CN111863900A - 一种显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，所述显示面板包括功能区和围绕所述功能区的主显示区，基板层，从主显示区延伸至所述功能区；阳极层，设于所述基板层上；像素定义层，设于所述阳极层上，所述像素定义层上具有开口，所述阳极层裸露于所述开口中；发光结构单元，设于所述开口中；所述功能区为透光区，在所述功能区，所述像素定义层中具有若干透光孔。设置屏下摄像头区域的像素密度和主显示区的像素密度相同，使得金属掩模版上不再设置不同密度的蒸镀通孔，降低了工艺难度，降低了成本。

Description

一种显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本申请涉及显示面板领域，尤其地涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有源矩阵有机发光二极管(Active-matrix organic light-emitting diode，AMOLED)是一种显示屏技术，AMOLED与多数手机使用的传统液晶显示器相比，具有更宽的视角、更高的刷新率和更薄的尺寸，因此正在得到智能手机采用。另外目前智能手机发展的趋势是向着全面屏方向的发展，即向用户提供更高屏占比的手机。

市面上主流的全面屏有U型刘海屏以及水滴型全面屏，此类显示屏的设计是为了进一步提高屏占比，刘海以及水滴部分主要用来放置摄像头等非显示部件，无法实现真正意义上的的全面屏。

现有技术中还提供一种屏下摄像头显示面板，请参阅图1，图1为现有技术中提供的屏下摄像头显示面板100的俯视结构示意图，显示面板100包括主显示区101和功能区102，摄像头设置于功能区102的屏下，主显示区101与功能区102一起启动，实现完全的全面屏显示。当摄像头启动需要进行拍照动作时，功能区102不进行画面显示，光线从功能区102被摄像头模组采集，进行拍照动作；而在功能区102，为了让摄像头成像效果更好，单位面积的像素个数相比正常主显示区101要低(即功能区102的PPI要低于主显示区101的PPI)，从而保持高的透过率，方便摄像头呈像。

为了满足功能区102的低PPI需求、主显示区101高PPI的需求，目前实现工艺主要是在金属掩模板上设置不同密度的蒸镀通孔，通过在蒸镀腔体蒸镀来实现，实际工艺难度提升，成本升高。而且不同密度蒸镀通孔的金属掩模板制备的发光层，会导致器件不良。

因此，确有必要来开发一种新型的显示面板，以克服现有技术的缺陷。

发明内容

本发明的一个目的是提供一种显示面板，其能够解决现有技术中制备全面屏的屏下摄像头区域时，需要在金属掩模板上设置不同密度的蒸镀通孔，其工艺复杂成本较高的问题。

为实现上述目的，本发明提供一种显示面板，包括功能区和围绕所述功能区的主显示区，基板层，从主显示区延伸至所述功能区；阳极层，设于所述基板层上；像素定义层，设于所述阳极层上，所述像素定义层上具有开口，所述阳极层裸露于所述开口中；发光结构单元，设于所述开口中；所述功能区为透光区，在所述功能区，所述像素定义层中具有若干透光孔。

其中，所述透光孔的宽度可以相同也可以不同，所述透光孔可以是镂空的，也可以填充透明材料，能够提高所述功能区的透光率。

进一步的，在其他实施方式中，其中所述透光孔的横截面形状为矩形或梯形，也可以为其他形状，在此不做限定，只要保证能够提高所述功能区的透光率即可。

进一步的，在其他实施方式中，其中在所述功能区，相邻两个发光结构单元之间的像素定义层具有第一宽度，在所述主显示区，相邻两个发光结构单元之间的像素定义层具有第二宽度，所述第二宽度小于第一宽度，所述功能区的开口的面积小于所述主显示区的开口的面积。能够在所述功能区内的所述像素定义层中设置更多数量或更大宽度的所述透光孔，进一步地提高所述功能区的透光率。

进一步的，在其他实施方式中，其中在所述主显示区和所述功能区，相邻两个所述开口的中心之间的间距均相同。故所述功能区上的所述开口的密度与所述主显示区上的所述开口的密度相同。

设置功能区的像素密度和主显示区的像素密度相同，使得金属掩模版上不再设置不同密度的蒸镀通孔，直接设置相同密度的蒸镀通孔，降低了工艺难度，降低了成本。

进一步的，在其他实施方式中，其中所述发光结构单元包括空穴注入层，设于所述阳极层上；空穴传输层，设于所述空穴注入层上；发光层，设于所述空穴传输层上；电子传输层，设于所述发光层上；电子注入层，设于所述电子传输层上。

进一步的，在其他实施方式中，其中还包括阴极层，设于所述发光结构单元和所述像素定义层上。

进一步的，在其他实施方式中，其中所述功能区上的所述阳极层的材料采用透明材料，所述功能区上的所述阴极层的材料采用透明材料。进一步地提高所述功能区的透光率。

在其他实施方式中，所述主显示区的所述阳极层的材料采用氧化铟锡薄膜，所述主显示区的所述阴极层的材料采用合金薄膜。

进一步的，在其他实施方式中，其中还包括功能组件，设于所述功能区的下方，所述功能组件为听筒组件或摄像头组件或闪光灯。

进一步的，在其他实施方式中，其中所述功能区的数量大于2，所述功能区位于所述主显示区的上方，也可以位于所述主显示区的中间，其位置在此不做限定。

进一步的，在其他实施方式中，其中所述基板层包括衬底基板；遮光层，设于所述衬底基板上；有源层，设于所述遮光层上；栅极绝缘层，设于所述有源层上；栅极层，设于所述栅极绝缘层上；层间介质层，设于所述栅极层上；源漏极层，设于所述层间介质层上；平坦层，设于所述源漏极层上；所述阳极层设于所述平坦层上。

为实现上述目标，本发明还提供一种制备方法，用以制备本发明涉及的所述显示面板，所述显示面板包括功能区和围绕所述功能区的主显示区，所述制备方法包括以下步骤：提供一基板层，所述基板层从所述主显示区延伸至所述功能区；制备阳极层于所述基板层上；制备像素定义层于所述阳极层上，并在所述像素定义层上制备开口，所述阳极层裸露于所述开口中；在所述功能区上的所述像素定义层上制备若干透光孔；制备发光结构单元于所述开口中。

进一步的，在其他实施方式中，其中制备所述发光结构的步骤包括提供一掩模版，通过所述掩模版蒸镀发光材料于所述开口中形成发光结构单元。

进一步的，在其他实施方式中，其中所述功能区的开口的面积小于所述主显示区的开口的面积，所述掩膜版具有与所述开口对应的蒸镀通孔，在所述功能区的所述蒸镀通孔的密度和在所述显示区的所述蒸镀通孔的密度相同。金属掩模版上不再设置不同密度的蒸镀通孔，降低了工艺难度，降低了成本。

为实现上述目标，本发明还提供一种显示装置，包括本发明涉及的所述显示面板。

相对于现有技术，本发明的有益效果在于：本发明提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，设置屏下摄像头区域的像素密度和主显示区的像素密度相同，使得金属掩模版上不再设置不同密度的蒸镀通孔，降低了工艺难度，降低了成本；进一步地，在屏下摄像头区域的像素定义层上设置若干透光孔，能够提高屏下摄像头区域的透光率。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为现有技术中提供的屏下摄像头显示面板的俯视结构示意图；

图2为本发明实施例提供的显示面板的剖视结构示意图；

图3为本发明实施例中提供的发光结构单元的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的流程图。

附图说明：

显示面板-100；

主显示区-101； 功能区-102；

基板层-110；

像素定义层-120； 阳极层-130；

开口-121； 透光孔-122；

发光结构单元-140； 空穴注入层-141；

空穴传输层-142； 发光层-143；

电子传输层-144； 电子注入层-145；

阴极层-150。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

本发明实施例提供一种显示面板，请参阅图2，图2为本实施例提供的显示面板100的剖视结构示意，显示面板100包括功能区102和围绕功能区102的主显示区101，以及基板层110、像素定义层120、阳极层130、发光结构单元140、阴极层150和功能组件。

基板层110从主显示区101延伸至功能区102，具体地，基板层110包括衬底基板、遮光层、有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间介质层、源漏极层和平坦层。其中遮光层设于衬底基板上；有源层设于遮光层上；栅极绝缘层设于有源层上；栅极层设于栅极绝缘层上；层间介质层设于栅极层上；源漏极层设于层间介质层上；平坦层设于源漏极层上；阳极层130设于平坦层上，本实施例的改进点在于功能区102内的像素定义层120和阳极层130，故对基板层110的结构不再一一赘述。

阳极层130设于基板层110上，像素定义层120设于阳极层130上，像素定义层120上具有开口121，阳极层130裸露于开口121中,发光结构单元140设于开口121中；功能区102为透光区，在功能区102，像素定义层120中具有若干透光孔122。

在本实施例中，透光孔122的宽度为相同的，在其他实施方式中，透光孔122的宽度也可以不同；在本实施例中，透光孔122是镂空的，在其他实施方式中，也可以填充透明材料，都能够提高功能区102的透光率。

在本实施例中，透光孔122的横截面形状为矩形，在其他实施方式中，透光孔122的宽度也可以梯形或其他形状，在此不做限定，只要保证能够提高功能区102的透光率即可。

在功能区102，相邻两个发光结构单元140之间的像素定义层120具有第一宽度W1，在主显示区101，相邻两个发光结构单元140之间的像素定义层120具有第二宽度W2，第二宽度W2小于第一宽度W1,功能区102的开口121的面积小于主显示区101的开口121的面积。能够在功能区102内的像素定义层120中设置更多数量或更大宽度的透光孔122，进一步地提高功能区102的透光率。

在主显示区101和功能区102，相邻两个开口121的中心之间的间距均相同，功能区102上的开口121的密度与主显示区101上的开口121的密度相同。

设置功能区102的像素密度和主显示区101的像素密度相同，使得金属掩模版上不再设置不同密度的蒸镀通孔，降低了工艺难度，降低了成本。

请参阅图3，图3为本发明实施例中提供的发光结构单元的结构示意图。发光结构单元140包括空穴注入层141，设于阳极层130上；空穴传输层142，设于空穴注入层141上；发光层143，设于空穴传输层142上；电子传输层144，设于发光层143上；电子注入层145，设于电子传输层144上。

阴极层147设于上像素定义层120和发光结构单元140上。

功能区102上的阳极层130的材料采用透明材料，功能区102上的阴极层147的材料采用透明材料。进一步地提高功能区102的透光率。

在其他实施方式中，主显示区101的阳极层130的材料采用氧化铟锡薄膜，主显示区101的阴极层147的材料采用合金薄膜。

功能组件，设于功能区102的下方，功能组件为听筒组件或摄像头组件或闪光灯。

功能区102的数量大于2，功能区102位于主显示区101的上方，也可以位于主显示区101的中间，其位置在此不做限定。

本发明实施例还提供一种制备方法，用以制备本发明涉及的显示面板100，显示面板100包括功能区102和围绕功能区102的主显示区101，请参阅图4，图4为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的流程图，制备方法包括步骤1-步骤5。

步骤1：提供一基板层110，基板层110从主显示区101延伸至功能区102。

步骤2：制备阳极层130于基板层110上。

步骤3：制备像素定义层120于阳极层130上，并在像素定义层120上制备开口121，阳极层130裸露于开口121中。

其中，功能区102内的像素定义层120的宽度比主显示区101内的像素定义层120的宽度大。

步骤4：在功能区102上的像素定义层120上制备若干透光孔122。

其中，功能区102内的阳极层130的宽度比主显示区101内的阳极层130的宽度小。功能区102上的阳极层130的材料采用透明材料。

步骤5：提供一掩模版，通过掩模版蒸镀发光材料于开口121中上形成发光结构单元140。

掩模版包括遮挡部和蒸镀通孔，蒸镀通孔与开口121对应，由于功能区102上的开口121的密度与主显示区101上的121的密度相同，所以掩模版在功能区102的蒸镀通孔的密度和在主显示区101的蒸镀通孔的密度相同。金属掩模版上不再设置不同密度的蒸镀通孔，降低了工艺难度，降低了成本。

为实现上述目标，本发明还提供一种显示装置，包括本发明涉及的显示面板100。

本发明的有益效果在于：本发明提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，设置屏下摄像头区域的像素密度和主显示区的像素密度相同，使得金属掩模版上不再设置不同密度的蒸镀通孔，降低了工艺难度，降低了成本；进一步地，在屏下摄像头区域的像素定义层上设置若干透光孔，能够提高屏下摄像头区域的透光率。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制备方法、显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括功能区和围绕所述功能区的主显示区，

基板层，从主显示区延伸至所述功能区；

阳极层，设于所述基板层上；

像素定义层，设于所述阳极层上，所述像素定义层上具有开口，所述阳极层裸露于所述开口中；

发光结构单元，设于所述开口中；

所述功能区为透光区，在所述功能区，所述像素定义层中具有若干透光孔。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述功能区，相邻两个发光结构单元之间的像素定义层具有第一宽度，在所述主显示区，相邻两个发光结构单元之间的像素定义层具有第二宽度，所述第二宽度小于第一宽度。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述功能区的开口的面积小于所述主显示区的开口的面积。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述主显示区和所述功能区，相邻两个所述开口的中心之间的间距均相同。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述透光孔为镂空结构或者所述透光孔中填充有透明材料。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述功能区上的所述阳极层的材料采用透明材料。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括

功能组件，设于所述功能区的下方，所述功能组件为听筒组件或摄像头组件或闪光灯。

8.一种制备方法，用以制备如权利要求1所述的显示面板，包括功能区和围绕所述功能区的主显示区，其特征在于，制备方法包括以下步骤：

提供一基板层，所述基板层从所述主显示区延伸至所述功能区；

制备阳极层于所述基板层上；

制备像素定义层于所述阳极层上，并在所述像素定义层上制备开口，所述阳极层裸露于所述开口中；

在所述功能区上的所述像素定义层上制备若干透光孔；

提供一掩模版，通过所述掩模版蒸镀发光材料于所述开口中形成发光结构单元。

9.根据权利要8所述的制备方法，其特征在于，所述功能区的开口的面积小于所述主显示区的开口的面积，所述掩膜版具有与所述开口对应的蒸镀通孔，在所述功能区的所述蒸镀通孔的密度和在所述显示区的所述蒸镀通孔的密度相同。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的显示面板。

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