CN110993825A - Oled板的制作方法及oled板 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种OLED板的制作方法及OLED板,该方法包括以下步骤:在盖板玻璃上制作黑矩阵层;在黑矩阵层的每个凸出部的上表面制作反光层;在黑矩阵层的外围的盖板玻璃的侧边处制作第一粘接层;在黑矩阵层所占据的区域铺设第二粘接层;将基板玻璃扣设在盖板玻璃上并进行压合;对第一粘接层和第二粘接层同时进行照射以使第一粘接层和第二粘接层固化。本发明通过在黑矩阵层上设置反光层,进而提高了第二粘接层所对应区域的反射效率,进而在一定程度提高了第二粘接层的固化速度,使得在相同光照强度下,第一粘接层和第二粘接层的固化速度同步。
Description
技术领域
本发明涉及一种OLED板的制作方法。
背景技术
现有技术中制作OLED板至少经过如下工序:
首先在盖板玻璃上设置黑矩阵层,然后,在盖板玻璃的侧边处制作第一粘接层,在黑矩阵层所占据的区域制作第二粘接层;将基板玻璃扣设在盖板玻璃上并利用光线进行照射以使得第一粘接层和第二粘接层固化而将基板玻璃与盖板玻璃粘接固定在一起。
由于第一粘接层与第二粘接层所采用的胶体材料和/或材料配比不同及厚度,在相同的光照条件下,第一粘接层的固化速度大于第一粘接层,因而,现有技术中,针对两个粘接层采用不同的光照强度,这势必增大了操作难度。
发明内容
针对现有技术中存在的上述技术问题,本发明的实施例提供了一种OLED板的制作方法及OLED板。
为解决上述技术问题,本发明的实施例采用的技术方案是:
一种OLED板的制作方法,包括如下步骤:
在盖板玻璃上制作黑矩阵层;
在黑矩阵层的每个凸出部的上表面制作反光层;
在黑矩阵层的外围的盖板玻璃的侧边处制作第一粘接层;
在黑矩阵层所占据的区域铺设第二粘接层;
将基板玻璃扣设在盖板玻璃上并进行压合;
对第一粘接层和第二粘接层同时进行照射以使第一粘接层和第二粘接层固化。
优选地,在制作完反光层后并在制作第一粘接层前,实施如下步骤:
在黑矩阵层的相邻的两个凸出部之间制作滤光层。
优选地,在制作完滤光层后并在制作第一粘接层前,实施如下步骤:
在黑矩阵层所占据的区域铺设平坦层;所述第二粘接层铺设在所述平坦层上。
优选地,在铺设完第二粘接层后并在将基板玻璃扣设在盖板玻璃前,实施如下步骤:
对第一粘接层和第二粘接层同时进行照射而对第一粘接层和第二粘接层进行预固化。
优选地,所述反光层由金属材质经过沉积工艺获得。
优选地,所述黑矩阵层的厚度为:0.1~5um;所述反光层的厚度为:0.05~5um。
优选地,所述平坦层的厚度为:0.1~5um。
优选地,所述滤光层的厚度为:0.1~5um。
优选地,所述金属材质包括:Mo、Al、Ag、Cu中的一种。
本发明还公开了一种OLED板,至少包括相扣合的盖板玻璃和基板玻璃以及位于两者之间的黑矩阵层、位于黑矩阵层外围的第一粘接层以及第二粘接层;其中:
所述黑矩阵层的凸出部的上表面具有反光层。
与现有技术相比,本发明的实施例所提供的OLED板的制作方法及OLED板的有益效果是:
本发明通过在黑矩阵层上设置反光层,进而提高了第二粘接层所对应区域的反射效率,进而在一定程度提高了第二粘接层的固化速度,使得在相同光照强度下,第一粘接层和第二粘接层的固化速度同步。
附图说明
图1为本发明的实施例提供的OLED板的制作方法的工艺流程图。
图2为本发明的实施例提供的OLED板的结构示意图。
图中:
10-盖板玻璃;20-黑矩阵层;21-反光层;30-滤光层;40-平坦层;50-第一粘接层;60-第二粘接层;70-基板玻璃。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好的理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作详细说明。
如图1并结合图2所示,本发明的实施例公开了一种OLED板的制作方法,该方法包括:
S10:在盖板玻璃10上制作黑矩阵层20;具体地,利用Photo工艺制作黑矩阵层20(或称BM层),黑矩阵层20的材料一般为负性光刻胶,黑矩阵层20的厚度范围为0.1~5um。
S20:在黑矩阵层20的每个凸出部的上表面制作反光层21;具体地,在每个凸出部的上表面上利用Sputter、E-Bea等方式沉积出作为反光层21的金属层,金属层的材质可以是Mo、Al、Ag、Cu等金属或者合金,并可通过控制金属层厚度及表面粗糙度等方式来控制金属膜层的反射率,金属层厚度可以是0.05~5um。
S30:在黑矩阵层20的相邻的两个凸出部之间制作滤光层30;具体地,利用Photo工艺分别制作用于能够过滤出R/G/B三种色彩的过滤层(或称CF层),过滤层所使用的材料可以是正性或者负性光刻胶,过滤层的厚度范围为0.1~5um;
S40:在黑矩阵层20所占据的区域铺设平坦层40;具体地,利用Photo工艺制作平坦层40,平坦化所使用的材料可以是Resin材质或者一般正性/负性光刻胶,平坦层40的厚度范围为0.1~5um。
S50:在黑矩阵层20的外围的盖板玻璃10的侧边处制作第一粘接层50;在平坦层40上铺设第二粘接层60。
S60:对第一粘接层50和第二粘接层60同时进行UV照射而对第一粘接层50和第二粘接层60进行预固化。
S70:将基板玻璃70扣设在盖板玻璃10上并进行压合;具体地,将利用UV照射后的盖板玻璃10与完成EL器件工艺的TFT基板玻璃70在VAS设备内压合。
S80:对第一粘接层50和第二粘接层60同时进行照射以使第一粘接层50和第二粘接层60完全固化。
如图2所示,本发明还公开一种借由上述方法制作完成的OLED板。
本发明的优势在于:
本发明通过在黑矩阵层20上设置反光层21,进而提高了第二粘接层60所对应区域的反射效率,进而在一定程度提高了第二粘接层60的固化速度,使得在相同光照强度下,第一粘接层50和第二粘接层60的固化速度同步。
以上实施例仅为本发明的示例性实施例,不用于限制本发明,本发明的保护范围由权利要求书限定。本领域技术人员可以在本发明的实质和保护范围内,对本发明做出各种修改或等同替换,这种修改或等同替换也应视为落在本发明的保护范围内。
Claims (10)
1.一种OLED板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
在盖板玻璃上制作黑矩阵层;
在黑矩阵层的每个凸出部的上表面制作反光层;
在黑矩阵层的外围的盖板玻璃的侧边处制作第一粘接层;
在黑矩阵层所占据的区域铺设第二粘接层;
将基板玻璃扣设在盖板玻璃上并进行压合;
对第一粘接层和第二粘接层同时进行照射以使第一粘接层和第二粘接层固化。
2.根据权利要求1所述的OLED板的制作方法,其特征在于,在制作完反光层后并在制作第一粘接层前,实施如下步骤:
在黑矩阵层的相邻的两个凸出部之间制作滤光层。
3.根据权利要求2所述的OLED板的制作方法,其特征在于,在制作完滤光层后并在制作第一粘接层前,实施如下步骤:
在黑矩阵层所占据的区域铺设平坦层;所述第二粘接层铺设在所述平坦层上。
4.根据权利要求1所述的OLED板的制作方法,其特征在于,在铺设完第二粘接层后并在将基板玻璃扣设在盖板玻璃前,实施如下步骤:
对第一粘接层和第二粘接层同时进行照射而对第一粘接层和第二粘接层进行预固化。
5.根据权利要求1所述的OLED板的制作方法,其特征在于,所述反光层由金属材质经过沉积工艺获得。
6.根据权利要求1所述的OLED板的制作方法,其特征在于,所述黑矩阵层的厚度为:0.1~5um;所述反光层的厚度为:0.05~5um。
7.根据权利要求3所述的OLED板的制作方法,其特征在于,所述平坦层的厚度为:0.1~5um。
8.根据权利要求2所述的OLED板的制作方法,其特征在于,所述滤光层的厚度为:0.1~5um。
9.根据权利要求5所述的OLED板的制作方法,其特征在于,所述金属材质包括:Mo、Al、Ag、Cu中的一种。
10.一种OLED板,其特征在于,至少包括相扣合的盖板玻璃和基板玻璃以及位于两者之间的黑矩阵层、位于黑矩阵层外围的第一粘接层以及第二粘接层;其中:
所述黑矩阵层的凸出部的上表面具有反光层。
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