CN110462463A - 热射线透射抑制透光性基材、透光性基材单元 - Google Patents

热射线透射抑制透光性基材、透光性基材单元 Download PDF

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CN110462463A
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中西阳介
上田惠梨
待永广宣
大森裕
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Nitto Denko Corp
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Nittosan Engineering Co Ltd
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Abstract

提供一种热射线透射抑制透光性基材，具有：透光性日射消减单元，对可视光和近红外光的波长范围内的至少一部分的波长范围的光的透射进行抑制；及透明导电性氧化物层，配置在所述透光性日射消减单元上，并含有透明导电性氧化物。

Description

热射线透射抑制透光性基材、透光性基材单元
技术领域
本发明涉及热射线透射抑制透光性基材、透光性基材单元。
背景技术
先前熟知一种在玻璃、树脂等的透光性基材上具有一具备热射线(heat ray)反射功能的层的热射线透射抑制透光性基材。
作为热射线透射抑制透光性基材，先前研究了一种藉由对太阳光等的可视光的一部分和/或近红外线进行反射而具备对例如室内和/或车内的温度的上升进行抑制的遮热性的热射线透射抑制透光性基材。此外，还研究了一种藉由降低放射率(emissivity)而具备断热性的热射线透射抑制透光性基材。
例如专利文献1中公开了一种低放射透明复合材料膜，具备：透明膜基材；由与该透明膜基材具有亲和性(affinity)的耐摩耗表面硬化(hard coat)材料构成的下层；及至少一个红外线反射层。其中，该复合材料膜具有约小于0.30的放射率，该下层配置在该透明膜基材和该红外线反射层之间。另外，作为红外线反射层的核层，还公开了使用银-金合金(Ag-Au)的实例。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本国特表2013-521160号公报
发明内容
[发明要解决的课题]
就作为专利文献1中公开的低放射透明复合材料膜的红外线反射层的材料而列举的银-金合金而言，具有降低放射率的效果，并具备断热性。
然而，银和/或银合金除了断热性之外还具备对太阳光等的可视光的一部分和/或近红外线进行反射的遮热性。为此，根据专利文献1中公开的低放射透明复合材料膜可知，例如为了提高断热性而使红外线反射层的核层的厚度增厚后，遮热性也同时被提高。
另一方面，就热射线透射抑制透光性基材而言，需要具有适应设置场所的特性。例如，如果为寒冷地区，则需要具有类似高断热和低遮热的特性。
然而，根据专利文献1中公开的低放射透明复合材料膜可知，如上所述，不能独立地对断热性和遮热性进行控制，故无法实现高断热和低遮热那样的特性。
因此，鉴于上述现有技术的问题，于本发明的一方面，以提供一种可独立控制断热性和遮热性的热射线透射抑制透光性基材为目的。
[用于解决课题的手段]
为了解决上述课题，于本发明的一方面，提供一种热射线透射抑制透光性基材，具有：
透光性日射消减单元，对可视光和近红外光的波长范围内的至少一部分的波长范围的光的透射进行抑制；及
透明导电性氧化物层，设置在所述透光性日射消减单元上，并含有透明导电性氧化物。
[发明效果]
根据本发明的一方面，能够提供一种可独立控制断热性和遮热性的热射线透射抑制透光性基材。
附图说明
[第1图]本发明的实施方式的一构成例的热射线透射抑制透光性基材的剖面图。
[第2图]本发明的实施方式的其他构成例的热射线透射抑制透光性基材的剖面图。
[第3图]本发明的实施方式的其他构成例的热射线透射抑制透光性基材的剖面图。
[第4图]本发明的实施方式的一构成例的透光性基材单元的剖面图。
具体实施方式
以下，对本公开的一实施方式(以下记为「本实施方式」)进行详细说明，但本实施方式并不限定于此。
[热射线透射抑制透光性基材]
以下，对本实施方式的热射线透射抑制透光性基材的一构成例进行说明。
本实施方式的热射线透射抑制透光性基材具有对可视光和近红外光的波长范围内的至少一部分的波长范围的光的透射进行抑制的透光性日射(太阳光射线)消减单元、及配置在透光性日射消减单元上并含有透明导电性氧化物的透明导电性氧化物层。
本发明的发明人对可独立控制断热性和遮热性的热射线透射抑制透光性基材进行了锐意研究。
其结果发现了，首先，藉由设置含有透明导电性氧化物的透明导电性氧化物层，可独立控制断热性。根据本发明的发明人的研究可知，藉由利用透明导电性氧化物层中含有的透明导电性氧化物所具有的载子(carrier)，可对远红外线进行反射。为此，如上所述，藉由设置透明导电性氧化物层，并例如调整厚度等，可对断热性进行控制。
此外，根据可对可视光和近红外光的波长范围内的至少一部分的波长范围的光的透射进行抑制的透光性日射消减单元可知，例如可对可视光和近红外光的波长范围内的至少一部分的波长范围的光进行反射或吸收。为此发现了，藉由对透光性日射消减单元的构成等进行选择和调整，可独立控制遮热性。
故发现了，藉由设计成包含可控制断热性的透明导电性氧化物层和可控制遮热性的透光性日射消减单元的热射线透射抑制透光性基材，并对透明导电性氧化物层和透光性日射消减单元的构成进行选择和调整，可独立控制断热性和遮热性，由此完成了本发明。
这里，图1示出了本实施方式的热射线透射抑制透光性基材的构成例。图1示出了本实施方式的热射线透射抑制透光性基材的、与透光性日射消减单元和透明导电性氧化物层的层叠方向平行的面的剖面模式图。
如图1所示，本实施方式的热射线透射抑制透光性基材10可具有在透光性日射消减单元11的一个表面上层叠了透明导电性氧化物层12的结构。以下对各部件进行说明。
就透光性日射消减单元11而言，只要具有与没有设置透光性日射消减单元的情况相比，可对可视光和近红外光的波长范围内的至少一部分的波长范围的光的透射进行抑制的遮热功能层即可，对其具体构成并无特别限定。透光性日射消减单元11可根据热射线透射抑制透光性基材所要求的遮热性的程度来选择其构成，例如可由一个部件或两个以上的多个(plural)部件构成。
需要说明的是，可视光的波长范围是指，例如波长的下限值为360nm以上400nm以下且上限值为760nm以上830nm以下的范围。所以例如是波长为360nm以上且830nm以下的范围。
此外，近红外光的波长范围是指，与可视光相邻的波长范围，且为波长大于可视光的范围。具体地是指，例如波长的下限值为760nm以上830nm以下且上限值为2000nm以上3000nm以下的范围。所以例如是波长为760nm以上且3000nm以下的范围。
为此，透光性日射消减单元可对例如波长为360nm以上且3000nm以下的波长范围内的一部分的范围的光的透射进行抑制。
以下对透光性日射消减单元11进行说明。
就透光性日射消减单元而言，作为遮热功能层，例如可具有从着色了的透光层、含有热射线遮蔽颗粒的层、近红外线反射膜、可视光透射抑制层等中选出的一种以上。
作为着色了的透光层，可列举出着色了的玻璃层和着色了的树脂层。对其具体构成并无特别限定，可根据所要求的可视光透射率、色调等对要着色的颜色和/或其浓度进行选择。需要说明的是，着色了的透光层可基于着色的程度等对可视光的一部分的透射进行抑制，故也可发挥作为可视光透射抑制层的功能。
就含有热射线遮蔽颗粒的层而言，例如可列举出含有能对波长为800nm以上且1200nm以下的波长的光进行选择性吸收的热射线遮蔽颗粒的层。作为热射线遮蔽颗粒，可列举出含有从Cs0.33WO3、LaB6等中选出的一种以上的物质的颗粒。含有热射线遮蔽颗粒的层优选为使热射线遮蔽颗粒分散于可透射可视光的透明粘合剂(binder)中的层。作为粘合剂，可列举出无机粘合剂和/或有机粘合剂，作为无机粘合剂，可列举出藉由对金属醇盐(alkoxide)进行加水分解而获得的粘合剂和/或玻璃。作为有机粘合剂，可列举出从聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚醚酮(PEEK)、聚碳酸酯(PC)等中选出的一种以上的树脂。
作为近红外线反射膜，例如可列举出高折射率层和低折射率层交互层叠了的多层膜、在金属氧化物层之间配置了金属层的多层膜、在金属层之间配置了金属氧化物层或透明树脂层的多层膜、金属或金属合金的单层膜等。
在近红外线反射膜为高折射率层和低折射率层交互层叠了的多层膜的情况下，藉由利用高折射率层和低折射率层的折射率之差，主要对近红外线进行反射，由此可控制近红外线的透射，对各层的具体折射率并无特别限定。例如高折射率层优选具有2.0以上且2.7以下的折射率，低折射率层优选具有1.3以上且1.8以下的折射率。需要说明的是，上述折射率是指，相对于波长为550nm的光的折射率。
对近红外线反射膜所含有的高折射率层和低折射率层的层数并无特别限定，但在以1层高折射率层和1层低折射率层为单位折射率层的情况下，优选包括5层以上的单位折射率层，较佳包括8层以上。
对构成高折射率层和低折射率层的材料并无特别限定，可根据各材料的折射率等进行任意选择。高折射率层例如可包含从TiO2、Nb2O5、Ta2O5中选出的一种以上。此外，低折射率层例如可包含从SiO2、MgF2、Al2O3、ZrO2中选出的一种以上。此外，作为高折射率层和/或低折射率层，也可包含对折射率进行了调整的树脂层。
作为近红外线反射膜，如上所述，例如可为依次对第1金属氧化物层、金属层、及第2金属氧化物层进行了层叠的结构的膜。
此情况下，金属层具有对近红外线进行反射的主要作用。从提高可视光透射率和近红外线反射率的观点来看，作为金属层，例如可列举出含有从银、金、铜、铝等中选出的一种以上的金属的层。尤其优选使用以银为主成分的银层或银合金层。银具有较高的自由电子密度，所以可实现近红外线的较高的反射率，从而可发挥较高的遮热效果。
在金属层含有银的情况下，金属层中的银的含有量优选为90质量％以上，较佳为93质量％以上，更佳为95质量％以上，尤其优选为96质量％以上。金属层也可由银构成，故金属层中的银的含有量的上限值可为100质量％以下。藉由提高金属层中的银的含有量，可提高近红外线反射膜的可视光透射率和反射光的波长选择性。为此，可提高热射线透射抑制透光性基材的可视光透射率。
金属层也可为还含有银之外的金属的银合金层。例如，为了提高金属层的耐久性，存在使用银合金的情况。作为用于提高金属层的耐久性而添加至银的金属，优选为从钯(Pd)、金(Au)、铜(Cu)、铋(Bi)、锗(Ge)、镓(Ga)等中选出的一种以上。其中，从对可银赋予较高耐久性的观点来看，作为银之外的金属，尤其优选使用Pd。
增加Pd等的银之外的金属的添加量后，金属层的耐久性具有提高的趋势。在金属层含有Pd等的银之外的金属的情况下，其含有量优选为0.3质量％以上，较佳为0.5质量％以上，更佳为1质量％以上，尤其优选为2质量％以上。另一方面，增加Pd等的银之外的金属的添加量，并降低银的含有量后，近红外线反射膜的可视光透射率存在下降的趋势。为此，金属层中的银之外的金属的含有量优选为10质量％以下，较佳为7质量％以下，更佳为5质量％以下，尤其优选为4质量％以下。
设置第1金属氧化物层和第2金属氧化物层(以下，有时也统一记为「金属氧化物层」)的目的在于，藉由对其与金属层的界面处的可视光线的反射量进行控制，可同时获得较高的可视光透射率和较高的近红外线反射率。此外，金属氧化物层也可发挥用于防止金属层的劣化的保护层的功能。从提高近红外线反射膜的反射和透射的波长选择性的观点来看，金属氧化物层的相对于可视光的折射率优选为1.5以上，较佳为1.6以上，更佳为1.7以上。
作为具有上述折射率的材料，可列举出从钛(Ti)、锆(Zr)、铪(Hf)、铌(Nb)、锌(Zn)、铝(Al)、镓(Ga)、铟(In)、铊(Tl)、锡(Sn)等的金属群中选出的金属的氧化物、或从上述金属群中选出的两种以上的金属的复合氧化物。
就上述金属层和金属氧化物层的厚度而言，可藉由斟酌材料的折射率等进行适当的设定，以使可视光线能透射近红外线反射膜，并使近红外线反射膜能选择性地反射近红外线。
金属层的厚度例如可为3nm以上且50nm以下。此外，金属氧化物层的厚度例如可分别为3nm以上且80nm以下。对金属层和金属氧化物层的成膜方法并无特别限定，但基于溅射法、真空蒸镀法、CVD法、电子束蒸镀法等的干式处理的成膜方法为优选。
作为近红外线反射膜，如上所述，例如可为依次对第1金属层、金属氧化物层或透明树脂层、及第2金属层进行了层叠的结构的膜。
第1金属层和第2金属层可发挥半透镜层的功能，藉由使第1金属层的反射光和第2金属层的反射光进行干涉(interference)，可使特定波长范围的可视光的反射衰减。
作为第1金属层和第2金属层的材料，可列举出与对上述第1金属氧化物层、金属层、及第2金属氧化物层进行了层叠的多层膜中的金属层相同的材料，例如可为从银、金、铜、铝等中选出的一种以上的金属。尤其可优选使用银或银合金。藉由第1金属层和/或第2金属层，可对近红外线进行反射。
就金属氧化物层或透明树脂层而言，也可使用与对上述第1金属氧化物层、金属层、及第2金属氧化物层进行了层叠的多层膜中的金属氧化物层相同的材料和/或能使可视光透射的各种透明树脂。
对各层的厚度并无特别限定，但如上所述藉由使第1金属层和第2金属层的反射光进行干涉，可使可视光的反射衰减，故优选根据作为目标的可视光的波长对各层的厚度进行选择。
需要说明的是，也可为将第1金属层、金属氧化物层或透明树脂层、及第2金属层作为基本单元，并按照同样的层叠顺序再具有金属氧化物层和/或金属层的结构。
此外，作为近红外线反射膜，还可使用能对近红外线进行选择性反射的金属或金属合金的单层膜。作为该金属或金属合金，可列举出含有从银、金、铜、铝等中选出的一种以上的金属或金属合金。
就透光性日射消减单元而言，作为遮热功能层，还可具有例如对可视光的一部分的透射进行抑制的可视光透射抑制层等。就可视光而言，波长范围的不同也会成为使室内等的温度上升的原因。为此，也可使可视光透射抑制层等作为遮热功能层而发挥功能。作为可视光透射抑制层，例如可列举出Ni-Cr合金等的金属膜、藉由色素进行了着色的基板等。在使用可视光透射抑制层的情况下，例如优选以不会破坏透光性日射消减单元所要求的可视光的透射性的方式对材料和构成进行选择。
透光性日射消减单元还可具有除了上述遮热功能层之外的任意的部件。需要说明的是，如后所述，以下的任意的部件也可兼作遮热功能层。
透光性日射消减单元还可具有透光性基材。
作为透光性基材，优选可使用能使可视光线透射的各种透光性基材。作为透光性基材，较佳使用可视光透射率为10％以上的透光性基材。需要说明的是，本说明书中，可视光透射率可按照JIS A5759-2008(建筑窗玻璃膜)进行测定。
作为透光性基材，可优选使用玻璃板、透光性树脂基材等。
在作为透光性基材使用透光性树脂基材的情况下，透光性树脂基材的材料只要为如上所述能使可视光透射的材料，即可优选使用之。然而，由于具有当在透光性树脂基材上形成各层时等需要进行加热处理等的情况，故作为透光性树脂基材的材料，可优选使用具有耐热性的树脂。作为构成透光性树脂基材的树脂材料，例如优选可使用从聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚醚酮(PEEK)、聚碳酸酯(PC)等中选出的一种以上。
本实施方式的热射线透射抑制透光性基材例如也可作为窗户等的采光部的透光性基材而进行使用，此外，还可藉由贴合(贴附)在窗户等的采光部的透光性基材上而进行使用。为此，可根据用途等对透光性基材的厚度和/或材料进行选择。透光性基材的厚度例如可为10μm以上且25mm以下。
例如，在将本实施方式的热射线透射抑制透光性基材使用为窗户等的采光部的透光性基材的情况下，优选以透光性基材具有足够的强度的方式对其厚度和/或材料进行选择。
此外，在将本实施方式的热射线透射抑制透光性基材贴合在窗户等的采光部的透光性基材上以进行使用的情况下，为了提高热射线透射抑制透光性基材的生产性，并可容易地贴合在窗户等的采光部的透光性基材上，优选以透光性基材具有可挠性的方式对厚度和/或材料进行选择。具体而言，优选使用具有可挠性的透光性树脂基材。在作为透光性基材使用具有可挠性的透光性树脂基材的情况下，其厚度优选位于10μm以上且300μm以下左右的范围。
需要说明的是，透光性基材尽管也可由一个透光性基材构成，但例如还可藉由贴合两个以上的透光性基材等进行组合使用。在藉由贴合两个以上的透光性基材以进行组合使用的情况下，合计厚度例如较佳满足上述透光性基材的优选厚度范围。
透光性日射消减单元也可具有粘着剂层。
对粘着剂层的材料并无特别限定，但优选使用可视光透射率较高的材料。作为粘着剂层的材料，例如可使用丙烯类粘着剂、橡胶类粘着剂、硅利康(silicone)类粘着剂等。其中，就以丙烯类聚合物为主成分的丙烯类粘着剂而言，光学透明性较好，具有适当的湿润性(wettability)、凝集性、及接着性，并且耐候性、耐热性等也较优，故优选作为粘着剂层的材料。
粘着剂层优选为其可视光线的透射率较高，且紫外线的透射率较低。藉由使粘着剂层的紫外线的透射率较低，可对起因于太阳光等的紫外线的、包含有机物的层、透明导电性氧化物层等的劣化进行抑制。从减小粘着剂层的紫外线透射率的观点来看，粘着剂层优选含有紫外线吸收剂。需要说明的是，藉由使用含有紫外线吸收剂的透光性基材等，还可对起因于来自室外的紫外线的、透明导电性氧化物层的劣化进行抑制。就粘着剂层的露出面而言，在至被提供于热射线透射抑制透光性基材的使用为止的期间，为了防止露出面被污染等，优选暂时贴上离型纸以对其进行覆盖。据此，可防止在通常的操作状态下与粘着剂层的露出面的外部的接触而引起的污染。
需要说明的是，透光性日射消减单元例如具有透光性基材，在该透光性基材为玻璃板、丙烯板等的刚性体的情况下，本实施方式的热射线透射抑制透光性基材也可直接嵌入窗框等的框体等内以作为遮热·断热窗。此情况下，本实施方式的热射线透射抑制透光性基材优选不具有粘着剂层。
此外，透光性日射消减单元还可具有表面硬化(hard coat)层。
表面硬化层可对后述的透明导电性氧化物层进行支撑(support)。为此，藉由设置表面硬化层，在使手和/或物体于按压透明导电性氧化物层等的状态下一边产生摩擦一边进行移动等的情况下，也尤其可抑制透明导电性氧化物层产生变形、透明导电性氧化物层上出现瑕疵、剥离等。即，藉由设置表面硬化层，尤其可提高本实施方式的热射线透射抑制透光性基材的抗擦伤性。
如果透明导电性氧化物层上出现了瑕疵、剥离等，则存在外观受损、断热性下降的可能性。然而，藉由配置表面硬化层，如上所述可抑制透明导电性氧化物层上出现瑕疵、剥离等。为此，可抑制透明导电性氧化物层的断热性的降低，并可维持良好的外观，为优选。
表面硬化层例如可由树脂形成，可为树脂表面硬化层。对表面硬化层的材料并无特别限定，但优选为可视光透射率较高的材料，例如可优选使用从丙烯类树脂、硅利康类树脂、聚氨酯(urethane)类树脂等中选出的一种以上的树脂。
表面硬化层例如可藉由将作为原料的树脂涂敷在透光性基材等的一个表面上并使其硬化而形成。
对表面硬化层的厚度并无特别限定，可根据表面硬化层的材料、所要求的可视光的透射率、抗擦伤性的程度等进行任意选择。就表面硬化层而言，例如厚度优选为0.5μm以上且10μm以下，较佳为0.7μm以上且5μm以下。
其原因在于，藉由使表面硬化层的厚度为0.5μm以上，可为具有足够强度的表面硬化层，尤其可抑制透明导电性氧化物层的变形。还在于，藉由使表面硬化层的厚度为10μm以下，可抑制因表面硬化层的收缩而生成的内部应力。
此外，也可在上述表面硬化层和透明导电性氧化物层之间设置任意的层。例如，在表面硬化层和透明导电性氧化物层之间可具有光学调整层、阻气(gas barrier)层、密着(密接)改善层等的底层。藉由光学调整层可改善颜色和/或透明性，藉由阻气层可改善透明导电性氧化物的结晶化速度，藉由密着改善层可实现抗层间剥离、抗破坏(crack)等的耐久性的提高。
对底层的具体构成并无特别限定，但作为密着改善层和/或阻气层，例如可列举出含有氧化铝(Al2O3)的层。此外，作为光学调整层，可列举出含有氧化锆(ZrO2)的层、含有中空颗粒的层等。
在透光性日射消减单元具有从着色了的透光层、含有热射线遮蔽颗粒的层、近红外线反射膜、及可视光透射抑制层中选出的一种以上作为遮热功能层的情况下，该层例如也可为与透光性基材、表面硬化层、粘着剂层等不同的层。此外，还可使透光性基材、表面硬化层、粘着剂层等作为遮热功能层，由此赋予遮热性的功能。
例如，可对透光性基材和/或表面硬化层进行着色，以作为着色了的透光层。还可使热射线遮蔽颗粒分散在从透光性基材、表面硬化层、及粘着剂层中选出的一个以上的层中，以作为含有热射线遮蔽颗粒的层。作为透光性基材等，也可使用近红外线反射膜。
透光性日射消减单元如上所述还可具有透光性基材等的多个部件。透光性日射消减单元例如可具有透光性基材和该透光性基材之外的部件。作为透光性基材之外的部件，可列举出从上述遮热功能层、表面硬化层、粘着剂层等中选出的一种以上。
此外，就本实施方式的热射线透射抑制透光性基材而言，如图2所示的热射线透射抑制透光性基材20那样，透光性日射消减单元11也可为从与透明导电性氧化物层12相对的表面11a侧开始依次具有表面硬化层111、透光性基材112、及粘着剂层113的结构。此情况下，从表面硬化层111、透光性基材112、及粘着剂层113中选出的一个以上的层也可具有对可视光和近红外光的波长范围内的至少一部分的波长范围的光的透射进行抑制的功能。即，从表面硬化层111、透光性基材112、及粘着剂层113中选出的一个以上的层也可兼作遮热功能层。
从表面硬化层111、透光性基材112、及粘着剂层113中选出的一个以上的层具有对可视光和近红外光的波长范围内的至少一部分的波长范围的光的透射进行抑制的功能是指，如上所述，例如可列举出对上述层中的一个以上的层进行着色以作为着色了的透光层的方法。此外，例如还可使热射线遮蔽颗粒分散在上述层中的一个以上的层内，以作为含有热射线遮蔽颗粒的层和/或近红外线反射膜。
接下来对透明导电性氧化物层进行说明。透明导电性氧化物层可发挥具有断热性的断热功能层的功能。
透明导电性氧化物层12是含有透明导电性氧化物的层，也可为由透明导电性氧化物构成的层。根据本发明的发明人的研究可知，透明导电性氧化物所含有的载子可对远红外线进行反射。为此，藉由设置导电性氧化物层，本实施方式的热射线透射抑制透光性基材可作为断热性较优的热射线透射抑制透光性基材。
作为透明导电性氧化物层所含有的透明导电性氧化物，对其并无特别限定，只要为可对远红外线进行反射的材料，可使用各种透明导电性氧化物。然而，如上所述，由于远红外线是藉由载子被反射的，所以作为该透明导电性氧化物，例如优选含有从氧化铟、氧化锡、及氧化锌中选出的一种以上，其中，该氧化铟中掺杂(dope)了从锡、钛、钨、钼、锌、及氢中选出的一种以上，该氧化锡中掺杂了从锑、铟、钽、氯、及氟中选出的一种以上，该氧化锌中掺杂了从铟、铝、锡、镓、氟、及硼中选出的一种以上。
作为透明导电性氧化物，较佳为其中掺杂了从锡、钛、钨、钼、锌、及氢中选出的一种以上的氧化铟，更佳为其中掺杂了从锡和锌中选出的一种以上的氧化铟。
对透明导电性氧化物层的厚度并无特别限定，可根据所要求的断热性等进行任意选择。例如，透明导电性氧化物层的厚度优选为30nm以上且500nm以下，较佳为50nm以上且400nm以下。
其原因在于，藉由使透明导电性氧化物层的厚度为30nm以上，尤其可对远红外线进行反射，从而可提高断热性能。还在于，藉由使透明导电性氧化物层的厚度为500nm以下，即使就可视光透射率而言，也可将其维持为足够高。
对透明导电性氧化物层的成膜方法并为特别限定，但例如可优选采用基于从溅射法、真空蒸镀法、CVD法、电子束蒸镀法等中选出的任意一种以上的干式处理的成膜方法。此外，优选为成膜后进行热处理，以可预先提高结晶性。
本实施方式的热射线透射抑制透光性基材不只限于至此说明的透光性日射消减单元和透明导电性氧化物层，还可具有任意的层。
就本实施方式的热射线透射抑制透光性基材而言，例如，如图3所示的热射线透射抑制透光性基材30那样，除了透光性日射消减单元11和透明导电性氧化物层12之外，在透明导电性氧化物层12上还可具有光学干涉层(optical interference layer)31。
藉由设置光学干涉层31以对可视光的反射进行抑制，可提高视认性。此外，藉由设置光学干涉层31，还可赋予透明导电性氧化物层12的防止擦伤和/或化学保护的作用。
光学干涉层31优选为其具有较高的可视光透射率，除此之外，远红外线的吸收也较小。其理由为，藉由使光学干涉层31的远红外线的吸收较小，室内的远红外线的绝大部份都会透射光学干涉层31而到达透明导电性氧化物层12并被反射，故可提高断热性。
对光学干涉层31的膜厚并无特别限定，但优选为例如10nm以上且20μm以下。其原因在于，藉由使光学干涉层31的膜厚为20μm以下，尤其可抑制光学干涉层31对远红外线的吸收，从而可提高断热性。还在于，藉由使光学干涉层31的膜厚为10nm以上，可充分赋予防止擦伤和化学保护的作用。
光学干涉层31例如在光学干涉层的折射率位于空气层的折射率和透明导电性氧化物层的折射率之间的情况下也可抑制可视光的反射。为此，作为光学干涉层31的材料，例如可优选使用折射率为1.3以上且1.7以下的材料。
此外，藉由使光学干涉层31的膜厚位于上述范围，光学干涉层31的表面31a侧的反射光和透明导电性氧化物层12侧的界面31b处的反射光还会发生多重反射干涉，据此，尤其可降低可视光的反射率。
为了降低可视光的反射率，光学干涉层31的光学膜厚即折射率和物理膜厚之积优选为50nm以上且150nm以下。
如果光学干涉层31的光学膜厚位于上述范围，则除了可增加基于光学干涉层的反射防止效果之外，还可使光学膜厚小于可视光的波长范围，故藉由界面处的多重反射干涉，可对热射线透射抑制透光性基材的表面被看成彩虹模样的「彩虹现象」进行抑制，从而可提高热射线透射抑制透光性基材的视认性。需要说明的是，这里的折射率为波长590nm(Na-D线的波长)处的值。
在光学干涉层31为树脂层的情况下，其折射率一般为1.3～1.7左右，故从使光学膜厚位于上述范围内以降低可视光的反射率的观点来看，光学干涉层31的厚度较佳为50nm以上且150nm以下。
作为光学干涉层31的材料，可视光透射率较高且机械强度和化学强度较优者为优选。从提高相对于透明导电性氧化物层的擦伤防止和/或化学保护的作用的观点来看，有机材料和/或无机材料为优选。作为有机材料，例如优选使用氟类、丙烯类、聚氨酯类、酯系、环氧类、硅利康类、烯(olefin)类等的活性光线硬化型或热硬化型有机材料、和/或、有机成分和无机成分进行了化学键合(chemical bonding)的有机·无机混合材料。
此外，作为无机材料，例如可列举出含有从硅(silicon)、铝、锌、钛、锆、及锡中选出的至少一种作为主成分的透明氧化物等、DLC(diamond-like carbon)等。
在光学干涉层31使用有机材料的情况下，有机材料中优选导入交联结构(cross-linked structure)。藉由形成交联结构，可提高光学干涉层的机械强度和化学强度，并可增加相对于透明导电性氧化物层等的保护功能。其中，优选导入源自同一分子中具有酸性基和聚合性官能基的酯化合物的交联结构。
作为同一分子中具有酸性基和聚合性官能基的酯化合物，可列举出磷酸、硫酸、草酸、琥珀酸、酞酸(phthalic acid)、富马酸、马来酸等的多价酸与分子中具有乙烯(ethylene)性不饱和基、硅烷醇基(silanol group)、环氧基等的聚合性官能基和羟基的化合物的酯。需要说明的是，该酯化合物可为二酯、三酯等的多价酯，但优选为多价酸的至少一个酸性基未被酯化。
在光学干涉层31具有来自上述酯化合物的交联结构的情况下，可提高光学干涉层的机械强度和化学强度，并可提高光学干涉层31和透明导电性氧化物层12之间的密着性，尤其可提高透明导电性氧化物层的耐久性。上述酯化合物中，磷酸和具有聚合性官能基的有机酸的酯化合物(磷酸酯化合物)与透明导电性氧化物层之间的密着性较优。而具有来自磷酸酯化合物的交联结构的光学干涉层与透明导电性氧化物层之间的密着性尤佳。
从提高光学干涉层31的机械强度和化学强度的观点来看，上述酯化合物优选含有(甲基)丙烯酰基((meth)acryloyl)作为聚合性官能基。此外，从容易导入交联结构的观点来看，上述酯化合物的分子中也可具有多个聚合性官能基。作为上述酯化合物，例如可优选使用由下述式(1)表示的磷酸单酯化合物或磷酸二酯化合物。需要说明的是，也可同时使用磷酸单酯和磷酸二酯。
[化1]
式中，X表示氢原子或甲基，(Y)表示-OCO(CH2)5-基。n为0或1，p为1或2。
光学干涉层31中的源自上述酯化合物的结构的含有量优选为1质量％以上且20质量％以下，较佳为1.5质量％以上且17.5质量％以下，更佳为2质量％以上且15质量％以下，尤其优选为2.5质量％以上且12.5质量％以下。如果来自酯化合物的结构的含有量过小，则存在无法充分获得提高强度和/或密着性的效果的情况。另一方面，如果来自酯化合物的结构的含有量过大，则存在形成光学干涉层时的硬化速度变小导致硬度降低、和/或、光学干涉层表面的滑动性下降引起抗擦伤性降低的情况。就光学干涉层中的源自酯化合物的结构的含有量而言，形成光学干涉层时，藉由调整组成物中的上述酯化合物的含有量，可使其位于想要的范围。
对光学干涉层31的形成方法并无特别限定。就光学干涉层而言，例如优选藉由下述方法形成，即，将有机材料或有机材料的硬化性单体和/或寡聚物与上述酯化合物一起溶解于溶剂以调制成溶液，并将该溶液涂敷在透明导电性氧化物层12上，接下来，使溶媒干燥之后，藉由进行紫外线和/或电子线等的照射和/或热能量的施加，使其硬化。
此外，在作为光学干涉层的材料使用无机材料的情况下，例如还可藉由从溅射法、真空蒸镀法、CVD法、电子束蒸镀法等中选出的任意的一种以上的干式处理进行成膜。
需要说明的是，作为光学干涉层31的材料，除了上述有机材料和/或无机材料之外，还可含有硅烷偶联剂(silane coupling agent)、钛偶联剂(titanium couplingagent)等的偶联剂、平整剂(leveling agent)、紫外线吸收剂、氧化防止剂、热稳定剂、润滑剂、可塑剂、着色防止剂、阻燃剂、带电防止剂等的添加剂。
此外，光学干涉层31还可藉由使无机材料和有机材料进行层叠等，由材料不同的多个层构成。
对本实施方式的热射线透射抑制透光性基材所要求的特性并无特别限定，但从透明导电性氧化物层的一侧所测定的放射率优选为0.60以下，较佳为0.50以下，更佳为0.40以下。
其理由为，藉由使放射率为0.60以下，可作为具备足够的断热性的热射线透射抑制透光性基材，为优选。需要说明的是，对放射率的下限值并无特别限定，但较小为佳，例如可为0或0附近。故，放射率例如可为0以上。
如上所述，本实施方式的热射线透射抑制透光性基材具有透光性日射消减单元和透明导电性氧化物层。此外，从透明导电性氧化物层的一侧所测定的放射率是指，藉由从热射线透射抑制透光性基材的表面中的、接近透光性日射消减单元和透明导电性氧化物层中的透明导电性氧化物层的一侧的表面向透明导电性氧化物层照射红外线等而测定的放射率。
此外，本实施方式的热射线透射抑制透光性基材的遮蔽系数优选为0.90以下，较佳为0.60以下。
遮蔽系数表示将太阳光的能量穿过厚度3mm的玻璃时的能量作为1的情况下的能量透射量之比。另外，其原因在于，藉由使遮蔽系数为0.90以下，可作为具备足够的遮热性的热射线透射抑制透光性基材，为优选。需要说明的是，对遮蔽系数的下限值并无特别限定，但较小为佳，例如可为0或0附近。故，遮蔽系数例如可为0以上。
遮蔽系数优选在基于实际使用条件的状况下进行测定。即，例如在热射线透射抑制透光性基材不含玻璃板但含有透光性树脂基材和/或着色了的树脂基材的情况下，即，在仅含有树脂基材的情况下，优选在贴合于玻璃板的状态下进行评价。此情况下，作为玻璃板对其并无特别限定，但例如优选使用厚度为3mm的玻璃板。
在热射线透射抑制透光性基材包含玻璃板的情况下，优选直接进行遮蔽系数的评价。
[透光性基材单元]
接下来，对本实施方式的透光性基材单元的一构成例进行说明。如图4所示，本实施方式的透光性基材单元40可具有窗用透光性基材41和在窗用透光性基材41的一个表面41a上所配置的上述热射线透射抑制透光性基材42。
窗用透光性基材41例如为配置在窗户的采光部等上的透光性基材，例如可使用玻璃板和/或透光性树脂基材。
此外，在窗用透光性基材41的一个表面上可配置上述热射线透射抑制透光性基材42。对在窗用透光性基材41上固定热射线透射抑制透光性基材42的方法并无特别限定，但在热射线透射抑制透光性基材42具有上述粘着剂层的情况下，可使用该粘着剂层进行固定。另外，还可在窗用透光性基材41和热射线透射抑制透光性基材42之间配置粘着剂层等，由此进行固定。
当将热射线透射抑制透光性基材42固定在窗用透光性基材41上时，优选为以透明导电性氧化物层位于室内和/或车内侧的方式进行固定。此外，还优选为以透光性日射消减单元位于室外和/或车外侧的方式进行固定。
一般而言，热射线透射抑制透光性基材42配置在窗用透光性基材41的室内侧。为此，在图4所示的实例中，优选以透明导电性氧化物层位于热射线透射抑制透光性基材42中的、与窗用透光性基材41相对的一个表面42b的相反侧的另一表面42a侧的方式进行固定。此外，还优选为以透光性日射消减单元位于热射线透射抑制透光性基材42中的、与窗用透光性基材41相对的一个表面42b侧的方式进行固定。
其原因在于，如上所述，透光性日射消减单元具有对可视光和近红外光的波长范围内的至少一部分的波长范围的光的透射进行抑制的功能，藉由以与来自日光等的外部的可视光和/或近红外线相对的方式进行配置，可对可视光和近红外光的波长范围内的至少一部分的波长范围的光的向室内等的入射进行抑制。还在于，透明导电性氧化物层具有对远红外线进行反射的功能，故藉由朝向室内等的方向进行配置，可对室内等所产生的远红外线的向外部的放射进行抑制。
本实施方式的透光性基材单元的遮蔽系数优选为0.90以下，较佳为0.60以下。
其原因在于，藉由使本实施方式的透光性基材单元的遮蔽系数为0.90以下，可作为具有足够的遮热性的透光性基材单元，为优选。需要说明的是，对遮蔽系数的下限值并无特别限定，但较小为佳，例如可为0或0附近。故，遮蔽系数例如可为0以上。
根据本实施方式的透光性基材单元可知，其具有上述热射线透射抑制透光性基材。为此，可为一种能够对断热性和遮热性进行独立控制的透光性基材单元。
[实施例]
以下参照具体实施例进行说明，但本发明并不限定于这些实施例。
(评价方法)
(1)可视光透射率
可视光透射率使用分光光度计(“日立High Tech”制，产品名「U-4100」)并按照JISA5759-2008(建筑窗玻璃膜)而求得。
(2)室内反射率
将绝对反射率作为室内反射率并进行了测定。
具体而言，就室内反射率而言，测定了从光学干涉层侧以入射角为5°的方式入射的光的、波长为380nm以上且780nm以下的范围的出射角为5°的绝对反射率。
(3)放射率
就放射率而言，使用具备一角度可变反射附件(accessory)的傅立叶转换型红外分光(FT-IR)装置(“Varian公司”制)，对从光学干涉层侧照射波长为5μm以上且25μm以下的范围的红外线的情况下的正反射率进行了测定，并按照JIS R3106-2008(板玻璃类的透射率·反射率·放射率·日光辐射热取得率的试验方法)而求得。
(4)遮蔽系数
使用分光光度计(“日立High Tech”制，产品名「U-4100」)，对日射透射率τe和日射反射率ρe进行了测定，并按照JIS A5759-2008(建筑窗玻璃膜)A法计算了遮蔽系数。
(5)耐久性
相对于直径为3mm的不锈钢制金属棒，以大小为4cm×4cm的热射线透射抑制透光性基材的透光性日射消减单元侧的表面为内侧的方式、即、与金属棒的表面相对的方式进行了卷绕。然后，藉由夹具对热射线透射抑制透光性基材的与金属棒的外周方向的平行的方向的两端进行了夹持，并藉由30号(112.5g)的砝码(weight)施加了5秒钟的载荷。
使实施了上述处理的热射线透射抑制透光性基材的透光性日射消减单元侧的表面藉由厚度为25μm的粘着剂层贴合在3cm×3cm的玻璃板上，并将其作为试料(样品)使用。将该试料浸渍于5质量％的氯化钠水溶液，并将容置有该试料和氯化钠水溶液的容器放入50℃的干燥机。5天后和10天后，分别对放射率的变化和外观的变化进行了确认，并按照以下的评价基准进行了评价。
○：浸渍了10天后外观也无变化，并且放射率的变化为0.02以下。
×：浸渍了5天后或浸渍了10天后，确认到了外观的变化、或尽管没有确认到外观的变化但放射率的变化超过了0.02。
需要说明的是，实施例9和实施例13使用了玻璃制基材，由于不能进行弯曲，故没有实施耐久性试验。
[实施例1]
制作了具有表1A所示的构成的热射线透射抑制透光性基材，并进行了评价。
需要说明的是，表1A和表1B中，在热射线透射抑制透光性基材的构成的栏内，示出了各实施例和比较例中所制作的热射线透射抑制透光性基材的构成。就透光性日射消减单元而言，按照透光性日射消减单元的构成的栏中所记载的顺序对各层进行了层叠。
表1A和表1B的透光性日射消减单元的构成栏中，HC表示表面硬化层，多层F表示多层膜，热吸G表示热吸收玻璃，绿色G表示绿色玻璃(green glass)。
此外，PET表示聚对苯二甲酸乙二酯膜，TiO2表示氧化钛层，Ag表示银层，Ni-Cr表示Ni-Cr层，IZO表示IZO膜(Indium Zinc Oxide膜，即，氧化铟锌膜)，APC表示APC层(Ag PdCu层)，Al2O3表示Al氧化物层、即氧化铝(alumina)层。
类似遮热HC和遮热粘着剂层这样的记载表示包含了热射线遮蔽颗粒。此外，着色PET则表示被进行了着色的聚对苯二甲酸乙二酯膜。
此外，就热射线透射抑制透光性基材而言，具有透光性日射消减单元的构成的栏的右端所记载的层，如果是实施例1的情况，则在遮热HC(遮热表面硬化层)之上，再加上透明导电性氧化物层和/或光学干涉层依次进行了层叠的构成。
此外，热射线透射抑制透光性基材中的、具有断热功能的部件示于断热功能层的栏中，具有遮热功能的部件示于遮热功能层的栏中。
本实施例中，如表1A所示，制作了具备具有粘着剂层、透光性基材(PET)、及表面硬化层(遮热HC)的透光性日射消减单元、位于表面硬化层上的透明导电性氧化物层、及光学干涉层的热射线透射抑制透光性基材。
作为透光性基材，使用了厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜(“三菱树脂株式会社”制，商品名：T602E50)。
在透光性基材的一个表面上藉由旋涂法(spin coating)对包含遮热颗粒(热射线遮蔽颗粒)的树脂溶液进行了涂敷并使其干燥之后，于氮氛围气(氮环境气体)下藉由进行紫外线(UV)照射(300mJ/cm2)而使其硬化，由此形成了厚度为2μm的含遮热颗粒的表面硬化层。
就含遮热颗粒的树脂溶液而言，在UV硬化性氨基甲酸酯丙烯酸酯(urethaneacrylate)类表面硬化树脂溶液(“DIC株式会社”制，商品名：ENS1068)中，对光聚合引发剂(polymerization initiator)(“BASF公司”制，商品名：Irgacure184)以树脂当量为3wt％的方式、并对作为遮热颗粒的铯氧化钨化合物颗粒的分散液(“住友金属矿山株式会社”，商品名：YMF-01A)以树脂当量为15wt％的方式进行了混合，由此进行了制作。
在表面硬化层上作为透明导电性氧化物层进行了ITO膜(Indium Tin Oxide膜、即、氧化铟锡膜)的成膜。具体而言，使用SnO2的含有量相对于In2O3和SnO2的总量为10wt％的复合氧化物靶，并藉由DC磁控溅射(magnetron sputtering)法，进行了表1A所示厚度的成膜，之后，在150℃下实施了30分钟的热处理，由此进行了成膜。
需要说明的是，溅射气体使用了氩气和少量氧的混合气体，并在0.2Pa的处理(process)压力下进行了成膜。
在透明导电性氧化物层上进行了光学干涉层的成膜。具体而言，首先调制了在丙烯类表面硬化树脂溶液(“JSR株式会社”制，商品名：OPSTAR Z7535)中对光聚合引发剂(“BASF公司”制，商品名：Irgacure127)以树脂当量为3wt％的方式进行了混合的液体。然后，将该混合溶液藉由旋涂法涂敷在透明导电性氧化物层上，以使干燥之后的厚度为表1A所示的厚度。干燥之后，在氮氛围气下藉由照射UV(300mJ/cm2)而使其进行了硬化。
之后，在与透光性基材的形成了透明导电性氧化物层等的表面相反侧的表面上，对丙烯类粘着树脂以厚度为25μm的方式进行了涂敷，由此形成了粘着剂层。藉由以上的步骤，获得了热射线透射抑制透光性基材。
向所获得的热射线透射抑制透光性基材藉由粘着剂层贴附了厚度为3mm的蓝板玻璃(blue-board glass)(“松浪硝子株式会社”制)，以作为透光性基材单元，然后进行了上述评价。结果示于表1。
需要说明的是，就放射率而言，计算出了减去成为透光性基材单元时所贴附的玻璃板的量(值)之后的值，并进行了表示。另外，就成为了透光性基材单元之后再进行评价的其他实施例和比较例而言，也都同样。
[实施例2、3]
除了使透明导电性氧化物层变为表1A所示的厚度这点之外，与实施例1同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。需要说明的是，透明导电性氧化物层的厚度记载于表1A中的断热功能层的栏内。
结果示于表1A。
[实施例4]
除了对透光性基材和表面硬化层的构成进行了如下所述的变更这点之外，与实施例1同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。
作为透光性基材，使用了厚度为19μm的被进行了着色并且内部透射率为35％的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜(“三菱树脂株式会社”制，商品名：Z735E19)。
接下来，藉由旋涂法在透光性基材的一个表面上涂敷树脂溶液并使其干燥之后，在氮氛围气下藉由照射紫外线(UV)(300mJ/cm2)而使其硬化，由此形成了厚度为2μm的表面硬化层。本实施例中，表面硬化层不含热射线遮蔽颗粒。
就树脂溶液而言，藉由在UV硬化性氨基甲酸酯丙烯酸酯类表面硬化树脂溶液(“DIC株式会社”制，商品名：ENS1068)中对光聚合引发剂(“BASF公司”制，商品名：Irgacure184)以树脂当量为3wt％的方式进行混合，由此进行了制作。
评价结果示于表1A。
[实施例5、6]
除了使透明导电性氧化物层变为表1A所示的厚度这点之外，与实施例4同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。结果示于表1A。
[实施例7]
除了对粘着剂层、表面硬化层、及透明导电性氧化物层的构成如下所述进行了变更这点之外，与实施例1同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。
在透光性基材的一个表面上藉由旋涂法涂敷树脂溶液并进行了干燥之后，于氮氛围气下藉由照射紫外线(UV)(300mJ/cm2)而使其硬化，由此形成了厚度为2μm的表面硬化层。本实施例中，表面硬化层不含热射线遮蔽颗粒。
就树脂溶液而言，藉由在UV硬化性氨基甲酸酯丙烯酸酯类表面硬化树脂溶液(“DIC株式会社”制，商品名：ENS1068)中使光聚合引发剂(“BASF公司”制，商品名：Irgacure184)以树脂当量为3wt％的方式进行混合，由此进行了制作。
就透明导电性氧化物层而言，除了厚度为80nm这点之外，与实施例1同样地进行了成膜。
接下来，在透光性基材的与形成了透明导电性氧化物层等的表面相反侧的表面上，以厚度变为25μm的方式涂敷了含有遮热颗粒的树脂溶液。涂敷之后，再在50℃下进行了24个小时的加温，由此形成了粘着剂层。
需要说明的是，作为含有遮热颗粒的树脂溶液，使用了以树脂当量为1.2wt％的方式，在添加了作为遮热颗粒的铯氧化钨化合物颗粒的分散液(“住友金属矿山株式会社”，商品名：YMF-01A)的丙烯类树脂中，添加了交联剂(“三菱气体化学株式会社”制，商品名：TETRAD-C)的树脂溶液。
评价结果示于表1A。
[实施例8]
除了将透光性基材、表面硬化层、及透明导电性氧化物层的构成进行了如下所述的变更这点之外，与实施例1同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。
作为透光性基材，取代PET膜，使用了对折射率不同的聚酯膜进行了层叠，并具备反射近红外线的遮热功能的厚度为50μm的多层膜(“3M公司”制，商品名：nano90S)。需要说明的是，多层膜在表1A中被表示为多层F。
在透光性基材的一个表面上藉由旋涂法涂敷树脂溶液并进行干燥之后，于氮氛围气下藉由进行紫外线(UV)照射(300mJ/cm2)使其硬化，据此形成了厚度为2μm的表面硬化层。本实施例中，表面硬化层不含热射线遮蔽颗粒。
就树脂溶液而言，藉由在UV硬化性氨基甲酸酯丙烯酸酯类表面硬化树脂溶液(“DIC株式会社”制，商品名：ENS1068)中将光聚合引发剂(“BASF公司”制，商品名：Irgacure184)以树脂当量为3wt％的方式进行混合，由此进行了制作。
就透明导电性氧化物层而言，除了使厚度为80nm这点之外，与实施例1同样地进行了成膜。
评价结果示于表1A。
[实施例9]
除了没有设置粘着剂层和表面硬化层这点及对透光性基材和透明导电性氧化物层的构成进行了变更这点之外，与实施例1同样地进行了热射线透射抑制透光性基材的制作。
作为透光性基材，使用了具有可吸收近红外线的遮热功能的厚度为6mm的热吸收玻璃(“日本板硝子株式会社”制，商品名：Greenpane MFL6)。需要说明的是，热吸收玻璃在表1A中被表示为热吸G。
就透明导电性氧化物层而言，除了使厚度为80nm这点之外，与实施例1同样地进行了成膜。
此外，透光性基材为玻璃板，故，进行评价时不将其贴附在玻璃板上，而是直接进行了热射线透射抑制透光性基材的评价。
评价结果示于表1A。
[实施例10]
除了作为透光性基材而使用了厚度为19μm的被进行了着色的内部透射率为50％的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜(“三菱树脂株式会社”制，商品名：Z750E19)这点和将透明导电性氧化物层的厚度设为表1A所示的值这点之外，与实施例4同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。
评价结果示于表1A。
[实施例11]
制作了具有表1A所示的构成的热射线透射抑制透光性基材，并进行了评价。
如表1A所示，制作了具备一具有粘着剂层、着色了的透光层、粘着剂层、透光性基材、及表面硬化层的透光性日射消减单元、一位于表面硬化层上的透明导电性氧化物层、及一光学干涉层的热射线透射抑制透光性基材。
作为透光性基材，使用了厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜(“三菱树脂株式会社”制，商品名：T602E50)。
在透光性基材的一个表面上藉由旋涂法涂敷了树脂溶液并对其进行干燥之后，于氮氛围气下藉由进行紫外线(UV)照射(300mJ/cm2)而使其硬化，由此形成了厚度为2μm的表面硬化层。
就树脂溶液而言，藉由在UV硬化性氨基甲酸酯丙烯酸酯类表面硬化树脂溶液(“DIC株式会社”制，商品名：ENS1068)中对光聚合引发剂(“BASF公司”制，商品名：Irgacure184)以树脂当量变为3wt％的方式进行混合，由此进行了制作。
在表面硬化层上作为透明导电性氧化物层对ITO膜进行了成膜。具体而言，使用SnO2含有量相对于In2O3和SnO2的总量为10wt％的复合氧化物靶，并藉由DC磁控溅射法，进行了表1A所示厚度的成膜，然后在150℃下实施了30分钟的热处理，由此进行了成膜。
需要说明的是，溅射气体使用了氩气和少量氧的混合气体，并在0.2Pa的处理压力下进行了成膜。
在透明导电性氧化物层上进行了光学干涉层的成膜。具体而言，首先调制了在丙烯类表面硬化树脂溶液(“JSR公司”制，商品名：OPSTAR Z7535)中对光聚合引发剂(“BASF公司”制，商品名：Irgacure127)以树脂当量为3wt％的方式进行了混合的液体。然后，藉由旋涂法将该混合溶液涂敷在透明导电性氧化物层上，以使干燥之后的厚度成为表1A所示的厚度。干燥之后，在氮氛围气下进行UV照射(300mJ/cm2)，以使其进行了硬化。
接下来，在与透光性基材的形成了透明导电性氧化物层等的表面相反侧的表面上，以厚度为25μm的方式涂敷了丙烯类粘着树脂，由此形成了粘着剂层(第1粘着剂层)。
此外，在粘着剂层的与透光性基材相对的表面相反侧的表面上，进行了着色了的透光层的配置。作为着色了的透光层，使用了厚度为19μm的被进行了着色并且内部透射率为15％的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜(“三菱树脂株式会社”制，商品名：Z715E19)。
接下来，于着色了的透光层的与上述粘着剂层相对的表面相反侧的表面上，在与上述粘着剂层相同的条件下形成了粘着剂层(第2粘着剂层)。
藉由以上的步骤，获得了热射线透射抑制透光性基材。
向所获得的热射线透射抑制透光性基材藉由第2粘着剂层贴附了厚度为3mm的蓝板玻璃(“松浪硝子株式会社”制)，以作为透光性基材单元，然后进行了上述评价。结果示于表1A。
[实施例12]
制作了具有表1A所示的构成的热射线透射抑制透光性基材，并进行了评价。
如表1A所示，制作了具备一具有被粘着剂层和TiO2层夹着的银层(TiO2/Ag/TiO2)、透光性基材、及表面硬化层的透光性日射消减单元、一位于表面硬化层上的透明导电性氧化物层、及一光学干涉层的热射线透射抑制透光性基材。
作为透光性基材，使用了厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜(“三菱树脂株式会社”制，商品名：T602E50)。
在透光性基材的与形成后述的表面硬化层的表面相反侧的表面上，预先形成了由TiO2层夹着的Ag层。
就TiO2层而言，使用金属Ti靶并藉由DC磁控溅射法，进行了厚度为15nm的成膜。溅射气体使用了氩气/氧＝85/15(体积比)的混合气体，并在0.2Pa的处理压力下进行了成膜。
就Ag层而言，在上述TiO2层上，使用金属Ag靶并藉由DC磁控溅射法，进行了厚度为13nm的成膜。溅射气体仅使用了氩气，并在0.2Pa的处理压力下实施了成膜。
在Ag层上与上述TiO2层同样地再进行TiO2层的成膜，由此进行了由TiO2层夹着的Ag层的成膜。
Ag容易被腐蚀，故藉由被TiO2层夹着，可提高耐腐蚀性。此外，就本实施例的被TiO2层夹着的Ag层而言，如下所述还在其上形成了表面硬化层和/或透明导电性氧化物层，故，本实施例的热射线透射抑制透光性基材不具有对远红外线进行反射的作用，仅具有遮热功能。
在透光性基材的与设置了被TiO2层夹着的Ag层的表面相反侧的表面上，藉由旋涂法涂敷了树脂溶液并进行了干燥，然后在氮氛围气下藉有照射紫外线(UV)(300mJ/cm2)而使其硬化，由此形成了厚度为2μm的表面硬化层。
就树脂溶液而言，藉由在UV硬化性氨基甲酸酯丙烯酸酯类表面硬化树脂溶液(“DIC株式会社”制，商品名：ENS1068)中对光聚合引发剂(“BASF公司”制，商品名：Irgacure184)以树脂当量为3wt％的方式进行混合，由此进行了制作。
在表面硬化层上作为透明导电性氧化物层进行了ITO膜的成膜。具体而言，使用SnO2的含有量相对于In2O3和SnO2的总量为10wt％的复合氧化物靶，并藉由DC磁控溅射法，进行了表1A所示厚度的成膜，然后在150℃下实施了30分钟的热处理，由此进行了成膜。
需要说明的是，溅射气体使用了氩气和少量氧的混合气体，并在0.2Pa的处理压力下进行了成膜。
在透明导电性氧化物层上进行了光学干涉层的成膜。具体而言，首先调制了在丙烯类表面硬化树脂溶液(“JSR公司”制，商品名：OPSTAR Z7535)中对光聚合引发剂(“BASF公司”制，商品名：Irgacure127)以树脂当量为3wt％的方式进行了混合的液体。然后，藉由旋涂法将该混合溶液涂敷在透明导电性氧化物层上，以使其干燥之后的厚度变为表1A所示的厚度。干燥之后，在氮氛围气下进行了UV照射(300mJ/cm2)，由此进行了硬化。
接下来，在透光性基材的与形成了透明导电性氧化物层等的表面相反侧的表面上、即、TiO2层上，进行丙烯类粘着树脂的厚度为25μm的涂敷，由此形成了粘着剂层。
藉由以上的步骤，获得了热射线透射抑制透光性基材。
向所获得的热射线透射抑制透光性基材藉由粘着剂层贴附了厚度为3mm的蓝板玻璃(“松浪硝子株式会社”制)，以作为透光性基材单元，然后进行了上述评价。结果示于表1A。
[实施例13]
作为透光性基材，使用了被着色为绿色并且具有吸收近红外线的遮热功能的厚度为6mm+6mm的叠层绿色玻璃(“旭硝子株式会社”制，商品名：Coolverre)，除了这点之外，与实施例9同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。
评价结果示于表1B。
[实施例14]
除了取代由TiO2层夹着的Ag层而使用了Ni-Cr层这点之外，与实施例12同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。
就Ni-Cr层而言，使用Cr的含有量相对于金属Ni和金属Cr的总量为20wt％的复合金属靶，并藉由DC磁控溅射法，进行了厚度为4nm的成膜。溅射气体仅使用了氩气，并在0.2Pa的处理压力下进行了成膜。
评价结果示于表1B。
[实施例15]
作为光学干涉层，取代丙烯酸酯树脂(acrylate resin)层，进行了SiO2层的成膜，除了这点之外，与实施例2同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。
就SiO2层而言，使用金属Si靶并藉由DC磁控溅射法进行了厚度为110nm的成膜。溅射气体使用了氩气/氧＝85/15(体积比)的混合气体，并在0.2Pa的处理压力下实施了成膜。
评价结果示于表1B。
[实施例16]
本实施例中，从光学干涉层侧开始依次进行层叠，由此制造了热射线透射抑制透光性基材。
作为光学干涉层，准备了厚度为10μm的聚丙烯(polypropylene)基板。
在光学干涉层的一个表面上作为透明导电性氧化物层进行了ITO膜(Indium TinOxide膜、即、氧化铟锡膜)的成膜。具体而言，使用SnO2的含有量相对于In2O3和SnO2的总量为10wt％的复合氧化物靶，并藉由DC磁控溅射法进行了表1B所示的厚度的成膜，然后在150℃下实施了30分钟的热处理，由此进行了成膜。
需要说明的是，溅射气体使用了氩气和少量氧的混合气体，并在0.2Pa的处理压力下进行了成膜。
在透明导电性氧化物层上藉由旋涂法涂敷了包含遮热颗粒(热射线遮蔽颗粒)的树脂溶液并对其进行了干燥，然后在氮氛围气下藉由照射紫外线(UV)(300mJ/cm2)使其硬化，由此形成了厚度为2μm的包含遮热颗粒的表面硬化层。
就包含遮热颗粒的树脂溶液而言，藉由在UV硬化性氨基甲酸酯丙烯酸酯类表面硬化树脂溶液(“DIC株式会社”制，商品名：ENS1068)中，对光聚合引发剂(“BASF公司”制，商品名：Irgacure184)以树脂当量为3wt％的方式，并对作为遮热颗粒的铯氧化钨化合物颗粒的分散液(“住友金属矿山株式会社”，商品名：YMF-01A)以树脂当量为15wt％的方式进行了混合，由此进行了制作。
接下来，在包含遮热颗粒的表面硬化层上，藉由粘着剂层贴合了透明基材。
此外，在透明基材的与包含遮热颗粒的表面硬化层相对的表面相反侧的表面上，形成了粘着剂层。
就粘着剂层而言，都进行了丙烯类粘着树脂的厚度为25μm的涂敷，由此进行了形成。
另外，作为透明基材，使用了厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜(“三菱树脂株式会社”制，商品名：T602E50)。
向所获得的热射线透射抑制透光性基材藉由粘着剂层贴附了厚度为3mm的蓝板玻璃(“松浪硝子株式会社”制)，以作为透光性基材单元，之后进行了上述评价。结果示于表1B。
[实施例17]
作为透明导电性氧化物层，取代ITO膜，进行了IZO膜(Indium Zinc Oxide膜、即、氧化铟锌膜)的厚度为400nm的成膜，除了这点之外，与实施例1同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。
就IZO膜而言，使用ZnO的含有量相对于In2O3和ZnO的总量为10wt％的复合氧化物靶，并藉由DC磁控溅射法进行了厚度为400nm的成膜。
需要说明的是，溅射气体使用了氩气和少量氧的混合气体，并在0.2Pa的处理压力下进行了成膜。
评价结果示于表1B。
[实施例18]
除了将作为透明导电性氧化物层的ITO膜的厚度设为30nm这点之外，与实施例1同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。
评价结果示于表1B。
[实施例19]
除了在遮热表面硬化层和透明导电性氧化物层之间进行了以下的层的成膜这点之外，与实施例2同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。
在包含遮热颗粒的表面硬化层上，作为底层即密着改善层，进行了Al氧化物层即氧化铝层(表1B中记为「Al2O3」)的成膜。具体而言，使用金属Al靶并藉由DC磁控溅射进行了厚度为3nm的成膜。
溅射气体使用了氩气/氧＝85/15(体积比)的混合气体，并在0.2Pa的处理气体压力下进行了成膜。
评价结果示于表1B。
[比较例1]
制作了具有表1B所示的构成的热射线透射抑制透光性基材，并进行了评价。
如表1B所示，制作了具备一具有粘着剂层、透光性基材、表面硬化层、及由IZO膜夹着的APC层(Ag Pd Cu层)的透光性日射消减单元、及一位于由IZO膜所夹持的APC层上的光学干涉层的热射线透射抑制透光性基材。
作为透光性基材，使用了厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜(“三菱树脂株式会社”制，商品名：T602E50)。
在透光性基材的一个表面上藉由旋涂法对树脂溶液进行涂敷和干燥之后，于氮氛围气下藉由照射紫外线(UV)(300mJ/cm2)而使其硬化，由此形成了厚度为2μm的表面硬化层。
就树脂溶液而言，藉由在UV硬化性氨基甲酸酯丙烯酸酯类表面硬化树脂溶液(“DIC株式会社”制，商品名：ENS1068)中对光聚合引发剂(“BASF公司”制，商品名：Irgacure184)以树脂当量为3wt％的方式进行混合，由此进行了制作。
在表面硬化层上进行了由IZO膜夹着的APC层(Ag Pd Cu层)的成膜。APC层兼作遮热功能层和断热功能层。
首先，在表面硬化层上藉由DC磁控溅射法依次形成了由铟-锌复合氧化物(IZO)构成的膜厚为30nm的第1金属氧化物层、由Ag-Pd-Cu合金构成的膜厚为5nm的金属层、及由IZO构成的膜厚为30nm的第2金属氧化物层。
就第1金属氧化物层和第2金属氧化物层的形成而言，使用ZnO的含有量相对于In2O3和ZnO的总量为10wt％的复合氧化物靶，并藉由DC磁控溅射法进行了成膜。溅射气体使用了氩气和少量氧的混合气体，并在0.2Pa的处理压力下进行了成膜。
APC层的成膜使用了Ag、Pd、及Cu的含有比例为99.0∶0.6∶0.4(重量比)的合金靶，并藉由DC磁控溅射法进行了成膜。溅射气体仅使用氩气，并在0.2Pa的处理压力下进行了成膜。
在被IZO膜夹持的APC层上进行了光学干涉层的成膜。具体而言，调制了在丙烯类表面硬化树脂溶液(“JSR公司”制，商品名：OPSTAR Z7535)中对光聚合引发剂(“BASF公司”制，商品名：Irgacure127)以树脂当量为3wt％的方式进行了混合的液体。然后，藉由旋涂法将该混合溶液涂敷在透明导电性氧化物层上，以使其干燥之后的厚度成为表1B所示的厚度。干燥之后，在氮氛围气下进行UV照射(300mJ/cm2)，以使其硬化。
接下来，在透光性基材的与形成了由IZO膜夹着的APC层等的表面相反侧的表面上，进行丙烯类粘着树脂的厚度为25μm的涂敷，由此形成了粘着剂层。
藉由以上的步骤，获得了热射线透射抑制透光性基材。
向所获得的热射线透射抑制透光性基材藉由粘着剂层贴附了厚度为3mm的蓝板玻璃(“松浪硝子株式会社”制)，以作为透光性基材单元，之后进行了上述评价。结果示于表1B。
[比较例2、3]
除了将APC层改变为具有表1B所示的厚度这点之外，与比较例1同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。结果示于表1B。
[比较例4]
作为透光性基材，使用了厚度为19μm并且被进行了着色的内部透射率为50％的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜(“三菱树脂株式会社”制，商品名：Z750E19)，除了这点之外，与比较例3同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。结果示于表1B。
[比较例5]
除了没有设置表面硬化层这点之外与实施例2同样地制作了热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元，并进行了评价。需要说明的是，不具有遮热功能层。
结果示于表1B。
[表1A]
[表1B]
仅在作为断热功能层的透明导电性氧化物层的厚度上不同的实施例1～实施例3的结果、实施例4～6的结果、及比较例1～3的结果分别示于表2～表4。
[表2]
[表3]
[表4]
由表2和表3的结果可确认到，在实施例1～实施例6中，藉由使作为断热功能层而发挥功能的透明导电性氧化物层的厚度进行变化，仅是作为断热性的指标的放射率发生了变动，作为遮热性的指标的遮蔽系数基本上没有发生变化。即，确认到了可独立地对断热性和遮热性进行控制。
另一方面，还确认到了，在表4所示的比较例1～3中，藉由使也作为断热功能层而发挥功能的APC层的厚度进行变动，不仅放射率，而且作为遮热性的指标的遮蔽系数也进行了较大的变动，无法独立地对断热性和遮热性进行控制。
由以上的结果可确认到，藉由作为具有透光性日射消减单元和透明导电性氧化物层的热射线透射抑制透光性基材，可独立地对断热性和遮热性进行控制。
此外，从实施例7～实施例19的结果还确认到了，可使粘着剂层和/或透光性基材、表面硬化层为遮热功能层、和/或、除了上述粘着剂层等之外可再设置着色了的透光层、近红外线反射膜、可视光透射抑制层等作为遮热功能层。
另外，还可确认到，在表面侧配置了作为银合金层的APC层的比较例1～比较例4中，APC层和陶瓷层发生了裂纹(crack)等，耐久性为×，然而，在表面侧没有使用银合金层的实施例1～实施例19中，耐久性为○。
其原因在于，弯曲导致银合金层和陶瓷层产生了裂纹，从而使易被腐食的银合金层露出，这样就从裂纹部分开始进行了劣化。
以上基于实施方式和实施例等对热射线透射抑制透光性基材和透光性基材单元进行了说明，但本发明并不限定于上述实施方式和实施例等。在权利要求书记载的本发明的主旨的范围内，还可进行各种各样的变形和变更。
本申请主张基于2017年3月31日向日本国专利厅申请的特愿2017-073026号和2018年3月16日向日本国专利厅申请的特愿2018-049517号的优先权，并将特愿2017-073026号和特愿2018-049517号的内容全部援引于本国际申请。
[符号说明]
10、20、30、42 热射线透射抑制透光性基材
11 透光性日射消减单元
111 表面硬化层
112 透光性基材
113 粘着剂层
12 透明导电性氧化物层
31 光学干涉层
40 透光性基材单元
41 窗用透光性基材

Claims (9)

1.一种热射线透射抑制透光性基材，具有：
透光性日射消减单元，对可视光和近红外光的波长范围内的至少一部分的波长范围的光的透射进行抑制；及
透明导电性氧化物层，配置在所述透光性日射消减单元上，并含有透明导电性氧化物。
2.根据权利要求1所述的热射线透射抑制透光性基材，其中，
所述透明导电性氧化物层的厚度为30nm以上且500nm以下。
3.根据权利要求1或2所述的热射线透射抑制透光性基材，其中，
所述透明导电性氧化物层含有从
掺杂了从锡、钛、钨、钼、锌、及氢中选出的一种以上的氧化铟、
掺杂了从锑、铟、钽、氯、及氟中选出的一种以上的氧化锡、及
掺杂了从铟、铝、锡、镓、氟、及硼中选出的一种以上的氧化锌中选出的一种以上，作为所述透明导电性氧化物。
4.根据权利要求1至3项中的任一项所述的热射线透射抑制透光性基材，其中，
在所述透明导电性氧化物层上还具有光学干涉层。
5.根据权利要求1至4项中的任一项所述的热射线透射抑制透光性基材，其中，
所述透光性日射消减单元包括透光性基材和所述透光性基材之外的部件。
6.根据权利要求1至5项中的任一项所述的热射线透射抑制透光性基材，其中，
所述透光性日射消减单元从与所述透明导电性氧化物层相对的表面侧开始依次具有表面硬化层、透光性基材、及粘着剂层，
从所述表面硬化层、所述透光性基材、及所述粘着剂层中选出的1个以上的层具有对可视光和近红外光的波长范围内的至少一部分的波长范围的光的透射进行抑制的功能。
7.根据权利要求1至6项中的任一项所述的热射线透射抑制透光性基材，其中，
从所述透明导电性氧化物层侧所测定的放射率为0.60以下。
8.一种透光性基材单元，具有：
窗用透光性基材；及
配置在所述窗用透光性基材的一个表面上的根据权利要求1至7项中的任一项所述的热射线透射抑制透光性基材。
9.根据权利要求8所述的透光性基材单元，其中，
遮蔽系数为0.90以下。
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