CN110687756A - 控制装置、曝光装置、以及制造物品的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了控制装置、曝光装置、以及制造物品的方法。本发明提供了一种用于执行同步控制的控制装置，所述同步控制用于同步第二移动部件的驱动以便跟随第一移动部件的驱动，所述控制装置包括前馈控制系统，所述前馈控制系统包括计算器，所述计算器被配置为获得彼此同步地驱动所述第一移动部件和第二移动部件时所述第一移动部件和第二移动部件的位置偏差、以及所述第二移动部件的输入/输出响应，并且基于所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差以及所述第二移动部件的输入/输出响应计算前馈操纵变量，所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差是从所述第一移动部件和第二移动部件的位置偏差获得的。

Description

控制装置、曝光装置、以及制造物品的方法
技术领域
本发明涉及控制装置、曝光装置、以及制造物品的方法。
背景技术
作为用于制造半导体器件等的光刻装置的一种的曝光装置需要抑制在向目标位置移动诸如保持掩模版(reticle)(原版(original))或基板的台架的移动部件(控制目标)时的位置偏差。为了实现这一点，日本专利No.5968017提出了一种向移动部件应用基于移动部件的控制响应和位置偏差生成的前馈表以抑制基于其生成前馈表的位置偏差的技术。
步进扫描曝光装置(扫描仪)采用同步地驱动掩模版台架和基板台架的主(master)-从(slave)方法作为驱动掩模版台架(第一移动部件)和基板台架(第二移动部件)的方法。即使日本专利No.5968017中公开的技术被应用于这样的曝光装置并且基于每个台架的位置偏差生成的前馈表被应用于每个台架，也不可能抑制从设备侧的台架的位置偏差。另外，作为掩模版台架的位置偏差与基板台架的位置偏差之间的差值的同步误差也变大。
发明内容
本发明提供了一种在抑制第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差上有利的控制装置。
根据本发明的第一方面，提供一种用于执行同步控制的控制装置，所述同步控制用于同步第二移动部件的驱动以便跟随第一移动部件的驱动，所述控制装置包括：反馈控制系统，所述反馈控制系统被配置为对所述第一移动部件和第二移动部件中的每一个执行反馈控制，以减小与目标位置的位置偏差；以及前馈控制系统，所述前馈控制系统被配置为通过向所述第二移动部件提供前馈操纵变量来执行前馈控制，以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差，其中，所述前馈控制系统包括计算器，所述计算器被配置为获得彼此同步地驱动所述第一移动部件和第二移动部件时所述第一移动部件和第二移动部件的位置偏差、以及所述第二移动部件的输入/输出响应，并且基于所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差以及所述第二移动部件的输入/输出响应计算所述前馈操纵变量，所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差是从所述第一移动部件和第二移动部件的位置偏差获得的。
根据本发明的第二方面，提供一种用于控制包括多个驱动轴的移动部件的驱动的控制装置，所述控制装置包括：反馈控制系统，所述反馈控制系统被配置为关于所述移动部件沿第一驱动轴和第二驱动轴中的每一个的驱动执行反馈控制，以减小所述移动部件与目标位置的位置偏差，所述第二驱动轴不同于所述第一驱动轴；以及前馈控制系统，所述前馈控制系统被配置为通过关于所述移动部件沿所述第二驱动轴的驱动向所述移动部件提供第一前馈操纵变量来执行前馈控制，以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述移动部件沿所述第一驱动轴的驱动对所述移动部件沿所述第二驱动轴的驱动的影响，其中，所述前馈控制系统包括计算器，所述计算器被配置为获得关于沿所述第一驱动轴的驱动要被提供给所述移动部件的第二前馈操纵变量、对关于沿所述第一驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述移动部件的所述第二驱动轴上的第一输入/输出响应、以及对关于沿所述第二驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述移动部件的所述第二驱动轴上的第二输入/输出响应，并且基于所述第二前馈操纵变量、第一输入/输出响应、以及第二输入/输出响应计算所述第一前馈操纵变量。
根据本发明的第三方面，提供一种用于曝光基板的曝光装置，所述曝光装置包括：基板台架，所述基板台架被配置为保持基板；掩模版台架，所述掩模版台架被配置为保持掩模版，所述掩模版具有要被转印到所述基板的图案；以及控制装置，所述控制装置被配置为执行同步控制，所述同步控制用于同步所述基板台架的驱动以便跟随所述掩模版台架的驱动，所述控制装置包括反馈控制系统，所述反馈控制系统被配置为对所述掩模版台架和基板台架中的每一个执行反馈控制，以减小与目标位置的位置偏差，以及前馈控制系统，所述前馈控制系统被配置为通过向所述基板台架提供前馈操纵变量来执行前馈控制，以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述掩模版台架与基板台架之间的同步误差，其中，所述前馈控制系统包括计算器，所述计算器被配置为获得彼此同步地驱动所述掩模版台架和基板台架时所述掩模版台架和基板台架的位置偏差、以及所述基板台架的输入/输出响应，并且基于所述掩模版台架与基板台架之间的同步误差以及所述基板台架的输入/输出响应计算所述前馈操纵变量，所述掩模版台架与基板台架之间的同步误差是从所述掩模版台架和基板台架的位置偏差获得的。
根据本发明的第四方面，提供一种用于曝光基板的曝光装置，所述曝光装置包括：基板台架，所述基板台架被配置为保持基板；以及控制装置，所述控制装置被配置为控制包括多个驱动轴的所述基板台架的驱动，所述基板台架包括所述多个驱动轴，并且所述控制装置包括反馈控制系统，所述反馈控制系统被配置为关于所述基板台架沿第一驱动轴和第二驱动轴中的每一个的驱动执行反馈控制，以减小所述基板台架与目标位置的位置偏差，所述第二驱动轴不同于所述第一驱动轴；以及前馈控制系统，所述前馈控制系统被配置为通过关于所述基板台架沿所述第二驱动轴的驱动向所述基板台架提供第一前馈操纵变量来执行前馈控制，以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述基板台架沿所述第一驱动轴的驱动对所述基板台架沿所述第二驱动轴的驱动的影响，其中，所述前馈控制系统包括计算器，所述计算器被配置为获得关于沿所述第一驱动轴的驱动要被提供给所述基板台架的第二前馈操纵变量、对关于沿所述第一驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述基板台架的所述第二驱动轴上的第一输入/输出响应、以及对关于沿所述第二驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述基板台架的所述第二驱动轴上的第二输入/输出响应，并且基于所述第二前馈操纵变量、第一输入/输出响应、以及第二输入/输出响应计算所述第一前馈操纵变量。
根据本发明的第五方面，提供一种制造物品的方法，所述方法包括：使用曝光装置曝光基板；显影经曝光的基板；以及从经显影的基板制造物品，其中，所述曝光装置包括基板台架，所述基板台架被配置为保持基板，掩模版台架，所述掩模版台架被配置为保持掩模版，所述掩模版具有要被转印到所述基板的图案，以及控制装置，所述控制装置被配置为执行同步控制，所述同步控制用于同步所述基板台架的驱动以便跟随所述掩模版台架的驱动，所述控制装置包括反馈控制系统，所述反馈控制系统被配置为对所述掩模版台架和基板台架中的每一个执行反馈控制，以减小与目标位置的位置偏差，以及前馈控制系统，所述前馈控制系统被配置为通过向所述基板台架提供前馈操纵变量来执行前馈控制，以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述掩模版台架与基板台架之间的同步误差，并且所述前馈控制系统包括计算器，所述计算器被配置为获得彼此同步地驱动所述掩模版台架和基板台架时所述掩模版台架和基板台架的位置偏差、以及所述基板台架的输入/输出响应，并且基于所述掩模版台架与基板台架之间的同步误差以及所述基板台架的输入/输出响应计算所述前馈操纵变量，所述掩模版台架与基板台架之间的同步误差是从所述掩模版台架和基板台架的位置偏差获得的。
根据本发明的第六方面，提供一种制造物品的方法，所述方法包括：使用曝光装置曝光基板；显影经曝光的基板；以及从经显影的基板制造物品，其中，所述曝光装置包括基板台架，所述基板台架被配置为保持基板，以及控制装置，所述控制装置被配置为控制包括多个驱动轴的所述基板台架的驱动，所述基板台架包括所述多个驱动轴，所述控制装置包括反馈控制系统，所述反馈控制系统被配置为关于所述基板台架沿第一驱动轴和第二驱动轴中的每一个的驱动执行反馈控制，以减小所述基板台架与目标位置的位置偏差，所述第二驱动轴不同于所述第一驱动轴，以及前馈控制系统，所述前馈控制系统被配置为通过关于所述基板台架沿所述第二驱动轴的驱动向所述基板台架提供第一前馈操纵变量来执行前馈控制，以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述基板台架沿所述第一驱动轴的驱动对所述基板台架沿所述第二驱动轴的驱动的影响，并且所述前馈控制系统包括计算器，所述计算器被配置为获得关于沿所述第一驱动轴的驱动要被提供给所述基板台架的第二前馈操纵变量、对关于沿所述第一驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述基板台架的所述第二驱动轴上的第一输入/输出响应、以及对关于沿所述第二驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述基板台架的所述第二驱动轴上的第二输入/输出响应，并且基于所述第二前馈操纵变量、第一输入/输出响应、以及第二输入/输出响应计算所述第一前馈操纵变量。
从以下参考附图对示例性实施例的描述，本发明的进一步的特征将变得清楚。
附图说明
图1是示出根据本发明的一个方面的曝光装置的布置的示意图。
图2是同步地驱动掩模版台架和基板台架的控制单元的控制框图。
图3是同步地驱动掩模版台架和基板台架的控制单元的控制框图。
图4是用于解释计算前馈表的处理的流程图。
图5是示出要被应用于电流驱动器的电流命令值的操纵变量的示例的定时图。
图6是根据第一实施例的同步地驱动掩模版台架和基板台架的控制单元的控制框图。
图7是用于解释根据第一实施例的计算前馈表的处理的流程图。
图8是用于解释根据第一实施例的计算前馈表的处理的流程图。
图9是示出基板台架的驱动轴的示图。
图10是控制基板台架的驱动的控制单元的控制框图。
图11是控制基板台架的驱动的控制单元的控制框图。
图12是用于解释计算前馈表的处理的流程图。
图13是根据第二实施例的控制基板台架的驱动的控制单元的控制框图。
图14是用于解释根据第二实施例的计算前馈表的处理的流程图。
图15是用于解释根据第二实施例的计算前馈表的处理的示图。
图16是用于解释根据第二实施例的计算前馈表的处理的示图。
图17是用于解释前馈表的更新的流程图。
具体实施方式
下面将参考附图描述本发明的优选实施例。注意，在整个附图中，相同的附图标记表示相同的部件，并且将不给出其重复描述。
<第一实施例>
图1是示出根据本发明的一个方面的曝光装置1的布置的示意图。曝光装置1是在作为半导体器件等的制造步骤的光刻步骤中被采用以在基板上形成图案的光刻装置。在本实施例中，曝光装置1通过步进扫描方法曝光基板以将掩模版的图案转印到基板上。
曝光装置1包括利用来自光源2的光照明掩模版4的照明光学系统3、保持和移动掩模版4的掩模版台架10、以及将掩模版4的图案投影到基板6上的投影光学系统5。另外，曝光装置1包括保持和移动基板6的基板台架20、镜子7、激光干涉仪8、以及控制单元9。
光源2使用准分子激光器，诸如具有大约248nm的波长的KrF准分子激光器或具有大约193nm的波长的ArF准分子激光器。然而，光源2的类型和光源2的数量不被特别限制，例如，可以使用具有大约157nm的波长的F2激光器作为光源2。
照明光学系统3是利用来自光源2的光照明掩模版4的光学系统。照明光学系统3包括对来自光源2的光的形状进行整形的射束整形光学系统、以及形成用于以均匀的照度分布照明掩模版4的多个二次光源的光学积分器(integrator)。
掩模版4具有要被转印到基板6上的图案，并且由掩模版台架10保持和驱动。由掩模版4(的图案)衍射的光经由投影光学系统5投影到基板6上。掩模版4和基板6以光学共轭关系被布置。由于曝光装置1是步进扫描曝光装置，因此它通过同步扫描掩模版4和基板6将掩模版4的图案转印到基板6上。
掩模版台架10包括用于保持(吸住)掩模版4的吸盘，并且被配置为在X轴方向、Y轴方向、Z轴方向、以及轴的旋转方向上可移动。假设掩模版4或基板6的平面中的扫描方向被设定为Y轴，垂直于Y轴的方向被设定为X轴，并且垂直于掩模版4或基板6的平面的方向被设定为Z轴。
投影光学系统5是将掩模版4的图案投影到基板6上的光学系统。作为投影光学系统5，可以使用折射系统、反射折射系统、或者反射系统。
基板6是掩模版4的图案被投影(转印)其上的基板。抗蚀剂(感光剂)被应用于基板6。基板6包括硅基板、玻璃板、或者任何其它基板。
基板台架20包括用于保持(吸住)基板6的吸盘，并且被配置为在X轴方向、Y轴方向、Z轴方向、以及轴的旋转方向上可移动。镜子7被固定到基板台架20，并且激光干涉仪8通过使用镜子7检测基板台架20的位置和速度。
控制单元9由包括CPU和存储器的计算机形成，并且通过根据存储在存储单元中的程序全面地控制曝光装置1的单元来操作曝光装置1。例如，控制单元9控制掩模版台架10和基板台架20的同步驱动。在本实施例中，控制单元9将掩模版台架10和基板台架20设定为控制目标。更具体地，控制单元9执行用于同步基板台架20(第二移动部件)的驱动以便跟随掩模版台架10(第一移动部件)的驱动的同步驱动，即，执行同步控制(用作控制装置)。
图2是同步地驱动(同步地控制)掩模版台架10和基板台架20的控制单元9的控制框图。参考图2，为了控制掩模版台架10(的驱动)，布置控制器11、电流驱动器12、以及充当驱动掩模版台架10的驱动单元的线性马达13。类似地，为了控制基板台架20(的驱动)，布置控制器21、电流驱动器22、以及充当驱动基板台架20的驱动单元的线性马达23。
如图2中所示，反馈控制环路(反馈控制系统)FBR和FBW分别被布置在台架的控制块中。反馈控制环路FBR和FBW分别对掩模版台架10和基板台架20执行反馈控制以减小与目标位置的位置偏差。掩模版台架10的反馈控制环路FBR向电流驱动器12提供由控制器11基于作为掩模版台架10的检测位置15与位置命令值16之间的差值的位置偏差14决定(计算)的电流命令值。电流驱动器12向线性马达13提供与电流命令值对应的电流值，由此驱动掩模版台架10。类似地，基板台架20的反馈控制环路FBW向电流驱动器22提供由控制器21基于作为基板台架20的检测位置25与位置命令值26之间的差值的位置偏差24决定(计算)的电流命令值。电流驱动器22向线性马达23提供与电流命令值对应的电流值，由此驱动基板台架20。
当通过主-从方法同步地驱动掩模版台架10和基板台架20时，掩模版台架10的位置偏差14经由同步通过滤波器(pass filter)30被加到基板台架20的位置偏差24。这控制基板台架20以便跟随掩模版台架10的驱动。同步通过滤波器30考虑充当从设备的基板台架20的控制带执行滤波(例如，低通滤波)。
参考图2，同步误差41指示掩模版台架10的位置偏差14与基板台架20的位置偏差24之间的差值。注意，如果投影光学系统5的倍率(掩模版4的图案的缩放)是1/N，则同步驱动台架时掩模版台架10的驱动行程是基板台架20的驱动行程的N倍。因此，获得作为基板台架20的位置偏差24与通过将掩模版台架10的位置偏差14乘以1/N获得的值之间的差值的同步误差41。
图3是在应用日本专利No.5968017中公开的技术时同步地驱动(同步地控制)掩模版台架10和基板台架20的控制单元9的控制框图。参考图3，计算器17、前馈表18、以及转换开关100被添加到掩模版台架10的控制块。换句话说，执行前馈控制以减小与目标位置的位置偏差的前馈控制系统FCR被布置在掩模版台架10的控制块中。计算器17基于掩模版台架10的位置偏差14计算(生成)前馈表18。转换开关100是用于切换是否将前馈表18应用于对于电流驱动器12的电流命令值的开关。类似地，计算器27、前馈表28、以及转换开关200被添加到基板台架20的控制块。换句话说，执行前馈控制以减小与目标位置的位置偏差的前馈控制系统FCW被布置在基板台架20的控制块中。计算器27基于基板台架20的位置偏差24计算(生成)前馈表28。转换开关200是用于切换是否将前馈表28应用于对于电流驱动器22的电流命令值的开关。
将参考图4描述日本专利No.5968017中公开的技术中计算前馈表18和28的处理。在该处理中，计算器17和27分别基于台架的位置偏差计算前馈表18和28。
在步骤S11中，转换开关100和200被关断以设定前馈表18和28分别不被应用于电流驱动器12和22的电流命令值的状态。
在步骤S12中，在与实际使用时(曝光基板6的曝光处理时)的轨道相同的轨道上同步地驱动掩模版台架10和基板台架20的同时，测量台架的位置偏差14和24。在该示例中，eRSt表示掩模版台架10的测量位置偏差，eWSt表示基板台架20的测量位置偏差。对于位置偏差eRSt和eWSt中的每一个，在期望抑制位置偏差的采样时间区间(t＝1至M)中提取数据。提取的台架的位置偏差ERRRS和ERRWS由下式给出：
Figure BDA0002117892030000092
在步骤S13中，测量每个台架的控制响应(输入/输出响应)。更具体地，在掩模版台架10保持静止的状态(位置命令值16为零)下，转换开关100被接通以代替前馈表18而将图5中所示的操纵变量FFΔ应用于电流驱动器12的电流命令值。然后，测量掩模版台架10的控制响应rRSt。注意，在本实施例中，由于操纵变量FFΔ是脉冲信号，因此掩模版台架10的控制响应rRSt是脉冲响应。然而，可以应用阶梯信号作为操纵变量FFΔ。在这种情况下，掩模版台架10的控制响应rRSt是阶梯响应。类似地，在基板台架20保持静止的状态(位置命令值26为零)下，转换开关200被接通以代替前馈表28而将图5中所示的操纵变量FFΔ应用于电流驱动器22的电流命令值。然后，测量基板台架20的控制响应rWSt。此外，在任意区间中从测量的控制响应rRSt和rWSt提取数据。为了方便起见，设定t＝1至M。然而，可以设定t＝T+1至T+M(T表示任意采样时间)。提取的台架的控制响应RSPRS和RSPWS由下式给出：
Figure BDA0002117892030000101
在步骤S14中，计算关于每个台架的前馈表(前馈操纵变量)。令FFRS是关于掩模版台架10的前馈表并且FFWS是关于基板台架20的前馈表。关于掩模版台架10，从在步骤S12中测量的位置偏差ERRRS和在步骤S13中测量的控制响应RSPRS，基于抑制位置偏差ERRRS的位置偏差计算前馈表FFRS。类似地，关于基板台架20，从在步骤S12中测量的位置偏差ERRWS和在步骤S13中测量的控制响应RSPWS，基于抑制位置偏差ERRWS的位置偏差计算前馈表FFWS。
将详细描述前馈表FFRS和FFWS的计算。假设即使在一次采样操作之后应用操纵变量FFΔ时也对各个台架获得控制响应RSPRS和RSPWS，并且控制响应由RSPRS1和RSPWS1表示。类似地，两次、三次、......、N次采样操作之后的控制响应由RSPRS2和RSPWS2、RSPRS3和RSPWS3、......、RSPRSN和RSPWSN表示。在这种情况下，掩模版台架10的控制响应RSPRS0、RSPRS1、......、RSPRSN由下式给出：
Figure BDA0002117892030000103
注意，基板台架20与掩模版台架10类似，并且下面将省略其描述。
如果掩模版台架10的控制响应具有线性，则对于通过将操纵变量FFΔ乘以任意增益g获得的g·FFΔ掩模版台架10的控制响应由g·RSPRS给出。因此，令gN为N次采样操作之后的操纵变量FFΔ的增益，则满足等式(6)。
Figure BDA0002117892030000111
注意，应用N次采样操作之后的所有操纵变量FFΔ时掩模版台架10的响应R等于N个响应之和，其由下式给出：
Figure BDA0002117892030000112
为了通过将前馈表FFRS应用于掩模版台架10(电流驱动器12的电流命令值)来去除(消除)位置偏差ERRRS，响应数据R仅需要等于位置偏差ERRRS。因此，可以通过使用如由下式给出的伪逆矩阵获得增益gN：
ERRRS＝R
Figure BDA0002117892030000113
Figure BDA0002117892030000114
通过使用由此获得的增益gN，获得基于抑制掩模版台架10的位置偏差ERRRS的位置偏差的前馈表FFRS(通过将操纵变量FFΔ乘以增益gN获得的gN·FFΔ)。
由此获得的前馈表FFRS和FFWS分别作为前馈表18和28存储在掩模版台架10和基板台架20的控制块的存储单元中。然后，在曝光处理中的掩模版台架10和基板台架20的驱动期间，前馈表18和28分别根据台架的检测位置15和25被应用于台架。此时，通过应用前馈表18抑制掩模版台架10的位置偏差14。因此，应用于基板台架20以跟随掩模版台架10的驱动的掩模版台架10的位置偏差14不同于前馈表18应用于掩模版台架10之前的位置偏差。然而，前馈表28是为了抑制包括前馈表18应用于掩模版台架10之前的位置偏差14的位置偏差而获得的表。因此，如果前馈表28应用于基板台架20，则不能精确地校正基板台架20的位置，并且基板台架20的位置偏差24变大。作为结果，掩模版台架10与基板台架20之间的同步误差41变大，从而降低曝光精度。
为了解决该问题，在本实施例中，如图6中所示，在基板台架20的控制块中提供计算器51以代替计算器27。换句话说，执行前馈控制的前馈控制系统FCCW被布置在基板台架20的控制块中。如稍后将描述的那样，与前馈控制系统FCW不同，前馈控制系统FCCW执行前馈控制以减小在反馈控制被执行的状态下掩模版台架10与基板台架20之间的同步误差。图6是根据本实施例的同步地驱动(同步地控制)掩模版台架10和基板台架20的控制单元9的控制框图。
计算器51基于掩模版台架10与基板台架20之间的同步误差41以及基板台架20的控制响应RSPWS计算(生成)前馈表52。然后，通过将前馈表52应用于对于电流驱动器22的电流命令值可以抑制基板台架20的位置偏差24，由此抑制掩模版台架10与基板台架20之间的同步误差41。
将参考图7描述根据第一实施例的计算前馈表52的处理。在该处理中，计算器51基于掩模版台架10与基板台架20之间的同步误差41计算前馈表52。
在步骤S21中，转换开关100和200被关断以设定台架的前馈表18和52不被应用于电流驱动器12和22的电流命令值的状态。
在步骤S22中，在与实际使用时(曝光基板6的曝光处理时)的轨道相同的轨道上同步地驱动掩模版台架10和基板台架20的同时，测量(获得)台架的位置偏差14和24。然后，与日本专利No.5968017中公开的技术类似，在期望抑制台架的位置偏差的采样时间区间中提取数据，并且ERRRS和ERRWS分别表示提取的掩模版台架10和基板台架20的位置偏差。
在步骤S23中，测量基板台架20的控制响应。更具体地，在基板台架20保持静止的状态(位置命令值26为零)下，将图5中所示的操纵变量FFΔ应用于电流驱动器22的电流命令值。然后，测量基板台架20的控制响应以在任意区间中提取数据，并且RSPWS表示提取的基板台架20的控制响应。
在步骤S24中，从在步骤S22中测量的位置偏差ERRRS和ERRWS之间的差值计算同步误差SYN，其由下式给出：
在步骤S25中，计算关于基板台架20的前馈表。关于基板台架20的前馈表由FFSYN表示。更具体地，与等式(8)类似，从在步骤S24中计算的同步误差SYN和在步骤S23中测量的控制响应RSPWS获得增益gN，其由下式给出：
Figure BDA0002117892030000132
然后，基于抑制同步误差SYN的同步误差计算前馈表FFSYN。
由此获得的前馈表FFSYN作为前馈表52存储在基板台架20的控制块的存储单元中。然后，在曝光处理中的掩模版台架10和基板台架20的驱动期间(当执行同步驱动时)，前馈表52根据基板台架20的检测位置25被应用于基板台架20。注意，前馈表18不被应用于掩模版台架10。这可以抑制掩模版台架10与基板台架20之间的同步误差41，从而抑制由同步误差41引起的曝光精度的下降。
注意，在本实施例中，如图8中所示，可以基于在前馈表18被应用于掩模版台架10的状态下掩模版台架10与基板台架20之间的同步误差计算前馈表52。图8是用于解释根据第一实施例的计算前馈表52的处理的流程图。
在步骤S31中，转换开关100和200被关断以设定台架的前馈表18和52不被应用于电流驱动器12和22的电流命令值的状态。
在步骤S32中，在与实际使用时(曝光基板6的曝光处理时)的轨道相同的轨道上同步地驱动掩模版台架10和基板台架20的同时，测量掩模版台架10的位置偏差14。然后，与日本专利No.5968017中公开的技术类似，在期望抑制掩模版台架10的位置偏差的采样时间区间中提取数据，并且ERRRS表示提取的掩模版台架10的位置偏差。
在步骤S33中，测量掩模版台架10的控制响应。更具体地，在掩模版台架10保持静止的状态(位置命令值16为零)下，将图5中所示的操纵变量FFΔ应用于电流驱动器22的电流命令值。然后，测量掩模版台架10的控制响应以在任意区间中提取数据，并且RSPRS表示提取的掩模版台架10的控制响应。
在步骤S34中，计算关于掩模版台架10的前馈表。关于掩模版台架10的前馈表由FFRS表示。更具体地，从在步骤S32中测量的位置偏差ERRRS和在步骤S33中测量的控制响应RSPRS，根据等式(8)基于抑制位置偏差ERRRS的位置偏差计算前馈表FFRS。由此获得的前馈表FFRS作为前馈表18存储在掩模版台架10的控制块的存储单元中。
在步骤S35中，转换开关100被接通以设定前馈表18被应用于电流驱动器12的电流命令值(掩模版台架10)的状态。
在步骤S36中，在与实际使用时(曝光基板6的曝光处理时)的轨道相同的轨道上同步地驱动掩模版台架10和基板台架20的同时，测量台架的位置偏差14和24。然后，与日本专利No.5968017中公开的技术类似，在期望抑制台架的位置偏差的采样时间区间中提取数据，并且ERRRS'和ERRWS分别表示提取的掩模版台架10和基板台架20的位置偏差。
在步骤S37中，从在步骤S36中测量的位置偏差ERRRS'和ERRWS之间的差值计算同步误差SYN'。
在步骤S38中，测量基板台架20的控制响应。更具体地，在基板台架20保持静止的状态(位置命令值26为零)下，将图5中所示的操纵变量FFΔ应用于电流驱动器22的电流命令值。然后，测量基板台架20的控制响应以在任意区间中提取数据，并且RSPWS表示提取的基板台架20的控制响应。
在步骤S39中，计算关于基板台架20的前馈表。关于基板台架20的前馈表由FFSYN'表示。更具体地，从在步骤S37中计算的同步误差SYN'和在步骤S38中测量的控制响应RSPWS，根据等式(10)基于抑制同步误差SYN'的同步误差计算前馈表FFSYN'。
由此获得的前馈表FFSYN'作为前馈表52存储在基板台架20的控制块的存储单元中。然后，在曝光处理中的掩模版台架10和基板台架20的驱动期间，前馈表18和52根据台架的检测位置15和25被应用于台架。与仅将前馈表52应用于基板台架20的情况相比，这可以抑制掩模版台架10的位置偏差14以及掩模版台架10与基板台架20之间的同步误差41，从而提高曝光精度。
本实施例假设掩模版台架10充当主设备，并且基板台架20充当从设备。然而，主设备与从设备之间的关系可以反过来。另外，本实施例不限于曝光装置，并且还可应用于包括移动部件和使用主-从方法的装置。
<第二实施例>
本实施例将描述考虑基板台架20的驱动轴之间的干涉关系计算前馈表的情况。基板台架20是包括多个驱动轴的移动部件，并且在本实施例中，如图9中所示，具有六个驱动轴(驱动方向X、Y、Z、wX、wY、以及wZ)。
图10是控制单元9的控制框图，该控制单元9控制基板台架20的驱动，更具体地，关于驱动轴wZ和X的驱动。参考图10，为了控制基板台架20的关于驱动轴wZ的驱动，布置控制器71、电流驱动器72、以及线性马达73。类似地，为了控制基板台架20的关于驱动轴X的驱动，布置控制器81、电流驱动器82、以及线性马达83。注意，图10中所示的虚线箭头表示驱动轴wZ干涉驱动轴X(wZ→X)。这意味着，即使仅关于驱动轴wZ驱动基板台架20，也出现关于没有被驱动的驱动轴X的位置偏差。
如图10中所示，反馈控制环路(反馈控制系统)FBwZ和FBX分别被布置在基板台架20的驱动轴wZ和X的控制块中。反馈控制环路FBwZ和FBX对基板台架20的驱动轴wZ和X的驱动分别执行反馈控制以减小与目标位置的位置偏差。基板台架20的关于驱动轴wZ的反馈控制环路FBwZ向电流驱动器72提供由控制器71基于作为关于驱动轴wZ的基板台架20的检测位置75与位置命令值76之间的差值的位置偏差74决定(计算)的电流命令值。电流驱动器72向线性马达73提供与电流命令值对应的电流值，由此关于驱动轴wZ驱动基板台架20。类似地，基板台架20的关于驱动轴X的反馈控制环路FBX向电流驱动器82提供由控制器81基于作为关于驱动轴X的基板台架20的检测位置85与位置命令值86之间的差值的位置偏差84决定(计算)的电流命令值。电流驱动器82向线性马达83提供与电流命令值对应的电流值，由此关于驱动轴X驱动基板台架20。
图11是控制单元9的控制框图，该控制单元9在应用日本专利No.5968017中公开的技术时控制基板台架20的关于驱动轴wZ和X的驱动。参考图11，计算器77、前馈表78、以及转换开关700被添加到基板台架20的关于驱动轴wZ的控制块。换句话说，执行前馈控制以减小与目标位置的位置偏差的前馈控制系统FCwZ被布置在基板台架20的关于驱动轴wZ的控制块中。计算器77基于基板台架20的关于驱动轴wZ的位置偏差74计算(生成)前馈表78。转换开关700是用于切换是否将前馈表78应用于对于电流驱动器72的电流命令值的开关。类似地，计算器87、前馈表88、以及转换开关800被添加到基板台架20的关于驱动轴X的控制块。换句话说，执行前馈控制以减小与目标位置的位置偏差的前馈控制系统FCX被布置在基板台架20的关于驱动轴X的控制块中。计算器87基于基板台架20的关于驱动轴X的位置偏差84计算(生成)前馈表88。转换开关800是用于切换是否将前馈表88应用于对于电流驱动器82的电流命令值的开关。
将参考图12描述根据日本专利No.5968017中公开的技术计算前馈表78和88的处理。在该处理中，计算器77和87分别基于基板台架20的关于驱动轴wZ和X的位置偏差计算前馈表78和88。
在步骤S41中，转换开关700和800被关断以设定基板台架20的关于驱动轴的前馈表78和88分别不被应用于电流驱动器72和82的电流命令值的状态。
在步骤S42中，在关于驱动轴wZ和X同时地驱动基板台架20的同时，测量基板台架20的关于驱动轴wZ和X的位置偏差74和84。然后，在期望抑制基板台架20的关于驱动轴的位置偏差的采样时间区间中提取数据。提取的基板台架20的关于驱动轴wZ的位置偏差由ERRwZ→wZ表示，提取的基板台架20的关于驱动轴X的位置偏差由ERRX→X表示。
在步骤S43中，测量基板台架20的关于每个驱动轴的控制响应。更具体地，在基板台架20关于所有驱动轴保持静止的状态(位置命令值76和86为零)下，将图5中所示的操纵变量FFΔ作为关于驱动轴wZ的驱动的操纵变量应用于电流驱动器72的电流命令值。然后，测量基板台架20的关于驱动轴wZ的控制响应rwZt以在任意区间中提取数据，并且RSPwZ→wZ表示提取的基板台架20的关于驱动轴wZ的控制响应。类似地，在基板台架20关于所有驱动轴保持静止的状态(位置命令值76和86为零)下，将图5中所示的操纵变量FFΔ作为关于驱动轴X的驱动的操纵变量应用于电流驱动器82的电流命令值。然后，测量基板台架20的关于驱动轴X的控制响应rXt以在任意区间中提取数据，并且RSPX→X表示提取的基板台架20的关于驱动轴X的控制响应。
在步骤S44中，计算基板台架20的关于每个驱动轴的前馈表。基板台架20的关于驱动轴wZ的前馈表由FFwZ→wZ表示，基板台架20的关于驱动轴X的前馈表由FFX→X表示。关于基板台架20的驱动轴wZ，通过使用等式(8)，基于在步骤S42中测量的位置偏差ERRwZ→wZ和在步骤S43中测量的控制响应RSPwZ→wZ获得增益gwZ→wZN。然后，基于增益gwZ→wZN和抑制基板台架20的关于驱动轴wZ的位置偏差ERRwZ→wZ的位置偏差计算基板台架20的关于驱动轴wZ的前馈表FFwZ→wZ。类似地，关于基板台架20的驱动轴X，通过使用等式(8)，基于在步骤S42中测量的位置偏差ERRX→X和在步骤S43中测量的控制响应RSPX→X获得增益gX→XN。然后，基于增益gX→XN和抑制基板台架20的关于驱动轴X的位置偏差ERRX→X的位置偏差计算基板台架20的关于驱动轴X的前馈表FFX→X。
由此获得的前馈表FFwZ→wZ和FFX→X作为前馈表78和88存储在基板台架20的驱动轴的控制块的存储单元中。然后，当同时关于驱动轴wZ和X驱动基板台架20时，前馈表FFwZ→wZ和FFX→X根据关于驱动轴的检测位置75和85被应用于基板台架20的驱动轴。这可以抑制基板台架20的关于驱动轴wZ和X的位置偏差ERRwZ→wZ和ERRX→X。然而，由于前馈表FFwZ→wZ干涉基板台架20的驱动轴X，因此由于干涉在驱动轴X上出现位置偏差ERRwZ→X，由此增大关于驱动轴X的位置偏差。
在本实施例中，如图13中所示，在基板台架20的关于驱动轴X的控制块中提供计算器801以代替计算器87。换句话说，执行前馈控制的前馈控制系统FCCX被布置在基板台架20的关于驱动轴X的控制块中。如稍后将描述的那样，与前馈控制系统FCX不同，前馈控制系统FCCX执行前馈控制以减小在反馈控制被执行的状态下关于驱动轴wZ的驱动对关于驱动轴X的驱动的影响。图13是根据本实施例的控制单元9的控制框图，该控制单元9控制基板台架20的关于驱动轴wZ和X的驱动。
计算器801考虑基板台架20的驱动轴wZ和X之间的干涉关系计算前馈表802。然后，前馈表802被应用于基板台架20的关于驱动轴X的控制块。这可以抑制由来自驱动轴wZ的干涉引起的关于驱动轴X的位置偏差ERRwZ→X，并且还抑制关于驱动轴X的位置偏差ERRX→X。
将参考图14描述根据第二实施例的计算前馈表802的处理。执行步骤S41至S44以计算基于抑制位置偏差ERRwZ→wZ的位置偏差的前馈表FFwZ→wZ和基于抑制位置偏差ERRX→X的位置偏差的前馈表FFX→X。注意，如图13中所示，在计算前馈表FFwZ→wZ时获得的增益gwZ→wZN作为增益91存储在基板台架20的控制块的存储单元中。
在步骤S55中，当向基板台架20的驱动轴wZ(干涉源的驱动轴)输入操纵变量时，测量关于驱动轴X(干涉目的地的驱动轴)的控制响应。更具体地，在基板台架20关于所有驱动轴保持静止的状态下，转换开关700被接通以将前馈表FFwZ→wZ应用于基板台架20的驱动轴wZ。在该状态下，将图5中所示的操纵变量FFΔ作为基板台架20的关于驱动轴Z的驱动的操纵变量应用于电流驱动器72的电流命令值。然后，测量基板台架20的关于驱动轴X的控制响应rwZ→Xt以在任意区间中提取数据，并且RSPwZ→X表示基板台架20的关于驱动轴X的控制响应92。
在步骤S56中，在前馈表FFwZ→wZ被应用于基板台架20的驱动轴wZ的状态下获得关于驱动轴X的位置偏差ERRwZ→X。更具体地，基于增益gwZ→wZN和在步骤S55中测量的控制响应RSPwZ→X获得基板台架20的关于驱动轴X的位置偏差ERRwZ→X，其由下式给出：
ERRwZ→X＝RSPwZ→X·gwZ→wZ
Figure BDA0002117892030000191
在步骤S57中，基于由基板台架20的驱动轴的干涉引起的位置偏差计算前馈表FFwZ→X。更具体地，从在步骤S56中获得的位置偏差ERRwZ→X和在步骤S43中测量的控制响应RSPX→X，基于抑制位置偏差ERRwZ→X的位置偏差计算前馈表FFwZ→X。在本实施例中，通过由下式获得增益gwZ→X来计算前馈表FFwZ→X：
gwZ→X＝RSPX→X-1·ERRwZ→X
Figure BDA0002117892030000201
在步骤S58中，计算基于基板台架20的驱动轴之间的干涉关系的前馈表FFX。更具体地，对在步骤S44中计算的前馈表FFX→X和在步骤S57中计算的前馈表FFwZ→X进行相加，其由下式给出：
FFX＝FFX→X+FFwZ→X ...(13)
这计算基板台架20的关于驱动轴X的前馈表FFX。
由此获得的前馈表FFX→X作为前馈表802存储在基板台架20的驱动轴X的控制块的存储单元中。然后，当同时关于驱动轴wZ和X驱动基板台架20时，前馈表FFwZ→wZ和FFX→X分别根据关于驱动轴的检测位置75和85被应用于基板台架20的驱动轴。这可以抑制当前馈表FFwZ→wZ被应用于基板台架20的驱动轴wZ时引起的驱动轴X上的位置偏差ERRwZ→X，并且还抑制驱动轴X上的位置偏差ERRX→X。
在本实施例中，驱动轴wZ和X之间的干涉关系已作为基板台架20的驱动轴之间的干涉关系被例示。然而，对于驱动轴的另一组合能够获得相同的效果。
将参考图15描述当在基板台架20中驱动轴具有多对一干涉关系时计算前馈表802的处理。当基板台架20的驱动轴Ai(i＝1至n)干涉驱动轴X时，基于干涉关系的前馈表FFX由下式给出：
Figure BDA0002117892030000202
在等式(14)中，右手边的第一项指示基于位置偏差的前馈表FFX→X，该位置偏差抑制基板台架20的关于干涉目的地的驱动轴X的位置偏差ERRX→X。右手边的第二项指示基于位置偏差的前馈表FFAi→X，该位置偏差抑制当前馈表FFAi→Ai被应用于基板台架20的干涉源的驱动轴Ai时引起的干涉目的地的驱动轴X上的位置偏差ERRAi→X。
将参考图16描述当在基板台架20中多个驱动轴Ai(i＝1至n)彼此干涉时计算基于多对多干涉关系的前馈表的处理。在这种情况下，可以通过对基板台架20的每个驱动轴假设多对一干涉关系，使用等式(14)计算前馈表。这是因为用于计算由等式(14)指示的前馈表FFX的控制响应RSPX→X和RSPwZ→wZ以及位置偏差ERRwZ→wZ和ERRAi→X在驱动轴彼此干涉的状态下被测量。
本实施例已解释了基于基板台架20的驱动轴之间的干涉关系的前馈表。然而，该前馈表可以与基于掩模版台架10与基板台架20之间的同步误差的前馈表(第一实施例)组合。在这种情况下，由于能够不仅抑制掩模版台架10与基板台架20之间的同步误差而且还抑制由每个台架的驱动轴之间的干涉引起的位置偏差，因此可以进一步提高曝光精度。
如图17中所示，在第一和第二实施例中的每一个中描述的前馈表可以被更新。在第一和第二实施例中的每一个中描述的前馈表由FF表示。
在步骤S61中，测量在应用前馈表FF时引起的基板台架20的每个驱动轴上的位置偏差或者掩模版台架10与基板台架20之间的同步误差。然后，在期望抑制位置偏差或同步误差的采样时间区间中提取数据。
在步骤S62中，根据在第一或第二实施例中描述的过程计算用于抑制在步骤S61中测量的位置偏差或同步误差的前馈表FF'。
在步骤S63中，在步骤S62中计算的前馈表FF'被加到前馈表FF，由此将前馈表更新为新的前馈表FF。
注意，可以重复步骤S61至S63，直到基板台架20的每个驱动轴上的位置偏差或者掩模版台架10与基板台架20之间的同步误差落入允许的范围内。
<第三实施例>
根据本发明的实施例的制造物品的方法优选制造诸如设备(半导体器件、磁存储介质、液晶显示元件等)、滤色器、光学组件或MEMS的物品。该制造方法包括通过使用上述曝光装置1曝光涂有感光剂的基板的步骤和显影经曝光的感光剂的步骤。使用经显影的感光剂的图案作为掩模(mask)对基板执行蚀刻步骤和离子注入步骤，由此在基板上形成电路图案。通过重复诸如曝光、显影、以及蚀刻步骤的步骤，在基板上形成由多个层形成的电路图案。在后续步骤中，对其上已形成电路图案的基板执行切割(处理)，并且执行芯片的安装、接合、以及检查步骤。制造方法还可以包括其它已知步骤(氧化、沉积、气相沉积、掺杂、平坦化、抗蚀剂去除等)。根据本实施例的制造物品的方法在物品的性能、质量、生产率、以及生产成本中的至少一个上优于传统的方法。
本实施例已例示了曝光装置的基板台架。然而，例如，本发明可应用于曝光装置的掩模版台架或具有另一移动部件的装置。
虽然已参考示例性实施例描述了本发明，但是要理解的是，本发明不限于所公开的示例性实施例。以下权利要求的范围要被赋予最广泛的解释，以便涵盖所有这样的修改以及等同的结构和功能。

Claims (18)

1.一种用于执行同步控制的控制装置，所述同步控制用于同步第二移动部件的驱动以便跟随第一移动部件的驱动，所述控制装置包括：
反馈控制系统，所述反馈控制系统被配置为对所述第一移动部件和第二移动部件中的每一个执行反馈控制，以减小与目标位置的位置偏差；以及
前馈控制系统，所述前馈控制系统被配置为通过向所述第二移动部件提供前馈操纵变量来执行前馈控制，以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差，
其中，所述前馈控制系统包括计算器，所述计算器被配置为获得彼此同步地驱动所述第一移动部件和第二移动部件时所述第一移动部件和第二移动部件的位置偏差、以及所述第二移动部件的输入/输出响应，并且基于所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差以及所述第二移动部件的输入/输出响应计算所述前馈操纵变量，所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差是从所述第一移动部件和第二移动部件的位置偏差获得的。
2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述前馈控制系统包括被配置为存储由所述计算器计算的所述前馈操纵变量的存储单元，并且在执行同步控制时向所述第二移动部件提供存储在所述存储单元中的所述前馈操纵变量。
3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述前馈控制系统包括被配置为驱动所述第二移动部件的驱动单元以及所述驱动单元的驱动器，并且向所述驱动器的输入提供存储在所述存储单元中的所述前馈操纵变量。
4.根据权利要求1所述的装置，其中，所述计算器获得数据，并且从所述数据计算所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差，所述数据是在对所述第一移动部件和第二移动部件中的每一个仅执行反馈控制的状态下、通过在彼此同步地驱动所述第一移动部件和第二移动部件的同时测量所述第二移动部件和第一移动部件的位置偏差获得的。
5.根据权利要求1所述的装置，其中，所述计算器获得数据，并且从所述数据获得所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差，所述数据是在通过向所述第一移动部件提供操纵变量来执行前馈控制的状态下、通过在彼此同步地驱动所述第一移动部件和第二移动部件的同时测量所述第二移动部件和第一移动部件的位置偏差获得的，所述操纵变量是基于在对所述第一移动部件和第二移动部件中的每一个执行反馈控制以及对所述第一移动部件仅执行反馈控制的状态下、通过在驱动所述第一移动部件的同时测量所述第一移动部件的位置偏差获得的数据、以及所述第一移动部件的输入/输出响应计算的。
6.根据权利要求5所述的装置，其中，在执行同步控制时，所述前馈控制系统向所述第一移动部件提供所述操纵变量，并且执行前馈控制以减小所述第一移动部件的位置偏差。
7.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第二移动部件的输入/输出响应包括在所述第二移动部件保持静止的状态下向所述第二移动部件提供操纵变量时的输入/输出响应。
8.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第二移动部件的输入/输出响应包括脉冲响应和阶梯响应中的一个。
9.根据权利要求1所述的装置，其中，
所述第二移动部件包括被配置为保持基板的基板台架，并且
所述第一移动部件包括被配置为保持掩模版的掩模版台架，所述掩模版具有要被转印到所述基板的图案。
10.一种用于控制包括多个驱动轴的移动部件的驱动的控制装置，所述控制装置包括：
反馈控制系统，所述反馈控制系统被配置为关于所述移动部件沿第一驱动轴和第二驱动轴中的每一个的驱动执行反馈控制，以减小所述移动部件与目标位置的位置偏差，所述第二驱动轴不同于所述第一驱动轴；以及
前馈控制系统，所述前馈控制系统被配置为通过关于所述移动部件沿所述第二驱动轴的驱动向所述移动部件提供第一前馈操纵变量来执行前馈控制，以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述移动部件沿所述第一驱动轴的驱动对所述移动部件沿所述第二驱动轴的驱动的影响，
其中，所述前馈控制系统包括计算器，所述计算器被配置为获得关于沿所述第一驱动轴的驱动要被提供给所述移动部件的第二前馈操纵变量、对关于沿所述第一驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述移动部件的所述第二驱动轴上的第一输入/输出响应、以及对关于沿所述第二驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述移动部件的所述第二驱动轴上的第二输入/输出响应，并且基于所述第二前馈操纵变量、第一输入/输出响应、以及第二输入/输出响应计算所述第一前馈操纵变量。
11.根据权利要求10所述的装置，其中，所述前馈控制系统包括被配置为存储由所述计算器计算的所述第一前馈操纵变量的存储单元，并且在沿所述第一驱动轴和第二驱动轴驱动所述移动部件时关于所述移动部件沿所述第二驱动轴的驱动向所述移动部件提供存储在所述存储单元中的所述第一前馈操纵变量。
12.根据权利要求10所述的装置，其中，所述计算器获得数据以及对关于沿所述第一驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述移动部件的所述第一驱动轴上的第三输入/输出响应，并且基于所述数据和第三输入/输出响应计算所述第二前馈操纵变量，所述数据是在对所述移动部件仅执行反馈控制的状态下、通过在沿所述第一驱动轴和第二驱动轴驱动所述移动部件的同时测量所述移动部件沿所述第一驱动轴的位置偏差获得的。
13.根据权利要求10所述的装置，其中，所述第一输入/输出响应和第二输入/输出响应中的每一个包括脉冲响应和阶梯响应中的一个。
14.根据权利要求10所述的装置，其中，所述移动部件包括被配置为保持基板的基板台架，掩模版的图案被转印到所述基板上。
15.一种用于曝光基板的曝光装置，所述曝光装置包括：
基板台架，所述基板台架被配置为保持基板；
掩模版台架，所述掩模版台架被配置为保持掩模版，所述掩模版具有要被转印到所述基板的图案；以及
控制装置，所述控制装置被配置为执行同步控制，所述同步控制用于同步所述基板台架的驱动以便跟随所述掩模版台架的驱动，
所述控制装置包括
反馈控制系统，所述反馈控制系统被配置为对所述掩模版台架和基板台架中的每一个执行反馈控制，以减小与目标位置的位置偏差，以及
前馈控制系统，所述前馈控制系统被配置为通过向所述基板台架提供前馈操纵变量来执行前馈控制，以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述掩模版台架与基板台架之间的同步误差，
其中，所述前馈控制系统包括计算器，所述计算器被配置为获得彼此同步地驱动所述掩模版台架和基板台架时所述掩模版台架和基板台架的位置偏差、以及所述基板台架的输入/输出响应，并且基于所述掩模版台架与基板台架之间的同步误差以及所述基板台架的输入/输出响应计算所述前馈操纵变量，所述掩模版台架与基板台架之间的同步误差是从所述掩模版台架和基板台架的位置偏差获得的。
16.一种用于曝光基板的曝光装置，所述曝光装置包括：
基板台架，所述基板台架被配置为保持基板；以及
控制装置，所述控制装置被配置为控制包括多个驱动轴的所述基板台架的驱动，
所述基板台架包括所述多个驱动轴，并且
所述控制装置包括
反馈控制系统，所述反馈控制系统被配置为关于所述基板台架沿第一驱动轴和第二驱动轴中的每一个的驱动执行反馈控制，以减小所述基板台架与目标位置的位置偏差，所述第二驱动轴不同于所述第一驱动轴；以及
前馈控制系统，所述前馈控制系统被配置为通过关于所述基板台架沿所述第二驱动轴的驱动向所述基板台架提供第一前馈操纵变量来执行前馈控制，以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述基板台架沿所述第一驱动轴的驱动对所述基板台架沿所述第二驱动轴的驱动的影响，
其中，所述前馈控制系统包括计算器，所述计算器被配置为获得关于沿所述第一驱动轴的驱动要被提供给所述基板台架的第二前馈操纵变量、对关于沿所述第一驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述基板台架的所述第二驱动轴上的第一输入/输出响应、以及对关于沿所述第二驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述基板台架的所述第二驱动轴上的第二输入/输出响应，并且基于所述第二前馈操纵变量、第一输入/输出响应、以及第二输入/输出响应计算所述第一前馈操纵变量。
17.一种制造物品的方法，所述方法包括：
使用曝光装置曝光基板；
显影经曝光的基板；以及
从经显影的基板制造物品，
其中，所述曝光装置包括
基板台架，所述基板台架被配置为保持基板，
掩模版台架，所述掩模版台架被配置为保持掩模版，所述掩模版具有要被转印到所述基板的图案，以及
控制装置，所述控制装置被配置为执行同步控制，所述同步控制用于同步所述基板台架的驱动以便跟随所述掩模版台架的驱动，
所述控制装置包括
反馈控制系统，所述反馈控制系统被配置为对所述掩模版台架和基板台架中的每一个执行反馈控制，以减小与目标位置的位置偏差，以及
前馈控制系统，所述前馈控制系统被配置为通过向所述基板台架提供前馈操纵变量来执行前馈控制，以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述掩模版台架与基板台架之间的同步误差，并且
所述前馈控制系统包括计算器，所述计算器被配置为获得彼此同步地驱动所述掩模版台架和基板台架时所述掩模版台架和基板台架的位置偏差、以及所述基板台架的输入/输出响应，并且基于所述掩模版台架与基板台架之间的同步误差以及所述基板台架的输入/输出响应计算所述前馈操纵变量，所述掩模版台架与基板台架之间的同步误差是从所述掩模版台架和基板台架的位置偏差获得的。
18.一种制造物品的方法，所述方法包括：
使用曝光装置曝光基板；
显影经曝光的基板；以及
从经显影的基板制造物品，
其中，所述曝光装置包括
基板台架，所述基板台架被配置为保持基板，以及
控制装置，所述控制装置被配置为控制包括多个驱动轴的所述基板台架的驱动，
所述基板台架包括所述多个驱动轴，
所述控制装置包括
反馈控制系统，所述反馈控制系统被配置为关于所述基板台架沿第一驱动轴和第二驱动轴中的每一个的驱动执行反馈控制，以减小所述基板台架与目标位置的位置偏差，所述第二驱动轴不同于所述第一驱动轴，以及
前馈控制系统，所述前馈控制系统被配置为通过关于所述基板台架沿所述第二驱动轴的驱动向所述基板台架提供第一前馈操纵变量来执行前馈控制，以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述基板台架沿所述第一驱动轴的驱动对所述基板台架沿所述第二驱动轴的驱动的影响，并且
所述前馈控制系统包括计算器，所述计算器被配置为获得关于沿所述第一驱动轴的驱动要被提供给所述基板台架的第二前馈操纵变量、对关于沿所述第一驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述基板台架的所述第二驱动轴上的第一输入/输出响应、以及对关于沿所述第二驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述基板台架的所述第二驱动轴上的第二输入/输出响应，并且基于所述第二前馈操纵变量、第一输入/输出响应、以及第二输入/输出响应计算所述第一前馈操纵变量。
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