CN110426771A - 偏光片、显示面板及偏光片的制造方法 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种偏光片、显示面板及偏光片的制造方法，其中，偏光片包括：位相差膜，与所述位相差膜层叠设置的偏光功能膜，所述偏光功能膜包括线偏光膜；其中，所述偏光功能膜设置有减反射结构。通过在偏光片中增设具有减反射效果的减反射结构，以降低偏光片的反射率。将本申请中具有减反射结构的偏光片使用于显示器件上后，可减少外部环境光的反射对显示效果造成的影响，具有减少眩光，提高显示对比度的作用。

Description

偏光片、显示面板及偏光片的制造方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种偏光片、显示面板及偏光片的制造方法。

背景技术

目前OLED屏体结构中为了减少环境光对器件显示造成的影响，通常在OLED器件外层贴附偏光片以减少眩光，提高显示对比度。

传统的偏光片反射率高，当采用涂布方式在屏体上直接制作偏光片的时候，仍存在屏体的反射率高，无法完全满足使用需求问题。

发明内容

本申请提供一种偏光片、显示面板及偏光片的制造方法，以解决现有技术中偏光片反射率高的问题。

为解决上述技术问题，本申请提供一种偏光片，包括：位相差膜，与所述位相差膜层叠设置的偏光功能膜，所述偏光功能膜包括线偏光膜；其中，所述偏光功能膜设置有减反射结构。

其中，所述减反射结构包括减反射颗粒，所述减反射颗粒掺杂分散于所述线偏光膜中。

其中，所述减反射结构包括减反射层，所述减反射层形成于所述线偏光膜靠近所述位相差膜的表面和/或远离所述位相差膜的表面。

其中，所述减反射结构包括高折射率层和低折射率层，所述低折射率层位于所述线偏光膜远离所述位相差膜的一侧，所述高折射率层与所述低折射率层位于所述线偏光膜的同一侧或不同侧；所述低折射率层相较于所述高折射率层远离所述位相差膜。

其中，所述低折射率层中掺杂有减反射纳米颗粒。

其中，所述减反射纳米颗粒为二氧化硅纳米颗粒或银纳米颗粒。

其中，所述高折射率层包括二氧化钛或氧化锆，所述低折射率层包括低折射率树脂。

为解决上述技术问题，本申请提供一种显示面板，所述显示面板包括上述的偏光片。

为解决上述技术问题，本申请提供一种偏光片的制造方法，所述制造方法包括：

形成位相差膜层；

在所述位相差膜层表面形成线偏光膜；

其中，所述线偏光膜内掺杂有减反射颗粒；或者，所述线偏光膜表面形成有减反射层。

其中，所述在所述位相差膜表面形成线偏光膜包括：提供线偏光材料，将减反射颗粒与线偏光材料混合后涂布于所述位相差膜一侧表面，形成所述线偏光膜。

本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，通过在偏光片中增设具有减反射效果的减反射结构，以降低偏光片的反射率。将本申请中具有减反射结构的偏光片使用于显示器件上后，可减少外部环境光的反射对显示效果造成的影响，具有减少眩光，提高显示对比度的作用。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请偏光片一实施方式例的结构示意图；

图2是本申请偏光片另一实施方式的一种结构示意图；

图3是本申请偏光片另一实施方式的另一种结构示意图；

图4是本申请偏光片另一实施方式的又一种结构示意图；

图5是本申请偏光片又一实施方式的一种结构示意图；

图6是本申请偏光片又一实施方式的另一种结构示意图；

图7是本申请显示面板的一实施方式的结构示意图；

图8是本申请偏光片的制造方法一实施方式的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅用于解释本申请，而非对本申请的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本申请相关的部分而非全部结构。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。本申请实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后、顶、底……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

请参阅图1，图1是本申请偏光片一实施方式例的结构示意图。

本申请一实施方式提供了一种偏光片10，偏光片10包括位相差膜11和与位相差膜11层叠设置的偏光功能膜12。

位相差膜11为偏光片10在使用于显示器件时，靠近显示器件设置的膜层。偏光功能膜12包括线偏光膜121，在偏光功能膜12中设置有减反射结构122，减反结构可设置在线偏光膜121表面或内部。

本实施方式中通过在偏光片10的偏光功能膜12中设置减反结构122，以降低偏光片10的反射率。将本申请中具有减反射结构122的偏光片10使用于显示器件上后，可减少外部环境光的反射对显示效果造成的影响，具有减少眩光，提高显示对比度的作用。

在一个实施方式中，减反射结构122包括减反射颗粒，减反射颗粒掺杂分散于线偏光膜121上。一方面，通过在线偏光膜121上增加减反射颗粒，可提高减反射效果，降低偏光片10的反射率；另一方面，由于减反射颗粒掺杂分散于线偏光膜121上，偏光片10的整体厚度没有增加，对偏光片10的柔性功能没有影响。

减反射颗粒为减反射纳米颗粒，具体地，减反射颗粒可采用二氧化硅纳米颗粒或银纳米颗粒，将二氧化硅纳米颗粒或银纳米颗粒掺杂分散于线偏光膜121上，均能起到较好的减反射效果。优选地，二氧化硅纳米颗粒可选用中空二氧化硅纳米颗粒，其在质量更轻的情况下，具有更好的减反射效果。当然在其他实施方式中，还可选用其他具有减反射作用的减反射纳米颗粒，此处不作限定。

具体地，可采用将减反射颗粒与组成线偏光膜121的聚酯混合得到偏光功能膜12，并在位相差膜11表面涂布的方式制备得到本申请的偏光片10。具体地，将具有减反射效果的纳米颗粒，如银纳米粒子或者中空二氧化硅纳米颗粒，与组成线偏光膜121的聚酯，如PVA(聚乙烯醇)混合，在位相差膜11表面涂布，即可在位相差膜11表面形成偏光功能膜12，从而得到具有减反射效果的偏光片10。通过采用涂布的方式制得的偏光片10，在不增加厚度的情况下显著降低环境光带来的眩光效应，同时兼具高硬度及柔性功能。

请参阅图2-图4，图2是本申请偏光片另一实施方式的一种结构示意图；图3是本申请偏光片另一实施方式的另一种结构示意图；图4是本申请偏光片另一实施方式的又一种结构示意图。

本实施方式偏光片20包括位相差膜21和偏光功能膜22，偏光功能膜22包括线偏光膜221和减反射结构222，与上述实施方式基本相同，不同之处在于，减反射结构222为减反射层222，减反射层222形成于线偏光膜221靠近位相差膜21的表面和/或远离所述位相差膜21的表面。通过增加减反射层222，可提高减反射效果，降低偏光片20的反射率，使用于显示器件上后，可减少外部环境光的反射对显示效果造成的影响，具有减少眩光，提高显示对比度的作用。

具体地，如图2，可采用涂布、蒸镀或其他方式将减反射纳米颗粒制备在线偏光膜221远离位相差膜21的表面；或者，如图3，可采用涂布、蒸镀或其他方式将减反射纳米颗粒制备在线偏光膜221靠近位相差膜21的表面，当然，也可以是制备于位相差膜21靠近线偏光膜221的表面；或者，如图4，可采用涂布、蒸镀或其他方式将减反射纳米颗粒制备在线偏光膜221靠近和远离位相差膜21的表面。采用涂布的方式制备减反射层222，在保证减反射效果的同时兼具高硬度及柔性功能，采用此种方法制备偏光片20可适用于柔性屏体。

减反射层222为制备于线偏光膜221靠近位相差膜21的表面和/或远离所述位相差膜21的表面的减反射颗粒，减反射颗粒可采用二氧化硅纳米颗粒或银纳米颗粒，将二氧化硅纳米颗粒或银纳米颗粒制备于线偏光膜221靠近位相差膜21的表面和/或远离所述位相差膜21的表面上，均能起到较好的减反射效果。优选地，二氧化硅纳米颗粒可选用中空二氧化硅纳米颗粒，其在质量更轻的情况下，具有更好的减反射效果。当然在其他实施方式中，还可选用其他具有减反射作用的减反射纳米颗粒，此处不作限定。

请参阅图5至图6，图5是本申请偏光片又一实施方式的一种结构示意图；图6是本申请偏光片又一实施方式的另一种结构示意图。

本实施方式偏光片30包括位相差膜31和偏光功能膜32，偏光功能膜32包括线偏光膜321和减反射结构322，与上述实施方式的不同之处在于，减反射结构322包括高折射率层3221和低折射率层3222。低折射率层3222位于线偏光膜321远离位相差膜31的一侧；高折射率层3221与低折射率层3222位于线偏光膜32的不同侧，即高折射率层3221位于低折射率层3222与线偏光膜32之间，低折射率层3222相较于高折射率层3221远离位相差膜31。

或者，在线偏光膜321折射率位于所选用高、低折射率层3222之间时，高折射率层3221不仅可以位于低折射率层3222与线偏光膜321之间，还可以与低折射率层3222位于线偏光膜321的同一侧，即高折射率层3221位于线偏光膜321与位相差膜31之间。

通过复合设置高折射率层3221和低折射率层3222，一方面使得偏光片30低折射率层一侧的折射率与空气的折射率相匹配，使得偏光片30使用于显示器件后，其表面对环境光的反射减少，从来实现更高的有效图像对比度和减少环境反射对显示效果所带来的影响；另一方面，将本实施例中的偏光片30使用于显示器件上后，具有更高的出光率。

具体地，高折射率层3221的材料为二氧化钛、氧化锆或其他具有高折射率的材料。低折射率层3222的材料包括低折射率树脂和混合于低折射率树脂中的减反射纳米颗粒。低折射率树脂可选用丙烯酸或者其他低折射率树脂。减反射颗粒可采用二氧化硅纳米颗粒或银纳米颗粒，将二氧化硅纳米颗粒或银纳米颗粒制备于线偏光膜321靠近位相差膜31的表面和/或远离所述位相差膜31的表面上，均能起到较好的减反射效果。优选地，二氧化硅纳米颗粒可选用中空二氧化硅纳米颗粒，其在质量更轻的情况下，具有更好的减反射效果。当然在其他实施方式中，还可选用其他具有减反射作用的减反射纳米颗粒，此处不作限定。

在一个具体的实施方式中，首先在线偏光膜321表面涂布或蒸镀二氧化钛、氧化锆材料，以形成一层高折射率层3221；然后将二氧化硅纳米颗粒与低折射率树脂混合，并涂布于高折射率层3221远离线偏光膜321一侧的表面，形成低折射率层3222，即可在位相差膜31表面形成减反射结构33，从而得到具有减反射效果的偏光片30。当然，在其他具体实施方式中，还可以将二氧化钛、氧化锆制备在位相差膜31与线偏光膜32之间。采用涂布的方式制备高折射率层3221和低折射率层3222，在保证减反射效果的同时兼具高硬度及柔性功能，采用此种方法制备偏光片30可适用于柔性屏体。

请参阅图7，图7是本申请显示面板的一实施方式的结构示意图。

本申请一实施方式提供了一种显示面板400，显示面板400包括上述任一实施方式中的偏光片401。

具体地，显示面板400包括依次层叠设置的基板406、驱动层405、发光层404、封装层403、触控层402和偏光片401，偏光片401使用于显示面板400上后，可减少外部环境光的反射对显示效果造成的影响，具有减少眩光，提高显示对比度的作用。

以OLED显示面板400结构为例，OLED显示面板400的制备流程为：以玻璃基板406或者柔性塑料衬底为基板406；在基板406上依次制备OLED及TFT结构，以分别形成驱动层405和发光层404；然后采用有机无机交替结构的薄膜封装，形成封装层403；之后再其上面涂布导电材料作为触控层402，导电材料可以选用银纳米线；最后再在触控层402表面制备偏光片401，偏光片401的结构如前述偏光片实施例，具体不再赘述。偏光片401的制备方法有以下几种：

第一，在触控层402表面涂布位相差膜，将减反射颗粒与组成线偏光膜的聚酯混合得到减反射结构，并在位相差膜表面涂布的方式制备得到偏光片401，进而得到具备偏光片401的OLED显示面板400。通过采用涂布的方式制得的偏光片401，在不增加厚度的情况下显著降低环境光带来的眩光效应，同时兼具高硬度及柔性功能。

第二，在触控层402表面依次涂布位相差膜和线偏光膜，随后可采用涂布或蒸镀的方式将减反射纳米颗粒制备在线偏光膜的表面，即可得到减反射层，从而得到偏光片401及具备偏光片401的OLED显示面板400。采用涂布的方式制备减反射层，在保证减反射效果的同时兼具高硬度及柔性功能，采用此种方法制备偏光片401可适用于柔性屏体。

第三，在触控层402表面涂布位相差膜，随后可采用涂布或蒸镀的方式将减反射纳米颗粒制备在位相差膜的表面，以形成减反射层，最后在减反射层表面涂布线偏光膜，从而得到偏光片401及具备偏光片401的OLED显示面板400。采用涂布的方式制备减反射层，在保证减反射效果的同时兼具高硬度及柔性功能，采用此种方法制备偏光片401可适用于柔性屏体。

第四，在触控层402表面涂布位相差膜，随后可采用涂布或蒸镀的方式将减反射纳米颗粒制备在位相差膜的表面，以形成减反射层，然后在减反射层表面涂布线偏光膜，最后采用涂布或蒸镀的方式将减反射纳米颗粒制备在线偏光膜的表面，从而得到偏光片401及具备偏光片401的OLED显示面板400。采用涂布的方式制备减反射层，在保证减反射效果的同时兼具高硬度及柔性功能，采用此种方法制备偏光片401可适用于柔性屏体。

第五，在触控层402表面依次涂布位相差膜41和线偏光膜；随后在线偏光膜表面涂布或蒸镀二氧化钛、氧化锆材料，以形成高折射率层；然后将减反射纳米颗粒与低折射率树脂混合，并涂布于高折射率层表面，形成低折射率层，从而得到偏光片401及具备偏光片401的OLED显示面板400。采用涂布的方式制备高折射率层431和低折射率层432，在保证减反射效果的同时兼具高硬度及柔性功能，采用此种方法制备偏光片401可适用于柔性屏体。

第六，在触控层402表面涂布位相差膜；随后在线偏光膜表面涂布或蒸镀二氧化钛、氧化锆材料，以形成高折射率层；然后在高折射率层表面涂布线偏光膜，最后将减反射纳米颗粒与低折射率树脂混合，并涂布于线偏光膜表面，形成低折射率层，从而得到偏光片401及具备偏光片401的OLED显示面板400。采用涂布的方式制备高折射率层和低折射率层，在保证减反射效果的同时兼具高硬度及柔性功能，采用此种方法制备偏光片401可适用于柔性屏体。

请参阅图8，图8是本申请偏光片的制造方法一实施方式的流程示意图，其中制造方法包括以下步骤。

S101：形成位相差膜层。

显示面板的制造是逐层成型，例如上述实施例显示面板400中，则是在触控层上采用涂布的方式形成位相差膜层，其他显示面板实施例中，也可在其他功能层上以涂布的方式形成位相差膜层。

S102：在位相差膜层表面形成线偏光膜。

本步骤中所形成的线偏光膜，可在其内部掺杂有减反射颗粒，也可以在线偏光膜表面形成减反射层。

具体来说，本步骤具体可以是提供线偏光材料，将减反射颗粒与线偏光材料混合后涂布于位相差膜的表面，形成掺杂减反射颗粒的线偏光膜，所得到的偏光片结构对应上述偏光片10，具体工艺过程与偏光片10的描述相同，具体不再赘述。

还可以是在位相差膜层表面涂布或蒸镀减反射纳米颗粒，形成减反射层，然后在减反射层上形成线偏光膜；或在位相差膜层表面依次形成线偏光膜及减反射层。得到的偏光片结构对应上述偏光片20，具体工艺过程与偏光片20的描述相同，具体不再赘述。

还可在位相差膜层表面涂布或蒸镀二氧化钛、氧化锆材料，以形成高折射率层，然后形成线偏光膜，在线偏光膜表面再涂布形成低折射率层。或者，在位相差膜层表面依次形成线偏光膜、高折射率层和低折射率层。得到的偏光片结构对应上述偏光片30，具体工艺过程与偏光片30的描述相同，具体不再赘述。

以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种偏光片，其特征在于，所述偏光片包括：位相差膜，与所述位相差膜层叠设置的偏光功能膜，所述偏光功能膜包括线偏光膜；其中，所述偏光功能膜设置有减反射结构。

2.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述减反射结构包括减反射颗粒，所述减反射颗粒掺杂分散于所述线偏光膜中。

3.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述减反射结构包括减反射层，所述减反射层形成于所述线偏光膜靠近所述位相差膜的表面和/或远离所述位相差膜的表面。

4.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述减反射结构包括高折射率层和低折射率层，所述低折射率层位于所述线偏光膜远离所述位相差膜的一侧，所述高折射率层与所述低折射率层位于所述线偏光膜的同一侧或不同侧；所述低折射率层相较于所述高折射率层远离所述位相差膜。

5.根据权利要求4所述的偏光片，其特征在于，所述低折射率层中掺杂有减反射纳米颗粒。

6.根据权利要求5所述的偏光片，其特征在于，所述减反射纳米颗粒为二氧化硅纳米颗粒或银纳米颗粒。

7.根据权利要求4所述的偏光片，其特征在于，所述高折射率层包括二氧化钛或氧化锆，所述低折射率层包括低折射率树脂。

8.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括权利要求1-7中任一项所述的偏光片。

9.一种偏光片的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

形成位相差膜层；

在所述位相差膜层表面形成线偏光膜；

其中，所述线偏光膜内掺杂有减反射颗粒；或者，所述线偏光膜表面形成有减反射层。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述在所述位相差膜表面形成线偏光膜包括：提供线偏光材料，将减反射颗粒与线偏光材料混合后涂布于所述位相差膜一侧表面，形成所述线偏光膜。