CN110364456B - 基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种基板处理装置，防止存在于腔室的处理空间的流体通过旋转轴被贯通的部位流出到腔室外部。该基板处理装置包括：腔室，内部形成有处理基板的处理空间；旋转轴，从腔室的外侧贯通腔室，配置在处理空间中；支撑架，设置在腔室的内侧壁，中心处设置有由旋转轴贯通的第一贯通部；盖壳体，配置为从支撑架向腔室的内部空间的方向隔开一定距离，中心处设置有由旋转轴贯通的第二贯通部，用于在处理空间与支撑架一起支撑旋转轴；密封盖，配置在旋转轴的外周面，并配置在第二贯通部的内部空间；第一密封构件，一端配置为接触旋转轴的外周面，另一端配置在密封盖的外侧面和密封盖的内侧面之间，防止处理空间的流体沿着旋转轴流出到腔室的外部。

Description

基板处理装置

技术领域

本发明涉及一种基板处理装置，更具体地，涉及能够防止存在于腔室的处理空间上的流体通过贯通旋转轴的部位流出到腔室外部的基板处理装置。

背景技术

通常，在平板显示装置的清洗作业中使用清洗装置，其具有利用辊刷或圆盘刷来去除存在于基板表面的各种杂质并进行清洗的结构。

在执行作业的基部的内部利用轴来传送基板，并且，配置有辊刷，辊刷以旋转轴为中心进行旋转，使得在基板的传送路径中能够对基板的表面执行刷洗动作。

辊刷通过接收驱动部所产生的动力来进行旋转，上述驱动部设置在基部的外部。驱动部主要使用电动机，上述电动机具有与上述旋转轴联轴的驱动轴。

电动机的驱动轴和滚刷的旋转轴通过诸如联轴器之类的连接构件来直接连接，从而实现它们之间的动力传递。

在腔室内侧壁形成有一定大小的旋转轴贯通孔，以连接旋转轴和驱动轴。因此，清洗液通过上述旋转轴的贯通孔而流出到腔室的外部，从而阻碍清洗环境。流出到外部的清洗液具有加剧设置在腔室外部的电动机或者各种周边驱动装置腐蚀的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：韩国公开专利10-2016-00058520号公报(2016.01.18公开公告，发明名称：基板处理装置)

发明内容

发明要解决的问题

本发明要解决的问题是提供一种基板处理装置，即使贯通腔室的旋转轴沿上下方向移动，上述基板处理装置也能够防止存在于腔室的处理空间上的流体流出到外部。

用于解决问题的手段

为了解决上述问题，本发明提供一种基板处理装置，其特征在于，包括：腔室，在内部形成有处理基板的处理空间；旋转轴，从上述腔室的外侧贯穿上述腔室，且一部分配置在上述处理空间；支撑架，设置在上述腔室的内侧壁，且中心处设置有由上述旋转轴贯通的第一贯通部；盖壳体，配置为从上述支撑架向上述腔室的内部空间的方向隔离一定间隔，且中心处设置有由上述旋转轴贯通的第二贯通部，用于在上述处理空间支撑上述旋转轴；密封盖，配置在上述旋转轴的外周面，并配置在上述第二贯通部的内部空间；以及第一密封构件，一端配置为接触上述旋转轴的外周面，另一端配置在上述密封盖的外侧面和上述密封盖的内侧面之间，使得防止存在于上述处理空间上的流体沿着上述旋转轴流出到腔室的外部。

上述基板处理装置还可以包括第二密封构件，在上述旋转轴的半径方向上隔开一定间隔的位置处围绕上述旋转轴的外部空间，其一端与上述支撑架相连，另一端连接到上述盖壳体。

另外，上述基板处理装置还可以包括保护盖，一端与上述支撑架结合，另一端在上述盖壳体的相邻区域形成自由端，以保护上述第二密封构件免受外部冲击。

另外，上述基板处理装置还可以包括上下移动引导构件，一端铰链结合到上述保护盖的外侧面，另一端铰链结合到上述盖壳体的外侧面，使得当上述旋转轴上下移动时，上述盖壳体能够相对于上述保护盖移动。

上述支撑架还可以包括：固定板，设置有上述第一贯通部，且固定在上述腔室的内侧壁上；保护盖结合部，形成为从上述固定板的一侧面向上述盖壳体的方向突出，以与上述保护盖的一端结合；以及第二密封构件前方紧贴部，形成为从上述保护盖结合部的一端向上述盖壳体的方向突出，其直径小于上述保护盖结合部的直径，且与上述第二密封构件的前方区域紧贴。

上述盖壳体还可以包括：盖壳体主体，设置有上述第二贯通部；以及第二密封构件后方紧贴部，从上述盖壳体主体的一侧面向上述支撑架的方向突出，与上述第二密封构件的后方区域紧贴。

上述第二密封构件还可以包括：管状的第二密封构件主体；前方弯曲边缘部，从上述第二密封构件主体的前端延长，并朝向上述第二密封构件主体的内侧后方弯曲，且紧贴于上述第二密封构件前方紧贴部；后方弯曲边缘部，从上述第二密封构件主体的后端延长，并朝向上述第二密封构件主体的内侧前方弯曲，且紧贴于上述第二密封构件后方紧贴部。

上述基板处理装置还可以包括：第一环构件，在配置在上述第二密封构件主体和上述前方弯曲边缘部之间的状态下插入到上述第二密封构件前方紧贴部；以及第二环构件，在配置在上述第二密封构件主体和上述后方弯曲边缘部之间的状态下插入到上述第二密封构件后方紧贴部。

上述第一密封构件还可以包括：旋转轴结合部，围绕上述旋转轴；以及密封盖结合部，从上述旋转轴结合部向上述盖壳体的方向突出，其直径大于上述旋转轴结合部直径。

上述密封盖还可以包括：密封盖主体，配置为紧贴于上述第二贯通部的内面；以及延长部，从上述密封盖主体的一端向上述支撑架的方向延伸，且与上述密封盖结合部结合。

上述第二密封构件可以由塑料形式的膜形成。

另外，上述基板处理装置可以包括：第三密封构件，设置在形成于上述腔室的内侧壁的第三密封构件设置槽，以防止通过上述支撑架和上述腔室的内侧壁之间流入的流体流出到上述腔室的外部。

附图说明

图1是示意性地示出根据本发明的一实施例的基板处理装置的结构的图。

图2是示出图1的A部分的立体图。

图3是对图2的结构中的旋转轴和与其相关的结构进行分解而示出的分解立体图。

图4是示意性地示出图2的结构中的旋转轴和与其相关的结构的截面的截面图。

图5是用于对根据本发明的一实施例的设置有第一密封构件和第二密封构件的状态进行说明的图。

具体实施方式

在下文中，将参照本发明的可以具体实现上述要解决的问题的优选实施例的附图进行说明。在说明本实施例时，对相同的结构使用相同的名称和相同的符号，并且在下文中将省略对此的附加说明。

图1是示意性地示出根据本发明的一实施例的基板处理装置结构的图。

参照图1和图2，根据本发明的一实施例的基板处理装置包括腔室100、旋转轴200、支撑架300、盖壳体400、第一密封构件600、第二密封构件700、以及保护盖900。

腔室100利用流体形成用于处理基板S的处理空间101。例如，腔室100可以具有六面体的箱体形状，其在内部具有处理空间101。

在腔室100的内侧壁110可以形成有旋转轴贯通孔111，旋转轴贯通孔111形成为与腔室100内部连通，且由后述的旋转轴200贯通旋转轴贯通孔111。

此外，尽管未图示，但在腔室100的一侧可以设置有用于引入基板S的引入口，在腔室100的另一侧可以设置有用于排出已完成基板处理的基板S的排出口。

另外，在腔室100的处理空间101可以设置有用于沿一个方向传送基板S并由传送轴和传送辊构成的传送部。

旋转轴200从腔室100的外侧贯穿腔室100，且至少一部分可以配置于处理空间。

此时，用于清洗基板S的辊刷210可以安装在旋转轴200的外周面上。

尽管没有详细地图示，但是至少一对上述辊刷可以配置在基板S的上方和下方，以便清洗基板S的上表面和下表面。

这里，旋转轴按与每一个辊刷的个数对应的个数来进行配置。

在腔室100的外侧可以设置驱动部M，驱动部M与旋转轴的一侧相连，且具备用于驱动旋转轴的驱动电动机等。

另一方面，旋转轴200能够上下移动，以调整辊刷210和基板S之间的间隙。

在下文中，将参照图2至图5来说明根据本发明一实施例的基板处理装置的密封结构。

图2是示出图1的A部分的立体图，图3是对图2的结构中的旋转轴和与其相关的结构进行分解而示出的分解立体图。

此外，图4是示意性地示出图2的结构中的旋转轴和与其相关的结构的截面的截面图，图5是用于对根据本发明的一实施例的已安装第一密封构件和第二密封构件的状态进行说明的图。

如图2至图5所示，支撑架300设置在腔室100的内侧壁110上，且在其中心处可以设置有由旋转轴200贯通的第一贯通部311。

支撑架300以后述的上下移动引导构件1000为媒介，与盖壳体400一起支撑配置在处理空间101的旋转轴200。

支撑架300可以包括固定板310、保护盖结合部320、以及第二密封构件前方紧贴部330。

在固定板310上可以设置有被旋转轴200贯通的第一贯通部311，而且，固定板310可通过如螺钉等的单独的连接构件固定在腔室100的内侧壁110上。

保护盖结合部320形成为从固定板310的一侧面向盖壳体400的方向突出，以与保护盖900的一端结合。

此时，保护盖结合部320可以形成为环形，从而由旋转轴200贯通。

第二密封构件前方紧贴部330形成为从保护盖结合部320的一侧向盖壳体400的方向突出，并且，其直径小于保护盖结合部320的直径。

第二密封构件前方紧贴部330可以形成为环形，从而使旋转轴200贯通，而且，可设置为紧贴于第二密封构件700的前方区域。

盖壳体400配置为从支撑架300向腔室100的内部空间的方向隔离一定间隔，而且，中心处可以设置有由旋转轴200贯通的第二贯通部411。

盖壳体400在处理空间101内支撑旋转轴200。盖壳体400可包括盖壳体主体410以及第二密封构件后方紧贴部420。

在盖壳体主体410上可设置有由旋转轴200贯通的第二贯通部411。

第二密封构件后方紧贴部420形成为从盖壳体主体410的一侧面向支撑架300的方向突出，而且，可设置为紧贴于第二密封构件700的后方区域。

密封盖500配置在旋转轴200的外周面，并且，配置在第二贯通部411的内部空间，以密封旋转轴200和第二贯通部411之间的间隙。

此外，密封盖500可以将后述的第一密封构件600的后端部固定于盖壳体400的第二贯通部411。

密封盖500可包括密封盖主体510和延长部520。

密封盖主体510可以设置为配置在旋转轴200的外周面，并且，紧贴于第二贯通部411的内面。

延长部520形成为从密封盖主体510的一侧面向支撑架300的方向延伸，且能够与后述的第一密封构件600的密封盖结合部620结合。

延长部520形成为从密封盖主体510开始具有台阶，其外径小于密封盖主体510的外径。

第一密封构件600的一端配置为接触到旋转轴200的外周面，另一端可以配置在密封盖500的外侧面，即，延长部520的外侧面和盖壳体400的内侧面之间。

此时，第一密封构件600防止存在于处理空间101内的流体沿着旋转轴200的外侧面流出到腔室100的外部。

这种第一密封构件600可包括旋转轴结合部610和密封盖结合部620。

如图5所示，旋转轴结合部610能够形成为围绕旋转轴200。

此时，旋转轴结合部610防止移动到旋转轴200的外侧面和密封盖500的内侧面之间的流体流入第一空间711。

密封盖结合部620能够形成为从旋转轴结合部610向盖壳体400的方向突出，其直径大于旋转轴结合部610的直径。

密封盖结合部620可以结合到延长部520。

密封盖接结合部620防止移动到密封盖500的外侧面和盖壳体400的内侧面之间的流体流入第一空间711。

结果，第一密封构件600防止存在于处理空间101的流体通过第一空间711流出到腔室100的外侧。

第二密封构件700能够配置为在旋转轴200的半径方向上隔开一定间隔的位置处围绕旋转轴200的外部空间，而且，第二密封构件700的一端可以与支撑架300相连，另一端可以连接到盖壳体400。

第二密封构件700防止在处理空间101移动的流体流出到腔室100的外部。

更具体地，第二密封构件700防止存在于处理空间101内流体中的流入到空闲空间部910的流体流入第一空间711，从而流出到腔室100的外侧。

如图5所示，第二密封构件700可包括第二密封构件主体710、前方弯曲边缘部720、以及后方弯曲边缘部730。

第二密封构件主体710可以形成为管状。

此时，在第二密封构件主体710的内部可以形成能够使旋转轴200上下移动的第一空间711。

更具体地，第一空间711是指旋转轴200的外侧面和第二密封构件主体710的内侧面之间的空间。

前方弯曲边缘部720从第二密封构件主体710的前端延长，并朝向第二密封构件主体710的内侧后方弯曲，且能够紧贴于第二密封构件前方紧贴部330。

后方弯曲边缘部730从第二密封构件主体710的后端延长，并朝向第二密封构件主体710的内侧前方弯曲，且能够紧贴于第二密封构件后方紧贴部420。

即，第二密封构件前方紧贴部330紧贴于前方弯曲边缘部720，使得第二密封构件主体710的前方侧能够被支撑支架300所支撑，而且，第二密封构件后方紧贴部420紧贴于后方弯曲边缘部730，使得第二密封构件主体710的后方侧能够被盖壳体400所支撑。

根据本发明一实施例的基板处理装置还可以包括具有弹性的第一环构件810和第二环构件820。

再次如图5所示，第一环构件810能够在配置于第二密封构件主体710和前方弯曲边缘部720之间的状态下插入到第二密封构件前方紧贴部330。

因此，可以提高第二密封构件前方紧贴部330和前方弯曲边缘部720之间的紧贴力。

第二环构件820能够在配置于第二密封构件主体710和后方弯曲边缘部730之间的状态下插入到第二密封构件后方紧贴部420。因此，可以提高第二密封构件后方紧贴部420和后方弯曲边缘部730之间的紧贴力。

另一方面，根据本发明一实施例的第二密封构件700可以由塑料形式的膜形成。

即，由于第二密封构件700由塑料形式的膜形成，因而第二密封构件700具有柔软性，因此，当旋转轴200上下移动时，旋转轴200和盖壳体400在不受到第二密封构件700的约束的状态下，能够以后述的保护盖900为基准上下移动。

保护盖900的一端结合到支撑架300，另一端在盖壳体400的相邻区域形成自由端，以保护第二密封构件700免受外部冲击。

此时，保护盖900的前端部可以结合到保护盖结合部320，并固定于支撑架300。

如上所述，由于第二密封构件700由塑料形式的膜形成，因而容易因外部冲击而损坏。此时，第二密封构件700的外周面具备保护盖900，因此，能够最大限度地防止第二密封构件700因外部冲击而损坏。

另一方面，在保护盖900的自由端侧内面和盖壳体400的外周面之间能够形成可供保护盖400移动的空闲空间部910。

空闲空间部910是，当旋转轴200上下移动时，用于与旋转轴200一起移动的保护盖400不受保护盖900的限制而移动的空间。

根据本发明一实施例的基板处理装置还可以包括上下移动引导构件1000。

如图2和图3所示，上下移动引导构件1000的一端铰链结合到保护盖900的外侧面，另一端铰链结合到盖壳体400的外表面，因此，当旋转轴200上下移动时，盖壳体400能够相对于保护盖900进行移动。

这种上下移动引导构件1000可包括引导构件主体1010、第一铰链结合部1020、第二铰链结合部1030。其中，第一铰链结合部1020形成在引导构件主体1010的一侧，且铰链结合到保护盖900的外周面，第二铰链结合部1030形成在引导构件主体1010的另一端，且铰链结合到盖壳体400的外周面。

即，当旋转轴200上下移动时，与旋转轴200结合的密封盖500和与密封盖500结合的盖壳体400一起移动。

此时，保护盖900处于固定于支撑架300的状态，因而不移动，旋转轴200、密封盖500、以及盖壳体400在空闲空间部910移动。

此时，引导构件主体1010以第一铰链结合部1020为基准而旋转移动，因而盖壳体400能够相对于保护盖900进行上下移动。

另一方面，当旋转轴200上下移动时，即使密封盖结合部620相对于旋转轴结合部610发生弹性变形，也可以通过旋转轴结合部610防止沿着旋转轴移动的流体流入到第一空间711，旋转轴结合部610配置为与旋转轴200紧贴。

结果，即使旋转轴200上下移动，通过第一密封构件600的旋转轴结合部610防止沿着旋转轴200的外侧面移动的流体流出到腔室100的外部。

另一方面，上下移动引导构件1000还具有当旋转轴200旋转时，防止盖壳体400旋转的作用。

即，由于处于如下状态，即：上下移动引导构件1000的第一铰链结合部1020与固定于支撑架300的保护盖900结合、第二铰链结合部1030与盖壳体400结合，因此，即使旋转轴200旋转，盖壳体400也不旋转。

另一方面，根据本发明一实施例的基板处理装置还可以包括第三密封构件1100。

第三密封构件1100可以设置在腔室100的内侧壁110和支撑架300之间，以防止通过支撑架300和腔室100的内侧壁110之间流入的流体流出到腔室100的外部。

第三密封构件1100可使用O形环，在腔室100的内侧面可以设置有用于设置第三密封构件1100的第三密封构件设置槽111。

结果，根据本发明一实施例的基板处理装置具备第一密封构件600、第二密封构件700、以及第三密封构件1100，因此，即使旋转体200旋转，也可以最大限度地防止存在于腔室100的处理空间101的流体流出到腔室100的外部。

如上所述，根据本发明的基板处理装置具备第一密封构件、第二密封构件、以及第三密封构件，因此，即使贯通腔室的旋转轴沿上下方向移动，也具有能够最大限度地防止存在于腔室的处理空间的流体流出到腔室外部的效果。

因此，根据本发明的基板处理装置具有如下效果：能够防止因流体的流出而加剧设置在腔室的外部的电动机或各种周边驱动装置腐蚀，而且，能够防止基板处理装置的寿命缩短。

如上所述，参照附图对本发明的优选实施例进行了说明，但是，所属领域的技术人员可以在不脱离上述的权利要求书所记载的本发明的构思以及领域的情况下，对本发明进行多样的修改或变更。

Claims (11)

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

腔室，在内部形成有处理基板的处理空间；

旋转轴，从所述腔室的外侧贯穿所述腔室，且一部分配置于所述处理空间；

支撑架，设置在所述腔室的内侧壁，且中心处设置有由所述旋转轴贯通的第一贯通部；

盖壳体，配置为从所述支撑架向所述腔室的内部空间的方向隔离一定间隔，中心处设置有由所述旋转轴贯通的第二贯通部，且用于在所述处理空间内支撑所述旋转轴；

密封盖，配置在所述旋转轴的外周面，并配置在所述第二贯通部的内部空间；

第一密封构件，一端配置为接触所述旋转轴的外周面，另一端配置在所述密封盖的外侧面和所述密封盖的内侧面之间，使得防止存在于所述处理空间的流体沿着所述旋转轴流出到腔室的外部；以及第二密封构件，配置为在所述旋转轴的半径方向上隔开一定间隔的位置处围绕所述旋转轴的外部空间，并且，其一端与所述支撑架相连，另一端连接到所述盖壳体。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还包括保护盖，一端与所述支撑架结合，另一端在所述盖壳体的相邻区域形成自由端，以保护所述第二密封构件免受外部冲击。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，还包括上下移动引导构件，一端铰链结合到所述保护盖的外侧面，另一端铰链结合到所述盖壳体的外侧面，使得当所述旋转轴上下移动时，所述盖壳体能够相对于所述保护盖移动。

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述支撑架还包括：

固定板，设置有所述第一贯通部，且固定在所述腔室的内侧壁上；

保护盖结合部，形成为从所述固定板的一侧面向所述盖壳体的方向突出，以与所述保护盖的一端结合；以及

第二密封构件前方紧贴部，形成为从所述保护盖结合部的一端向所述盖壳体的方向突出，其直径小于所述保护盖结合部的直径，且与所述第二密封构件的前方区域紧贴。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述盖壳体还包括：

盖壳体主体，设置有所述第二贯通部；以及

第二密封构件后方紧贴部，从所述盖壳体主体的一侧向所述支撑架的方向突出，与所述第二密封构件的后方区域紧贴。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述第二密封构件还包括：

管状的第二密封构件主体；

前方弯曲边缘部，从所述第二密封构件主体的前端延长，并朝向所述第二密封构件主体的内侧后方弯曲，且紧贴于所述第二密封构件前方紧贴部；

后方弯曲边缘部，从所述第二密封构件主体的后端延长，并朝向所述第二密封构件主体的内侧前方弯曲，且紧贴于所述第二密封构件后方紧贴部。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，还包括：

第一环构件，在配置在所述第二密封构件主体和所述前方弯曲边缘部之间的状态下插入到所述第二密封构件前方紧贴部；以及

第二环构件，在配置在所述第二密封构件主体和所述后方弯曲边缘部之间的状态下插入到所述第二密封构件后方紧贴部。

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一密封构件还包括：

旋转轴结合部，围绕所述旋转轴；以及

密封盖结合部，从所述旋转轴结合部向所述盖壳体的方向突出，其直径大于所述旋转轴结合部的直径。

9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，所述密封盖还包括：

密封盖主体，配置为紧贴于所述第二贯通部的内面；以及

延长部，形成为从所述密封盖主体的一端向所述支撑架的方向延伸，且与所述密封盖结合部结合。

10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述第二密封构件由塑料形式的膜形成。

11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还包括第三密封构件，设置在形成于所述腔室的内侧壁的第三密封构件设置槽，以防止通过所述支撑架和所述腔室的内侧壁之间流入的流体流出到所述腔室的外部。