CN207899447U - 一种具有超声波清洗功能的反应釜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种具有超声波清洗功能的反应釜，包括反应釜本体、超声波清洗装置、第一高压清洗装置、第二高压清洗装置，所述超声波清洗装置包括安装座、超声波发生器；所述第一高压清洗装置包括第一高压水箱、清洗口、第一清洗管、挡环、设置在所述第一清洗管的末端并朝搅拌杆方向喷射的第一喷嘴；所述第二高压清洗装置包括第二高压水箱、L型第二清洗管、若干设置在所述第二清洗管竖直部的所述反应釜本体内壁侧的第二喷嘴。本实用新型高压清洗装置在对反应釜内喷射水，同时自带压力对反应釜内壁以及搅拌杆进行清洗，再配合超声波发生器在液体内发射高频率超声波对反应釜进行二次清洗，清洗效率高。
Description
技术领域
本实用新型涉及化工反应装置领域，主要涉及一种具有超声波清洗功能的反应釜。
背景技术
在化工领域中，反应釜是常见的设备之一。乳液型聚合物比较容易附着在反应釜壁以及搅拌杆上，反应釜的入口较小，人员不方便进入清洗，清洗比较困难。现有的技术中大多在搅拌杆中设置水管，通过向四周喷水达到清洗的目的，但也因此增加了搅拌杆的复杂程度，影响搅拌效率，且无法对搅拌杆上的残余物质进行清洗；用高压水枪的方式进行清洗效率不高，用碱煮的方式进行清洗，污染比较严重。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种清洗效率高、速度快，结构简单，使用方便的具有超声波清洗功能的反应釜。
本实用新型所要解决的技术问题可以采用如下技术方案来实现：
一种具有超声波清洗功能的反应釜，其特征在于，包括反应釜本体、设置在所述反应釜本体底部的超声波清洗装置、设置在所述反应釜本体顶部的第一高压清洗装置、设置在所述反应釜本体内壁上的第二高压清洗装置；
所述超声波清洗装置包括设置在所述反应釜本体底部一侧的安装座、设置在所述安装座上的超声波发生器；
所述第一高压清洗装置包括第一高压水箱、倾斜设置在所述反应釜本体顶盖一侧的清洗口、连接所述第一高压水箱并倾斜伸入所述清洗口于所述反应釜本体内的第一清洗管，在所述第一清洗管外环面于所述清洗口外端径向设置有挡环，在所述第一清洗管的末端设置有一朝搅拌杆方向喷射的第一喷嘴；
所述第二高压清洗装置包括第二高压水箱、连接所述第二高压水箱并伸入所述反应釜本体内的L型第二清洗管、若干设置在所述第二清洗管竖直部的所述反应釜本体内壁侧的第二喷嘴。
本实用新型的有益效果是：一种具有超声波清洗功能的反应釜，高压清洗装置在对反应釜内喷射水，同时自带压力对反应釜内壁以及搅拌杆进行清洗，再配合超声波发生器在液体内发射高频率超声波对反应釜进行二次清洗，清洗效率高、速度快，对反应釜内壁以及搅拌杆无损伤，结构简单，使用寿命长。
附图说明
图1是本实用新型一种具有超声波清洗功能的反应釜的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。
参见图1，图中给出的是一种具有超声波清洗功能的反应釜，包括反应釜本体100、设置在反应釜本体100底部的超声波清洗装置200、设置在反应釜本体100顶部的第一高压清洗装置300、设置在反应釜本体100内壁上的第二高压清洗装置400；高压清洗装置在对反应釜内喷射水，同时自带压力对反应釜内壁以及搅拌杆110进行清洗，结构简单，清洗效果好。
超声波清洗装置200包括设置在反应釜本体100底部一侧的安装座210、设置在安装座210上的超声波发生器220，清洗效率高、速度快，对反应釜内壁以及搅拌杆110无损伤，使用寿命长。
第一高压清洗装置300包括第一高压水箱、倾斜设置在反应釜本体100顶盖120一侧的清洗口310、连接第一高压水箱并倾斜伸入清洗口310于反应釜本体100内的第一清洗管320；在反应釜本体100顶盖120上的清洗口310截面呈T字形，在第一清洗管320外环面于T字形顶端的法兰外端径向设置有挡环330；在第一清洗管320的末端设置有一朝搅拌杆110方向喷射的第一喷嘴 340，第一喷嘴340为球体状。
第二高压清洗装置400包括第二高压水箱、连接第二高压水箱并伸入反应釜本体内的L型第二清洗管410、若干设置在第二清洗管410竖直部411的反应釜本体100内壁侧的第二喷嘴420，第二喷嘴420沿径向设置且截面呈方形。
反应釜本体100的搅拌装置包括搅拌电机510、传动连接在搅拌电机510 的输出轴511末端的搅拌杆110、设置在搅拌杆110底部并倾斜向上延伸的U 型搅拌桨520、垂直设置在搅拌桨520相对两侧面的分流板530，搅拌桨520 与分流板530组成的横截面呈十字形。
如图1所示，本实用新型的基本工作原理为：
首先同时加高压从球状第一喷嘴340释放清洗水对搅拌杆110与搅拌桨 520进行清洗、加高压从方形第二喷嘴420释放清洗水对反应釜内壁进行清洗，再启动超声波发生器220向水介质中发射超声波，对反应釜内进行二次清洗，清洗完毕后将反应釜底部的出料口140阀门打开，排泄废水；再次加压释放清洗水，启动超声波发生器220进行二次清洗再排泄，循环此步骤，直至反应釜内的残渣被大致清除。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及同等物界定。
Claims (1)
1.一种具有超声波清洗功能的反应釜，其特征在于，包括反应釜本体、设置在所述反应釜本体底部的超声波清洗装置、设置在所述反应釜本体顶部的第一高压清洗装置、设置在所述反应釜本体内壁上的第二高压清洗装置；
所述超声波清洗装置包括设置在所述反应釜本体底部一侧的安装座、设置在所述安装座上的超声波发生器；
所述第一高压清洗装置包括第一高压水箱、倾斜设置在所述反应釜本体顶盖一侧的清洗口、连接所述第一高压水箱并倾斜伸入所述清洗口于所述反应釜本体内的第一清洗管，在所述第一清洗管外环面于所述清洗口外端径向设置有挡环，在所述第一清洗管的末端设置有一朝搅拌杆方向喷射的第一喷嘴；
所述第二高压清洗装置包括第二高压水箱、连接所述第二高压水箱并伸入所述反应釜本体内的L型第二清洗管、若干设置在所述第二清洗管竖直部的所述反应釜本体内壁侧的第二喷嘴。
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110935688A (zh) * | 2019-12-11 | 2020-03-31 | 上海玺唐半导体科技有限公司 | 清洗方法 |
| CN113694853A (zh) * | 2021-09-04 | 2021-11-26 | 临沂宏业化工设备有限公司 | 一种带有磁力搅拌的搪玻璃容器 |
| CN114453333A (zh) * | 2021-11-17 | 2022-05-10 | 中国海洋石油集团有限公司 | Hpu储液箱清洁系统及利用上述系统的杂质检测方法 |
| CN117680457A (zh) * | 2024-02-01 | 2024-03-12 | 山东瑞辰新材料有限公司 | 一种用于不饱和聚酯树脂加工反应釜的清理系统 |
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2018
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