿电极241与金属膜层采用同种材料，并在同一工艺中形成，从而节省了工艺制程。

可选地，参考图4-图6，金属膜层包括沿远离衬底方向依次设置的第一金属层M1、第二金属层M2和第三金属层M3。第一金属层M1位于衬底11与第二金属层M2之间，第二金属层M2位于第一金属层M1与第三金属层M3之间，第三金属层M3位于第二金属层M2与衬垫组12之间。像素驱动电路40包括薄膜晶体管41和换线层42。薄膜晶体管41包括栅极413、半导体层412、源极411和漏极414。换线层42的一端与漏极414电连接(在其他实施方式中，还可以将换线层42与源极411电连接)，换线层42的另一端与第一衬垫121电连接。栅极413位于第一金属层M1，即，采用第一金属层M1中的金属材料来形成栅极413。源极411和漏极414位于第二金属层M2，即，采用第二金属层M2中的金属材料来形成源极411和漏极414。换线层42位于第三金属层M3，即，采用第三金属层M3中的金属材料来形成换线层42。在第二电润湿电极242与衬垫组12同层设置时，第一电润湿电极241可以与第一金属层M1、第二金属层M2或者第三金属层M3同层设置。

示例性地，参考图4-图6，第二电润湿电极242与衬垫组12同层设置，第一电润湿电极241与第三金属层M3同层设置，即，第一电润湿电极241与换线层42同层设置，第一电润湿电极241与换线层42可以采用同种材料并在同一工艺中形成，从而节省了工艺制程。

图7为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图7，第二电润湿电极242与衬垫组12同层设置，第一电润湿电极241与第二金属层M2同层设置，即，第一电润湿电极241、源极411与漏极414同层设置，第一电润湿电极241、源极411与漏极414可以采用同种材料并在同一工艺中形成，从而节省了工艺制程。

图8为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图8，第二电润湿电极242与衬垫组12同层设置，第一电润湿电极241与第一金属层M1同层设置，即，第一电润湿电极241与栅极413同层设置，第一电润湿电极241与栅极413可以采用同种材料并在同一工艺中形成，从而节省了工艺制程。

可选地，参考图7和图8，像素驱动电路40包括多个绝缘层。绝缘层位于相邻两个金属膜层之间，或者，位于金属膜层与衬底11之间。至少一个绝缘层在非开口区012设置有镂空区50。垂直于衬底11所在平面的方向，镂空区50与腔室22交叠。本发明实施例中，设置镂空区50的绝缘层，在镂空区50中的绝缘层材料被去除，腔室22与镂空区50交叠。也就是说，去除与腔室22交叠的绝缘层中的绝缘层材料。从而提高了透光控制区013的透过率，提高了非开口区012的透过率。

示例性地，参考图7，像素驱动电路40包括多个绝缘层，多个绝缘层包括沿远离衬底11方向依次设置的缓冲层51、栅极绝缘层52、层间绝缘层53和钝化层54。缓冲层51和栅极绝缘层52均位于衬底11与第一金属层M1之间，缓冲层51位于衬底11与半导体层412之间，栅极绝缘层52位于半导体层412与栅极413之间。层间绝缘层53位于第一金属层M1与第二金属层M2之间，钝化层54位于第二金属层M2与第三金属层M3之间。第一电润湿电极241、源极411与漏极414同层设置。钝化层54在非开口区012设置有镂空区50，钝化层54与电润湿限制层21交叠的部分被去除，从而提高了透光控制区013的透过率，提高了非开口区012的透过率。

示例性地，参考图8，第一电润湿电极241与栅极413同层设置。钝化层54和层间绝缘层53在非开口区012均设置有镂空区50，钝化层54和层间绝缘层53与电润湿限制层21交叠的部分均被去除，从而提高了透光控制区013的透过率，提高了非开口区012的透过率。

示例性地，参考图4-图8，缓冲层51、栅极绝缘层52、层间绝缘层53和钝化层54均为无机绝缘层。

图9为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图9，金属膜层包括沿远离衬底方向依次设置的第一金属层M1和第二金属层M2。第一金属层M1位于衬底11与第二金属层M2之间，第二金属层M2位于第一金属层M1与衬垫组12之间。像素驱动电路40包括薄膜晶体管41。薄膜晶体管41包括栅极413、半导体层412、源极411和漏极414。薄膜晶体管41的漏极414与第一衬垫121直接电连接(在其他实施方式中，还可以将薄膜晶体管41的源极411与第一衬垫121直接电连接)，即，薄膜晶体管41的漏极414与第一衬垫121不通过换线层电连接。

示例性地，第一电润湿电极241和第二电润湿电极242可以分别与像素驱动电路40中两个不同的金属层同层设置。例如，第一电润湿电极241与第一金属层M1同层设置，第二电润湿电极242与第二金属层M2同层设置；第一电润湿电极241与第一金属层M1同层设置，第二电润湿电极242与第三金属层M3同层设置；第一电润湿电极241与第二金属层M2同层设置，第二电润湿电极242与第三金属层M3同层设置。在该实施方式中，可以另外设置有机绝缘层，以形成电润湿限制层21。

出于工作稳定性的考虑，为了避免第一电润湿电极241和第二电润湿电极242受到水氧侵蚀，还可以将至少一个有机绝缘层或者无机绝缘层覆盖第一电润湿电极241和第二电润湿电极242。

图10为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图10，垂直于衬底11所在平面的方向，电润湿限制层21与像素限定层31交叠，第一电润湿电极241与像素限定层31交叠，第二电润湿电极242与像素限定层31交叠。腔室22、第一电润湿电极241和第二电润湿电极242均与像素限定层31交叠。像素限定层31覆盖第一电润湿电极241和第二电润湿电极242，保护第一电润湿电极241和第二电润湿电极242免受水氧侵蚀。需要说明的是，由于像素限定层31采用的是透过率较高的有机材料制作形成，不会明显降低透光控制区013的透过率。

图11为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图11，阵列基板还包括像素驱动电路40。垂直于衬底11所在平面的方向，像素驱动电路40位于衬底11与衬垫组12之间。像素驱动电路40包括多个金属膜层。垂直于衬底11所在平面的方向，电润湿限制层21位于衬底11与像素驱动电路40之间。在阵列基板的制作过程中，在衬底11上先形成电润湿限制层21，再形成像素驱动电路40。

示例性地，参考图11，第一电润湿电极241可以另设金属膜层形成，该金属膜层可以位于第一金属层M1与衬底11之间。

可选地，参考图11，第二电润湿电极242与像素驱动电路40中的金属膜层同层设置。第二电润湿电极242与像素驱动电路40中的金属膜层采用同种材料，并在同一工艺中形成，从而节省了工艺制程。

示例性地，参考图11，在一实施方式中，第二电润湿电极242可以与第一金属层M1同层设置，即，第二电润湿电极242可以与栅极413同层设置；在另一实施方式中，第二电润湿电极242可以与第二金属层M2同层设置，即，第二电润湿电极242、源极411与漏极414同层设置。在又一实施方式中，第二电润湿电极242可以与第三金属层M3同层设置，即，第二电润湿电极242可以与换线层42同层设置。

可选地，参考图11，像素驱动电路40包括多个绝缘层，绝缘层位于相邻两个金属膜层之间，或者，位于金属膜层与衬底11之间。至少一个绝缘层在非开口区012设置有镂空区50。垂直于衬底11所在平面的方向，镂空区50与腔室22交叠。

示例性地，参考图11，像素驱动电路40中的所有绝缘层，在非开口区012均设置有镂空区50，缓冲层51、栅极绝缘层52、层间绝缘层53和钝化层54在非开口区012均设置有镂空区50，缓冲层51、栅极绝缘层52、层间绝缘层53和钝化层54与腔室22交叠的部分均被去除，从而提高了透光控制区013的透过率，提高了非开口区012的透过率。

图12为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图12，垂直于衬底11所在平面的方向，电润湿限制层21与腔室22交叠，第一电润湿电极241与像素限定层31交叠，第二电润湿电极242与像素限定层31交叠。像素限定层31覆盖第一电润湿电极241和第二电润湿电极242，保护第一电润湿电极241和第二电润湿电极242免受水氧侵蚀。需要说明的是，由于像素限定层31采用的是透过率较高的有机材料制作形成，不会明显降低透光控制区013的透过率。

在一实施方式中，可以采用平坦化层33覆盖第一电润湿电极241和第二电润湿电极242，保护第一电润湿电极241和第二电润湿电极242免受水氧侵蚀。

在另一实施方式中，可以采用平坦化层33和像素限定层31两者，覆盖第一电润湿电极241和第二电润湿电极242，保护第一电润湿电极241和第二电润湿电极242免受水氧侵蚀。

可以理解的是，在采用如图12所示的阵列基板时，一方面，像素驱动电路40中的所有绝缘层，在非开口区012均设置有镂空区50，提高了非开口区012的透过率；另一方面，有机绝缘层(包括平坦化层33和/或像素限定层31)覆盖第一电润湿电极241和第二电润湿电极242，保护第一电润湿电极241和第二电润湿电极242免受水氧侵蚀。

图13为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图13，像素驱动电路40包括多条信号线43(图13中示例性地示意出一条信号线43)。信号线43位于金属膜层，即，采用像素驱动电路40中金属膜层的材料来形成信号线43。垂直于衬底11所在平面的方向，第一电润湿电极241与信号线43交叠，和/或，第二电润湿电极242与信号线43交叠。由于第一电润湿电极241、第二电润湿电极242和信号线43均采用不透光的金属制作形成，将第一电润湿电极241与信号线43交叠，和/或，第二电润湿电极242与信号线43交叠，减少对透光区域的占据面积，从而增加非开口区012的透光面积，增加非开口区012的透过率。

示例性地，参考图13，垂直于衬底11所在平面的方向，第一电润湿电极241与信号线43交叠，第二电润湿电极242与信号线43交叠。垂直于衬底11所在平面的方向，第一电润湿电极241位于信号线43与衬底11之间，第二电润湿电极242位于信号线43与衬底11之间。电润湿材料23与信号线43之间间隔有第二电润湿电极242，信号线43上的信号被第二电润湿电极242屏蔽，不会对电润湿材料23造成不良影响。

其中，像素驱动电路40中的信号线43，例如可以包括扫描线、数据线、高电平电源信号线、低电平电源信号线、参考电压信号线和发光控制信号线中的至少一种。

图14为本发明实施例提供的一种第一电润湿电极和第二电润湿电极的连接关系示意图，在图14中，将原本叠置的第一电润湿电极241和第二电润湿电极242错开一定的距离，以示意第一电润湿电极和第二电润湿电极的连接关系，参考图14，第一电润湿电极241与第一衬垫121电连接，第二电润湿电极242与第二衬垫122电连接。在第一衬垫121与第二衬垫122之间的电压差增加时，包括该阵列基板的显示面板发光亮度增加；第一电润湿电极241和第二电润湿电极242之间的电压差增加，将电润湿材料23收缩在第一电润湿电极241和第二电润湿电极242之间。电润湿材料23的展开面积缩小，透光控制区013的透过率增加，提高了非开口区012的透过率，有利于用户看到显示面板背面的环境图像。在第一衬垫121与第二衬垫122之间的电压差减小时，包括该阵列基板的显示面板发光亮度降低；第一电润湿电极241和第二电润湿电极242之间的电压差减小，电润湿材料23的展开面积增加，透光控制区013的透过率减小，降低了非开口区012的透过率，有利于提高显示对比度。

在另一实施方式中，第一电润湿电极241与第二衬垫122电连接，第二电润湿电极242与第一衬垫121电连接。

图15为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图15，阵列基板还包括金属反光层60，金属反光层60位于衬垫组12与衬底11之间。金属反光层60形成围绕衬垫组12的反射开口，反射开口朝向背离衬底11的方向。包括该阵列基板的显示面板中，发光二极管朝向侧面和/或背面发射的光线，可以被金属反光层60反射，并朝向设置反射开口的方向出射，即，朝向背离衬底11的方向出射，增加了出光效率。另一方面，由于金属反光层60对侧向光线的阻挡，可以防止相邻像素的混色。

示例性地，参考图15，金属反光层60形成一端开口的中空圆台(即U型腔)，一端开口的中空圆台的开口即为反射开口。在其他实施方式中，金属反光层60还可以形成两端开口的中空圆台，两端开口的中空圆台中背离衬底11一侧的开口即为反射开口。

金属反光层60包括金属材料，金属反光层60具备良好的导电性，因此可以将金属反光层60复用为连接导线使用，从而无需在阵列基板中，另外设置连接导线，减少了连接导线的数量。

可选地，参考图15，金属反光层60的一端与第一电润湿电极241电连接，金属反光层60的另一端与第一衬垫121电连接。第一电润湿电极241与第一衬垫121通过金属反光层60电连接。

在另一实施方式中，金属反光层60的一端与第一电润湿电极241电连接，金属反光层60的另一端与第二衬垫122电连接。第一电润湿电极241与第二衬垫122通过金属反光层60电连接。

图16为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图16，金属反光层60的一端与第二电润湿电极242电连接，金属反光层60的另一端与第一衬垫121电连接。第二电润湿电极242与第一衬垫121通过金属反光层60电连接。

在另一实施方式中，金属反光层60的一端与第二电润湿电极242电连接，金属反光层60的另一端与第二衬垫122电连接。第二电润湿电极242与第二衬垫122通过金属反光层60电连接。

图17为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图17，电润湿限制层21包括第一表面201、第二表面202和侧面203，第一表面201和第二表面202相对，侧面203连接第一表面201与第二表面202。第一电润湿电极241设置于第一表面201上，第二电润湿电极242设置于第二表面202上。金属反光层60与第二电润湿电极242电连接时，金属反光层60的至少部分位于侧面203上。本发明实施例中，将金属反光层60的至少部分设置于侧面203上，实现金属反光层60与第二电润湿电极242之间的电性连接，相对于打孔连接而言，节省了打孔的工艺步骤，节省了工艺制程。

可选地，参考图17，第一表面201与侧面203呈锐角。第二表面202与侧面203呈钝角。电润湿限制层21的截面图中，电润湿限制层21呈梯形。电润湿限制层21的侧面203作为一个斜坡，降低了设置在侧面203上的金属反光层60的断线风险，提高了阵列基板的制作良率。

示例性地，参考图17，垂直于衬底11所在平面的方向，电润湿限制层21的高度为1μm-10μm，第一表面201的宽度为5μm-100μm。电润湿材料23在完全收缩状态下的宽度为1μm。

图18为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，参考图18，金属反光层60的一端与第二电润湿电极242电连接，金属反光层60的另一端与第一衬垫121电连接。

在其他实施方式中，金属反光层60的一端与第二电润湿电极242电连接，金属反光层60的另一端与第二衬垫122电连接。

可以理解的是，在将金属反光层60的一端与第一电润湿电极241电连接时，可以在电润湿限制层21中设置连接过孔，金属反光层60通过连接过孔与第一电润湿电极241电连接。

图19为本发明实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图，参考图19，显示面板包括上述任一实施例中的阵列基板和多个发光二极管70(图19中示例性地示意出一个发光二极管70)。发光二极管70包括阳极71和阴极72，阳极71与第一衬垫121电连接，阴极72与第二衬垫122电连接。通过第一衬垫121为阳极71供电，通过第二衬垫122为阴极72供电，以控制发光二极管70的发光亮度。

示例性地，第一衬垫121与第二衬垫122之间的电压差增加时，阳极71与阴极72之间的电压差增加，发光二极管70的亮度增加；第一衬垫121与第二衬垫122之间的电压差减小时，阳极71与阴极72之间的电压差减小，发光二极管70的亮度降低。

示例性地，发光二极管70可以包括微型发光二极管(Micro Light EmittingDiode，Micro-LED)或次毫米发光二极管显示器(Mini-LED)。

图20为本发明实施例提供的一种显示装置的示意图，参考图20显示装置包括上述实施例中的显示面板。显示装置可以为手机、电脑、电子纸、车载显示器、可穿戴设备、透明显示器等中的一种。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (18)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括显示区，所述显示区包括开口区和非开口区，多个所述开口区阵列排布，所述非开口区围绕所述开口区，包括透光控制区；

衬底；

衬垫组，位于所述衬底的一侧，位于所述开口区，包括同层且成对设置的第一衬垫和第二衬垫；

电润湿限制层，位于所述衬底的一侧，形成有腔室，所述腔室位于所述透光控制区；

电润湿材料，填充于所述腔室内；

第一电润湿电极和第二电润湿电极，垂直于所述衬底所在平面的方向，所述第一电润湿电极位于所述电润湿限制层与所述衬底之间，所述第二电润湿电极与所述第一电润湿电极相对，位于所述电润湿限制层远离所述衬底一侧，用于根据施加的电压，控制所述电润湿材料在平行于所述衬底所在平面上的展开面积。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括像素限定层，所述像素限定层位于所述衬底的一侧，设置有多个像素限定层开口，所述衬垫组位于所述像素限定层开口中；

所述电润湿限制层的至少部分膜层与所述像素限定层同层设置。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括平坦化层，垂直于所述衬底所在平面的方向，所述平坦化层位于所述衬垫组与所述衬底之间；

所述电润湿限制层的至少部分膜层与所述平坦化层同层设置。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一电润湿电极与所述衬垫组同层设置。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二电润湿电极与所述衬垫组同层设置。

6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，还包括像素驱动电路，垂直于所述衬底所在平面的方向，所述像素驱动电路位于所述衬底与所述衬垫组之间，包括多个金属膜层；

所述第一电润湿电极与所述金属膜层同层设置。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述金属膜层包括沿远离所述衬底方向依次设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层；

所述像素驱动电路包括薄膜晶体管和换线层，所述薄膜晶体管包括栅极、半导体层、源极和漏极，所述换线层的一端与所述源极或者所述漏极电连接，所述换线层的另一端与所述第一衬垫电连接；

所述栅极位于所述第一金属层，所述源极和所述漏极位于所述第二金属层，所述换线层位于所述第三金属层。

8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括像素驱动电路，垂直于所述衬底所在平面的方向，所述像素驱动电路位于所述衬底与所述衬垫组之间，包括多个金属膜层；

垂直于所述衬底所在平面的方向，所述电润湿限制层位于所述衬底与所述像素驱动电路之间。

9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述第二电润湿电极与所述金属膜层同层设置。

10.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述像素驱动电路包括多条信号线，所述信号线位于所述金属膜层；

垂直于所述衬底所在平面的方向，所述第一电润湿电极与所述信号线交叠，和/或，所述第二电润湿电极与所述信号线交叠。

11.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括像素驱动电路，垂直于所述衬底所在平面的方向，所述像素驱动电路位于所述衬底与所述衬垫组之间，包括多个金属膜层；

所述像素驱动电路包括多个绝缘层，所述绝缘层位于相邻两个金属膜层之间，或者，位于所述金属膜层与所述衬底之间；

至少一个所述绝缘层在所述非开口区设置有镂空区，垂直于所述衬底所在平面的方向，所述镂空区与所述腔室交叠。

12.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一电润湿电极与所述第一衬垫电连接，所述第二电润湿电极与所述第二衬垫电连接；或者，

所述第一电润湿电极与所述第二衬垫电连接，所述第二电润湿电极与所述第一衬垫电连接。

13.根据权利要求12所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括金属反光层，所述金属反光层位于所述衬垫组与所述衬底之间，形成围绕所述衬垫组的反射开口，所述反射开口朝向背离所述衬底的方向；

所述金属反光层的一端与所述第一电润湿电极电连接，所述金属反光层的另一端与所述第一衬垫或者所述第二衬垫电连接；或者，

所述金属反光层的一端与所述第二电润湿电极电连接，所述金属反光层的另一端与所述第一衬垫或者所述第二衬垫电连接。

14.根据权利要求13所述的阵列基板，其特征在于，所述电润湿限制层包括第一表面、第二表面和侧面，所述第一电润湿电极设置于所述第一表面上，所述第二电润湿电极设置于所述第二表面上，所述侧面连接所述第一表面与所述第二表面；

所述金属反光层与所述第二电润湿电极电连接时，所述金属反光层的至少部分位于所述侧面上。

15.根据权利要求14所述的阵列基板，其特征在于，所述第一表面与所述侧面呈锐角。

16.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述非开口区的透过率大于所述开口区的透过率。

17.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-16任一项所述的阵列基板和多个发光二极管，所述发光二极管包括阳极和阴极，所述阳极与第一衬垫电连接，所述阴极与第二衬垫电连接。

18.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求17所述的显示面板。

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