CN115058685A - 掩模版组件及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种掩模版组件及其制造方法。该掩模版组件，包括：框架、以及依次堆叠于框架上的第一掩膜件和第二掩膜件，沿第一方向，第一掩膜件的两端和第二掩膜件的两端分别固定于框架上，沿掩膜版组件的厚度的第二方向，第二掩膜件的侧边区域在第一掩膜件上存在正投影区域，其中，第一方向和所述第二方向相互垂直，从而第一掩膜件可以用于在蒸镀过程中受磁场作用朝靠近第二掩膜件的方向形变、以支撑抵接第二掩膜件的侧边区域。本申请实施例解决了现有技术存在的由于蒸镀工艺引起的边缘混色问题。

Description

掩模版组件及其制造方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体而言，本申请涉及一种掩模版组件及其制造方法。

背景技术

掩模版组件是蒸镀工艺段必需的核心部件，蒸镀时必须使用掩模版(例如，精密金属掩膜版)才能将不同的发光材料蒸镀在玻璃基板上特定的位置上，从而制作出显示面板。蒸镀过程中被加热蒸发成气体的有机物蒸镀到基板上时，会发生有机物图案相互重叠的区间，即Shadow，Shadow会受蒸镀工艺的影响而增大，严重时Shadow会覆盖到相邻子像素上，从而导致子像素显色异常，这种不良被称为混色。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种掩模版组件及其制造方法，用以解决现有技术存在的由于蒸镀工艺引起的边缘混色问题。

第一个方面，本申请实施例提供了一种掩模版组件，包括：框架、以及依次堆叠于所述框架上的第一掩膜件和第二掩膜件，所述第二掩膜件包括构成用于蒸镀发光结构的图形区；所述第一掩膜件和所述第二掩膜件均为长条状且均沿第一方向延伸，沿所述第一方向，所述第一掩膜件的两端和所述第二掩膜件的两端分别固定于所述框架上；沿所述掩膜版组件的厚度的第二方向，所述第二掩膜件的侧边区域在所述第一掩膜件上存在正投影区域，所述第一掩膜件用于在蒸镀过程中受磁场作用朝靠近所述第二掩膜件的方向形变、以支撑抵接所述第二掩膜件的侧边区域；所述第一方向和所述第二方向相互垂直。

第二个方面，本申请实施例提供了一种模版组件的制造方法，包括：定位并拉伸支撑层，并将所述支撑层的第一连接部固定于所述框架上；定位并拉伸第一掩膜件，使得所述第一掩膜件的中间部位于所述支撑层的主体区的支持结构的容纳槽内，并使得所述第一掩膜件的第二连接部位于所述框架的第一连接槽内，将所述第二连接部固定于所述第一连接槽内；定位并拉伸第二掩膜件，使得沿所述掩膜版组件的厚度的所述第二方向，所述第二掩膜件的侧边区域在所述第一掩膜件上存在正投影区域，将所述第二掩膜件的两端固定于所述框架上，得到所述掩模版组件。

本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：通过在第二掩膜件和框架之间增设第一掩膜件，并且沿掩膜版组件的厚度的第二方向，第二掩膜件的侧边区域在第一掩膜件上存在正投影区域，使得在蒸镀过程中，第一掩膜件受磁场作用朝靠近第二掩膜件的方向形变、以支撑抵接第二掩膜件的侧边区域，从而能够起到对第二掩膜件的侧边区域的固定作用，能够避免第二掩膜件的侧边区域向中间隆起形成褶皱，能够提高在蒸镀过程中第二掩膜件与玻璃基板的贴合状况，能够减小被加热蒸发成气体的发光材料蒸镀到玻璃基板上时形成的发光图案相互重叠的几率，能够改善显示面板的边缘混色问题。

本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为本申请实施例提供的一种掩模版组件的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的一种框架的结构示意图；

图3为图2中A处的局部放大图；

图4为本申请实施例提供的一种支撑层的结构示意图；

图5为图4中B处的局部放大图；

图6为本申请实施例提供的一种第一掩膜件的结构示意图；

图7为本申请实施例提供的一种第二掩膜件的结构示意图；

图8为图1所示掩模版组件的焊接区沿第三方向的截面图；

图9为图1所示掩模版组件的容纳槽所在位置的截面图；

图10为本申请实施例提供的另一种掩模版组件的结构示意图；

图11为本申请实施例提供的另一种框架的结构示意图；

图12为本申请实施例提供的另一种支撑层的结构示意图；

图13为图12中C处的局部放大图；

图14为本申请实施例提供的一种掩模版组件的制造方法的流程图。

附图标记说明：

X-第一方向；Z-第二方向；Y-第三方向；

11-框架；111-框体结构；112-凸台结构；112a-第一区域；

12-第一掩膜件；121-中间部；122-第二连接部；

13-第二掩膜件；131-图形区；132-侧边区域；133-第三连接部；

14-支撑层；141-主体区；1411-支撑结构；1411a-第一支撑条；1411b-第二支撑条；1412-镂空区域；1413-开口；142-第一连接部；

20-第一连接槽；30-第二连接槽；40-容纳槽；

h-第一连接槽20的槽深；H-第二连接槽30的槽深。

具体实施方式

下面结合本申请中的附图描述本申请的实施例。应理解，下面结合附图所阐述的实施方式，是用于解释本申请实施例的技术方案的示例性描述，对本申请实施例的技术方案不构成限制。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除实现为本技术领域所支持其他特征、信息、数据、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合等。这里使用的术语“和/或”指该术语所限定的项目中的至少一个，例如“A和/或B”可以实现为“A”，或者实现为“B”，或者实现为“A和B”。

为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。

本申请的发明人进行研究发现，蒸镀工艺中对Shadow影响最大因素的就是掩膜版(例如，精密金属掩膜版，即FMM，Fine Metal Mask)与玻璃基板之间的贴合间隙。为了减小精密金属掩膜版与玻璃基板之间的贴合间隙，高精度的蒸镀设备均配备有磁板，磁板位于玻璃基板的背面，蒸镀时玻璃基板正面与精密金属掩膜版直接接触，在玻璃基板背部的磁板的磁力作用下使精密金属掩膜版与玻璃基板紧密贴合，从而达到减小精密掩模与玻璃基板之间的贴合间隙的目的。

但是，掩膜版在磁力的作用下容易产生褶皱，尤其是对于精密金属掩膜版，由于精密金属掩膜版为一种网状薄模结构，柔性较大，在磁力的作用下更容易产生褶皱，这种褶皱在精密金属掩膜版的非焊接侧尤为严重，从而使精密金属掩膜版与玻璃基板无法紧密贴合，从而产生边缘混色。

本申请提供的掩模版组件及其制造方法，旨在解决现有技术的如上技术问题。

下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。需要指出的是，下述实施方式之间可以相互参考、借鉴或结合，对于不同实施方式中相同的术语、相似的特征以及相似的实施步骤等，不再重复描述。

本申请实施例提供了一种掩模版组件，如图1、图10所示，可以包括：框架11、以及依次堆叠于框架11上的第一掩膜件12和第二掩膜件13，第二掩膜件13可以包括构成用于蒸镀发光结构的图形区。

第一掩膜件12和第二掩膜件13可以均为长条状且均沿第一方向X延伸，沿第一方向X，第一掩膜件12的两端和第二掩膜件13的两端分别固定于框架11上。

沿掩膜版组件的厚度的第二方向Z，第二掩膜件13的侧边区域132在第一掩膜件12上存在正投影区域，第一掩膜件12用于在蒸镀过程中受磁场作用朝靠近第二掩膜件13的方向形变、以支撑抵接第二掩膜件13的侧边区域132，其中，第一方向X和第二方向Z相互垂直。

也就是说，第一掩膜件12位于框架11与第二掩膜件13之间，第二掩膜件13位于掩模版组件的最上层，第一掩膜件12的中间段与第二掩膜件13的边缘存在重叠区域，重叠区域内第一掩膜件12朝远离框架11的一侧支撑抵接第二掩膜件13，从而在使用过程中第二掩膜件13能够与玻璃基板贴合。

在蒸镀工艺中，高精度的蒸镀设备均配备有磁板，蒸镀时，磁板位于玻璃基板的背面，掩模版组件位于玻璃基板的正面，并且玻璃基板位于掩模版组件靠近第二掩膜件13一侧(具体的，可以与第二掩膜件13直接接触)，在玻璃基板背部的磁板的磁力作用下，第一掩膜件12的中间段可以在磁力作用下朝向第二掩膜一侧形变、以支撑抵接第二掩膜件13的侧边区域132，使第二掩膜件13与玻璃基板紧密贴合，从而减小精密掩模与玻璃基板之间的贴合间隙，避免第二掩膜件13的侧边区域132向中间隆起形成褶皱。

其中，第二掩膜件13可以为精密金属掩膜版，第一掩膜件12可以为支撑掩模，第一掩膜件12用于支撑抵接第二掩膜件13，第一掩膜件12与第二掩膜件13可以均为长条状结构，长度方向一致。

实际应用中，掩模版组件还可以包括支撑层14。如图4至图5所示，支撑层14可以包括主体区141、以及设置于主体区141周侧的多个第一连接部142。第一连接部142固定于框架11上。主体区141包括支撑结构1411和多个镂空区域1412，镂空区域1412与第二掩膜件13的图形区相匹配，第二掩膜件13的图形区包括蒸镀所需精密图案。

可选的，参见图2至图6，支撑结构1411上可以设置有容纳槽40(即，减薄区)，框架11上设置有第一连接槽20，第一掩膜件12包括中间部121、以及位于中间部121两端的第二连接部122，中间部121位于容纳槽40内，第二连接部122固定于第一连接槽20内。

其中，容纳槽40的槽深可以与第一连接槽20的槽深h相同，此时，中间部121的厚度可以与第二连接部122的厚度相同，即，第一掩膜件12为等厚的条状结构，从而制作更加方便。

具体的说，参见图4、图7，支撑结构1411可以包括沿第一方向X延伸的第一支撑条1411a、以及沿第三方向Y延伸并连接相邻的第一支撑条1411a的第二支撑条1411b，容纳槽40开设于第一支撑条1411a上。沿第二方向Z，第二掩膜件13的侧边区域132在第一支撑条1411a上存在正投影区域，第二支撑条1411b在第二掩膜件13上的正投影位于第二掩膜件13的图形区131内。

也就是说，支撑层14为网状结构，其中，支撑结构1411(即，实体部分)包括横向(第三方向Y)延伸的的第二支撑条1411b、以及纵向(第一方向X)延伸的第一支撑条1411a，第一支撑条1411a和第二支撑条1411b之间形成镂空区域1412，减薄区(容纳槽40)分布在镂空区域1412周边的第一支撑条1411a上，减薄区为下沉槽结构，第一掩膜件12的中间部121分安装于减薄区内。

如图5、图6所示，第一掩膜件12可以为两端窄中间宽的结构，即，中间部121较宽，第二连接部122较窄，从而更加便于第一掩膜件12的安装固定。可选地，容纳槽40的两端可以设置为梯形，中间部121的两端也可以设置为梯形，即，中间部121两端的宽度(沿第三方向Y的尺寸)逐渐减小，从而能够避免中间部121与第二连接部122的连接处易断的问题。

在一可行的实施例中，容纳槽40的槽深可以不小于中间部121的厚度，从而能够避免中间部121突出于容纳槽40之外、而干涉第二掩膜件13的安装固定。

在一些实施例中，容纳槽40的槽深可以比中间部121的厚度大0.001毫米至0.05毫米。如此设置，既能保证中间部121受到较小的磁力作用即可达到支撑抵接第二掩膜件13的作用，又可以避免因工艺误差导致中间部121突出于容纳槽40之外、而干涉第二掩膜件13的安装固定。

可选的，如图2、图3所示，框架11上可以设置有第二连接槽30，至少部分第一连接槽20的相对两侧可以均设置有第二连接槽30，支撑层的第一连接部固定于第二连接槽30内。

具体的说，如图7、图2所示，第二掩膜件13还可以包括设置于图形区131相对两侧的侧边区域132、以及连接相邻侧边区域132的第三连接部133，框架11可以包括框体结构111、以及位于框体结构111上的凸台结构112，第三连接部133固定于凸台结构112的第一区域112a上，第一连接槽20和第二连接槽30均设置于凸台结构112的第二区域上。

也就是说，凸台结构112的部分区域设置有第一连接槽20和第二连接槽30以分别用于固定第一掩膜件12和支撑层14，凸台结构112的另一部分区域(第一区域112a)用于固定第二掩膜件13。

本实施例中，继续参见图7，第二掩膜件13可以为各处宽度相等的结构，即，侧边区域132和图形区131组成的部分与第三连接部133等宽。当然，第三连接部133的宽度也可以大于或小于侧边区域132和图形区131组成的部分的宽度，均可以实现类似的技术效果，此处不做限定。

具体的，支撑层14、第一掩膜件12和第二掩膜件13均可以通过焊接的方式固定于框架11的凸台结构112上。即，支撑层14的第一连接部142焊接于第二连接槽30内，第一掩膜件12的第二连接部122焊接于第一连接槽20内，第二掩膜件13的第三连接部133焊接于凸台结构112上。

在一些实施例中，凸台结构112相对于框体结构111的高度可以为0.5毫米至5毫米，第一连接槽20的槽深h可以为0.01毫米至0.1毫米，第二连接槽30的槽深H可以为0.05毫米至0.5毫米。

如图8所示，在一些实施例中，第二连接槽30的槽深H大于第一连接槽20的槽深h，通过设置第二连接槽30的槽深H大于第一连接槽20的槽深h，能够更便于第二连接部122和第一连接部142固定于框架11上。

参见图8，可选的，第二连接槽30的槽深H不小于第一连接部142的厚度，第一连接槽20的槽深h不小于第二连接部122的厚度，如此设置，能够避免因第一连接部142突出于第二连接槽30或者第二连接部122突出于第一连接槽20、而干涉第二掩膜件13与玻璃基板的贴合。

参见图8，在一些实施例中，第二连接槽30的槽深H可以比第一连接部142的厚度大0.001毫米至0.02毫米，和/或，第一连接槽20的槽深h可以比第二连接部122的厚度大0.001毫米至0.02毫米。如此设置，既能避免因第一连接部142突出于第二连接槽30或者第二连接部122突出于第一连接槽20、而干涉第二掩膜件13与玻璃基板的贴合，又能避免第一连接部142或者第二连接部122厚度太小导致结构强度太小的问题。

在一些实施例中，支撑层14的第一连接部142的宽度比框架11上第二连接槽30的宽度小0.5毫米至2毫米，从而避免第一连接部142因工艺误差、而不能放置并固定于第二连接槽30内。第一掩膜件12的第二连接部122的宽度比第一连接槽20的宽度小0.5毫米至2毫米，从而避免第二连接部122因工艺误差、而不能放置并固定于第一连接槽20内。

具体的说，第一掩膜件12和第二掩膜件13的数量可以均为多个，多个第一掩膜件12和多个第二掩膜件13沿第三方向Y(长度方向)交错排列，第三方向Y与第一方向X(宽度方向)、第二方向Z(厚度方向)均垂直，沿第二方向Z，第二掩膜件13的两个侧边区域132分别在相邻的两个第一掩膜件12上存在正投影区域。

在一些实施例中，框架11沿第三方向Y的尺寸可以大于沿第一方向X的尺寸，即，框架11的长度大于宽度。

也就是说，如图9所示，在长度方向上，第二掩膜件13相邻的两个第一掩膜件12可以分别在磁力作用下支撑抵接第二掩膜件13的两个侧边区域132，从而实现第二掩膜件13在长度方向的固定，避免了因第二掩膜件13在长度方向上未固定于框架11上、而导致在长度方向上容易起褶皱的问题。

在一些实施例中，参见图12，容纳槽40的槽底可以开设有开口1413，沿第二方向Z，开口1413的正投影位于第一掩膜件12的正投影内，第一掩膜件12位于容纳槽40内并完全遮挡开口1413，利用开口1413能够分散支撑结构1411的应力，避免因镂空区域1412周围的支撑结构1411变形、而导致镂空区域1412变形，提高了蒸镀所形成的发光结构的位置准确性。

下面通过举例进行说明：

在一实施例中，掩膜版组件的组装图如图1所示。

如图2、图3所示，框体结构111可以为厚度(沿第二方向Z的尺寸)为20毫米的矩形框，凸台结构112相对于框体结构111的高度可以为0.5毫米，第一连接槽20的槽深可以为0.06毫米，第二连接槽30的槽深可以为0.1毫米。

如图4、图5所示，支撑层14包括支撑结构1411、与第二掩膜件的图形区相匹配的镂空区域1412，镂空区域1412包括4×5分布的矩形开口，在支撑结构1411上矩形开口两侧分布有条形的减薄区(容纳槽40)，减薄区两端设计成梯形，减薄区深度为0.06毫米。

如图6所示，第一掩膜件12可以为厚度为0.05毫米的窄条，中间为较宽的用于支撑抵接的实体区(中间部121)，两端为较窄的焊接区(第二连接部122)，实体区(中间部121)能够完全落入减薄区(容纳槽40)内。

如图7所示，第二掩膜件13可以为厚度0.03毫米的薄板，第二掩膜件13的中间为网状的图形区131，图形区131外围为用于被支撑抵接的侧边区域132，两端为焊接区(第三连接部133)。

在另一实施例中，掩膜版组件的组装图如图10所示。

如图11所示，框体结构111可以为厚度(沿第二方向Z的尺寸)为30毫米的矩形框，凸台结构112相对于框体结构111的高度可以为1毫米，第一连接槽20的槽深可以为0.07毫米，第二连接槽30的槽深可以为0.12毫米。

如图12、图13所示，支撑结构1411除镂空区域1412的周边区域外可以均做减薄处理形成减薄区(容纳槽40)，减薄深度(容纳槽40的槽深)可以比第一掩膜件厚度大0.001毫米至0.05毫米，例如，0.07毫米，支撑层14包括支撑结构1411、与第二掩膜件的图形区相匹配的镂空区域1412、以及用于分散应力的开口1413，镂空区域1412包括4×2分布的矩形开口，开口1413为分布在矩形开口两侧的条形开口区，条形开口区呈5×2分布。

本实施例中，第一掩膜件12可以为厚度为0.05毫米的窄条，中间为较宽的用于支撑抵接的实体区(中间部121)，两端为较窄的焊接区(第二连接部122)，实体区(中间部121)能够完全落入减薄区(容纳槽40)内。

第二掩膜件13可以为厚度0.02毫米的薄板，第二掩膜件13的中间为网状的图形区131，图形区131外围为用于被支撑抵接的侧边区域132，两端为焊接区(第三连接部133)。

本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：通过在第二掩膜件13和框架11之间增设第一掩膜件12，并且沿掩膜版组件的厚度的第二方向Z，第二掩膜件13的侧边区域132在第一掩膜件12上存在正投影区域，使得在蒸镀过程中，第一掩膜件12受磁场作用朝靠近第二掩膜件13的方向形变、以支撑抵接第二掩膜件13的侧边区域132，从而起到对第二掩膜件13的侧边区域132的固定作用，避免第二掩膜件13的侧边区域132向中间隆起形成褶皱，提高在蒸镀过程中第二掩膜件13与玻璃基板的贴合状况，改善被加热蒸发成气体的发光材料蒸镀到玻璃基板上时形成的发光图案相互重叠的现象，改善了显示面板的边缘混色问题。

本申请实施例还提供了一种掩膜版组件的制造方法，如图14所示，包括以下步骤：

S101:定位并拉伸支撑层，并将支撑层的第一连接部固定于框架上。

本步骤中，可以使用张网设备将支撑层拉伸至合适位置，确保支撑层的镂空区域的位置精度在0.1毫米以内，并使得支撑层的第一连接部完全落入框架上的第二连接槽内，并将支撑层的第一连接部焊接在框架上的第二连接槽内。

S102:定位并拉伸第一掩膜件，使得第一掩膜件的中间部位于支撑层的主体区的支持结构的容纳槽内，并使得第一掩膜件的第二连接部位于框架的第一连接槽内，将第二连接部固定于第一连接槽内。

本步骤中，可以使用张网设备将第一掩膜件拉伸至合适位置，确保第一掩膜件的中间部完全落入支撑层上的容纳槽(即，支撑层的减薄区)内(即，第一掩膜件的中间部与支撑层的未减薄区域无重叠)，第一掩膜件的第二连接部完全落入框架的第一连接槽内，并将第二连接部与第一连接槽进行焊接。

S103:定位并拉伸第二掩膜件，使得沿掩膜版组件的厚度的第二方向，第二掩膜件的侧边区域在第一掩膜件上存在正投影区域，将第二掩膜件的两端固定于框架上，得到掩模版组件。

本步骤中，通过张网设备将第二掩膜件拉伸至合适位置，通过两端的第三连接部焊接在框架的第一区域上，即完成掩膜版组件的制作。

本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：通过在第二掩膜件和框架之间增设第一掩膜件，并且沿掩膜版组件的厚度的第二方向，第二掩膜件的侧边区域在第一掩膜件上存在正投影区域，使得在蒸镀过程中，第一掩膜件受磁场作用朝靠近第二掩膜件的方向形变、以支撑抵接第二掩膜件的侧边区域，从而能够起到对第二掩膜件的侧边区域的固定作用，能够避免第二掩膜件的侧边区域向中间隆起形成褶皱，能够提高在蒸镀过程中第二掩膜件与玻璃基板的贴合状况，能够减小被加热蒸发成气体的发光材料蒸镀到玻璃基板上时形成的发光图案相互重叠的几率，能够改善显示面板的边缘混色问题。

本技术领域技术人员可以理解，本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地，具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地，现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。

在本申请的描述中，词语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系，为基于附图所示的示例性的方向或位置关系，是为了便于描述或简化描述本申请的实施例，而不是指示或暗示所指的装置或部件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

应该理解的是，虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤的实施顺序并不受限于箭头所指示的顺序。除非本文中有明确的说明，否则在本申请实施例的一些实施场景中，各流程中的步骤可以按照需求以其他的顺序执行。而且，各流程图中的部分或全部步骤基于实际的实施场景，可以包括多个子步骤或者多个阶段。这些子步骤或者阶段中的部分或全部可以在同一时刻被执行，也可以在不同的时刻被执行在执行时刻不同的场景下，这些子步骤或者阶段的执行顺序可以根据需求灵活配置，本申请实施例对此不限制。

以上所述仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请的方案技术构思的前提下，采用基于本申请技术思想的其他类似实施手段，同样属于本申请实施例的保护范畴。

Claims (13)

1.一种掩模版组件，其特征在于，包括：框架、以及依次堆叠于所述框架上的第一掩膜件和第二掩膜件，所述第二掩膜件包括构成用于蒸镀发光结构的图形区；

所述第一掩膜件和所述第二掩膜件均为长条状且均沿第一方向延伸，沿所述第一方向，所述第一掩膜件的两端和所述第二掩膜件的两端分别固定于所述框架上；

沿所述掩膜版组件的厚度的第二方向，所述第二掩膜件的侧边区域在所述第一掩膜件上存在正投影区域，所述第一掩膜件用于在蒸镀过程中受磁场作用朝靠近所述第二掩膜件的方向形变、以支撑抵接所述第二掩膜件的侧边区域；

所述第一方向和所述第二方向相互垂直。

2.根据权利要求1所述的掩模版组件，其特征在于，所述第一掩膜件和所述第二掩膜件的数量均为多个，多个所述第一掩膜件和多个所述第二掩膜件沿所述第三方向交错排列，所述第三方向与所述第一方向、所述第二方向均垂直；

沿所述第二方向，所述第二掩膜件的两个侧边区域分别在相邻的两个所述第一掩膜件上存在正投影区域。

3.根据权利要求1所述的掩模版组件，其特征在于，还包括支撑层，所述支撑层包括主体区、以及设置于所述主体区周侧的多个第一连接部；

所述第一连接部固定于所述框架上；

所述主体区包括支撑结构和多个镂空区域，所述镂空区域与所述第二掩膜件的图形区相匹配；

所述支撑结构上设置有容纳槽，所述框架上设置有第一连接槽，所述第一掩膜件包括中间部、以及位于所述中间部两端的第二连接部，所述中间部位于所述容纳槽内，所述第二连接部固定于所述第一连接槽内。

4.根据权利要求3所述的掩模版组件，其特征在于，所述容纳槽的槽深不小于所述中间部的厚度。

5.根据权利要求4所述的掩模版组件，其特征在于，所述容纳槽的槽深比所述中间部的厚度大0.001毫米至0.05毫米。

6.根据权利要求3所述的掩模版组件，其特征在于，所述支撑结构包括沿第一方向延伸的第一支撑条、以及沿第三方向延伸并连接相邻的第一支撑条的第二支撑条，所述容纳槽开设于所述第一支撑条上；

沿所述第二方向，所述第二掩膜件的侧边区域在所述第一支撑条上存在正投影区域，所述第二支撑条在所述第二掩膜件上的正投影位于所述第二掩膜件的图形区内。

7.根据权利要求3所述的掩模版组件，其特征在于，所述框架上设置有第二连接槽，至少部分所述第一连接槽的相对两侧均设置有所述第二连接槽，所述第一连接部固定于所述第二连接槽内。

8.根据权利要求7所述的掩模版组件，其特征在于，所述第二连接槽的槽深大于所述第一连接槽的槽深。

9.根据权利要求8所述的掩模版组件，其特征在于，所述第二连接槽的槽深不小于所述第一连接部的厚度，所述第一连接槽的槽深不小于所述第二连接部的厚度。

10.根据权利要求9所述的掩模版组件，其特征在于，所述第二连接槽的槽深比所述第一连接部的厚度大0.001毫米至0.02毫米；

和/或，所述第一连接槽的槽深比所述第二连接部的厚度大0.001毫米至0.02毫米。

11.根据权利要求7所述的掩模版组件，其特征在于，所述第二掩膜件还包括设置于所述图形区相对两侧的侧边区域、以及连接相邻所述侧边区域的第三连接部；

所述框架包括框体结构、以及位于所述框体结构上的凸台结构；

所述第三连接部固定于所述凸台结构上，所述第一连接槽和所述第二连接槽均设置于所述凸台结构上。

12.根据权利要求3所述的掩模版组件，其特征在于，所述容纳槽的槽底开设有开口，沿所述第二方向，所述开口的正投影位于所述第一掩膜件的正投影内。

13.一种如权利要求3-12中任一掩模版组件的制造方法，其特征在于，包括：

定位并拉伸支撑层，并将所述支撑层的第一连接部固定于所述框架上；

定位并拉伸第一掩膜件，使得所述第一掩膜件的中间部位于所述支撑层的主体区的支持结构的容纳槽内，并使得所述第一掩膜件的第二连接部位于所述框架的第一连接槽内，将所述第二连接部固定于所述第一连接槽内；

定位并拉伸第二掩膜件，使得沿所述掩膜版组件的厚度的所述第二方向，所述第二掩膜件的侧边区域在所述第一掩膜件上存在正投影区域，将所述第二掩膜件的两端固定于所述框架上，得到所述掩模版组件。

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