CN110923633A - 掩膜组件、蒸镀装置及蒸镀方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开一种掩膜组件、蒸镀装置及蒸镀方法，属于显示技术领域。掩膜组件包括掩膜框架和掩膜版，该掩膜版位于该掩膜框架上，该掩膜框架包括相对的两个框边，该掩膜版的中心能够沿水平方向在该两个框边之间移动；该掩膜版具有多个掩膜孔，该掩膜版的中心处于不同位置时该多个掩膜孔在待掩膜平面上的正投影不重叠，该不同位置沿水平方向位于该两个框边之间。本申请的掩膜组件能够在一次蒸镀工艺中蒸镀多个膜层，有助于简化确定不同膜层的厚度分布的过程。

Description

掩膜组件、蒸镀装置及蒸镀方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别涉及一种掩膜组件、蒸镀装置及蒸镀方法。

背景技术

有机发光二极管(英文：Organic Light-Emitting Diode；简称：OLED)器件是一种薄膜发光器件，包括层叠的阳极、发光功能层和阴极等膜层。在制造OLED器件时，通常采用蒸镀源配合掩膜组件形成各个膜层。为了保证各个膜层厚度的均一性，在制备OLED器件之前，通常需要调整各个蒸镀源的蒸镀厚度。

目前，对于OLED器件中的每个膜层(例如发光功能层)，将待蒸镀基板与掩膜组件贴合后，通过传送组件带动该待蒸镀基板和该掩膜组件经过用于蒸镀该膜层的蒸镀源的上方，使该蒸镀源中的蒸镀材料(例如有机发光材料)通过掩膜组件上的开口生长在该待蒸镀基板上形成相应的膜层，之后测量该膜层的厚度分布(也即是测量该膜层的多个不同位置的厚度)，根据该膜层的厚度分布调整用于蒸镀该膜层的蒸镀源的蒸镀厚度。

但是，目前针对OLED器件中的每个膜层，均需要进行一次蒸镀工艺才能确定该膜层的厚度分布，如果需要确定多个膜层的厚度分布，则需要进行多次蒸镀工艺，因此目前确定不同膜层的厚度分布的过程复杂。

发明内容

本申请提供一种掩膜组件、蒸镀装置及蒸镀方法，有助于简化确定不同膜层的厚度分布的过程。所述技术方案如下：

第一方面，提供一种掩膜组件，所述掩膜组件包括：掩膜框架和掩膜版，

所述掩膜版位于所述掩膜框架上，所述掩膜框架包括相对的两个框边，所述掩膜版的中心能够沿水平方向在所述两个框边之间移动；

所述掩膜版具有多个掩膜孔，所述掩膜版的中心处于不同位置时所述多个掩膜孔在待掩膜平面上的正投影不重叠，所述不同位置沿所述水平方向位于所述两个框边之间。

可选地，所述多个掩膜孔排布成至少两个掩膜组，每个所述掩膜组包括至少两个掩膜孔，在每个所述掩膜组中，所述至少两个掩膜孔沿第一方向阵列排布，所述至少两个掩膜组沿第二方向阵列排布，所述第一方向与所述第二方向不同。

可选地，所述至少两个掩膜组中的所述掩膜孔错开，第一掩膜组中的第一掩膜孔与第二掩膜组中的第二掩膜孔在所述第一方向上的距离为目标距离，所述第一掩膜组与所述第二掩膜组为所述至少两个掩膜组中任意相邻的两个掩膜组，所述第一掩膜孔与所述第二掩膜孔为距离最小的两个掩膜孔。

可选地，所述多个掩膜孔的形状和大小均相同，所述掩膜孔在所述第一方向上的尺寸为第一尺寸，所述掩膜孔在所述第二方向上的尺寸为第二尺寸，所述第一尺寸大于所述目标距离，任意相邻的两个所述掩膜组之间的距离等于所述第二尺寸。

可选地，所述第一尺寸与所述第二尺寸相等，任一所述掩膜组中，任意相邻的两个所述掩膜孔之间的距离d＝n×(a+s)，所述n为所述掩膜组的数量，所述a为所述第一尺寸，所述s为所述目标距离。

可选地，所述掩膜版与所述两个框边活动连接，所述两个框边包括第一框边和第二框边，所述掩膜版能够在所述两个框边之间沿所述水平方向从所述第一框边向所述第二框边传动，使所述掩膜版的中心沿所述水平方向在所述两个框边之间移动。

可选地，所述第一框边上设置有第一转轴，所述第二框边上设置有第二转轴，所述掩膜版的一端设置在所述第一转轴上且能够绕所述第一转轴展开，另一端设置在所述第二转轴上且能够绕所述第二转轴卷曲。

可选地，所述掩膜组件还包括：抑制机构和驱动机构，

所述抑制机构设置在所述第一转轴上，且与所述掩膜版的一端固定连接，所述驱动机构与所述第二转轴连接；

所述驱动机构用于驱动所述第二转轴转动，使所述掩膜版绕所述第二转轴卷曲，所述抑制机构用于在所述第二转轴转动的过程中，向所述第一转轴施加与所述第二转轴的转动方向相反的抑制力，使位于所述第一框边与所述第二框边之间的所述掩膜版张紧。

可选地，所述掩膜组件还包括：传动机构，所述传动机构分别与所述第二转轴和所述驱动机构连接，所述驱动机构用于通过所述传动机构驱动所述第二转轴转动。

可选地，所述抑制机构为发条机构，所述驱动机构为棘轮机构。

第二方面，提供一种蒸镀装置，包括至少两个蒸镀源，和，上述第一方面或第一方面的任一可选方式所述的掩膜组件。

第三方面，提供一种蒸镀方法，应用于第二方面所述的蒸镀装置，所述方法包括：

将待蒸镀基板设置在所述至少两个蒸镀源与所述掩膜组件之间，使所述至少两个蒸镀源沿从第一方向排布，所述掩膜组件包括掩膜框架和掩膜版，所述掩膜框架包括相对的两个框边，所述掩膜版具有多个掩膜孔，所述第一方向为从所述两个框边中的其中一个框边到另一个框边的方向；

控制所述掩膜版的中心处于第一位置，并控制第一蒸镀源通过所述掩膜版向所述待蒸镀基板蒸镀第一材料，得到第一膜层；

控制所述掩膜版的中心处于第二位置，并控制第二蒸镀源通过所述掩膜版向所述待蒸镀基板蒸镀第二材料，得到第二膜层，所述第一位置和所述第二位置沿所述第一方向位于所述两个框边之间，所述第一蒸镀源和所述第二蒸镀源沿所述第一方向排布，所述第二膜层与所述第一膜层同层分布且不重叠。

本申请提供的技术方案带来的有益效果是：

本申请提供的掩膜组件、蒸镀装置及蒸镀方法，掩膜组件包括掩膜框架和掩膜版，该掩膜版位于该掩膜框架上，该掩膜框架包括相对的两个框边，该掩膜版的中心能够沿水平方向在该两个框边之间移动，该掩膜版具有多个掩膜孔，该掩膜版的中心处于不同位置时该多个掩膜孔在待掩膜平面上的正投影不重叠，该不同位置沿水平方向位于该两个框边之间。由于该掩膜版的中心处于不同位置时该多个掩膜孔在待掩膜平面上的正投影不重叠，因此可以在该掩膜版的中心处于不同位置时通过该掩膜组件蒸镀多个不同膜层，该多个不同膜层不会重叠，从而可以通过一次蒸镀工艺蒸镀多个不同膜层，有助于简化确定不同膜层的厚度分布的过程。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本申请。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例所涉及的一种制造OLED器件的示意图；

图2是本申请实施例所涉及的一种OLED器件的示意图；

图3是本申请实施例提供的一种掩膜组件的结构示意图；

图4是图3所示的掩膜组件的俯视图；

图5是本申请实施例提供的一种棘轮机构的结构示意图；

图6是本申请实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图；

图7是本申请实施例提供的一种蒸镀源的结构示意图；

图8是本申请实施例提供的一种蒸镀方法的方法流程图；

图9是本申请实施例提供的一种在待蒸镀基板上形成第一膜层后的示意图；

图10是本申请实施例提供的一种在待蒸镀基板上形成第一膜层和第二膜层后的示意图；

图11是本申请实施例提供的一种在待蒸镀基板上形成多个膜层后的示意图。

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。

具体实施方式

为了使本申请的原理、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本申请保护的范围。

有机发光二极管(英文：Organic Light-Emitting Diode；简称：OLED)器件是一种利用有机半导体材料制成的薄膜发光器件，具有自发光、视角广、色彩丰富以及亮度高等特性。OLED器件形成在基板上，通常包括层叠的阳极、发光功能层和阴极等膜层，发光功能层通常采用有机电致发光材料形成，因此发光功能层又称为有机电致发光层(英文：Electroluminescence Layer；简称：EL)。其中，发光功能层可以包括沿远离阳极的方向层叠的空穴注入层(英文：HoleInjection Layer；简称：HIL)、空穴传输层(英文：HoleTransport Layer；简称：HTL)、发光层(英文：Emissive Layer；简称：EML)、电子传输层(英文：Electron Transport Layer；简称：ETL)和电子注入层(英文：Electron InjectionLayer；简称：EIL)，根据OLED器件的设计需要，上述膜层中的每个膜层可以是单层结构或多层结构。

在制造OLED器件时，通常采用蒸镀源(又称蒸发源)配合掩膜组件(例如开放掩膜版(英文：Open Mask)或普通的金属掩膜版(英文：Metal Mask))，以Inline(连续作业)的方式形成各个膜层，在大尺寸OLED器件中，通常使用开放掩膜版制造白光OLED器件后，搭配彩膜实现彩色显示。制造大尺寸OLED器件所采用的蒸镀源通常为线性蒸镀源，线性蒸镀源的长度较长，其蒸镀形成的膜层中沿线性蒸镀源的长度方向分布的膜层厚度的均一性也尤为重要，如果沿线性蒸镀源的长度方向分布的膜层厚度的均一性较差，则会导致OLED器件出现显示不良，例如，导致OLED器件亮度的均一性较差等。为了保证各个膜层厚度的均一性，在制备OLED器件之前，通常需要调整各个蒸镀源的蒸镀厚度(也即是蒸镀源所蒸镀的膜层的厚度)，而为了调整蒸镀源的蒸镀厚度，需要先采用蒸镀源形成膜层，然后测量膜层的厚度分布。

示例地，请参考图1，其示出了本申请实施例所涉及的一种制造OLED器件的示意图，如图1所示，蒸镀源1～5具有不同的蒸镀材料，在制造OLED器件时，将待蒸镀基板01与金属掩膜版02贴合在一起后，通过传送组件(图1中未示出)带动该待蒸镀基板01和金属掩膜版02整体沿方向F传送，使该待蒸镀基板01与金属掩膜版02依次经过蒸镀源1～5的上方，待蒸镀基板01与金属掩膜版02经过每个蒸镀源时，该蒸镀源中的蒸镀材料通过金属掩膜版02上的开口生长在该待蒸镀基板01上形成相应的膜层。请参考图2，其示出了本申请实施例所涉及的一种OLED器件的示意图，如图2所示，该待蒸镀基板01与金属掩膜版02依次经过蒸镀源1～蒸镀源5的上方之后，待蒸镀基板01上形成叠加的五个膜层011～015。但是，由于膜层011～015叠加，因此仅能够测量出该五个膜层叠加后的总厚度分布，而无法测量出单一膜层的厚度分布，导致无法确定各个蒸镀源的蒸镀厚度。

为了获得单一膜层的厚度分布，目前，可以仅将需要测量蒸镀厚度的蒸镀源升温并达到工艺条件，将待蒸镀基板与金属掩膜版贴合在一起后，通过传送组件带动该待蒸镀基板和金属掩膜版整体经过该蒸镀源的上方，该蒸镀源中的蒸镀材料通过金属掩膜版上的开口生长在该待蒸镀基板上形成相应的膜层。之后，测量该膜层的多个不同位置的厚度，得到该膜层的厚度分布，根据该膜层的厚度分布调整用于蒸镀该膜层的蒸镀源的蒸镀厚度。但是这样一来，如果需要获得多个膜层中每个膜层的厚度分布，则需要经过多次蒸镀工艺并反复进行上述步骤，操作过程复杂且较为耗时，效率较低。

本申请实施例提供了一种掩膜组件，该掩膜组件可以在一次蒸镀工艺中形成多个不同的单一膜层，从而无需进行多次蒸镀工艺就能够获取多个单一膜层，之后再测量各个单一膜层的厚度分布，该掩膜组件有助于简化确定多个单一膜层厚度分布的过程，本申请的详细方案请参考下述实施例的描述。

请参考图3和图4，图3是本申请实施例提供的一种掩膜组件10的结构示意图，图4是图3所示的掩膜组件10的俯视图，如图3和图4所示，该掩膜组件10包括：掩膜框架101和掩膜版102，掩膜版102位于掩膜框架101上，掩膜框架101包括相对的两个框边，掩膜版102的中心(图3和图4均未标出)能够沿水平方向在该两个框边之间移动；掩膜版102具有多个掩膜孔1021，掩膜版102的中心处于不同位置时该多个掩膜孔1021在待掩膜平面(图3和图4均未示出)上的正投影不重叠，该不同位置沿水平方向位于该两个框边之间。

如图3和图4所示，该两个框边包括第一框边1011和第二框边1012，该不同位置包括沿水平方向位于位于该第一框边1011与第二框边1012之间的第一位置和第二位置，该掩膜版102的中心处于该第一位置时该多个掩膜孔1021在待掩膜平面上的正投影与该掩膜版102的中心处于该第二位置时该多个掩膜孔1021在待掩膜平面上的正投影不重叠，该掩膜版102的中心处于该第一位置时该掩膜版102上的任一掩膜孔1021在待掩膜平面上的正投影与该掩膜版102的中心处于该第二位置时该掩膜版102上的任一掩膜孔1021在待掩膜平面上的正投影不重叠。

在本申请实施例中，待掩膜平面可以与掩膜框架101的开口面平行，由于该掩膜版102的中心处于不同位置时该多个掩膜孔1021在待掩膜平面上的正投影不重叠，因此可以在该掩膜版102的中心处于不同位置，通过该掩膜组件10形成多个不同膜层，该多个不同膜层不会重叠，例如，在掩膜版102的中心处于该第一位置时通过该掩膜组件10形成第一膜层，在掩膜版102的中心处于该第二位置时通过该掩膜组件10形成第二膜层，该第一膜层与第二膜层不重叠，这样一来，可以通过一次蒸镀工艺形成多个不同的单一膜层。

综上所述，本申请实施例提供的掩膜组件，该掩膜组件包括掩膜框架和掩膜版，该掩膜版具有多个掩膜孔，该掩膜版的中心处于不同位置时该多个掩膜孔在待掩膜平面上的正投影不重叠，因此可以在该掩膜版的中心处于不同位置时通过该掩膜组件蒸镀多个不同膜层，该多个不同膜层不会重叠，从而可以通过一次蒸镀工艺蒸镀多个不同膜层，有助于简化确定不同膜层的厚度分布的过程。

可选地，在本申请实施例中，掩膜框架101可以是开放掩膜版或普通的金属掩膜版，该普通的金属掩膜版指的是相对于精细金属掩膜版(英文：Fine Metal Mask)而言，精度较低的金属掩膜版。

可选地，在该掩膜版102中，多个掩膜孔1021排布成至少两个掩膜组Z，每个掩膜组Z包括至少两个掩膜孔1021，在每个掩膜组Z中，该至少两个掩膜孔1021沿第一方向x阵列排布，该至少两个掩膜组沿第二方向y阵列排布，该第一方向x与该第二方向y不同。可选地，该第一方向x与该第二方向y垂直，该第一方向x可以为行方向。如图4所示，在该掩膜版102中多个掩膜孔1021排布成5个掩膜组Z，每个掩膜组Z中的至少两个掩膜孔1021沿第一方向x均匀排布，该至少两个掩膜组沿第二方向y均匀排布。需要说明的是，在本申请实施例中，至少两个掩膜组Z中的掩膜孔1021的数量可以相等，也可以不相等，本申请实施例对此不做限定。

可选地，该至少两个掩膜组Z中的掩膜孔1021错开，第一掩膜组中的第一掩膜孔与第二掩膜组中的第二掩膜孔在所述第一方向上的距离为目标距离s，第一掩膜组与第二掩膜组为至少两个掩膜组Z1中任意相邻的两个掩膜组，第一掩膜孔和第二掩膜孔为距离最小的两个掩膜孔1021。如图4所示，该至少两个掩膜组Z中的掩膜孔1021在第一方向x上沿同一方向错开。

可选地，多个掩膜孔1021的形状和大小均相同，每个掩膜孔1021在第一方向x上的尺寸为第一尺寸a，在第二方向y上的尺寸为第二尺寸b，第一尺寸a大于目标距离s，任意相邻的两个掩膜组Z之间的距离c等于第二尺寸b。需要说明的是，本申请实施例是以任意相邻的两个掩膜组Z之间的距离c等于第二尺寸b为例说明的，该距离c也可以小于或大于该第二尺寸b，通常情况下，该距离c在该第二尺寸b左右，也即是，该距离c与该第二尺寸b的差值可以小于预设阈值，本申请实施例对此不做限定。

可选地，第一尺寸a与第二尺寸b相等，任一掩膜组Z中，任意相邻的两个掩膜孔1021之间的距离d＝n×(a+s)，n为该至少两个掩膜组Z的数量，a为第一尺寸，s为目标距离。示例地，如图4所示，该掩膜版102上的多个掩膜孔1021排布形成5个掩膜组Z，则任一掩膜组Z中任意相邻的两个掩膜孔1021之间的距离d＝5×(a+s)，在本申请实施例中，该至少两个掩膜组Z的数量可以等于使用该掩膜组件10蒸镀时，一次蒸镀工艺所能形成的单一膜层的数量。可选地，如图4所示，每个掩膜孔1021的形状为正方形，容易理解，该图4示出的掩膜孔1021仅仅是示例性的，实际应用中，该掩膜孔1021的形状还可以是圆形、长方形或六边形等任意的形状，本申请实施例对此不做限定。

可选地，掩膜版102与掩膜框架的上述两个框边活动连接，如前所述，该两个框边包括第一框边1011和第二框边1012，在本申请实施例中，该掩膜版1021能够在该两个框边之间沿水平方向从第一框边1011向第二框边1012传动，使该掩膜版102的中心沿水平方向在该两个框边之间移动。

可选地，如图3和图4所示，第一框边1011上设置有第一转轴103，第二框边1012上设置有第二转轴104，该掩膜版102的一端设置在该第一转轴103上且能够绕该第一转轴103展开，另一端设置在该第二转轴104上且能够绕该第二转轴104卷曲。可选地，该掩膜版102的一端缠绕在该第一转轴103上，另一端缠绕在该第二转轴104上，实际使用时，可以控制第一转轴103和第二转轴104转动，使第二转轴104带动掩膜版102绕第二转轴104卷曲，同时第一转轴103带动掩膜版102绕该第一转轴103展开，从而使该掩膜版1021在该两个框边之间沿水平方向从第一框边1011向第二框边1012传动。

可选地，如图3和图4所示，该掩膜组件10还包括：抑制机构105和驱动机构106，该抑制机构105设置在第一转轴103上且与该掩膜版102的一端固定连接，该驱动机构106与第二转轴104连接；该驱动机构106用于驱动该第二转轴104转动，使该掩膜版102绕该第二转轴卷曲，该抑制机构105用于在第二转轴104转动的过程中，向第一转轴103施加与第二转轴104的转动方向相反的抑制力，使位于第一框边1011与第二框边1012之间的掩膜版102张紧。

可选地，如图3和图4所示，该掩膜组件还包括：传动机构107，该传动机构107分别与第二转轴104和驱动机构106连接，该驱动机构106用于通过该传动机构107驱动该第二转轴104转动。也即是，该驱动机构106驱动该传动机构107传动，在该驱动机构106的作用下，该传动机构107带动该第二转轴104转动，使掩膜版1021在沿水平方向从第一框边1011向第二框边1012传动。

可选地，该抑制机构105可以为发条机构。该发条机构可以包括旋涡弹簧(也即是呈旋涡状的弹簧)，该旋涡弹簧的一端可以与第一转轴103固定连接，另一端可以与掩膜版102固定连接。

可选地，该驱动机构106可以为棘轮机构。请参考图5，其示出了本申请实施例提供的一种棘轮机构的示意图，该棘轮机构包括棘轮1061、棘轮轴1062、驱动棘爪1063、止回棘爪1064、摇杆1065和触发件1066，棘轮1061具有棘轮齿，棘轮轴1062固定设置在棘轮1061上，该驱动棘爪1063和止回棘爪1064分别与该摇杆1065铰接，该触发件1066与该摇杆1065连接。该触发件1066可以驱动摇杆1065摆动，当该触发件1066驱动该摇杆1065按照逆时针方向摆动时，该驱动棘爪1063插入棘轮齿以推动棘轮1061按照逆时针方向转动，当该触发件1066驱动该摇杆1065按照顺时针方向摆动时，该驱动棘爪1063在棘轮1061上滑过，棘轮1061停止转动，止回棘爪1064卡入棘轮齿避免棘轮1061反转。在本申请实施例中，当该驱动机构106为该图5所示的棘轮机构时，该棘轮轴1062可以与传动机构107连接，以便于在摇杆1065摆动的过程，通过棘轮轴1062向该传动机构107传递驱动力。

可选地，传动机构107可以包括齿合的第一传动齿轮和第二传动齿轮，该第一传动齿轮和该第二传动齿轮均具有转轴孔，该棘轮机构的棘轮轴1062可以插入该第一传动齿轮的转轴孔并与该第一传动齿轮固定连接，掩膜组件10中的第二转轴104可以插入该第二传动齿轮的转轴孔并与该第二传动齿轮固定连接，这样一来，在摇杆1065摆动的过程，通过棘轮轴1062向该传动机构107的第一传动齿传递驱动力，该驱动力通过第二传动齿传传递至第二转轴104，驱动该第二转轴104转动。

综上所述，本申请实施例提供的掩膜组件，该掩膜组件包括掩膜框架和掩膜版，该掩膜版具有多个掩膜孔，该掩膜版的中心处于不同位置时该多个掩膜孔在待掩膜平面上的正投影不重叠，因此可以在该掩膜版的中心处于不同位置时通过该掩膜组件蒸镀多个不同膜层，该多个不同膜层不会重叠，从而可以通过一次蒸镀工艺蒸镀多个不同膜层，有助于简化确定不同膜层的厚度分布的过程。

基于同样的发明构思，本申请实施例还提供了一种蒸镀装置，该蒸镀装置可以包括至少两个蒸镀源以及上述实施例提供的掩膜组件10。

示例地，请参考图6，其示出了本申请实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图，如图6所示，该蒸镀装置包括至少两个蒸镀源以及上述实施例提供的掩膜组件10，该至少两个蒸镀源沿第一方向x排布，该掩膜组件10位于该至少两个蒸镀源的上方。如图6所示，本申请实施例以该蒸镀装置包括沿第一方向x排布的蒸镀源20～50为例进行说明。

可选地，该至少两个蒸镀源的结构可以相同或不同，本申请实施例以该至少两个蒸镀源的结构相同为例说明。示例地，请参考图7，其示出了本申请实施例提供的一种蒸镀源20的结构示意图，该蒸镀源20可以是线性蒸镀源，包括蒸镀源本体201以及设置在该蒸镀源本体201上的多个喷嘴(英文：nozzle)202，该多个喷嘴202沿该蒸镀源20的长度方向(图7中未标出)阵列排布，该蒸镀源本体201中具有材料容纳室，该多个喷嘴202分别与该材料容纳室连通，当该蒸镀源20满足蒸镀条件(例如材料容纳室内的温度达到蒸镀温度)时，该材料容纳室中的蒸镀材料从该多个喷嘴202喷射出，以进行蒸镀。

需要说明的是，本申请实施例是以蒸镀源20为例描述的，蒸镀源30～50的结构可以参考图7，本申请实施例在此不再赘述。此外，本领域技术人员应该明白，不同蒸镀源中的材料通常不同，该不同蒸镀源可以用于形成不同膜层，图6所示的蒸镀装置仅仅是示例性的，实际应用中，可以根据需要配置蒸镀源的数量，并且该蒸镀装置还可以包括传送组件等结构，本申请实施例对此不做限定。

综上所述，本申请实施例提供的蒸镀装置，该掩膜装置的掩膜组件包括掩膜框架和掩膜版，该掩膜版具有多个掩膜孔，该掩膜版的中心处于不同位置时该多个掩膜孔在待掩膜平面上的正投影不重叠，因此可以在该掩膜版的中心处于不同位置时通过该掩膜组件蒸镀多个不同膜层，该多个不同膜层不会重叠，从而可以通过一次蒸镀工艺蒸镀多个不同膜层，有助于简化确定不同膜层的厚度分布的过程。

本申请实施例提供的蒸镀装置可以应用于下文的方法，本申请实施例中蒸镀方法可以参见下文各实施例中的描述。

请参考图8，其示出了本申请实施例提供的一种蒸镀方法的方法流程图，该蒸镀方法可以应用于上述蒸镀装置，参见图8，该方法可以包括如下步骤：

步骤801、将待蒸镀基板设置在至少两个蒸镀源与掩膜组件之间，使该至少两个蒸镀源沿从第一方向排布，该掩膜组件包括掩膜框架和掩膜版，该掩膜框架包括相对的两个框边，该掩膜版具有多个掩膜孔，第一方向为从该两个框边中的其中一个框边到另一个框边的方向。

如前所述，在本申请实施例中，掩膜组件包括掩膜框架和掩膜版，该掩膜版位于该掩膜框架上，该掩膜框架包括相对的两个框边，该掩膜版具有多个掩膜孔。可选地，可以将待蒸镀基板与该掩膜组件的掩膜版贴合，然后将该待蒸镀基板和该掩膜组件构成的整体设置在该至少两个蒸镀源的上方，使该待蒸镀基板位于该至少两个蒸镀源与该掩膜组件之间。

可选地，该蒸镀装置还可以包括位于该至少两个蒸镀源上方的传送组件，可以通过该传送组件将该待蒸镀基板和该掩膜组件构成的整体设置在该至少两个蒸镀源的上方。也即是，将该待蒸镀基板和该掩膜组件构成的整体设置在传送组件上。

步骤802、控制该掩膜版的中心处于第一位置，并控制第一蒸镀源通过该掩膜版向待蒸镀基板蒸镀第一材料，得到第一膜层。

如前所述，在本申请实施例中，掩膜版的中心能够沿水平方向在掩膜框架的两个框边之间移动，因此可以控制掩膜版的中心沿水平方向在掩膜框架的两个框边之间移动至该第一位置，之后通过传送组件将该待蒸镀基板和该掩膜组件构成的整体传送至第一蒸镀源上方，控制该第一蒸镀源通过该掩膜版向待蒸镀基板蒸镀第一材料，该第一材料通过掩膜版上的掩膜孔生长在该待蒸镀基板上得到第一膜层。

可选地，掩膜框架的上述两个框边包括第一框边和第二框边，第一框边上设置有第一转轴，第二框边上设置有第二转轴，该掩膜版的一端设置在该第一转轴上，另一端设置在该第二转轴上，该掩膜组件还包括抑制机构、驱动机构和传动机构，控制掩膜版的中心沿水平方向在掩膜框架的两个框边之间移动至该第一位置可以包括：控制驱动机构通过传动机构驱动第二转轴转动，使该掩膜版绕该第二转轴卷曲，在此过程中，控制抑制机构向第一转轴施加抑制力，使掩膜版的中心沿水平方向移动至该第一位置并且位于第一框边与第二框边之间的掩膜版张紧。

可选地，控制第一蒸镀源通过该掩膜版向待蒸镀基板蒸镀第一材料可以包括：将该第一蒸镀源加热升温，使该第一蒸镀源中的第一材料通过该第一蒸镀源的喷嘴射出至待蒸镀基板，该第一材料生长在该待蒸镀基板上形成第一膜层。

示例地，请参考图9，其示出了本申请实施例提供的一种在待蒸镀基板70上形成第一膜层701后的示意图，如图9所示，该第一膜层701包括多个膜层区域，该多个膜层区域均匀分布在该待蒸镀基板70上，每个膜层区域对应掩膜版上的一个蒸镀孔。

步骤803、控制该掩膜版的中心处于第二位置，并控制第二蒸镀源通过该掩膜版向待蒸镀基板蒸镀第二材料，得到第二膜层，第一位置和第二位置沿第一方向位于两个框边之间，第一蒸镀源和第二蒸镀源沿第一方向排布，该第二膜层与第一膜层同层分布且不重叠。

可选地，可以控制掩膜版的中心沿水平方向在掩膜框架的两个框边之间移动至该第二位置，该第二位置与第一位置不同，该第一位置和第二位置沿第一方向位于两个框边之间，之后，通过传送组件将该待蒸镀基板和该掩膜组件构成的整体传送至第二蒸镀源上方，控制该第二蒸镀源通过该掩膜版向待蒸镀基板蒸镀第二材料，该第二材料通过掩膜版上的掩膜孔生长在该待蒸镀基板上得到第二膜层。

可选地，控制掩膜版的中心沿水平方向在掩膜框架的两个框边之间移动至该第二位置可以包括：控制驱动机构通过传动机构驱动第二转轴转动，使该掩膜版绕该第二转轴卷曲，在此过程中，控制抑制机构向第一转轴施加抑制力，使掩膜版的中心移动至该第二位置并且位于第一框边与第二框边之间的掩膜版张紧。

可选地，控制第二蒸镀源通过该掩膜版向待蒸镀基板蒸镀第二材料可以包括：将该第二蒸镀源加热升温，使该第二蒸镀源中的第二材料通过该第二蒸镀源的喷嘴射出至待蒸镀基板，该第二材料生长在该待蒸镀基板上形成第二膜层。

示例地，请参考图10，其示出了本申请实施例提供的一种在待蒸镀基板70上形成第一膜层701和第二膜层702后的示意图，如图10所示，该第一膜层701和该第二膜层702中的每个膜层包括多个膜层区域，该第一膜层701的多个膜层区域均匀分布在该待蒸镀基板70上，该第一膜层701的每个膜层区域对应掩膜版上的一个蒸镀孔，该第二膜层702的多个膜层区域均匀分布在该待蒸镀基板70上，该第二膜层702的每个膜层区域对应掩膜版上的一个蒸镀孔。

需要说明的是，在执行该步骤803之后，还可以控制该掩膜版的中心处于第三位置，控制第三蒸镀源通过该掩膜版向待蒸镀基板蒸镀第三材料得到第三膜层，控制该掩膜版的中心处于第四位置，控制第四蒸镀源通过该掩膜版向待蒸镀基板蒸镀第四材料得到第四膜层，控制该掩膜版的中心处于第五位置，控制第五蒸镀源通过该掩膜版向待蒸镀基板蒸镀第五材料得到第五膜层。其中，第一位置、第二位置、第三位置、第四位置和第五位置沿第一方向位于两个框边之间，第一位置与第二位置之间的距离，第二位置与第三位置之间的距离，第三位置与第四位置之间的距离，以及，第四位置与第五位置之间的距离均可以等于a+s，a为掩膜孔在第一方向x上的尺寸为第一尺寸，s为目标距离。第一蒸镀源、第二蒸镀源、第三蒸镀源、第四蒸镀源和第五蒸镀源沿第一方向排布，第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层和第五膜层同层分布且不重叠。示例地，请参考图11，其示出了本申请提供的一种在待蒸镀基板70上形成第一膜层701、第二膜层702、第三膜层703、第四膜层704和第五膜层705后的示意图，如图11所示，该第一膜层701、该第二膜层702、该第三膜层703、该第四膜层704和该第五膜层705中的每个膜层包括多个膜层区域，该第一膜层701的多个膜层区域均匀分布在该待蒸镀基板70上，该第一膜层701的每个膜层区域对应掩膜版上的一个蒸镀孔，该第二膜层702的多个膜层区域均匀分布在该待蒸镀基板70上，该第二膜层702的每个膜层区域对应掩膜版上的一个蒸镀孔，该第三膜层703的多个膜层区域均匀分布在该待蒸镀基板70上，该第三膜层703的每个膜层区域对应掩膜版上的一个蒸镀孔，该第四膜层704的多个膜层区域均匀分布在该待蒸镀基板70上，该第四膜层704的每个膜层区域对应掩膜版上的一个蒸镀孔，该第五膜层705的多个膜层区域均匀分布在该待蒸镀基板70上，该第五膜层705的每个膜层区域对应掩膜版上的一个蒸镀孔。需要说明的是，上述第一位置、第二位置、第三位置、第四位置和第五位置均可以是掩膜版的中心相对于掩膜框架的位置，而并非是该掩膜版的中心的绝对位置。

本申请实施例中，通过设置能够相对掩膜框架移动的掩膜版，使得可以在同一次蒸镀工艺中形成同层分布的多个膜层，之后可以采用厚度测量仪(例如光学测量仪)从每个膜层的不同位置测量该膜层的厚度，针对各个蒸镀源的每个喷嘴，均有可以测量的膜层区域，因此可以得到每个膜层的厚度分布，根据每个膜层的厚度分布确定相应的蒸镀源的蒸镀厚度，本申请实施例可以达到一次测量多个膜层的厚度分布的效果，简化确定不同膜层的厚度分布的过程，缩短确定不同膜层的厚度分布的时长，提高生产效率。

综上所述，本申请实施例提供的蒸镀方法，在掩膜版的中心处于第一位置时，控制第一蒸镀源通过该掩膜版向待蒸镀基板蒸镀第一材料得到第一膜层，在掩膜版的中心处于第二位置时，控制第二蒸镀源通过该掩膜版向待蒸镀基板蒸镀第二材料得到第二膜层，第一位置和第二位置沿第一方向位于掩膜框架的两个框边之间，第一蒸镀源和第二蒸镀源沿第一方向排布，该第二膜层与第一膜层同层分布且不重叠。由于通过一次蒸镀工艺形成的第二膜层与第一膜层同层分布且不重叠，因此可以通过一次蒸镀工艺蒸镀多个不同膜层，有助于简化确定不同膜层的厚度分布的过程。

在本申请实施例中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上，除非另有明确的限定。

本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分步骤可以通过硬件来完成，也可以通过程序来指令相关的硬件完成，所述的程序可以存储于一种计算机可读存储介质中，上述提到的存储介质可以是只读存储器，磁盘或光盘等。

以上所述仅为本申请的示例性实施例，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (12)

1.一种掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件包括：掩膜框架和掩膜版，

所述掩膜版位于所述掩膜框架上，所述掩膜框架包括相对的两个框边，所述掩膜版的中心能够沿水平方向在所述两个框边之间移动；

所述掩膜版具有多个掩膜孔，所述掩膜版的中心处于不同位置时所述多个掩膜孔在待掩膜平面上的正投影不重叠，所述不同位置沿所述水平方向位于所述两个框边之间。

2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，

所述多个掩膜孔排布成至少两个掩膜组，每个所述掩膜组包括至少两个掩膜孔，在每个所述掩膜组中，所述至少两个掩膜孔沿第一方向阵列排布，所述至少两个掩膜组沿第二方向阵列排布，所述第一方向与所述第二方向不同。

3.根据权利要求2所述的掩膜组件，其特征在于，

所述至少两个掩膜组中的所述掩膜孔错开，第一掩膜组中的第一掩膜孔与第二掩膜组中的第二掩膜孔在所述第一方向上的距离为目标距离，所述第一掩膜组与所述第二掩膜组为所述至少两个掩膜组中任意相邻的两个掩膜组，所述第一掩膜孔与所述第二掩膜孔为距离最小的两个掩膜孔。

4.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，

所述多个掩膜孔的形状和大小均相同，所述掩膜孔在所述第一方向上的尺寸为第一尺寸，在所述第二方向上的尺寸为第二尺寸，所述第一尺寸大于所述目标距离，任意相邻的两个所述掩膜组之间的距离等于所述第二尺寸。

5.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，

所述第一尺寸与所述第二尺寸相等，任一所述掩膜组中，任意相邻的两个所述掩膜孔之间的距离d＝n×(a+s)，所述n为所述掩膜组的数量，所述a为所述第一尺寸，所述s为所述目标距离。

6.根据权利要求1至5任一所述的掩膜组件，其特征在于，

所述掩膜版与所述两个框边活动连接，所述两个框边包括第一框边和第二框边，所述掩膜版能够在所述两个框边之间沿所述水平方向从所述第一框边向所述第二框边传动，使所述掩膜版的中心沿所述水平方向在所述两个框边之间移动。

7.根据权利要求6所述的掩膜组件，其特征在于，

所述第一框边上设置有第一转轴，所述第二框边上设置有第二转轴，所述掩膜版的一端设置在所述第一转轴上且能够绕所述第一转轴展开，另一端设置在所述第二转轴上且能够绕所述第二转轴卷曲。

8.根据权利要求7所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件还包括：抑制机构和驱动机构，

所述抑制机构设置在所述第一转轴上，且与所述掩膜版的一端固定连接，所述驱动机构与所述第二转轴连接；

所述驱动机构用于驱动所述第二转轴转动，使所述掩膜版绕所述第二转轴卷曲，所述抑制机构用于在所述第二转轴转动的过程中，向所述第一转轴施加与所述第二转轴的转动方向相反的抑制力，使位于所述第一框边与所述第二框边之间的所述掩膜版张紧。

9.根据权利要求8所述的掩膜组件，其特征在于，

所述掩膜组件还包括：传动机构，所述传动机构分别与所述第二转轴和所述驱动机构连接，所述驱动机构用于通过所述传动机构驱动所述第二转轴转动。

10.根据权利要求9所述的掩膜组件，其特征在于，

所述抑制机构为发条机构，所述驱动机构为棘轮机构。

11.一种蒸镀装置，其特征在于，包括至少两个蒸镀源和权利要求1至10任一所述的掩膜组件。

12.一种蒸镀方法，其特征在于，应用于权利要求11所述的蒸镀装置，所述方法包括：

将待蒸镀基板设置在所述至少两个蒸镀源与所述掩膜组件之间，使所述至少两个蒸镀源沿从第一方向排布，所述掩膜组件包括掩膜框架和掩膜版，所述掩膜框架包括相对的两个框边，所述掩膜版具有多个掩膜孔，所述第一方向为从所述两个框边中的其中一个框边到另一个框边的方向；

控制所述掩膜版的中心处于第一位置，并控制第一蒸镀源通过所述掩膜版向所述待蒸镀基板蒸镀第一材料，得到第一膜层；

控制所述掩膜版的中心处于第二位置，并控制第二蒸镀源通过所述掩膜版向所述待蒸镀基板蒸镀第二材料，得到第二膜层，所述第一位置和所述第二位置沿所述第一方向位于所述两个框边之间，所述第一蒸镀源和所述第二蒸镀源沿所述第一方向排布，所述第二膜层与所述第一膜层同层分布且不重叠。

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