CN110669061A - 一种头孢地尼二聚物杂质的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种头孢地尼二聚物杂质的制备方法,属于药物化学领域,所述制备方法为:将头孢地尼在DCC‑HOBT复合缩合剂下进行缩合,然后通过分离纯化得到头孢地尼二聚物杂质。本发明头孢地尼二聚物杂质的制备方法,反应条件温和,不涉及超低温反应,减少了工艺步骤,适用于实验室中试放大;制备得到的头孢地尼二聚物杂质纯度达到90%以上,能满足质量研究需要,同时为头孢地尼国家质量标准提升提供了技术基础。
Description
技术领域
本发明属于药物化学,具体涉及一种头孢地尼二聚物杂质的制备方法。
背景技术
头孢地尼(Cefdinir)属第三代头孢,是日本藤泽药品工业株式会社开发的头孢类抗菌素,于1991年10月首次在日本上市,商品名为Cefzon,1997年12月在美国上市,1999年在韩国上市,2001年国产头孢地尼获准在中国上市,2009年4月上海安瀚特生物医药技术有限公司申请原料药进口,获得SFDA批准。头孢地尼对β-内酰胺酶稳定、抗菌谱广、抗菌作用强、临床疗效高、毒性低、过敏反应少、方便使用。与头孢克肟、头孢呋辛、头孢克洛和头孢丙烯等药物相比,头孢地尼对葡萄球菌的抗菌活性最强,而且对金黄色葡萄球菌、链球菌、肺炎球菌等革兰氏阳性菌表现出良好的抗菌能力。其化学结构的特点是在7-氨基头孢霉烷酸骨架的7位侧链上引入了氨基噻唑基和羟亚胺基,在3位侧链上引入了乙烯基。头孢地尼在临床上,可用于急性支气管炎、中耳炎、咽喉炎、肺炎、淋菌性尿道炎、乳腺炎、手术后伤口继发感染、淋巴管炎和皮肤及软组织感染等的治疗。
头孢地尼杂质是在药品中没有任何药效作用的一类成分,且部分杂质有致癌和致畸性,这些杂质存在不良反应,严重影响用药安全,给用药者带来不可估量的风险。
国内对头孢仿制药制备工艺多样,造成其产生杂质不一样,与原研药工艺不同,其杂质含量、种类上也会有所差异,但国内对这些杂质产生机理、合成制备、分离纯化、药理都未能系统全面进行研究,有些杂质存在多个互变异构体候受限分离纯化技术难于得到单体杂质,得不到系统研究,造成仿制药质量明显差于原研药。因此对杂质的研究尤为重要,合成分离出杂质单体对其结构、毒性、质量控制研究是必不可少的,对国内药品质量提高有重要意义。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种头孢地尼二聚物杂质的制备方法,该制备方法反应条件温和,不涉及超低温反应,工艺步骤少,适用于实验室中试放大。
为实现上述目的,本发明采取的技术方案为:
一种头孢地尼二聚物杂质的制备方法,所述制备方法为:将头孢地尼在DCC-HOBT复合缩合剂下进行缩合,然后通过分离纯化得到头孢地尼二聚物杂质;所述头孢地尼二聚物杂质的化学结构式如下:
本发明头孢地尼二聚物杂质的化学结构式为:C28H24N10O9S4,分子量为772,本发明制备方法的反应过程如下:
优选地,所述的头孢地尼二聚物杂质的制备方法,包括以下步骤:
称取头孢地尼,加入DMF,搅拌溶解,然后加入DCC和HOBT,开启温度控制反应,反应完毕后将反应液进行分离、洗脱、流份冷冻干燥,得到纯度为90%以上的头孢地尼二聚物杂质;其中,所述温度控制反应的温度为20-40℃,反应时间为2-4h。温度及时间的控制,能更好的保证头孢地尼二聚物杂质对接。
更优选地,相对于每克头孢地尼,DMF的用量为1-5mL。
优选地,所述加入HOBT和DCC为1.0-1.3摩尔当量。
优选地,所述分离的步骤为:反应完毕后将反应液上400ml C18柱进行分离。
优选地,所述洗脱的步骤为:分别用体积分数为10%的乙腈水、体积分数为15%的乙腈水、体积分数为20%的乙腈水、体积分数为25%的乙腈水分别洗脱1.5L。这样的选择有助于得到高纯度头孢地尼二聚物杂质。
优选地,所述温度控制反应的温度为30℃,反应时间为2h。
优选地,所述HOBT的用量为头孢地尼的1.0摩尔当量;所述DCC的用量为头孢地尼的1.0摩尔当量。
与现有技术相比,本发明的有益效果为:
本发明头孢地尼二聚物杂质的制备方法,反应条件温和,不涉及超低温反应,减少了工艺步骤,适用于实验室中试放大;制备得到的头孢地尼二聚物杂质纯度达到90%以上,能满足质量研究需要,同时为头孢地尼国家质量标准提升提供了技术基础。
附图说明
图1为由本发明制备方法制备得到的头孢地尼二聚物杂质的HPLC检测图谱(色谱条件:Kromasil 100-3.5-C18 4.6*100mm为色谱柱;乙腈:体积分数为0.05%的甲酸水=65:35为流动相;检测波长为254nm);
图2为空白对照的HPLC检测图谱(色谱条件:Kromasil 100-3.5-C184.6*100mm为色谱柱;乙腈:体积分数为0.05%的甲酸水=65:35为流动相;检测波长为254nm);
图3为由本发明制备方法制备得到的头孢地尼二聚物杂质的NMR检测氢谱谱;
图4为由本发明制备方法制备得到的头孢地尼二聚物杂质的NMR检测碳谱;
图5为由本发明制备方法制备得到的头孢地尼二聚物杂质的HRMS检测质谱。
具体实施方式
为更好地说明本发明的目的、技术方案和优点,下面将结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明。
实施例1
本发明所述头孢地尼二聚物杂质的制备方法的一种实施例,本实施例所述制备方法,包括以下步骤:
室温下,称取头孢地尼10g,加入50mL DMF,搅拌溶解,分别加入1.0摩尔当量HOBT和1.0摩尔当量DCC,开启温度控制在30℃反应2h,反应完反应液上400ml C18柱进行分离,分别用10%乙腈水、15%乙腈水、20%乙腈水、25%乙腈水分别洗脱1.5L,流份纯品直接冷冻干燥,得到纯度为90%以上的头孢地尼二聚物杂质,所述头孢地尼二聚物杂质的收率为1.5%。
实施例2
本发明所述头孢地尼二聚物杂质的制备方法的一种实施例,本实施例所述制备方法,包括以下步骤:
室温下,称取头孢地尼10g,加入10mL DMF,搅拌溶解,分别加入1.2摩尔当量HOBT和1.3摩尔当量DCC,开启温度控制在20℃反应4h,反应完反应液上400ml C18柱进行分离,分别用10%乙腈水、15%乙腈水、20%乙腈水、25%乙腈水分别洗脱1.5L,流份纯品直接冷冻干燥,得到纯度为90%以上的头孢地尼二聚物杂质,所述头孢地尼二聚物杂质的收率为1.2%。
实施例3
本发明所述头孢地尼二聚物杂质的制备方法的一种实施例,本实施例所述制备方法,包括以下步骤:
本发明所述头孢地尼二聚物杂质合成的实施例,本实施例所述头孢地尼二聚物杂质的制备方法包含以下步骤:室温下,称取头孢地尼10g,加入50mL DMF,搅拌溶解,分别加入1.2摩尔当量HOBT和1.0摩尔当量DCC,开启温度控制在30℃反应2h,反应完反应液上400ml C18柱进行分离,分别用10%乙腈水、15%乙腈水、20%乙腈水、25%乙腈水分别洗脱1.5L,流份纯品直接冷冻干燥,得到纯度为90%以上的头孢地尼二聚物杂质,所述头孢地尼二聚物杂质的收率为3.6%。
实施例4
本发明所述头孢地尼二聚物杂质的制备方法的一种实施例,本实施例所述制备方法,包括以下步骤:
室温下,称取头孢地尼10g,加入30mL DMF,搅拌溶解,分别加入1.2摩尔当量HOBT和1.0摩尔当量DCC,开启温度控制在40℃反应3h,反应完反应液上400ml C18柱进行分离,分别用10%乙腈水、15%乙腈水、20%乙腈水、25%乙腈水分别洗脱1.5L,流份纯品直接冷冻干燥,得到纯度为90%以上的头孢地尼二聚物杂质,所述头孢地尼二聚物杂质的收率为1.4%。
实施例1~4制备得到的头孢地尼二聚物杂质,HPLC检测图谱如图1所示,空白对照的HPLC检测图谱如图2所示,通过MS/NMR结构鉴定,图谱见图3、图4和图5。制备所得头孢地尼二聚物杂质结构如下式:
最后所应当说明的是,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明保护范围的限制,尽管参照较佳实施例对本发明作了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的实质和范围。
Claims (8)
2.如权利要求1所述的头孢地尼二聚物杂质的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
称取头孢地尼,加入DMF,搅拌溶解,然后加入DCC和HOBT,开启温度控制反应,反应完毕后将反应液进行分离、洗脱、流份冷冻干燥,得到纯度为90%以上的头孢地尼二聚物杂质;其中,所述温度控制反应的温度为20-40℃,反应时间为2-4h。
3.如权利要求2所述的头孢地尼二聚物杂质的制备方法,其特征在于,相对于每克头孢地尼,DMF的用量为1-5mL。
4.如权利要求2所述的头孢地尼二聚物杂质的制备方法,其特征在于,所述HOBT的用量为头孢地尼的1.0-1.3摩尔当量;所述DCC的用量为头孢地尼的1.0-1.3摩尔当量。
5.如权利要求2所述的头孢地尼二聚物杂质的制备方法,其特征在于,所述分离的步骤为:反应完毕后将反应液上400ml C18柱进行分离。
6.如权利要求2所述的头孢地尼二聚物杂质的制备方法,其特征在于,所述洗脱的步骤为:分别用体积分数为10%的乙腈水、体积分数为15%的乙腈水、体积分数为20%的乙腈水、体积分数为25%的乙腈水分别洗脱1.5L。
7.如权利要求2所述的头孢地尼二聚物杂质的制备方法,其特征在于,所述温度控制反应的温度为30℃,反应时间为2h。
8.如权利要求4所述的头孢地尼二聚物杂质的制备方法,其特征在于,所述HOBT的用量为头孢地尼的1.2摩尔当量;所述DCC的用量为头孢地尼的1.0摩尔当量。
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