CN110935688A - 清洗方法 - Google Patents

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CN110935688A
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乔焜
高明哲
林岳明
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Shanghai Xitang Semiconductor Technology Co Ltd
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Abstract

本发明涉及反应釜清洗技术领域，特别涉及一种清洗方法，包括向所述反应釜腔室注入清洗水，控制所述超声波清洗器向清洗水介质中发射超声波对所述反应釜腔室内壁上的残留物进行一次清洗；当所述一次清洗完成后，向所述反应釜腔室注入反应溶液，所述反应溶液用于与部分所述残留物发生反应以产生溶解物；控制所述超声波清洗器向所述反应溶液介质中发射超声波对所述溶解物进行二次清洗；当所述二次清洗完成后，向所述反应釜腔室内再次注入所述清洗水并控制所述超声波清洗器发射超声波对所述反应釜腔室内残留的反应溶液进行三次清洗。通过将超声波清洗技术应用到对反应釜的三次清洗过程中，可以在不挪动反应釜的情况下，实现对反应釜的高效清洗工作。

Description

清洗方法
技术领域
本发明涉及反应釜清洗技术领域，特别是涉及一种清洗方法。
背景技术
氮化镓晶体是第三代半导体材料，具有优异的光电性能、热稳定性和化学稳定性。目前，生产氮化镓晶体的方法主要有氢化物气相外延法、高压氮气溶液法、钠助熔剂法和氨热法等。其中，在采用氨热法生产氮化镓晶体时，生产结束时，其使用的反应釜的内壁会残留矿化物、氮化镓多晶及反应中间物等残留物，若不将残留物清洗干净，将影响反应釜的使用寿命及下一次氮化镓晶体的生产质量。目前的生产中，多采用人工手动的方式对反应釜进行搬运清洗，其劳动强度大，费时费力，工作效率较低。但是对于大直径的反应釜，重量为吨级，人工搬运已不现实，需要一种方法尽量不挪动反应釜的情况下，实现反应釜的清洗工作。
发明内容
基于此，有必要针对大直径的反应釜无法通过人工手动的方式对反应釜进行搬运清洗的问题，提供一种清洗方法。
一种清洗方法，应用于用于清洗反应釜的清洗装置，所述清洗装置包括超声波清洗器，所述超声波清洗器位于所述反应釜腔室内，所述方法包括向所述反应釜腔室注入清洗水，并控制所述超声波清洗器向清洗水介质中发射超声波对所述反应釜腔室内壁上的残留物进行一次清洗；当所述一次清洗完成后，向所述反应釜腔室注入反应溶液，所述反应溶液用于与部分所述残留物发生反应以产生溶解物；控制所述超声波清洗器向所述反应溶液介质中发射超声波对所述溶解物进行二次清洗；当所述二次清洗完成后，向所述反应釜腔室内再次注入所述清洗水并控制所述超声波清洗器向清洗水介质中发射超声波对所述反应釜腔室内残留的反应溶液进行三次清洗。
在其中一个实施例中，所述清洗装置还包括反应溶液存储槽，所述反应溶液存储槽与所述反应釜连通设置，所述清洗方法还包括控制所述反应溶液在所述反应釜腔室和所述反应溶液存储槽间循环流动，直至所述二次清洗完成。
在其中一个实施例中，所述清洗方法还包括对所述反应溶液进行加热，加热至预设温度。
在其中一个实施例中，所述预设温度为60℃至80℃。
在其中一个实施例中，所述清洗方法还包括当所述三次清洗完成后，对所述反应釜腔室进行干燥处理。
在其中一个实施例中，对所述反应釜腔室进行干燥处理，包括采用温度为60℃至80℃的所述干燥气体对所述反应釜腔室进行干燥处理。
在其中一个实施例中，所述清洗装置还包括喷淋系统，所述喷淋系统的出水口朝向所述反应釜设置，所述清洗方法还包括在进行所述一次清洗和三次清洗时，同时控制所述喷淋系统喷淋清洗水冲洗所述反应釜的内外壁。
在其中一个实施例中，所述清洗方法还包括当所述反应釜腔室内的清洗水或反应溶液高于预设高度时，开启所述超声波清洗器；当所述反应釜腔室内的清洗水或反应溶液低于预设高度时，关闭所述超声波清洗器。
在其中一个实施例中，所述清洗水包括普通水、反渗透水或去离子水。
在其中一个实施例中，所述反应溶液包括浓度为0.2kg/L至0.6kg/L的氢氧化钾溶液。
本发明提供的清洗方法，应用于用于清洗反应釜的清洗装置，所述清洗装置包括超声波清洗器，所述超声波清洗器位于所述反应釜腔室内，所述方法包括向所述反应釜腔室注入清洗水，并控制所述超声波清洗器向清洗水介质中发射超声波对所述反应釜腔室内壁上的残留物进行一次清洗；当所述一次清洗完成后，向所述反应釜腔室注入反应溶液，所述反应溶液用于与部分所述残留物发生反应以产生溶解物；控制所述超声波清洗器向所述反应溶液介质中发射超声波对所述溶解物进行二次清洗；当所述二次清洗完成后，向所述反应釜腔室内再次注入所述清洗水并控制所述超声波清洗器向清洗水介质中发射超声波对所述反应釜腔室内残留的反应溶液进行三次清洗。本发明提供的清洗方法首先使用清洗水对反应釜腔室内壁上的残留物进行一次清洗，其次使用反应溶液与反应釜腔室内壁上一次清洗仍然清洗不掉的残留物发生反应，使其溶解以进行二次清洗，最后再次使用清洗水对反应釜腔室内残留的反应溶液进行清洗，以将所述反应釜彻底清洗干净。通过将超声波清洗技术应用到对反应釜的三次清洗过程中，可以在不挪动反应釜的情况下，实现对反应釜的高效清洗工作。
附图说明
图1为本发明其中一实施例的清洗装置的结构组成图；
图2为本发明其中一实施例的反应釜清洗方法流程图。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的优选实施方式。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反的，提供这些实施方式的目的是为了对本发明的公开内容理解得更加透彻全面。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
图1为本发明其中一实施例的清洗装置的结构组成图，本发明所提及的清洗装置包括超声波清洗器100、管路系统200、喷淋系统300和控制系统400(图中未示)。图中带有方向标记的虚线表示管路中清洗水、反应溶液和干燥气体的流通情况。
在其中一实施例中，本发明使用的所述超声波清洗器100通过固定装置固定于所述反应釜腔室内的中心位置，与所述反应釜腔室的内壁和底部的距离为所述反应釜腔室内径长度的1/4至3/4，以保证所述反应釜腔室的内壁和底部处于所述超声波清洗器100的清洗范围内。
所述超声波清洗器100主要通过换能器，将功率超声频源的声能转换成机械振动，将超声波辐射到反应釜中的清洗水或反应溶液中。由于受到超声波的辐射，使所述清洗水或反应溶液中的微气泡能够在声波的作用下保持振动。破坏氮化镓多晶和/或反应中间物与反应釜腔室内壁的吸附，使得所述氮化镓多晶和/或反应中间物受到振动而被剥离。超声波在液体中传播时会产生正负交变的声压，形成射流，冲击清洗件。同时由于非线性效应会产生声流和微声流，而超声空化在固体和液体界面会产生高速的微射流，所有这些作用，能够破坏污物，除去或削弱边界污层，增加搅拌、扩散作用，加速可溶性污物的溶解，强化反应溶液的清洗作用。凡是液体能浸到且声场存在的地方都有清洗作用，可表面形状非常复杂的零件的清洗，并可减少反应溶液的用量，从而节约资源。使用超声波清洗器对所述反应釜进行清洗，具有清洗洁净度高、清洗速度快等优点。
在其中一实施例中，所述管路系统包括进水管210、反应溶液输入管220、排放管230、反应溶液存储槽240、输气管250、供水泵260、供液泵270和循环排放泵280。其中，进水管210、反应溶液输入管220、排放管230上均设置有阀门500，阀门500用于控制上述管路的通断。
在其中一实施例中，所述进水管210的一端用于连接清洗水源，另一端用于连接至反应釜腔室内。所述进水管210上设置有供水泵260，所述供水泵260用于将清洗水源中的清洗水吸入至进水管210中，通过进水管210将所述清洗水输送至反应釜腔室内，对反应釜腔室的内壁上的残留物进行清洗。
在其中一实施例中，所述反应溶液输入管220的一端用于连接反应溶液存储槽240，另一端用于连接至反应釜腔室内。所述反应溶液输入管220上设置有供液泵270，所述供液泵270用于将反应溶液存储槽240中的反应溶液吸入至反应溶液输入管220中，通过所述反应溶液输入管220输送至反应釜腔室内，对所述反应釜腔室的内壁上的氮化镓多晶及反应中间物进行溶解清洗。
在其中一实施例中，所述排放管230包括废水排放管231和反应溶液排放管232，所述废水排放管231的第一端与所述反应釜腔室的底部连接，另一端通到所述反应釜的外部。所述废水排放管231上设置有循环排放泵280，所述循环排放泵280用于将反应釜腔室内的废水吸入至废水排放管231中，用于在一次和三次清洗完成后，将反应釜内的废水排出。所述反应溶液排放管232的一端与所述反应釜腔室的底部连接，另一端通入所述反应溶液存储槽240中。所述反应溶液排放管232上也设置有循环排放泵280，所述循环排放泵280用于将反应釜腔室内的反应溶液吸入至反应溶液排放管232中。在二次清洗时，通过循环排放泵180将反应釜腔室内的反应溶液输送回反应溶液存储槽240，配合供液泵270和反应溶液输入管220对反应溶液进行循环输送。
在其中一实施例中，所述输气管250的一端连接于干燥气体气源，另一端用于连接至反应釜腔室内，用于将干燥气体输入反应釜腔室内，对反应釜腔室进行干燥处理。
在其中一实施例中，所述喷淋系统300包括喷淋板310和喷头320，所述喷淋系统300位于所述反应釜的上方，用于清洗反应釜的内外壁。其中，喷头320的数量有若干个，且均固定于喷淋板310上。所述进水管210的另一端与所述喷淋系统300连接，用于向所述喷淋系统300提供清洗水。通过所述喷淋系统300的喷头320喷出清洗水，淋洒冲洗所述反应釜的内外壁，以对所述反应釜起到进一步的清洗效果。
在其中一实施例中，所述控制系统400包括控制面板，所述控制面板与所述管路系统和喷淋系统连接，用于控制所述清洗装置中的各部件运转工作，以完成对所述反应釜的清洗。
图2为本发明其中一实施例的反应釜清洗方法流程图，在其中一个实施例中，所述清洗方法应用于上述清洗装置，所述清洗方法包括步骤S10至S40。
S10：向所述反应釜腔室注入清洗水，并控制所述超声波清洗器向清洗水介质中发射超声波对所述反应釜腔室内壁上的残留物进行一次清洗。
具体地，当所述反应釜需要进行清洗时，控制系统400控制供水泵260工作，通过进水管210将所述清洗水输送至所述反应釜腔室内，并控制所述超声波清洗器100向所述清洗水介质中发射超声波，利用超声波对所述反应釜腔室内壁上的残留物进行一次清洗。
在其中一个实施例中，所述清洗水包括普通水、反渗透水或去离子水。
在进行一次清洗和三次清洗时，向所述反应釜腔室内注入的清洗水可以是普通水、反渗透水或去离子水中的任意一种或两种。
S20：当所述一次清洗完成后，向所述反应釜腔室注入反应溶液，所述反应溶液用于与部分所述残留物发生反应以产生溶解物。S30：控制所述超声波清洗器向所述反应溶液介质中发射超声波对所述溶解物进行二次清洗。
一次清洗完成后，所述控制系统400控制所述循环排放泵280工作，通过废水排放管231将所述反应釜腔室内的废水排出。
控制系统400控制供液泵270工作，通过反应溶液排放管232将所述反应溶液输送至所述反应釜腔室内。并控制所述超声波清洗器100向所述反应溶液介质中发射超声波，利用超声波对所述反应釜腔室内壁上的残留物进行二次清洗。所述反应溶液还能通过与氮化镓多晶及反应中间物发生反应，以将反应釜腔室内壁上的氮化镓多晶及反应中间物溶解清除。
本发明所提及的“反应溶液”指的是能够与氮化镓多晶和/或反应中间物发生反应，从而将氮化镓多晶和/或反应中间物溶解的液体。例如氢氧化钾(KOH)溶液、氢氧化钠(NaOH)溶液、热磷酸(H3PO4)溶液、热硫酸和磷酸混合液、盐酸(HCl)、氢氟酸(HF)、硫铵((NH4)2SO4)、过硫酸钾(KS2O8)、四硼酸钠(Na2B4O7.10H20)、过氧化氢(H2O2)、草酸(C2H2O4)、缓冲氧化物刻蚀液(BOE)、氢碘酸(HI)和碘化钾(KI)等。
其中，本发明提及的“反应中间物”指的是在酸性氨热法生产氮化镓晶体时产生的[Ga(NH3)6-nXn](3-n)+(n＝0，1，2，4；X＝F，Cl，Br，I)等物质，或者在碱性氨热法生产氮化镓晶体时产生的[Ga(NH2)4]-等物质。
在其中一个实施例中，本清洗方法中使用的所述反应溶液是浓度为0.2kg/L至0.6kg/L的氢氧化钾溶液。
虽然本发明实施例中使用浓度为0.2kg/L至0.6kg/L的氢氧化钾溶液作为反应溶液用于清洗氮化镓多晶及反应中间物，但本发明中反应溶液并不限于此。首先，反应溶液可以选用上述列举的其它能够同时清洗氮化镓多晶及反应中间物的反应溶液；其次，还可以采用不同的反应溶液分别清洗氮化镓多晶和反应中间物，即采用两种不同的反应溶液，其中一种专门与氮化镓多晶进行反应以溶解氮化镓多晶，另一种专门与反应中间物进行反应以溶解反应中间物；最后，还可以更换反应溶液以对所述反应釜进行反复多次的清洗。
S40：当所述二次清洗完成后，向所述反应釜腔室内再次注入所述清洗水并控制所述超声波清洗器向清洗水介质中发射超声波对所述反应釜腔室内残留的反应溶液进行三次清洗。
具体地，二次清洗完成后，所述控制系统400控制循环排放泵280工作，通过反应溶液排放管231将所述反应釜腔室内的反应溶液排出。
控制系统400再次控制供水泵260工作，通过进水管210将所述清洗水输送至所述反应釜腔室内，并控制所述超声波清洗器100向所述清洗水介质中发射超声波，利用超声波对所述反应釜腔室内壁上残留的反应溶液进行三次清洗。三次清洗完成后，所述控制系统400控制所述循环排放泵280工作，通过废水排放管231将所述反应釜腔室内的废水排出。
本发明提供的清洗方法，首先向所述反应釜腔室内输入清洗水，所述清洗水作为所述超声波清洗器的超声波传导介质，对所述反应釜腔室的内壁进行清洗；然后向所述反应釜腔室内输入反应溶液，所述反应溶液用于溶解所述反应釜腔室内壁上的残留物，并作为所述超声波清洗器的超声波传导介质，对所述反应釜腔室的内壁进行清洗；最后再次向所述反应釜腔室内输入清洗水，对所述反应釜腔室内残留的反应溶液进行清洗。利用超声波清洗技术提高对所述反应釜的清洗效率，且使用本清洗方法时，无需搬动所述反应釜，即可完成对所述反应釜的清洗。
在其中一个实施例中，所述清洗方法还包括控制所述反应溶液在所述反应釜腔室和所述反应溶液存储槽间循环流动，直至所述二次清洗完成。
具体地，通过反应溶液排放管232将所述反应溶液输送至所述反应釜腔室内时，当所述反应溶液达到一定的高度时，控制系统控制循环排放泵280工作，通过反应溶液排放管232将反应釜腔室中的反应溶液输送回所述反应溶液存储槽240中，进而使得反应溶液在所述反应釜腔室和所述反应溶液存储槽240间循环流动。通过控制反应溶液在所述反应釜腔室和所述反应溶液存储槽240间循环流动，不仅能够提高对反应溶液的利用率，还能增加对氮化镓多晶及反应中间物的溶解清洗效率。
在其中一个实施例中，所述清洗方法还包括对所述反应溶液进行加热，加热至预设温度。
具体地，所述清洗装置的反应溶液存储槽240设置有第一加热器，用于所述对反应溶液进行加热，使得循环中的所述反应溶液始终保持一定温度以能够与氮化镓多晶及反应中间物产生反应。
在其中一个实施例中，所述预设温度为60℃至80℃。所述反应溶液与氮化镓多晶及反应中间物产生反应的最佳温度范围为60℃至80℃。其中，最优的预设温度为80℃，此时，所述反应溶液与氮化镓多晶及反应中间物的反应效率最高，对氮化镓多晶及反应中间物的溶解清洗效果最好。
在其中一个实施例中，所述清洗方法还包括当所述三次清洗完成后，对所述反应釜腔室进行干燥处理。
在其中一个实施例中，对所述反应釜腔室进行干燥处理，包括采用温度为60℃至80℃的所述干燥气体对所述反应釜腔室进行干燥处理。
本发明所提及的“干燥气体”指的是热的惰性气体，如氮气、氩气等，也可以指易于溶于的醇类的蒸气，例如异丙醇(IPA)、乙醇(C2H6O)等的蒸气。
具体地，所述清洗装置的输气管250上设置有第二加热器，用于对所述干燥气体进行加热。在所述三次清洗完成后，所述控制系统400控制导通输气管250，控制所述第二加热器将通过所述输气管250的所述干燥气体加热至60℃至80℃。输送至所述反应釜腔室中的干燥气体，对所述反应釜腔室进行干燥处理。
在其中一个实施例中，所述清洗方法还包括在进行所述一次清洗和三次清洗时，同时控制所述喷淋系统喷淋清洗水冲洗所述反应釜的内外壁。
具体地，在进行一次清洗和三次清洗时，控制系统400控制所述喷淋系统300工作。所述供水泵260在通过所述进水管210向所述反应釜腔室内注入清洗水的同时，向所述喷淋系统300提供喷淋所需的清洗水。所述喷淋系统300的喷头320喷洒出清洗水，以对所述反应釜的内外壁进行冲洗。
在其中一个实施例中，所述清洗方法还包括当所述反应釜腔室内的清洗水或反应溶液高于预设高度时，开启所述超声波清洗器；当所述反应釜腔室内的清洗水或反应溶液低于预设高度时，关闭所述超声波清洗器。
具体地，所述超声波清洗器100利用液体作为介质发射超声波从而对需要清洗的物品进行超声清洗时的清洗效果最好。所以当所述反应釜腔室内的液体不足量时，关闭所述超声波清洗器；当所述反应釜腔室内的液体淹没所述超声波清洗器100时，开启所述超声波清洗器100。例如，在进行一次清洗时，当向所述反应釜腔室注入的清洗水没过所述超声波清洗器100时，所述控制系统400控制开启所述超声波清洗器100，以使所述超声波清洗器100向所述清洗水介质中发射超声波，从而对所述反应釜腔室内壁进行清洗。当一次清洗完成后，所述反应釜腔室内的废水排出，液面低于所述超声波清洗器100时，所述控制系统400控制关闭所述超声波清洗器100。这样，保证所述超声波清洗器100的清洗效果的同时，节约用电量，节省成本。
在其中一个实施例中，还可以利用所述控制系统400设定清洗方法每一步骤的工作时长，以实现全自动控制。首先，对使用清洗水对反应釜腔室内壁的残留物进行的一次清洗设定15至30分钟的清洗时间，即，所述控制系统400自动控制向所述反应釜腔室内注入所述清洗水，控制所述超声波清洗器100的开启时间为15至30分钟，一次清洗完成后自动排出废水。其次，对使用反应溶液对反应釜腔室内壁的残留物进行的二次清洗设定30至90分钟的清洗时间，即，所述控制系统400自动控制向所述反应釜腔室内注入所述反应溶液，控制所述超声波清洗器100的开启时间为30至90分钟，其中自动控制反应溶液在所述反应釜腔室和所述反应溶液存储槽240间的循环流动，二次清洗完成后自动排出所述反应溶液。然后，对使用清洗水对反应釜腔室内壁的残留物进行的三次清洗设定10至15分钟的清洗时间，即，所述控制系统400自动控制向所述反应釜腔室内注入所述清洗水，控制所述超声波清洗器100的开启时间为10至15分钟，三次清洗完成后自动排出废水。最后，对使用加热过的所述干燥气体对所述反应釜腔室的干燥过程设定20分钟左右的干燥时间，即，控制所述输气管向所述反应釜腔室输送20分钟的干燥气体，干燥过程完成后，自动关闭所述输气管。
本发明提供的清洗方法，在对需要清洗的反应釜进行清洗时，首先，向所述反应釜腔室内注入清洗水。当所述反应釜腔室内的清洗水的液面淹没所述超声波清洗器100时，控制开启所述超声波清洗器100向所述反应釜腔室内的清洗水介质发射超声波，利用超声波对所述反应釜腔室内壁上的氮化镓多晶及反应中间物进行一次清洗。一次清洗完成后，将所述反应釜腔室内的废水排出，并控制关闭所述超声波清洗器100。其次，向所述反应釜腔室内注入加热过的反应溶液。当所述反应釜腔室内的反应溶液的液面淹没所述超声波清洗器100时，控制开启所述超声波清洗器100向所述反应釜腔室内的反应溶液介质发射超声波，利用超声波对所述反应釜腔室内壁上的氮化镓多晶及反应中间物进行二次清洗。同时，加热至预设温度的所述反应溶液能与氮化镓多晶及反应中间物发生反应，将所述氮化镓多晶及反应中间物溶解清除。控制所述反应溶液在反应溶液存储槽240与所述反应釜腔室内循环流动，直至所述二次清洗完成。在二次清洗完成后，将所述反应釜腔室内的所述反应溶液排出，并控制关闭所述超声波清洗器100。然后，再次向所述反应釜腔室内注入清洗水。当所述反应釜腔室内的清洗水的液面淹没所述超声波清洗器100时，控制开启所述超声波清洗器100向所述反应釜腔室内的清洗水介质发射超声波，利用超声波对所述反应釜腔室内壁上残留的反应溶液进行三次清洗。三次清洗完成后，将所述反应釜腔室内的废水排出，并控制关闭所述超声波清洗器100。最后，向所述反应釜腔室内通入加热过的干燥气体，利用所述干燥气体的气体流动及温度对所述反应釜腔室进行干燥处理，完成对所述反应釜的清洗及干燥工作。通过将超声波清洗技术应用到对反应釜的三次清洗过程中，可以在不挪动反应釜的情况下，实现对反应釜的高效清洗工作。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种清洗方法，其特征在于，应用于用于清洗反应釜的清洗装置，所述清洗装置包括超声波清洗器，所述超声波清洗器位于所述反应釜腔室内，所述方法包括：
向所述反应釜腔室注入清洗水，并控制所述超声波清洗器向清洗水介质中发射超声波对所述反应釜腔室内壁上的残留物进行一次清洗；
当所述一次清洗完成后，向所述反应釜腔室注入反应溶液，所述反应溶液用于与部分所述残留物发生反应以产生溶解物；
控制所述超声波清洗器向所述反应溶液介质中发射超声波对所述溶解物进行二次清洗；
当所述二次清洗完成后，向所述反应釜腔室内再次注入所述清洗水并控制所述超声波清洗器向清洗水介质中发射超声波对所述反应釜腔室内残留的反应溶液进行三次清洗。
2.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗装置还包括反应溶液存储槽，所述反应溶液存储槽与所述反应釜连通设置，所述清洗方法还包括：
控制所述反应溶液在所述反应釜腔室和所述反应溶液存储槽间循环流动，直至所述二次清洗完成。
3.根据权利要求2所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法还包括：
对所述反应溶液进行加热，加热至预设温度。
4.根据权利要求3所述的清洗方法，其特征在于，所述预设温度为60℃至80℃。
5.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法还包括：
当所述三次清洗完成后，对所述反应釜腔室进行干燥处理。
6.根据权利要求5所述的清洗方法，其特征在于，对所述反应釜腔室进行干燥处理，包括：
采用温度为60℃至80℃的所述干燥气体对所述反应釜腔室进行干燥处理。
7.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗装置还包括喷淋系统，所述喷淋系统的出水口朝向所述反应釜设置，所述清洗方法还包括：
在进行所述一次清洗和三次清洗时，同时控制所述喷淋系统喷淋清洗水冲洗所述反应釜的内外壁。
8.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法还包括：
当所述反应釜腔室内的清洗水或反应溶液高于预设高度时，开启所述超声波清洗器；
当所述反应釜腔室内的清洗水或反应溶液低于预设高度时，关闭所述超声波清洗器。
9.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗水包括普通水、反渗透水或去离子水。
10.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述反应溶液包括浓度为0.2kg/L至0.6kg/L的氢氧化钾溶液。
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