CN110574493A - 有机器件的制造方法 - Google Patents

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CN110574493A CN201880027278.4A CN201880027278A CN110574493A CN 110574493 A CN110574493 A CN 110574493A CN 201880027278 A CN201880027278 A CN 201880027278A CN 110574493 A CN110574493 A CN 110574493A
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藤井贵志
松本康男
森岛进一
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种有机器件(1)的制造方法，该制造方法中，包括：形成工序，在沿一个方向延伸的支承基板(3)的一个主面(3a)上，隔开给定的间隔形成多个至少依次层叠第1电极层(5)、有机功能层(7)及第2电极层(9)而得的有机器件部(10)；贴合工序，以使各有机器件部(10)的第1电极层(5)及第2电极层(9)各自的一部分露出并且跨着多个有机器件部(10)的方式，沿着一个方向贴合沿一个方向延伸的密封构件(11)；以及裁切工序，将有机器件部(10)单片化。在裁切工序中，在将支承基板(3)的一个主面(3a)的没有贴合密封构件(11)的区域及密封构件(11)利用与区域及密封构件(11)抵接的支承体(100)支承的状态下，使裁切刀(B)从支承基板(3)的另一主面(3b)侧进入。

Description

有机器件的制造方法
技术领域
本发明涉及一种有机器件的制造方法。
背景技术
作为以往的有机器件的制造方法，例如已知有专利文献1中记载的方法。在专利文献1中记载的有机器件的制造方法中，在具有挠曲性的支承基板上形成至少依次层叠第1电极、包含至少一层的发光层的有机层、和第2电极而得的层叠体的有机器件部，在有机器件部的第2电极上夹隔着粘接剂贴合作为屏蔽层使用了金属箔的密封构件后，在支承基板上的依次层叠有包含粘接剂的粘接剂层、密封构件的部分，使裁切刀从支承基板侧朝向密封构件侧行进，将贴合有密封构件的结构体依照支承基板、包含粘接剂的粘接剂层、密封构件的顺序裁切，制造单独的有机EL元件。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2010/067721号
发明内容
发明所要解决的问题
作为有机器件，有使第1电极及第2电极各自的一部分露出地设有密封构件的有机器件。在制造此种有机器件的情况下，以使第1电极及第2电极的一部分露出的方式将密封构件贴合于多个有机器件部后进行裁切，对每个有机器件进行单片化。此时，若像以往的有机器件的制造方法那样使裁切刀从支承基板侧朝向密封构件侧行进，则可能产生如下所示的问题。即，在设有密封构件的部分和没有设置密封构件的部分高度不同。因此，若使密封构件为下侧而将有机器件载置于载置台等，则由于没有设置密封构件的部分不受支承，因而当使裁切刀从支承基板侧朝向密封构件侧行进时，则因支承基板发生挠曲等而无法恰当地裁切支承基板，无法对每个有机器件恰当地进行单片化。
本发明的一个方面的目的在于，提供一种可以对每个有机器件恰当地进行单片化的有机器件的制造方法。
用于解决问题的方法
本发明的一个方面的有机器件的制造方法包括：形成工序，在沿一个方向延伸的支承基板的一个主面上，隔开给定的间隔形成多个至少依次层叠第1电极层、有机功能层及第2电极层而得的有机器件部；贴合工序，以使各有机器件部的第1电极层及第2电极层各自的一部分露出并且跨着多个有机器件部的方式，沿着一个方向贴合沿一个方向延伸的密封构件；裁切工序，将贴合有密封构件的多个有机器件部单片化，在裁切工序中，在将支承基板的一个主面的没有贴合密封构件的区域和密封构件利用与没有贴合密封构件的区域及密封构件抵接的支承体支承的状态下，使裁切刀从支承基板的另一主面侧进入。
在本发明的一个方面的有机器件的制造方法中，在裁切工序中，在将支承基板的一个主面的没有贴合密封构件的区域和密封构件利用与没有贴合密封构件的区域及密封构件抵接的支承体支承的状态下，使裁切刀从支承基板的另一主面侧进入。在该方法中，由于支承基板及密封构件由支承体支承，因此在裁切支承基板时，可以抑制没有贴合密封构件的部分的支承基板发生挠曲等。因而，在有机器件的制造方法中，可以将有机器件恰当地单片化。
可以在一个实施方式中，支承体具有能够收容有机器件部及密封构件并且沿一个方向延伸的空间，在裁切工序中，在使有机器件部及密封构件位于空间、并且使密封构件抵接界定空间的一面的状态下，使裁切刀从另一主面侧进入。在该方法中，可以在运送支承基板的同时使支承体支承支承基板。因而，可以实现裁切工序的操作性的提高。
可以在一个实施方式中，在支承体中，在支承上述区域的位置设有裁切刀能够进入的槽。在该方法中，可以在利用支承体支承支承基板的同时，裁切支承基板。
发明效果
根据本发明的一个方面，可以对每个有机器件恰当地进行单片化。
附图说明
图1是利用一个实施方式的有机器件的制造方法制造的有机EL元件的剖视图。
图2是表示有机EL元件的制造方法的流程图。
图3是表示在有机器件部贴合有密封构件的状态的立体图。
图4是用于说明裁切工序的图。
图5是用于说明裁切工序的图。
具体实施方式
以下，参照附图，对本发明的合适的实施方式进行详细说明。需要说明的是，对于附图的说明中相同或相应要素使用相同符号，省略重复的说明。
如图1所示，利用本实施方式的有机器件的制造方法制造的有机EL元件(有机器件)1具备：支承基板3、阳极层(第1电极层)5、有机功能层7、阴极层(第2电极层)9、和密封构件11。阳极层5、有机功能层7及阴极层9构成有机EL部(有机器件部)10。有机EL元件1也可以具备与阳极层5电连接的引出电极13、和与阴极层9电连接的引出电极15。
[支承基板]
支承基板3由对可见光(波长400nm～800nm的光)具有透光性的树脂构成。支承基板3为膜状的基板(柔性基板、具有挠曲性的基板)。支承基板3的厚度例如为30μm以上且500μm以下。在支承基板3为树脂的情况下，从针对卷对卷方式的连续进行时的基板晃动(ヨレ)、褶皱以及伸长的观点出发，优选为45μm以上，从挠曲性的观点出发，优选为125μm以下。
支承基板3例如为塑料膜。支承基板3的材料例如包括聚醚砜(PES)；聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯树脂；聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、环状聚烯烃等聚烯烃树脂；聚酰胺树脂；聚碳酸酯树脂；聚苯乙烯树脂；聚乙烯醇树脂；乙烯－乙酸乙烯酯共聚物的皂化物；聚丙烯腈树脂；缩醛树脂；聚酰亚胺树脂；环氧树脂等。
对于支承基板3的材料，在上述树脂当中，由于耐热性高、线膨胀率低、并且制造成本低，因此优选聚酯树脂、或聚烯烃树脂，更优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、或聚萘二甲酸乙二醇酯。这些树脂可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
可以在支承基板3的一个主面3a上配置气体屏蔽层、或水分屏蔽层。支承基板3的另一主面3b为发光面。可以在支承基板3的另一主面3b设置光提取膜。光提取膜可以利用粘合层贴合于支承基板3的另一主面3b。支承基板3也可以为薄膜玻璃。在支承基板3为薄膜玻璃的情况下，对于其厚度，从强度的观点出发优选为30μm以上，从挠曲性的观点出发优选为100μm以下。
[阳极层]
阳极层5配置于支承基板3的一个主面3a上。作为阳极层5，使用显示光透射性的电极层。作为显示光透射性的电极，可以使用电导率高的金属氧化物、金属硫化物及金属等的薄膜，可以合适地使用光透射率高的薄膜。例如使用包含氧化铟、氧化锌、氧化锡、铟锡氧化物(Indium Tin Oxide：缩略语ITO)、铟锌氧化物(Indium Zinc Oxide：缩略语IZO)、金、铂、银、铜等的薄膜，它们当中可以合适地使用包含ITO、IZO、或氧化锡的薄膜。
作为阳极层5，也可以使用聚苯胺及其衍生物、聚噻吩及其衍生物等有机物的透明导电膜。作为阳极层5，也可以使用将上述举出的金属或金属合金等图案化为网状的电极、或者将包含银的纳米线形成为网络状的电极。
阳极层5的厚度可以考虑光的透射性、电导率等来确定。阳极层5的厚度通常为10nm～10μm，优选为20nm～1μm，更优选为50nm～200nm。
作为阳极层5的形成方法，可以举出真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等干式成膜法、喷墨法、模缝涂布机法、凹版印刷法、丝网印刷法、喷涂机法等涂布法。对于阳极层5而言，可以还使用光刻法、干式蚀刻法、激光修整法等形成图案。也可以通过使用涂布法直接涂布在支承基板3上，而不使用光刻法、干式蚀刻法、激光修整法等地形成图案。
在支承基板3的一个主面3a上，配置有电极层6。电极层6被与阳极层5隔开给定的间隔而与阳极层5分离地(电绝缘地)配置。电极层6的厚度、材料及形成方法可以与阳极层5相同。
在阳极层5上，配置有引出电极13。引出电极13配置于支承基板3的一个端部(与配置后述的引出电极15的端部相反一侧的端部)。本实施方式中，引出电极13的端面与阳极层5的端面(支承基板3的端面)齐平面。引出电极13的厚度、材料及形成方法可以与后述的阴极层9相同。
[有机功能层]
有机功能层7配置于阳极层5的主面(与接触支承基板3的面相反的一侧)上及支承基板3的一个主面3a上。有机功能层7被与引出电极13分离地配置。有机功能层7包含发光层。有机功能层7通常包含主要发出荧光和/或磷光的发光材料、或者该发光材料和辅助它的发光层用掺杂剂材料。发光层用掺杂剂材料例如是为了提高发光效率、改变发光波长而加入的。发出荧光和/或磷光的发光材料可以是低分子化合物，也可以是高分子化合物。作为构成有机功能层7的有机物，例如可以举出下述的色素材料、金属络合物材料、高分子材料等发出荧光和/或磷光的发光材料、或者下述的发光层用掺杂剂材料等。
(色素材料)
作为色素材料，例如可以举出环喷他明及其衍生物、四苯基丁二烯及其衍生物、三苯基胺及其衍生物、噁二唑及其衍生物、吡唑并喹啉及其衍生物、二苯乙烯基苯及其衍生物、二苯乙烯基芳撑及其衍生物、吡咯及其衍生物、噻吩化合物、吡啶化合物、紫环酮及其衍生物、苝及其衍生物、低聚噻吩及其衍生物、噁二唑二聚物、吡唑啉二聚物、喹吖啶酮及其衍生物、香豆素及其衍生物等。
(金属络合物材料)
作为金属络合物材料，例如可以举出作为中心金属具有Tb、Eu、Dy等稀土金属、或Al、Zn、Be、Pt、Ir等、作为配体具有噁二唑、噻二唑、苯基吡啶、苯基苯并咪唑、喹啉结构等的金属络合物等。作为金属络合物，例如可以举出铱络合物、铂络合物等具有来自三重激发态的发光的金属络合物、羟基喹啉铝络合物、苯并羟基喹啉铍络合物、苯并噁唑基锌络合物、苯并噻唑锌络合物、偶氮甲基锌络合物、卟啉锌络合物、菲咯啉铕络合物等。
(高分子材料)
作为高分子材料，例如可以举出聚对亚苯基亚乙烯基及其衍生物、聚噻吩及其衍生物、聚对亚苯基及其衍生物、聚硅烷及其衍生物、聚乙炔及其衍生物、聚芴及其衍生物、聚乙烯基咔唑及其衍生物、将上述色素材料或金属络合物材料高分子化而得的材料等。
(发光层用掺杂剂材料)
作为发光层用掺杂剂材料，例如可以举出苝及其衍生物、香豆素及其衍生物、红荧烯及其衍生物、喹吖啶酮及其衍生物、方酸内鎓盐及其衍生物、卟啉及其衍生物、苯乙烯基色素、并四苯及其衍生物、吡唑啉酮及其衍生物、十环烯及其衍生物、吩噁嗪酮及其衍生物等。
有机功能层7的厚度通常约为2nm～200nm。有机功能层7例如可以利用使用包含如上所述的发光材料的涂布液(例如墨液)的涂布法形成。作为包含发光材料的涂布液的溶剂，只要是溶解发光材料的溶剂，就没有限定。如上所述的发光材料也可以利用真空蒸镀形成。
[阴极层]
阴极层9配置于有机功能层7的主面(与接触阳极层5的面相反的一侧)及电极层6的主面(与接触支承基板3的面相反的一侧)上。作为阴极层9的材料，例如可以使用碱金属、碱土金属、过渡金属及周期表第13族金属等。作为阴极层9的材料，具体而言，例如可以举出锂、钠、钾、铷、铯、铍、镁、钙、锶、钡、铝、钪、钒、锌、钇、铟、铈、钐、铕、铽、镱等金属、所述金属当中的2种以上的合金、所述金属当中的1种以上与金、银、铂、铜、锰、钛、钴、镍、钨、锡当中的1种以上的合金、或者石墨或石墨层间化合物等。作为合金的例子，可以举出镁－银合金、镁－铟合金、镁－铝合金、铟－银合金、锂－铝合金、锂－镁合金、锂－铟合金、钙－铝合金等。
作为阴极层9，例如可以使用包含导电性金属氧化物、或导电性有机物等的透明导电性电极。作为导电性金属氧化物，具体而言，可以举出氧化铟、氧化锌、氧化锡、ITO、IZO等，作为导电性有机物可以举出聚苯胺及其衍生物、聚噻吩及其衍生物等。阴极层9可以由层叠了2层以上的层叠体构成。有时也将后述的电子注入层作为阴极层9使用。
阴极层9的厚度可以考虑电导率、耐久性而设定。阴极层9的厚度通常为10nm～10μm，优选为20nm～1μm，更优选为50nm～500nm。
作为阴极层9的形成方法，例如可以举出喷墨法、模缝涂布机法、凹版印刷法、丝网印刷法、喷涂机法等涂布法、真空蒸镀法、溅射法、将金属薄膜热压接的层压法等，优选真空蒸镀法、或溅射法。阴极层9可以还使用光刻法、干式蚀刻法、激光修整法等形成图案。
引出电极15被与阴极层9一体化地形成。引出电极15配置于电极层6上。引出电极15配置于支承基板3的另一个端部(与配置引出电极13的端部相反一侧的端部)上。引出电极15从阴极层9的端部延伸至支承基板3的另一个端部。本实施方式中，引出电极15的端面与电极层6的端面(支承基板3的端面)齐平面。引出电极15的厚度、材料及形成方法可以与阴极层9相同。
[密封构件]
密封构件11在有机EL元件1中配置于最上部。密封构件11具有粘合粘接部17、屏蔽层18、和密封基材19。密封构件11被依照粘合粘接部17、屏蔽层18及密封基材19的顺序层叠。粘合粘接部17是为了将屏蔽层18及密封基材19粘接于阳极层5、有机功能层7及阴极层9而使用的。具体而言，粘合粘接部17由光固化性或热固性的丙烯酸酯树脂、或者光固化性或热固性的环氧树脂构成。除此以外还可以使用一般所用的能够用脉冲热封机熔融的树脂膜、例如乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)、聚丙烯(PP)膜、聚乙烯(PE)膜、聚丁二烯(PB)膜等热熔融性膜。也可以使用热塑性树脂。
屏蔽层18具有气体屏蔽功能，特别是具有水分屏蔽功能。密封基材19包含金属箔、透明的塑料膜、或具有柔性的薄膜玻璃等。作为金属箔，从屏蔽性的观点出发，优选铜、铝、或不锈钢。对于金属箔的厚度，从抑制针孔的观点出发越厚越优选，然而若也考虑柔性的观点，则优选为10μm～50μm。
[有机EL元件的制造方法]
接下来，对具有上述构成的有机EL元件1的制造方法进行说明。
在支承基板3为具有挠曲性、且沿长度方向延伸的基板的方式中，从图2所示的基板干燥工序S01直至贴合工序S05为止，可以采用卷对卷方式。
在制造有机EL元件1的情况下，最先，对支承基板3进行加热，使之干燥(基板干燥工序S01)。然后，在经过干燥的支承基板3的一个主面3a上形成阳极层5(阳极层形成工序(形成工序)S02)。阳极层5可以利用阳极层5的说明时例示的形成方法形成。如图3所示，在支承基板3上，在支承基板3的长度方向(图3的Y方向)上隔开给定的间隔形成多个阳极层5，并且在支承基板3的宽度方向(图3的X方向)上隔开给定的间隔形成多个(本实施方式中为2个)阳极层5。
接下来，在阳极层5上形成有机功能层7(有机功能层形成工序(形成工序)S03)。有机功能层7可以利用有机功能层7的说明时例示的形成方法形成。然后，在有机功能层7上形成阴极层9(阴极层形成工序(形成工序)S04)。阴极层9可以利用阴极层9的说明时例示的形成方法形成。利用以上操作，在支承基板3上形成多个有机EL部10。
接下来，贴合密封构件11(贴合工序S05)。密封构件11具有给定的宽度，沿支承基板3的长度方向延伸。具体而言，密封构件11如图3所示，被以使阳极层5及阴极层9的各自的一部分露出的方式设定宽度，且呈现出带状。密封构件11具有挠曲性。密封构件11在密封基材19的一个面设有粘合粘接部17。密封构件11可以在密封基材19的一个面夹隔着屏蔽层18形成粘合粘接部17后切割为带状，也可以在将密封基材19切割为带状后在密封基材19的一个面夹隔着屏蔽层18形成粘合粘接部17。
密封构件11被以使阳极层5的一部分及阴极层9的一部分(引出电极13的一部分及引出电极15的一部分)露出的方式贴合于多个有机EL部10上。具体而言，密封构件11被跨着多个有机EL部10地沿一个方向粘贴。在卷对卷方式中，一边运送支承基板3，一边将形成于支承基板3上的有机EL部10与密封构件11贴合。支承基板3和密封构件11穿过加热辊(省略图示)之间。由此，支承基板3及密封构件11由加热辊一边加热一边赋予压力。由此，粘合粘接部17软化，粘合粘接部17与有机EL部10密合。在将有机EL部10与密封构件11贴合时，优选在水分浓度低的环境下进行，特别优选在氮气气氛下进行。
接下来，将贴合有密封构件11的多个有机EL部10单片化(裁切工序S06)。如图3所示，在裁切工序S06中，沿着裁切线L裁切支承基板3及密封构件11，将贴合有密封构件11的多个有机EL部10单片化。具体而言，如图4及图5所示，将支承基板3及密封构件11用支承体100支承，用裁切刀B裁切支承基板3。图4是从Y方向观察沿着图3的X方向的剖面的图，表示出包含阳极层5及有机功能层7的位置处的剖面。图5是从Y方向观察沿着图3的X方向的剖面的图，表示出不包含阳极层5及有机功能层7的位置处的剖面。
支承体100支承支承基板3的一个主面3a中没有贴合密封构件11的区域(以下称作“区域Z”。)以及密封构件11。支承体100具有能够收容有机EL部10及密封构件11的空间S。空间S由相互面对的一对侧面100a、100b、和底面(一个面)100c界定。支承体100中，与底面100c相对的部分是开口的。空间S沿着支承基板3的长度方向延伸。即，空间S能够收容在支承基板3的长度方向上隔开给定的间隔设置的多个有机EL部10。如图4所示，支承体100具有槽C。槽C设于裁切刀B所进入的位置(一个主面3a被载置的位置)。槽C沿着支承基板3的长度方向延伸。槽C的深度被设为与形成空间S的底面100c同等或比底面100c更低。
裁切刀B为与裁切线L对应的形状，呈现出框状。本实施方式中，裁切刀B一体化地设有4片刀构件。裁切刀B例如设有多个。由此，在裁切工序S06中，可以一次将贴合有密封构件11的多个有机EL部10单片化。在裁切工序S06中，如图4及图5所示，用支承体100支承形成有多个有机EL部10的支承基板3。具体而言，以使密封构件11与支承体100的底面100c抵接、并且使支承基板3的区域Z(没有形成有机功能层7的区域)与支承体100抵接的方式，使支承体100支承支承基板3。此后，使裁切刀B从支承基板3的另一主面3b侧进入。使裁切刀B行进至其前端到达密封构件11的表面(密封基材19的表面)的位置。由此，将贴合有密封构件11的多个有机EL部10单片化。利用以上操作，制造图1所示的有机EL元件1。
如上说明所示，本实施方式的有机EL元件1的制造方法中，在裁切工序S06中，在支承没有贴合密封构件11的支承基板3的区域Z及密封构件11的状态下，使裁切刀B从支承基板3的另一主面3b侧进入。在该方法中，由于支承基板3及密封构件11受到支承，因此在裁切支承基板3时，可以抑制没有贴合密封构件11的部分的支承基板3发生挠曲等。因而，在有机EL元件1的制造方法中，可以对每个有机EL元件1恰当地进行单片化。
本实施方式的有机EL元件1的制造方法中，在裁切工序S06中，利用与支承基板3的区域Z及密封构件11抵接的支承体100，支承区域Z及密封构件11。在该方法中，可以利用支承体100恰当地支承支承基板3的区域Z及密封构件11。因而，可以对每个有机EL元件1更加恰当地进行单片化。
本实施方式的有机EL元件1的制造方法中，在裁切工序S06中，使用具有能够收容有机EL部10及密封构件11并且沿支承基板3的长度方向延伸的空间S的支承体100。在裁切工序S06中，在使有机EL部10及密封构件11位于空间S并且使密封构件11与界定空间S的底面100c抵接的状态下，使裁切刀B从支承基板3的另一主面3b侧进入。在该方法中，可以一边运送支承基板3一边使支承体100支承支承基板3。因而，在有机EL元件1的制造方法中，可以实现裁切工序S06的操作性的提高。
本实施方式的有机EL元件1的制造方法中，裁切工序S06中所用的支承体100在支承支承基板3的区域Z的位置设有裁切刀B能够进入的槽C。由此，在有机EL元件1的制造方法中，可以一边利用支承体100支承支承基板3，一边裁切支承基板3。
以上，对本发明的实施方式进行了说明，然而本发明不一定限定于上述的实施方式，可以在不脱离其主旨的范围中进行各种变更。
例如，上述实施方式中，例示出在阳极层5与阴极层9之间配置有包括发光层的有机功能层7的有机EL元件1。但是，有机功能层7的构成并不限定于此。有机功能层7也可以具有以下的构成。
(a)(阳极层)/发光层/(阴极层)
(b)(阳极层)/空穴注入层/发光层/(阴极层)
(c)(阳极层)/空穴注入层/发光层/电子注入层/(阴极层)
(d)(阳极层)/空穴注入层/发光层/电子传输层/电子注入层/(阴极层)
(e)(阳极层)/空穴注入层/空穴传输层/发光层/(阴极层)
(f)(阳极层)/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子注入层/(阴极层)
(g)(阳极层)/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/(阴极层)
(h)(阳极层)/发光层/电子注入层/(阴极层)
(i)(阳极层)/发光层/电子传输层/电子注入层/(阴极层)
此处，记号“/”表示夹持记号“/”的各层被相邻地层叠。上述(a)所示的构成表示上述实施方式的有机EL元件1的构成。
空穴注入层、空穴传输层、电子传输层及电子注入层的各自的材料可以使用公知的材料。空穴注入层、空穴传输层、电子传输层及电子注入层分别例如可以与有机功能层7同样地利用涂布法形成。
此处，电子注入层可以含有碱金属或碱土金属、或者碱金属或碱土金属的氧化物、氟化物。作为电子注入层的成膜法，可以举出涂布法、真空蒸镀法等。在氧化物及氟化物的情况下，电子注入层的厚度优选为0.5nm～20nm。对于电子注入层而言，特别是在绝缘性强的情况下，从抑制有机EL元件1的驱动电压升高的观点出发，优选为薄膜，其厚度例如优选为0.5nm～10nm，从电子注入性的观点出发，优选为2nm～7nm。
有机EL元件1可以具有单层的有机功能层7，也可以具有2层以上的有机功能层7。在上述(a)～(i)的层构成当中的任意一个中，若将配置于阳极层5与阴极层9之间的层叠结构设为“结构单元A”，则作为具有2层的有机功能层7的有机EL元件的构成，例如可以举出下述(j)所示的层构成。存在有2个的(结构单元A)的层构成彼此可以相同，也可以不同。
(j)阳极层/(结构单元A)/电荷产生层/(结构单元A)/阴极层
此处所谓电荷产生层，是通过施加电场而产生空穴和电子的层。作为电荷产生层，例如可以举出包含氧化钒、ITO、氧化钼等的薄膜。
若将“(结构单元A)/电荷产生层”设为“结构单元B”，则作为具有3层以上的有机功能层7的有机EL元件的构成，例如可以举出以下的(k)所示的层构成。
(k)阳极层/(结构单元B)x/(结构单元A)/阴极层
记号“x”表示2以上的整数，“(结构单元B)x”表示层叠了x层的(结构单元B)的层叠体。存在有多个的(结构单元B)的层构成可以相同，也可以不同。
也可以不设置电荷产生层，而是直接层叠多个有机功能层7而构成有机EL元件。
在上述实施方式中，以在支承基板3上形成阳极层5的方式作为一例进行了说明。但是，也可以使用在支承基板3上预先形成有阳极层5的卷筒(ロール)。
在上述实施方式中，在有机EL元件1的制造方法中，以实施对支承基板3进行加热而使之干燥的工序的方式作为一例进行了说明。但是，不一定要实施支承基板3的干燥工序。
在上述实施方式中，以在支承体100设有空间S及槽C的方式作为一例进行了说明。但是，在裁切工序S06中，只要是支承没有贴合密封构件11的支承基板3的区域Z及密封构件11的方式，则也可以不使用支承体100。例如，也可以在裁切工序S06中，在将密封构件11载置于台等的状态下，用支承构件(例如柱状的构件等)支承支承基板3的区域Z。
在上述实施方式中，以裁切刀B呈现出框状的方式作为一例进行了说明。但是，裁切刀的形状并不限定于此。裁切刀只要是能够沿着裁切线裁切的形状，则可以是任何的形状。
在上述实施方式中，作为有机器件，以有机EL元件作为一例进行了说明。有机器件也可以是有机薄膜晶体管、有机光探测器、有机薄膜太阳能电池等。
在上述实施方式中，以第1电极层为阳极层5、第2电极层为阴极层9的方式作为一例进行了说明。但是，也可以第1电极层为阴极层、第2电极层为阳极层。
在上述实施方式中，以具有引出电极13、15的方式作为一例进行了说明。但是，也可以不设置引出电极。
在上述实施方式中，如图4所示，以成为引出电极13及引出电极15的电极层与支承体100抵接的方式作为一例进行了说明。但是，也可以支承基板3的一个主面3a与支承体100抵接。
在上述实施方式中，如图4所示，以区域Z的一部分由支承体100支承的方式作为一例进行了说明。但是，也可以区域Z的全部面由支承体支承。
本发明的一个方面的有机器件的制造方法包括：形成工序，在沿一个方向延伸的支承基板的一个主面上，隔开给定的间隔形成多个至少依次层叠第1电极层、有机功能层及第2电极层而得的有机器件部；贴合工序，以使各有机器件部的第1电极层及第2电极层各自的一部分露出并且跨着多个有机器件部的方式，沿着一个方向贴合沿一个方向延伸的密封构件；以及裁切工序，将贴合有密封构件的多个有机器件部单片化，在裁切工序中，在将支承基板的一个主面的没有贴合密封构件的区域和密封构件支承的状态下，使裁切刀从支承基板的另一主面侧进入。
本发明的一个方面的有机器件的制造方法中，在裁切工序中，在将支承基板的一个主面的没有贴合密封构件的区域和密封构件支承的状态下，使裁切刀从支承基板的另一主面侧进入。在该方法中，由于支承基板及密封构件受到支承，因此在裁切支承基板时，可以抑制没有贴合密封构件的部分的支承基板发生挠曲等。因而，在有机器件的制造方法中，可以将有机器件恰当地单片化。
可以在一个实施方式中，在裁切工序中，利用与上述区域及密封构件抵接的支承体支承上述区域及密封构件。在该方法中，利用支承体，可以恰当地支承上述区域及密封构件。因而，可以将有机器件更加恰当地单片化。
符号说明
1有机EL元件(有机器件)，3支承基板，3a一个主面，3b另一主面，5阳极层(第1电极层)，7有机功能层，9阴极层(第2电极层)，10有机EL部(有机器件部)，11密封构件，100支承体，B裁切刀，C槽，S空间。

Claims (3)

1.一种有机器件的制造方法，该制造方法包括：
形成工序，在沿一个方向延伸的支承基板的一个主面上，隔开给定的间隔形成多个至少依次层叠第1电极层、有机功能层及第2电极层而得的有机器件部；
贴合工序，以使各所述有机器件部的所述第1电极层及所述第2电极层各自的一部分露出并且跨着多个所述有机器件部的方式，沿着所述一个方向贴合沿所述一个方向延伸的密封构件；以及
裁切工序，将贴合有所述密封构件的多个所述有机器件部单片化，
在所述裁切工序中，在利用支承体支承所述支承基板的所述一个主面中的没有贴合所述密封构件的区域和所述密封构件的状态下，使裁切刀从所述支承基板的另一主面侧进入，其中，所述支承体与所述区域及所述密封构件抵接。
2.根据权利要求1所述的有机器件的制造方法，其中，
所述支承体具有能够收容所述有机器件部及所述密封构件并且沿所述一个方向延伸的空间，
在所述裁切工序中，在使所述有机器件部及所述密封构件位于所述空间、并且使所述密封构件抵接界定所述空间的一个面的状态下，使所述裁切刀从所述另一主面侧进入。
3.根据权利要求1或2所述的有机器件的制造方法，其中，
在所述支承体中，在支承所述一个主面的所述区域的位置设有所述裁切刀能够进入的槽。
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