CN110770554B - 用于表面测量仪的容纳设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及用于特别是光学的表面测量仪(1)的容纳设备(2)。该容纳设备具有基准测量面(4)，其可被置于遮盖状态中和开放状态中，在遮盖状态中基准测量面相对容纳设备(2)的周围环境得到遮盖，在开放状态中基准测量面相对容纳设备(2)的周围环境未得到遮盖。当表面测量仪(1)容纳在容纳设备(2)中并且基准测量面(4)处于开放状态中时，表面测量仪(1)能实施对基准测量面(4)的基准测量并通过利用该基准测量实施对表面测量仪(1)的校准。而当基准测量面(4)处于遮盖状态中时，它相对容纳设备(2)的周围环境未暴露并且因此得到保护例如免受灰尘、光线、湿气的影响或机械方面的影响。优选通过基准测量面(4)本身的运动或通过用于基准测量面(4)的盖板的运动实现基准测量面(4)的遮盖状态或者开放状态。

Description

用于表面测量仪的容纳设备

技术领域

优先权申请DE 10 2017 211 067.8的所有内容以此通过参考成为本申请的组成部分。

本发明涉及一种用于表面测量仪的容纳设备。

下面以用于确定表面光学特性的表面测量仪为例对本发明进行说明。然而这并不构成限制。本发明同样可以应用在其它表面测量仪上，例如用于确定表面的机械特性、化学特性或物理的然而不是光学的特性。

背景技术

需确定的表面光学特性例如是表面的光泽、颜色、“Haze”(雾度)、图像清晰度、“Distinctness of Image”(鲜映度)或“Orange Peel”(用于波度的标准)。主要在例如家具或汽车的光学表面如涂漆部的质量保证中测量和控制这样的表面特性。

光学表面测量仪优选具有至少一个光源，该光源的光线能够穿过表面测量仪壳体中的开口指向测量面，也就是说指向需测量的表面的部分区域，所述光学表面测量仪以及具有至少一个探测器，该探测器接收由测量面反射的光线。光源优选是发光二极管。也可以设置有多个光源和/或多个探测器，它们分别优选与测量面成不同的角度设置。为了测量，将表面测量仪优选放到测量面上。

通过在考虑到由光源发出的光线的情况下对由探测器接收的光线的分析评估，然后可以确定相应的光学特性。为了实施测量并对其进行分析评估，表面测量仪具有相应的电子控制和分析评估系统。

在调试时以及在确定的时间间隔内必须对所观察类型的表面测量仪进行校准，以保证高测量精度。适宜地通过测量所谓的基准测量面进行校准，所述基准测量面是具有精确限定的表面特性、例如精确限定的颜色的检测标准。例如由联邦材料研究所(BAM)或由联邦物理技术研究院(PTB)作为所谓的主标准(Master-Standard)或作为借助主标准校准的所谓的传递标准(Transfer-Standard)提供标准化的、符合有关国际标准的检测标准。通过在必要时多次经由传递标准的推导，最后为表面测量仪的使用者提供所谓的作业标准，该作业标准可以追溯到相应的国际标准。该作业标准则能够在表面测量仪的使用寿命期间通过如下方式用于校准该表面测量仪，即，实施对属于作业标准的基准测量面的基准测量。

所观察类型的表面测量仪常常与附属的容纳设备、也称为“Docking Station”(扩充口)一起供货。表面测量仪能够放入或插入容纳设备中并且优选经由电触点亦或无线地建立与容纳设备的连接。容纳设备又优选与电网和/或与计算机或数据网络连接。

容纳设备于是提供确定的功能：特别是优选通过电触点或感应地为表面测量仪中的蓄电池充电；检测表面测量仪的运行状态；和/或表面测量仪与容纳设备之间的数据传输、优选从表面测量仪到容纳设备的测量数据传输；和/或表面测量仪与容纳设备之间的控制指令的传输。优选同样经由电触点、特别是经由USB接口和进一步优选经由WLAN无线地进行数据传输。

此外已知的是：将具有基准测量面的检测标准集成到这样的容纳设备中。一旦将表面测量仪放入容纳设备中，该表面测量仪就自动占据一位置，在该位置中基准测量面位于表面测量仪的测量开口前，使得在这个位置中能够实施对基准测量面的基准测量。于是可以利用基准测量来实施对表面测量仪的校准。

在此产生以下问题：特别是当表面测量仪正在使用中并因此未被容纳在容纳设备中时，检测标准样件的基准测量面暴露在容纳设备的周围环境中，例如在容纳设备的操作或运输中暴露在灰尘、光线、湿气或机械影响中。这例如通过灰尘层、通过褪色、通过模糊化或通过划痕会导致基准测量面的非预期的改变，由此又歪曲了利用检测标准样件的基准测量。

发明内容

因此本发明的目的是：进一步改进用于特别是光学的表面测量仪的、具有基准测量面的容纳设备以及用于这样的表面测量仪的、借助基准测量面的校准方法。

所述目的通过根据权利要求1的容纳设备和根据权利要求17的校准方法得以实现。从属权利要求包含本发明的有益的改进方案。

如上所述，本发明从用于特别是光学的表面测量仪的容纳设备出发，该容纳设备具有至少一个基准测量面，该基准测量面优选是检测标准的组成部分。根据本发明，所述基准测量面能够进入至少一个遮盖状态中和至少一个开放状态中，在所述遮盖状态中基准测量面相对容纳设备的周围环境得到遮盖，在所述开放状态中基准测量面相对容纳设备的周围环境未得到遮盖。

因此基准测量面在遮盖状态中不暴露在容纳设备的周围环境中并且由此得到更好的保护。相反，表面测量仪在其容纳在容纳设备中并且所述至少一个基准测量面处于所述至少一个开放状态中时能够实施对所述至少一个基准测量面的基准测量。

在本发明的一种特别优选的实施方式中，所述至少一个基准测量面能够相对容纳设备移入至少一个遮盖位置中，在该遮盖位置中该基准测量面特别是通过容纳设备的壳体而相对容纳设备的周围环境得到遮盖。所述至少一个基准测量面由此能够移入遮盖状态中。另外，所述至少一个基准测量面能够相对容纳设备移入至少一个与所述至少一个遮盖位置不同的开放位置中，在该开放位置中该基准测量面相对容纳设备的周围环境未得到遮盖。所述至少一个基准测量面由此能够移入开放状态中。

在这种实施方式中通过基准测量面本身的运动实现遮盖状态和开放状态。在此，基准测量面在遮盖状态中优选位于容纳设备的壳体内并且由该壳体遮盖。在开放状态中，基准测量面优选不再由容纳设备的壳体遮盖，而是优选从壳体中露出来或至少定位在壳体的开口或开孔上并且可通过该开口或开孔从外部接近、特别是可见。表面测量仪在其容纳在容纳设备中时优选如下地定位，即，该表面测量仪的测量开口位于基准测量面之上，由此能够实现基准测量。

在这种实施方式的另一种优选的变型方案中，容纳设备此外具有至少一个封盖，该封盖相对容纳设备可移入至少一个关闭位置和至少一个打开位置中，在所述关闭位置中该封盖将容纳设备的壳体中的开口封闭，在所述打开位置中该封盖不封闭这个开口，其中，所述至少一个封盖的关闭位置与所述至少一个基准测量面的开放位置相应。容纳设备的壳体中的开口通过这种方式在基准测量面的遮盖位置中能够通过封盖封闭，使得基准测量面在遮盖位置中受到保护而完全免受环境干扰如光线、灰尘等的影响。

在此，所述至少一个基准测量面的运动和所述至少一个封盖的运动优选分别是枢转运动，并且两个枢转运动优选特别是通过杠杆机构相互机械式联接。

在这种情况下，特别是通过所述两个枢转运动的“相移的”联接能够以结构上简单的方式实现如下：基准测量面在其遮盖位置中期间封盖在其关闭位置中，而基准测量面在其开放位置中期间封盖不在其关闭位置中。由此避免了在封盖的相应于基准测量面的开放位置的关闭位置中该封盖与基准测量面的碰撞。

作为用于两个联接的枢转运动的共同的驱动装置优选使用电动机、进一步优选步进电机。

在这种实施方式的另一种优选变型方案中，容纳设备具有多个、特别是两个、三个、四个、五个、六个或更多基准测量面。然后可以将基准测量面中的每一个基准测量面移入开放位置中，使得能够利用不同的基准测量面和由此利用不同的检测标准进行基准测量。由此能够进一步提高表面测量仪的校准精度，而不增加其使用者的支出，这是因为所需的多个检测标准已经全部存在于容纳设备中。

在这种实施方式的一种优选变型方案中，基准测量面的位置不能彼此相对改变。基准测量面特别是可以设置在一个共同的、刚性的构件上并且共同运动。

在此，优选每个基准测量面的可能的位置数量与基准测量面的数量相等，并且这些可能的位置中的相应恰好一个位置是开放位置，而其余的位置是遮盖位置。因此基准测量面在共同运动时交换其位置，其中，始终有一个唯一的基准测量面位于开放位置中，而其余的基准测量面则分别位于一个遮盖位置中。

这优选可以通过如下方式实现，即，基准测量面在其可能的位置之间的运动是围绕一根共同轴线的旋转运动。作为具体的技术实施方式，特别是所有基准测量面都可以设置在一个共同的转塔机构上，也就是说，各个基准测量面沿着优选轮形的、滚筒形的或盘形的元件的周边设置，该元件能够分别继续旋转一个基准测量面的角距。这个元件优选设置在容纳设备的壳体内部，由此获得遮盖位置。在沿着转塔机构的周边的一个部位，优选在容纳设备壳体中具有开口，由此获得开放位置。

这样的结构特别节省空间，这特别是在手持式表面测量仪和相应的容纳设备的尺寸较小的情况中是有益的。

在本发明的另一优选实施方式中，容纳设备具有用于将所述至少一个基准测量面至少暂时固定在所述至少一个开放位置中的装置、特别是磁性装置或卡锁装置。由此能够保证在基准测量期间将基准测量面尽可能精确地定位在开放位置中。

在本发明的另一特别优选的实施方式中，所述至少一个基准测量面与基准测量面能够移入遮盖位置和开放位置中的上述实施方式不同，不能相对容纳设备运动。相反，容纳设备具有至少一个盖板，该盖板能够移入遮盖位置中，在该遮盖位置中该盖板将所述至少一个基准测量面相对容纳设备的周围环境遮盖。所述至少一个基准测量面由此能够被置于遮盖状态中。另外，所述盖板能够移入开放位置中，在该开放位置中该盖板不将所述至少一个基准测量面相对容纳设备的周围环境遮盖。所述至少一个基准测量面由此能够被置于开放状态中。因此在这种实施方式中为了被置于遮盖状态或开放状态中，基准测量面本身并不运动，而是通过盖板的运动来实现这一点。

本发明的这种实施方式特别是适于在容纳设备中仅仅设置有一个基准测量面的情况。在这种情况中，不是使基准测量面本身、而是只使该基准测量面的一个盖板运动能够更加节省空间以及在结构上更加简单和由此更加经济。

特别是在本发明的这种实施方式中，能够通过将表面测量仪置入容纳设备中来触发所述至少一个盖板从所述至少一个遮盖位置到所述至少一个开放位置的运动，和/或能够通过将表面测量仪从容纳设备中移离来触发所述至少一个盖板从所述至少一个开放位置到所述至少一个遮盖位置的运动。

通过这种方式，只有当表面测量仪容纳在容纳设备中并且因此应该可以进行基准测量时，基准测量面才位于(暴露的)开放状态中。若表面测量仪相反未容纳在容纳设备中，那么基准测量面对于基准测量来说也是不必要的并且在这种实施方式中相应地处于遮盖状态中。此外，在这种实施方式中通过简单的方式使基准测量面的遮盖状态与开放状态之间的过渡自动化，使得使用者不必担心基准测量面的状态。

优选在本发明的这种实施方式中，盖板能够通过杠杆机构而在所述至少一个开放位置与所述至少一个遮盖位置之间运动，该杠杆机构可通过表面测量仪操作。

当然，在所述至少一个基准测量面能够移入至少一个遮盖位置中和至少一个开放位置中的前述实施方式中，也可以通过将表面测量仪置入容纳设备中来触发从所述至少一个遮盖位置到所述至少一个开放位置的运动，和/或可以通过将表面测量仪从容纳设备中移离来触发从所述至少一个开放位置到所述至少一个遮盖位置的运动。

在最后说明的使用一个可运动的盖板的实施方式中，盖板在遮盖位置中优选位于基准测量面与容纳设备壳体中的开口之间。若将表面测量仪放入容纳设备中，那么该表面测量仪的测量开口优选触及壳体外侧面。如果现在将盖板移入开放位置中，那么在基准测量面与测量开口之间存在间距，该间距相当于壳壁的厚度与盖板的厚度的总和。

当在基准测量中假设表面测量仪以其测量开口直接放置在基准测量面上时，所述间距可能对于基准测量来说成为问题。

所述实施方案的一种优选变型方案因此规定：为了在表面测量仪放入容纳设备中时减小基准测量面与表面测量仪的测量开口之间的间距，所述至少一个基准测量面依然能够相对容纳设备略微运动。优选通过这种方式将这个间距减小到零，也就是说，基准测量面直接贴靠在测量开口上。

优选通过用于基准测量面的升降装置实现这个间距减小。如果盖板如上所述通过杠杆机构能够在所述至少一个开放位置与所述至少一个遮盖位置运动，那么这个升降装置优选与所述杠杆机构联接。优选如下地进行这个联接，使得在盖板的运动结束时，当该盖板已经很大程度上位于开放位置中时，升降装置被激活并使基准测量面通过壳体开口向着表面测量仪的测量开口的方向运动。

在此可以纯机械式地优选通过另外的杠杆机构亦或通过致动器、特别是通过电动执行机构、优选电动机或压电致动器来实现升降装置。

在本发明的另一优选实施方式中，所述至少一个基准测量面在所述至少一个开放状态中能够为了实施基准测量而定向。因此通过将基准测量面相对表面测量仪精确定向、特别是特别好的平行性而能够进一步提高基准测量的精度。

优选通过与表面测量仪的接触可触发所述至少一个基准测量面为了实施基准测量的这样的定向。特别是在此可以使表面测量仪的测量开口周围的面与基准测量面接触，由此使基准测量面相对测量开口自动定向。

为了这个目的，所述至少一个基准测量面优选支承在弹性元件上、特别是支承在弹性体元件上或支承在泡沫材料元件上。弹性元件则在与表面测量仪接触时变形并且这样实现基准测量面相对表面测量仪的定向。

在本发明的另一优选实施方式中，容纳设备具有用于将表面测量仪至少暂时固定在该容纳设备中的装置、特别是磁性装置或卡锁装置。因此类似于上述用于固定基准测量面的装置，可以在基准测量期间保证表面测量仪的尽可能精确的定位并且由此还可以保证基准测量面的可尽可能良好复制的设置。

根据本发明的用于表面测量仪的校准方法具有以下步骤：

a)将表面测量仪置入根据本发明的容纳设备中，

b)将至少一个基准测量面置于至少一个开放状态中，

c)通过表面测量仪实施对所述至少一个基准测量面的基准测量并且通过利用基准测量对表面测量仪进行校准，

d)将表面测量仪移离容纳设备，

e)将所述至少一个基准测量面置于所述至少一个遮盖状态中，

在此，可以在步骤a)之前、期间或之后实施步骤b)，和/或可以在步骤d)之前、期间或之后实施步骤e)，除此之外按照列出的顺序实施所述步骤。

然而在所述方法的优选实施方式中，步骤b)由步骤a)触发，和/或步骤e)由步骤d)触发，也就是说，通过将表面测量仪置入容纳设备中使基准测量面进入开放状态，或者通过将表面测量仪移离容纳设备使基准测量面进入遮盖状态。由此产生前面已经针对设备说明的优点。

然而在所述方法的另一优选实施方式中，步骤b)也可以不受步骤a)影响地和/或步骤e)可以不受步骤d)影响地由表面测量仪的使用者触发，也就是说，基准测量面的状态变化与将表面测量仪置入或者移离容纳设备无关，而是由使用者手动实现。

这特别可以通过容纳设备上的和/或表面测量仪上的至少一个操作元件优选通过按钮或开关来实现，由使用者操作所述操作元件，以便使基准测量面从遮盖状态进入开放状态或者反过来。这是结构上特别简单的解决方案并且使使用者最大限度地掌控基准测量面的状态。

特别是使用者因此还具有的可能性是：在他从容纳设备中移离表面测量仪(步骤d)之前使基准测量面进入遮盖状态(步骤e)。因此在假设基准测量面即使在开放状态中也通过被置入容纳设备中的表面测量仪得到充分保护的情况下能够保证：基准测量面没有任何暴露在表面测量仪的周围环境中的时间。

所述操作元件可以安置在表面测量仪上，或者可以将表面测量仪上原本存在的操作元件用于这个目的。然而优选地，所述操作元件设置在容纳设备上，使得不需将用于改变基准测量面状态的触发信号从表面测量仪输送到容纳设备。

在迄今为止说明的校准方法中，每次当将表面测量仪置入容纳设备中时都实施对表面测量仪的基准测量和校准(步骤c)。

而在根据本发明的校准方法的另一优选实施方式中，不一定每次都实施基准测量和校准，而是仅仅根据一个确定的参数，借助该参数可以决定：在给定的时刻是否需要进行校准。

所述参数可以是、但并不只是以下参数之一：

-表面测量仪的温度，

-环境温度，

-由表面测量仪自其上次校准以来实施的测量次数，

-自表面测量仪的上次校准以来的持续时间，

-表面测量仪或者该表面测量仪的各个部件的寿命、特别是该表面测量仪的光源的寿命，

所有上述参数都可以理解为以下可能性的标准：表面测量仪的测量精度自上次校准以来恶化，并且因此需要重新校准。

特别是当表面测量仪的光源是发光二极管时，参数“表面测量仪的温度”很重要，这是因为发光二极管经受与温度相关的谱线位移。

优选在容纳设备内或表面测量仪内的控制单元中进行参数的分析评估并且决定是否需要校准。

此外，通过利用表面测量仪对(例如源自PTB的)可追溯的标准的测量，能够利用这个可追溯的标准来校正基准测量面的校准数据。

这可以以较长的间隔来进行、例如一年一次，以便保证在利用基准测量面的情况下表面测量仪的高校准精度。

基准测量面的数据可以通过这种方式追溯到标准。基准测量面的数据、在色度仪的情况中特别是光谱数据于是可以存储在表面测量仪中或容纳设备中并且在表面测量仪的后续校准中得到应用。

附图说明

本发明的另外的有益的设计方案结合下面的说明包含在附图中。其中：

图1是根据本发明的容纳设备连同放入的表面测量仪的侧视图；

图2是从斜上方观察容纳设备的透视图；

图3是容纳设备的前视图，其中示出剖开的壳体；

图4是容纳设备的侧视图，其中示出剖开的壳体。

具体实施方式

图1示出根据本发明的容纳设备2(“Docking Station”)，表面测量仪1、例如色度仪放入该容纳设备中。表面测量仪1在其底侧具有测量开口(看不到)并且在其上侧具有用于显示测量数据的显示屏(部分可见)。

如在图2中可以看到的那样，容纳设备2在其上侧具有大的、大致阶梯形的凹深部7，该凹深部与表面测量仪1的同样大致阶梯形的底侧(参见图1)是几乎互补的。在凹深部7的上部中设置有电触点3，经由这些电触点能够对表面测量仪1的蓄电池进行充电。触点3优选构造为销钉、特别是弹簧销钉，其中在表面测量仪1上设置有相应的插口或者接触面(或者反过来)。触点3优选还用于数据传输、特别是用于传输测量数据和/或控制指令。与此相对，进一步优选进行无线数据传输、特别是经由WLAN、蓝牙或其它适当的协议。

作为可选方案，也可以感应式地进行表面测量仪1的蓄电池充电，在这种情况中在容纳设备2中设置有初级线圈，而在表面测量仪1中设置有次级线圈。

在容纳设备2的前侧上设置有三个指示灯5，这些指示灯能够显示容纳设备2和/或表面测量仪1的状态。

为了控制容纳设备2，在其背侧还设置有操作按钮(看不到)。

凹深部7在其下部区域中在容纳设备2的壳体8中具有壳体开口6。该壳体开口6设置为，在表面测量仪1放入时其测量开口基本上位于壳体开口6上方中心处。检测标准的基准测量面4或封盖9能够交替地从壳体8的内部枢转到(einschwenken)壳体开口6中。不仅基准测量面4而且封盖9的尺寸确定为，使得当它们枢转到壳体开口6中时，它们分别大致完全将壳体开口6填满。

当封盖9而不是基准测量面4枢转壳体开口6中时，那么基准测量面4位于通过所述封盖9封闭的壳体8的内部。基准测量面4因此相对容纳设备2的周围环境被遮盖并且由此得到保护免受可能对基准测量面4的质量产生不良影响的环境干扰，特别是免受光线、灰尘、湿气、划痕或使用者的指纹的干扰。

当相反是基准测量面4而不是封盖9枢转壳体开口6中时，基准测量面4精确地位于放入容纳设备2中的表面测量仪1的测量开口前并且触及该测量开口，使得表面测量仪1可以进行基准测量。

优选通过如下方式通过将表面测量仪1放入凹深部7中来触发封盖9从壳体开口6中的摆出和基准测量面4的摆入，即，探测到在触点3或者这些触点中的单个触点与表面测量仪1之间建立了电接触。优选相应地通过如下的方式通过将表面测量仪1从凹深部7中取出来触发基准测量面4从壳体开口6中的摆出和封盖的摆入，即，探测到触点3或这些触点中的单个触点与表面测量仪1之间的电接触断开。

在最简单的情况中，在此通过接通或者断开电路来实现所述触发，在所述电路中有相应的电动致动器，通过该电动致动器起动或者停止摆入或摆出运动。然而特别优选将探测到的电接触用作信号，该信号用于集成在容纳设备2中的数字的、微处理器控制的电子控制系统23。该电子控制系统然后产生给用于摆入或摆出运动的致动器的相应的控制指令。

优选还经由触点3单向或双向地传输其它数据、特别是故障报告或状态报告。特别是可以从容纳设备2向表面测量仪1传输信号，该信号说明：基准测量面4已经摆入壳体开口6中并且因此可以进行基准测量。

同样优选可以通过按压操作按钮来触发封盖9或者基准测量面4的摆入和摆出。

在图3和4中示出了容纳设备2内部中的枢转机构。不仅基准测量面4而且封盖9分别设置在、可枢转的杠杆11或者12的端部上。杠杆11和12设置成，在它们的相应水平的位置中，基准测量面4或者封盖9设置在壳体开口6中并且基准测量面4的表面或者封盖9的表面与壳体开口6的表面基本上在一个平面中。

杠杆11和12通过销钉19或者20可旋转地支承在相对壳体固定装配的支架14的左侧外部区域和右侧外部区域中，其中，旋转点位于相同的高度上。此外，杠杆11和12通过销钉21和22而与推杆13连接并且相对该推杆可旋转地支承。销钉21和22分别位于杠杆11或者12的主体的侧向凸台上，该凸台垂直于相应的杠杆11或者12的纵向延伸、然而向着从相应的杠杆的纵向延伸起不同的方向延伸。

将具有基准测量面4的杠杆11支承在支架14中的销钉19在支架14的背离杠杆11的一侧上与电机10的轴连接。电机10优选是步进电机。

杠杆11和12通过推杆13联接，使得电机10旋转一圈导致杠杆11和12沿相同方向的共同的、然而相移约60°的枢转运动。

在此，杠杆11的枢转运动通过设置在杠杆11的具有销钉21的侧向凸台上的止挡面16与支架14上的附属的止挡面15的抵接而受到限制。在杠杆11的抵接位置中杠杆12由于杠杆11和12的枢转运动的相移之故而占据水平位置，使得封盖9枢转到壳体开口6中并将这个壳体开口封闭。

杠杆12的枢转运动相应地通过设置在杠杆12的具有销钉22的侧向凸台上的止挡面18与支架14上的附属的止挡面17的抵接而受到限制。在杠杆12的抵接位置中杠杆11占据水平位置，使得基准测量面4枢转到壳体开口6中。图3示出了杠杆11和12的这个位置。

由于杠杆11和12的枢转运动中的相移之故，避免了这些杠杆在它们在同一个平面中进行的枢转运动中相互碰撞。

通过这种方式通过简单的机械联接、由电机10的旋转运动驱动地控制基准测量面4或者封盖9的摆入和摆出。

成对的止挡面15、16和17、18特别是构造为成对的永久磁铁的或成对的各一个永久磁铁和一个软铁板的侧表面，使得杠杆11和12在其相应的抵接位置中附加地通过磁力保持在这个位置中。由此阻止整个枢转机构非预期地运动，该运动会改变基准测量面4在壳体开口6中的位置并因此导致基准测量的错误结果。

在杠杆11的端部与基准测量面4之间优选可以安置有泡沫材料层，基准测量面4由此相对杠杆11弹性支承。通过这种方式，当基准测量面4设置在壳体开口6中时，这个基准测量面在表面测量仪放入容纳设备2中时通过该表面测量仪1的壳体的反压能够尽可能精确地平行于表面测量仪1的壳体8定向。

通过集成在容纳设备2中的电子控制系统23进行对电机10和指示灯5的控制、对触点3和操作按钮的监视以及对容纳设备2的功能的其余控制。

附图标记列表

1 表面测量仪

2 容纳设备

3 触点

4 基准测量面

5 指示灯

6 壳体开口

7 凹深部

8 壳体

9 封盖

10 电机

11 用于基准测量面的杠杆

12 用于封盖的杠杆

13 推杆

14 支架

15至18 止挡面

19至22 销钉

23 电子控制系统

Claims (25)

1.用于表面测量仪(1)的容纳设备(2)，该容纳设备具有至少一个基准测量面(4)，该基准测量面能够被置于至少一个遮盖状态中和至少一个开放状态中，在所述遮盖状态中该基准测量面相对容纳设备(2)的周围环境得到遮盖，在所述开放状态中该基准测量面相对容纳设备(2)的周围环境未得到遮盖，因而表面测量仪(1)在其容纳在容纳设备(2)中并且所述至少一个基准测量面(4)处于所述至少一个开放状态中时能够实施对所述至少一个基准测量面(4)的基准测量， 其中，所述至少一个基准测量面(4)能够相对容纳设备(2)移入至少一个遮盖位置中，在该遮盖位置中，所述基准测量面通过容纳设备(2)的壳体(8)而相对该容纳设备(2)的周围环境得到遮盖，所述至少一个基准测量面(4)由此能够被置于遮盖状态中，并且所述至少一个基准测量面(4)能够相对容纳设备(2)移入不同于所述至少一个遮盖位置的至少一个开放位置中，在该开放位置中，所述基准测量面相对容纳设备(2)的周围环境未得到遮盖，所述至少一个基准测量面(4)由此能够被置于开放状态中，其特征在于：容纳设备(2)此外具有至少一个封盖(9)，该封盖能够相对容纳设备(2)移入至少一个关闭位置中和至少一个打开位置中，在所述关闭位置中，所述封盖将容纳设备(2)的壳体(8)中的开口(6)封闭，在所述打开位置中，所述封盖不封闭该开口(6)，其中，所述至少一个封盖(9)的关闭位置与所述至少一个基准测量面的开放位置相同。

2.根据权利要求1所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述容纳设备用于光学的表面测量仪。

3.根据权利要求1所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述至少一个基准测量面(4)的运动和所述至少一个封盖(9)的运动分别是枢转运动，并且两个枢转运动相互机械式联接。

4.根据权利要求3所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述两个枢转运动通过杠杆机构(11至14)相互机械式联接。

5.根据权利要求1至4之任一项所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述容纳设备(2)具有多个基准测量面(4)。

6.根据权利要求5所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述容纳设备(2)具有两个、三个、四个、五个、六个或更多基准测量面(4)。

7.根据权利要求5所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述基准测量面(4)的位置不能相对彼此改变。

8.根据权利要求7所述的容纳设备(2)，其特征在于：每个基准测量面(4)的可能的位置数量与基准测量面(4)的数量相等，并且这些可能的位置中的相应恰好一个位置是开放位置，而其余的位置是遮盖位置。

9.根据权利要求7或8所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述基准测量面(4)在其可能的位置之间的运动是围绕一根共同轴线的旋转运动。

10.根据权利要求9所述的容纳设备(2)，其特征在于：所有基准测量面(4)设置在共同的转塔机构上。

11.根据权利要求1至4之任一项所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述容纳设备(2)具有用于将所述至少一个基准测量面(4)至少暂时固定在所述至少一个开放位置中的装置。

12.根据权利要求11所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述用于将至少一个基准测量面(4)至少暂时固定在所述至少一个开放位置中的装置是磁性装置或卡锁装置。

13.根据权利要求1至4之任一项所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述至少一个基准测量面(4)在所述至少一个开放状态中能够为了实施基准测量而定向。

14.根据权利要求13所述的容纳设备(2)，其特征在于：通过所述至少一个基准测量面与表面测量仪(1)的接触能够触发该至少一个基准测量面(4)为了实施基准测量的定向。

15.根据权利要求13所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述至少一个基准测量面(4)支承在弹性元件上。

16.根据权利要求15所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述至少一个基准测量面(4)支承在弹性体元件上或支承在泡沫材料元件上。

17.根据权利要求1至4之任一项所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述容纳设备(2)具有用于将表面测量仪(1)至少暂时固定在该容纳设备(2)中的装置。

18.根据权利要求17所述的容纳设备(2)，其特征在于：所述用于将表面测量仪(1)至少暂时固定在容纳设备(2)中的装置是磁性装置或卡锁装置。

19.用于表面测量仪(1)的校准方法，该方法包括的步骤有：

a)将表面测量仪(1)置入根据权利要求1至18之任一项所述的容纳设备(2)中，

b)将至少一个基准测量面(4)置于至少一个开放状态中，

c)通过表面测量仪(1)实施对所述至少一个基准测量面(4)的基准测量，并且通过利用所述基准测量对表面测量仪(1)进行校准，

d)将表面测量仪(1)移离容纳设备(2)，

e)将所述至少一个基准测量面(4)置于至少一个遮盖状态中，

其中，在步骤a)之前、期间或之后实施步骤b)，和/或在步骤d)之前、期间或之后实施步骤e)，并且除此之外按照列出的顺序实施所述步骤。

20.根据权利要求19所述的校准方法，其中，步骤b)由步骤a)触发，和/或步骤e)由步骤d)触发。

21.根据权利要求19所述的校准方法，其中，步骤b)不受步骤a)影响地和/或步骤e)不受步骤d)影响地由表面测量仪(1)的使用者触发。

22.根据权利要求21所述的校准方法，其中，步骤b)不受步骤a)影响地和/或步骤e)不受步骤d)影响地由表面测量仪(1)的使用者通过容纳设备(2)上的和/或表面测量仪(1)上的至少一个操作元件触发。

23.根据权利要求19至22之任一项所述的校准方法，其中，确定以下参数中的至少一个参数：

-表面测量仪(1)的温度，

-环境温度，

-由表面测量仪(1)自其上次校准以来实施的测量次数，

-自表面测量仪(1)的上次校准以来的持续时间，

-表面测量仪(1)或该表面测量仪(1)的各个部件的寿命，

并且根据该确定的结果自动触发步骤c)。

24.根据权利要求23所述的校准方法，其中，确定表面测量仪(1)的光源的寿命。

25.根据权利要求23所述的校准方法，其中，

根据确定的结果还自动触发步骤b)和/或步骤e)。

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