CN110297402A - 显影方法 - Google Patents

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田中裕二
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Abstract

本发明涉及一种显影方法。在对衬底供给显影液而进行显影处理后，开始对正在旋转的衬底上的从衬底的中心偏离的位置，从第2冲洗喷嘴喷出表面活性剂冲洗液。该动作是以衬底的中心不在触液区域的方式进行的，所述触液区域是从第2冲洗喷嘴喷出的表面活性剂冲洗液在衬底上最先触液的区域。由此，表面活性剂冲洗液的触液区域的位置被分散，因此抑制在衬底的中心及其附近局部地抗蚀图案的线宽变粗或变细。因此，可改善冲洗处理中的衬底面内的抗蚀图案的线宽均一性。

Description

显影方法
技术领域
本发明涉及一种对半导体衬底、液晶显示装置或有机EL(electroluminescence，电致发光)显示装置等FPD(Flat Panel Display，平板显示器)用衬底、光掩模用玻璃衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、陶瓷衬底、太阳能电池用衬底等衬底供给显影液而进行显影处理的显影方法。
背景技术
显影方法相关的显影装置具备：保持旋转部，保持衬底并使衬底旋转；显影喷嘴，对衬底喷出显影液；及冲洗喷嘴，对衬底喷出冲洗液(例如参考日本：日本专利特开2016-127204号公报)。
专利文献1中存在如下问题。也就是说，如果保持在衬底的中心的冲洗液中含有气泡，那么衬底的中心附近的离心力较小，另外，因为从冲洗喷嘴喷出的冲洗液而气泡被从上持续按压到衬底的中心。因此，可能在衬底上残留气泡，由此，可能导致在残留的气泡部分冲洗变得不充分。
因此，在专利文献1所记载的发明中，在停止显影液的喷出后，开始对旋转的衬底上且从衬底的中心部偏离的预先设定的喷出位置，利用冲洗喷嘴喷出冲洗液(去离子水(DIW)等纯水)。然后，通过被喷出到该喷出位置的冲洗液的扩展来覆盖衬底的中心部。另外，在专利文献1中记载着：冲洗液是不从喷出位置移动地被喷出，但也可进行往复扫描。
发明内容
[发明要解决的问题]
包含上述方法在内的以往的显影方法中存在如下问题。也就是说，作为EUV(Extreme Ultra-Violet，远紫外光)光刻法的课题之一，可列举抗蚀图案的图案崩塌。这是因为在对衬底供给显影液而进行显影处理后，仅使用DIW等纯水进行冲洗处理而产生的。因此，为了防止图案崩塌，而使用表面活性剂冲洗液进行冲洗处理。然而，如果表面活性剂冲洗液因抗蚀剂的种类而使抗蚀图案膨胀或细化，那么会对抗蚀图案的线宽造成影响。另外，如果从冲洗喷嘴对衬底的中心持续喷出表面活性剂冲洗液，那么会局部地在中心及其附近线宽变粗或变细。因此，以往的显影方法中存在如下问题：在冲洗处理中，衬底面内的抗蚀图案的线宽不均一。此外，所谓线宽，意指沿着衬底表面的方向的宽度。
本发明是鉴于这种情况而完成的，目的在于提供如下一种显影方法：在供给显影液而进行显影处理后的冲洗处理中，能够改善衬底面内的抗蚀图案的线宽均一性。
[解决问题的技术手段]
本发明为了达成这种目的，而采用如下构成。也就是说，本发明的对衬底进行显影的显影方法包含以下要素，即，如下工序：对正围绕衬底的中心进行旋转的所述衬底供给显影液而进行显影处理；在进行所述显影处理后，以所述衬底的中心不在触液区域的方式，开始对正在旋转的所述衬底上的从所述衬底的中心偏离的位置，从表面活性剂冲洗喷嘴喷出表面活性剂冲洗液，所述触液区域是从所述表面活性剂冲洗喷嘴喷出的所述表面活性剂冲洗液在所述衬底上最先触液的区域；在所述表面活性剂冲洗液在所述衬底上刚触液后，立即通过在所述衬底上触液的所述表面活性剂冲洗液的扩展来覆盖所述衬底的中心；以及从所述表面活性剂冲洗液在所述衬底上刚触液后直到停止所述表面活性剂冲洗液的喷出为止，固定所述表面活性剂冲洗液的触液区域的位置。
根据本发明的显影方法，在对衬底供给显影液而进行显影处理后，开始对正在旋转的衬底上的从衬底的中心偏离的位置，从表面活性剂冲洗喷嘴喷出表面活性剂冲洗液。该动作是以衬底的中心不在触液区域的方式进行的，所述触液区域是从表面活性剂冲洗喷嘴喷出的表面活性剂冲洗液在衬底上最先触液的区域。由此，表面活性剂冲洗液的触液区域的位置被分散，因此抑制在衬底的中心及其附近局部地抗蚀图案的线宽变粗或变细。因此，可改善冲洗处理中的衬底面内的抗蚀图案的线宽均一性。
另外，因为通过在衬底上触液的表面活性剂冲洗液的扩展来覆盖衬底的中心，所以即便将表面活性剂冲洗液喷出到从衬底的中心偏离的位置，也可利用表面活性剂冲洗液来清洗衬底的中心。
另外，本发明的对衬底进行显影的显影方法包含以下要素，即，如下工序：对正围绕衬底的中心进行旋转的所述衬底供给显影液而进行显影处理；在进行所述显影处理后，以所述衬底的中心不在触液区域的方式，开始对正在旋转的所述衬底上的从所述衬底的中心偏离的位置，从表面活性剂冲洗喷嘴喷出表面活性剂冲洗液，所述触液区域是从所述表面活性剂冲洗喷嘴喷出的所述表面活性剂冲洗液在所述衬底上最先触液的区域；在所述表面活性剂冲洗液在所述衬底上刚触液后，立即通过在所述衬底上触液的所述表面活性剂冲洗液的扩展来覆盖所述衬底的中心；以及在通过所述表面活性剂冲洗液的扩展而覆盖了所述衬底的中心后，在所述衬底上触液的所述表面活性剂冲洗液的扩展不从所述衬底的中心偏离的范围内使所述表面活性剂冲洗液的触液区域的位置位移。
根据本发明的显影方法，在对衬底供给显影液而进行显影处理后，开始对正在旋转的衬底上的从衬底的中心偏离的位置，从表面活性剂冲洗喷嘴喷出表面活性剂冲洗液。该动作是以衬底的中心不在触液区域的方式进行的，所述触液区域是从表面活性剂冲洗喷嘴喷出的表面活性剂冲洗液在衬底上最先触液的区域。由此，表面活性剂冲洗液的触液区域的位置被分散，因此抑制在衬底的中心及其附近局部地抗蚀图案的线宽变粗或变细。另外，通过使表面活性剂冲洗液的触液区域的位置位移，可使表面活性剂冲洗液的触液区域的位置进一步分散。因此，可改善冲洗处理中的衬底面内的抗蚀图案的线宽均一性。
另外，因为通过在衬底上触液的表面活性剂冲洗液的扩展来覆盖衬底的中心，所以即便将表面活性剂冲洗液喷出到从衬底的中心偏离的位置，也可利用表面活性剂冲洗液来清洗衬底中心。
另外，在使表面活性剂冲洗液的触液区域的位置位移期间，如果在衬底的中心及其附近衬底表面干燥，那么会有未从衬底表面排出而残留的例如抗蚀剂溶解生成物附着在衬底的中心及其附近的顾虑。该附着物无法利用表面活性剂冲洗液容易地冲洗掉。通过于在衬底上触液的表面活性剂冲洗液的扩展不从所述衬底的中心偏离的范围内使表面活性剂冲洗液的触液区域的位置位移，而即便使表面活性剂冲洗液的触液区域的位置位移，衬底的中心也始终由表面活性剂冲洗液覆盖。因此，衬底的中心不干燥，例如可防止抗蚀剂溶解生成物附着在衬底的中心及其附近，从而减轻由该附着物引起的缺陷。
另外，优选为，在上述显影方法中，使所述触液区域的位置位移的工序是在以隔着所述衬底的中心的方式设定有2个折返位置的包含所述衬底的中心的路径上，使所述触液区域的位置往复移动。
例如，假设如果在衬底的中心存在往复移动的折返位置，那么表面活性剂冲洗液的触液区域的位置存在于衬底的中心的时间变得相对较长。然而，在所述情况下，因为在以隔着衬底的中心的方式设定的2个折返位置之间进行往复移动，所以表面活性剂冲洗液的触液区域的位置存在于衬底的中心的时间变得相对较短，而可减轻在衬底的中心及其附近局部地抗蚀图案的线宽变细或变粗的情况。
另外，优选为，上述显影方法还具备如下工序：在进行所述显影处理后且开始所述表面活性剂冲洗液的喷出之前，开始从纯水冲洗喷嘴向正在旋转的所述衬底上喷出纯水；且开始喷出所述表面活性剂冲洗液的工序与停止所述纯水的喷出同时进行。由此，可进行使用纯水及表面活性剂冲洗液的冲洗处理。
另外，优选为，上述显影方法还具备如下工序：在开始从所述纯水冲洗喷嘴喷出所述纯水并使所述衬底以第1旋转速度旋转后，以正喷出所述纯水的状态在预先设定的期间内，使所述衬底从所述第1旋转速度以比所述第1旋转速度更快的第2旋转速度旋转。也就是说，在利用纯水对正以第1旋转速度进行旋转的衬底进行冲洗处理时，在预先设定的期间内将衬底的旋转速度从第1旋转速度提高到第2旋转速度。由此，可将例如抗蚀剂的溶解生成物容易地排出到衬底外。
另外，优选为，在上述显影方法中，所述第1旋转速度及所述第2旋转速度为500rpm以上且2000rpm以下。在第1旋转速度及第2旋转速度为500rpm以上且2000rpm以下时，可改善冲洗处理中的衬底面内的抗蚀图案的线宽均一性。
另外，优选为，上述显影方法还具备如下工序：在开始从所述表面活性剂冲洗喷嘴喷出所述表面活性剂冲洗液后，直到停止所述表面活性剂冲洗液的喷出为止，使所述衬底以500rpm以上且2000rpm以下旋转。在从开始喷出表面活性剂冲洗液后直到停止喷出为止的衬底的旋转速度为500rpm以上且2000rpm以下时，可改善冲洗处理中的衬底面内的抗蚀图案的线宽均一性。
[发明的效果]
根据本发明的显影方法，在供给显影液而进行显影处理后的冲洗处理中，可改善衬底面内的抗蚀图案的线宽均一性。
附图说明
为了说明发明而图示了当前被认为比较好的若干个方式，但请理解为发明并不限定于如图所示的构成及对策。
图1是表示实施例1的显影装置的概略构成的图。
图2A是用来说明第1冲洗喷嘴的图，图2B是用来说明第2冲洗喷嘴的图。
图3是表示显影喷嘴移动机构及冲洗喷嘴移动机构的概略构成的图。
图4是表示对实施例1的显影工序进行表示的时序图的一例的图。
图5是用来说明主显影工序的图。
图6是用来说明表面活性剂冲洗液的喷出的图。
图7A是表示喷到衬底上的表面活性剂冲洗液的扩展从衬底的中心偏离的情况的图，
图7B是图7A的俯视图。
图8A是用来说明第2冲洗喷嘴的往复移动的图，图8B是表示往复移动的路径及2个折返位置等的俯视图。
图9A是用来说明变化例的第2冲洗喷嘴的往复移动的图，图9B是表示往复移动的路径及2个折返位置等的俯视图。
图10A是用来说明另一变化例的第2冲洗喷嘴的往复移动的图，图10B是表示往复移动的路径及2个折返位置等的俯视图。
图11A是用来说明另一变化例的第2冲洗喷嘴的往复移动的图，图11B是表示往复移动的路径及2个折返位置等的俯视图。
图12A是表示针对各条件的抗蚀图案的线宽的平均值的图，图12B是表示针对各条件的抗蚀图案的线宽的3sigma的图。
图13是表示图12A、图12B的冲洗工序的实验条件的图。
图14是表示改变往复移动的距离时的缺陷数量及缺陷图的图。
图15是表示对实施例2的显影工序进行表示的时序图的一例的图。
图16A～图16C是用来说明从纯水的喷出向表面活性剂冲洗液的喷出的切换的图。
图17A、图17B是用来说明从纯水的喷出向表面活性剂冲洗液的喷出的切换的变化例的图。
具体实施方式
[实施例1]
以下，参考附图对本发明的实施例1进行说明。图1是表示显影装置1的概略构成的图。图2A是用来说明第1冲洗喷嘴3的图。图2B是用来说明第2冲洗喷嘴4的图。
＜显影装置1的构成＞
参考图1。显影装置1具备显影喷嘴2、第1冲洗喷嘴3、第2冲洗喷嘴4及保持旋转部5。
显影喷嘴2对衬底W喷出显影液。显影喷嘴2具备在作为移动方向的X方向上排成一列的多个(例如5个)喷出嘴2A。由此，范围广泛地喷出显影液，因此可对衬底W整面迅速地赋予显影液。
第1冲洗喷嘴3对衬底W喷出去离子水(DIW)等纯水。第2冲洗喷嘴4对衬底W喷出表面活性剂冲洗液。表面活性剂冲洗液例如包含非离子系表面活性剂、阳离子系表面活性剂、阴离子系表面活性剂或双性表面活性剂。第1冲洗喷嘴3相当于本发明的纯水冲洗喷嘴。第2冲洗喷嘴4相当于本发明的表面活性剂冲洗喷嘴。
保持旋转部5将衬底W以大致水平姿势保持，并使所保持的衬底W旋转。保持旋转部5具备旋转夹头7及旋转驱动部9。旋转夹头7构成为能够绕旋转轴AX旋转。旋转夹头7例如通过真空吸附衬底W的背面而保持衬底W。另一方面，旋转驱动部9进行使旋转夹头7绕旋转轴AX旋转的驱动。此外，旋转轴AX设为通过衬底W的中心CT的轴。旋转驱动部9由电动马达等构成。
对显影喷嘴2，从显影液供给源11经过显影液配管13而供给显影液。开闭阀V1与泵P1设置在显影液配管13。开闭阀V1进行显影液的供给及显影液的停止。泵P1将显影液送出到显影喷嘴2。
对第1冲洗喷嘴3，从纯水供给源15经过纯水配管17而供给纯水。开闭阀V2与泵P2设置在纯水配管17。开闭阀V2进行纯水的供给及纯水的停止。泵P2将纯水送出到第1冲洗喷嘴3。
对第2冲洗喷嘴4，从表面活性剂冲洗液供给源19经过表面活性剂冲洗液配管21而供给表面活性剂冲洗液。开闭阀V3与泵P3设置在表面活性剂冲洗液配管21。开闭阀V3进行表面活性剂冲洗液的供给及表面活性剂冲洗液的停止。泵P3将表面活性剂冲洗液送出到第2冲洗喷嘴4。
显影装置1具备：显影喷嘴移动机构23，使显影喷嘴2移动到任意位置；冲洗喷嘴移动机构25，使第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4移动到任意位置。此外，第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4设置在支撑块27。因此，第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4通过冲洗喷嘴移动机构25一体地移动。
第1冲洗喷嘴3像图2A那样，对衬底W的表面并非垂直地而是倾斜地喷出纯水。第2冲洗喷嘴4像图2B那样，对衬底W垂直地、也就是朝向正下方喷出表面活性剂冲洗液。也就是说，不改变支撑块27的位置，第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4是以对相同位置(例如衬底W的中心CT)喷出纯水或表面活性剂冲洗液的方式构成。
返回到图1。显影装置1具备1或2个以上的控制部29、及未图示的存储部(内存及存储器中的至少一者)。控制部29具备中央运算处理装置(CPU)。控制部29对显影装置1的各构成(例如泵P1～P3、开闭阀V1～V3、保持旋转部5、显影喷嘴移动机构23及冲洗喷嘴移动机构25)进行控制。在存储部中存储着显影装置1的动作程序。
＜显影喷嘴移动机构23及冲洗喷嘴移动机构25的构成＞
图3是表示显影喷嘴移动机构23及冲洗喷嘴移动机构25的俯视图。
显影喷嘴移动机构23使显影喷嘴2在上下方向(Z方向)、及沿着衬底W的表面的指定的第1方向(例如X方向)移动。显影喷嘴移动机构23具备臂31、上下移动机构33及平面移动机构35。臂31支撑显影喷嘴2。上下移动机构33通过使臂31在上下方向移动，而使显影喷嘴2在上下方向移动。平面移动机构35通过使上下移动机构33在第1方向移动，而使显影喷嘴2及臂31在第1方向移动。显影喷嘴2的5个喷出嘴2A在第1方向上排成1列。
冲洗喷嘴移动机构25使显影喷嘴2在上下方向(Z方向)、及沿着衬底W的表面的指定的第1方向(例如X方向)移动。冲洗喷嘴移动机构25具备臂41、上下移动机构43及平面移动机构45。臂41支撑设置着第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4的支撑块27。上下移动机构43通过使臂41在上下方向移动，而使第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4等在上下方向移动。平面移动机构45通过使上下移动机构43在第1方向移动，而使第1冲洗喷嘴3、第2冲洗喷嘴4及臂41等在第1方向移动。
上下移动机构33、43及平面移动机构35、45分别例如具备电动马达、螺纹轴、设置着与该螺纹轴啮合的内螺纹的滑动部件、及引导滑动部件的导轨。
＜显影装置1的动作(显影方法)＞
接下来，一面参考图4一面对显影装置1的动作进行说明。图4是表示显影工序的时序图的一例。显影工序具备预湿工序(时间T0～时间T3)、主显影工序(时间T3～时间T10)、冲洗工序(时间T10～时间T16)、及干燥工序(时间T16～时间T19)。
在图1中，未图示的搬送机构将衬底W搬送到保持旋转部5的旋转夹头7上。保持旋转部5例如通过真空吸附衬底W的背面而保持衬底W。在衬底W上形成着抗蚀膜(光阻膜)RF(参考图1)，曝光有指定的图案。抗蚀膜RF设为包含在衬底W的膜。衬底W例如使用直径300mm的圆形衬底W。此外，衬底W也可为直径300mm以外的衬底。
(步骤S01)预湿工序
预湿工序是为了使之后要喷出的显影液Ldev在衬底W上容易地扩展而进行。在图4的时间T0，保持旋转部5使所保持的衬底W以20rpm旋转。另外，冲洗喷嘴移动机构25使第1冲洗喷嘴3从衬底W外的指定的待机位置移动到衬底W的中心CT附近的上方。
在移动第1冲洗喷嘴3后的时间T1，控制部29像图2A所示那样，开始从第1冲洗喷嘴3对衬底W的中心喷出纯水。此时，开闭阀V2从关闭状态(OFF)被操作为打开状态(ON)。泵P2从纯水供给源15朝向第1冲洗喷嘴3送出纯水Lpw。来自第1冲洗喷嘴3的纯水的喷出在指定的期间(时间T1～时间T2)内进行。在衬底W上触液的纯水例如通过衬底W的旋转或在衬底W上触液时的冲击，而在衬底W的表面扩展。
在时间T2，开闭阀V2从打开状态(ON)被操作为关闭状态(OFF)。由此，停止对衬底W喷出纯水。之后(经过时间T2后)，在经过时间T3之前，图3所示的显影喷嘴移动机构23使显影喷嘴2代替第1冲洗喷嘴3移动到衬底W的中心CT的上方。
(步骤S02)主显影工序(显影液喷出工序及显影液覆液(puddle)工序)
主显影工序具备显影液喷出工序(时间T3～时间T8)及显影液覆液工序(时间T8～时间T10)。
在时间T3，控制部29开始从显影喷嘴2对以20rpm旋转的衬底W的中心CT喷出显影液Ldev(参考图5)。此时，开闭阀V1从关闭状态被操作为打开状态。泵P1从显影液供给源11朝向显影喷嘴2送出显影液Ldev。在衬底W上形成着纯水Lpw的膜，从显影喷嘴2喷出的显影液Ldev经由衬底W上的纯水Lpw的膜在衬底W的中心CT触液。显影液Ldev在时间T3到时间T8期间持续被喷出。
在时间T4，控制部29一面使显影液Ldev喷出，一面通过操作保持旋转部5而将衬底W的旋转速度提高到2500rpm。由此，使纯水Lpw及显影液Ldev在衬底W上扩展，并将多余的纯水Lpw及显影液Ldev排出到衬底W外。在时间T5，控制部29操作保持旋转部5，使衬底W的旋转速度从2500rpm下降到700rpm。
在衬底W的旋转速度成为700rpm后的时间T6到时间T7之前，使显影喷嘴2进行1次往复移动(往复扫描)。此时，往复移动是在与衬底W的中心CT相隔预先设定的距离(例如100mm)的范围内进行。也就是说，在从显影喷嘴2喷出的显影液Ldev的触液位置不行至衬底W的外缘部E的范围内进行往复运动。由此，可改善通过显影处理所获得的抗蚀图案的线宽在衬底W面内的均一性。另外，如果使显影喷嘴2移动到衬底W的外缘部E及其附近，那么显影液Ldev的雾容易飘扬。例如，如果在干燥工序之后等飘落在衬底W上，那么会有对衬底W造成问题的顾虑。通过使显影喷嘴2不移动到衬底W的外缘部E，可抑制显影液Ldev的雾的产生。此外，显影喷嘴2(显影液Ldev的触液位置)的往复移动并不限于1次，也可为2次以上。
在时间T7，保持旋转部5使衬底W的旋转速度从700rpm下降到30rpm。由此，显影液Ldev从衬底W上向衬底W外的排出量受到抑制，而在衬底W上形成显影液Ldev的溢液(覆液)。此外，多余的显影液Ldev被排出到衬底W外。
在时间T8，停止从显影喷嘴2喷出显影液Ldev。此时，开闭阀V1从打开状态被操作为关闭状态。另外，在衬底W上形成着显影液Ldev的溢液的状态下，继续使衬底W旋转。在时间T9，保持旋转部5使衬底W的旋转速度从30rpm提高到100rpm。由此，保持在衬底W上的显影液Ldev变少。此外，在经过时间T8后且经过时间T10之前，图3所示的冲洗喷嘴移动机构25使第2冲洗喷嘴4代替显影喷嘴2移动到衬底W的中心CT的上方。此外，显影喷嘴2通过显影喷嘴移动机构23而返回到待机位置。
(步骤S03)冲洗工序
接下来，对作为本发明的特征部分的冲洗工序进行说明。在时间T10，保持旋转部5使衬底W的旋转速度从100rpm提高到1000rpm。另外，在时间T10，控制部29开始从第2冲洗喷嘴4喷出表面活性剂冲洗液Lsf。此时，开闭阀V3从关闭状态被操作为打开状态。泵P3从表面活性剂冲洗液供给源19向第2冲洗喷嘴4送出表面活性剂冲洗液Lsf。
此处，对本发明的课题进行说明。例如在EUV光刻法中，在对衬底W喷出显影液Ldev而进行主显影工序(显影处理)后，如果仅使用DIW等纯水进行冲洗工序，那么会产生抗蚀图案的图案崩塌的课题。为了解决该课题，而使用表面活性剂冲洗液Lsf作为冲洗液。然而，如果表面活性剂冲洗液Lsf使抗蚀图案膨胀或细化，那么会对抗蚀图案的线宽造成影响。也就是说，因为与抗蚀剂的材料的相容性，导致抗蚀图案的线宽变粗或变细。另外，如果从冲洗喷嘴向衬底的中心持续喷出表面活性剂冲洗液，那么会局部地在衬底W的中心CT及其附近线宽变粗或变细。因此，存在衬底整面的线宽不均一的课题。
因此，控制部29在进行显影处理(显影)后，像图6那样开始对正在旋转的衬底W上的从衬底W的中心CT偏离的位置51，从第2冲洗喷嘴4喷出表面活性剂冲洗液Lsf。表面活性剂冲洗液Lsf的喷出的开始是以衬底W的中心CT不在触液区域53的方式进行的，所述触液区域53是从第2冲洗喷嘴4喷出的表面活性剂冲洗液Lsf在衬底W上最先触液的区域。也就是说，该动作是以从第2冲洗喷嘴4喷出的表面活性剂冲洗液Lsf不在衬底W的中心CT触液的方式进行的。此外，触液位置51例如为与衬底W的中心CT相隔10mm的位置，但并不限于此。触液位置51例如也可为中心CT不在触液区域53且与中心CT相隔10mm以内的位置。
另外，控制部29在表面活性剂冲洗液Lsf在衬底W上刚触液后，立即通过在衬底W上触液的表面活性剂冲洗液Lsf的扩展来覆盖衬底W的中心CT。因为如果不利用表面活性剂冲洗液Lsf覆盖衬底W的中心CT，那么无法在衬底W的中心CT处将显影液Ldev、及抗蚀剂的溶解生成物冲洗掉。此外，第2冲洗喷嘴4的喷出口的直径例如为3mm，从第2冲洗喷嘴4喷出的表面活性剂冲洗液Lsf的流量例如为2cc/秒。在图4中，表面活性剂冲洗液Lsf在时间T10到时间T15期间持续被喷出。
在衬底W的旋转速度达到1000rpm后的时间T11，图3所示的冲洗喷嘴移动机构25使第2冲洗喷嘴4往复移动。控制部29在通过表面活性剂冲洗液Lsf的扩展而覆盖了衬底W的中心CT后，在喷到衬底W上的表面活性剂冲洗液Lsf的扩展不从衬底W的中心CT偏离的范围内，使表面活性剂冲洗液Lsf的触液区域53的位置51往复移动。上述表面活性剂冲洗液Lsf的扩展不从衬底W的中心CT偏离的范围例如为与衬底W的中心CT相隔10mm的范围。
图7A是表示从第2冲洗喷嘴4喷出并喷到衬底W上的表面活性剂冲洗液Lsf的扩展从衬底W的中心CT偏离的情况的图。图7B是图7A的俯视图。在该情况下，在未由表面活性剂冲洗液Lsf覆盖的衬底W的中心CT及其附近，衬底W干燥。假如衬底W的中心CT及其附近干燥，那么显影液Ldev或表面活性剂冲洗液Lsf的液体中所残留的例如抗蚀剂的溶解生成物会附着在衬底W的中心CT及其附近。如果抗蚀剂的溶解生成物附着，那么之后就难以利用表面活性剂冲洗液Lsf冲洗掉。因此，即便在触液位置51的移动中，也需要利用表面活性剂冲洗液Lsf来覆盖衬底W的中心CT，以使衬底W的中心CT不干燥。
因此，冲洗喷嘴移动机构25在与衬底W的中心CT相隔例如10mm的范围内，使第2冲洗喷嘴4、也就是表面活性剂冲洗液Lsf的触液位置51往复移动。在图8A、图8B中，冲洗喷嘴移动机构25使触液位置51(第2冲洗喷嘴4)在衬底W的中心CT、和与衬底W的中心CT相隔距离RD1的位置之间往复移动。
另外，也可像图9A、图9B那样，冲洗喷嘴移动机构25使触液位置51(第2冲洗喷嘴4)在包含衬底W的中心CT的直线状路径RT上往复移动。该路径RT以隔着衬底W的中心CT的方式设定着2个折返位置55A、55B。在图9A、图9B中，折返位置55B与衬底W的中心CT之间的距离RD2小于折返位置55A与衬底W的中心CT之间的距离RD1。
另外，也可像图10A、图10B那样，折返位置55A与衬底W的中心CT之间的距离RD1和折返位置55B与衬底W的中心CT之间的距离RD1相同。也就是说，冲洗喷嘴移动机构25也可使触液位置51(第2冲洗喷嘴4)在与距离RD1的圆的直径对应的路径RT上往复移动。另外，也可像图11A、图11B那样，将2个折返位置55A、55B连结的直线状路径RT不经过衬底W的中心CT。在该情况下，路径RT为距离RD3×2。
此外，路径RT并不限于直线状，例如也可为圆弧状。位置51的移动并不限于往复移动，例如也可在与衬底W的中心CT相隔10mm的范围内，使位置51以描绘三角形等二维状的线或图形的方式移动。另外，位置51的移动也可仅为直线状路径RT的去路。另外，路径RT优选为以像折返位置55A的触液区域53与折返位置55B的触液区域53不重叠这样的距离设定。例如，路径RT以比触液区域53的宽度的1/2更长的距离设定。
表面活性剂冲洗液Lsf的触液位置51是根据表面活性剂冲洗液Lsf的喷出时间而进行1次或多次往复移动。在时间T12，保持旋转部5使衬底W的旋转速度从1000rpm下降到800rpm。另外，也可在时间T12到时间T13期间，进行最后的往复移动的返路的移动。之后，触液位置51(第2冲洗喷嘴4)返回到作为表面活性剂冲洗液Lsf的喷出开始位置的与衬底W的中心CT相隔距离RD1(例如10mm)的位置。在触液位置51返回到喷出开始位置后的时间T13，保持旋转部5进而使衬底W的旋转速度从800rpm下降到500rpm。通过降低旋转速度，而抑制表面活性剂冲洗液Lsf从衬底W排出，相比使衬底W以1000rpm旋转时更能在衬底W上保持表面活性剂冲洗液Lsf。
在时间T14到时间T16期间，保持旋转部5使衬底W的旋转速度从500rpm阶段性地提高到650rpm。在时间T15，停止表面活性剂冲洗液Lsf从第2冲洗喷嘴4的喷出。此时，开闭阀V3从打开状态被操作为关闭状态。第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4通过冲洗喷嘴移动机构25而返回到待机位置。
此外，在图4中的冲洗工序中，衬底W以500rpm以上且1000rpm以下旋转。在此方面，在时间T10开始从第2冲洗喷嘴4喷出表面活性剂冲洗液Lsf后，直到停止表面活性剂冲洗液的喷出为止，衬底W也可以500rpm以上且2000rpm以下旋转。另外，在使触液位置51(第2冲洗喷嘴4)往复移动时，衬底W的旋转速度优选为800rpm以上且1000rpm以下。
(步骤S04)干燥工序
在时间T16，保持旋转部5使衬底W的旋转速度从650rpm提高到1800rpm。进而，在指定期间内维持使衬底W以1800rpm旋转的状态。之后，在时间T17，保持旋转部5使衬底W的旋转速度从1800rpm进而提高到2500rpm。由此，进一步将表面活性剂冲洗液Lsf排出到衬底W外。在指定时间内维持使衬底W以2500rpm旋转的状态。之后，在时间T18，保持旋转部5使衬底W的旋转停止。此外，在时间T19，衬底W实际上停止(0rpm)。
在衬底W的旋转停止后，也就是说在步骤S01～步骤S04的显影处理结束后，保持旋转部5解除衬底W的保持。未图示的搬送机构使保持旋转部5的旋转夹头7上的衬底W例如移动到其它处理部。
根据本实施例，在对衬底W供给显影液Ldev而进行显影处理后，开始对正在旋转的衬底W上的从衬底W的中心CT偏离的位置，从第2冲洗喷嘴4喷出表面活性剂冲洗液Lsf。该动作是以衬底W的中心CT不包含于触液区域53的方式进行的，所述触液区域53是从第2冲洗喷嘴4喷出的表面活性剂冲洗液Lsf在衬底W上最先触液的区域。由此，表面活性剂冲洗液Lsf的触液区域53的位置51被分散，因此抑制在衬底W的中心CT及其附近(周边)局部地抗蚀图案的线宽变粗或变细。另外，通过使表面活性剂冲洗液Lsf的触液区域53的位置51往复移动，可使表面活性剂冲洗液Lsf的触液区域53的位置51进一步分散。因此，可改善冲洗处理中的衬底W面内的抗蚀图案的线宽均一性。
另外，因为通过在衬底W上触液的表面活性剂冲洗液Lsf的扩展来覆盖衬底W的中心CT，所以即便将表面活性剂冲洗液Lsf喷出到从衬底W的中心CT偏离的位置，也可利用表面活性剂冲洗液Lsf来清洗衬底W的中心CT。
另外，本实施例的显影方法是在通过表面活性剂冲洗液Lsf的扩展而覆盖了衬底W的中心CT后，在从第2冲洗喷嘴4喷出并到达衬底W上的表面活性剂冲洗液Lsf的扩展不从衬底W的中心CT偏离的范围内(与衬底W的中心CT相隔预先设定的距离RD1的范围内)，使从第2冲洗喷嘴4喷出并在衬底W上触液的表面活性剂冲洗液Lsf的触液区域53的位置51往复移动。
如果在使表面活性剂冲洗液Lsf的触液位置51往复移动期间，在衬底W的中心CT及其附近衬底W表面干燥，那么会有残留的例如抗蚀剂溶解生成物附着在衬底W的中心CT及其附近的顾虑。该附着物无法利用表面活性剂冲洗液Lsf容易地冲洗掉。通过在衬底W上触液的表面活性剂冲洗液Lsf的扩展不从衬底W的中心CT偏离的范围内(与衬底W的中心CT相隔预先设定的距离RD1的范围内)使表面活性剂冲洗液Lsf的触液位置51往复移动，而即便使表面活性剂冲洗液Lsf的触液位置51往复移动，在衬底W的中心CT也始终由表面活性剂冲洗液Lsf所覆盖。因此，衬底W的中心CT不会干燥，可防止例如抗蚀剂溶解生成物附着，而减轻由该附着物引起的缺陷。
另外，触液位置51的往复移动是在以隔着衬底W的中心CT的方式设定着2个折返位置的包含衬底W的中心CT的路径上，使从第2冲洗喷嘴4喷出并到达衬底W上的表面活性剂冲洗液Lsf的触液位置51往复移动。
例如，假如在衬底W的中心CT存在往复移动的折返位置，那么表面活性剂冲洗液Lsf的触液区域53存在于衬底W的中心CT的时间变得相对较长。然而，在本实施例中，因为在以隔着衬底W的中心CT的方式设定的2个折返位置之间进行往复移动，所以表面活性剂冲洗液Lsf的触液区域53的位置存在于衬底W的中心CT的时间变得相对较短，而能够减轻在衬底W的中心CT及其附近局部地抗蚀图案的线宽变细或变粗的情况。此外，本发明并不限于EUV光刻法。
＜实验结果＞
此处，对实验结果进行说明。图12A是表示针对各条件的抗蚀图案的线宽(CD：Critical Dimension，临界尺寸)的平均值的图。图12B是表示针对各条件的抗蚀图案的线宽的3sigma的图。
图12A、图12B是在通过图4所示的显影工序对衬底W进行了处理后，在衬底W的面内将抗蚀图案的线宽测量几十处而获得的结果。“10s”、“30s”、“60s”为10秒、30秒、60秒。像图13所示那样，改变表面活性剂冲洗液Lsf从第2冲洗喷嘴4的喷出时间。另外，“10s”、“30s”、“60s”是对衬底W的中心CT喷出表面活性剂冲洗液Lsf。相对于此，“SCAN30s”表示对衬底W的中心CT将表面活性剂冲洗液Lsf喷出约30秒，之后一面喷出表面活性剂冲洗液Lsf一面在约30秒内使之进行3次往复移动(10mm)。
参考图12A。喷出时间变得越长，如10秒、30秒、60秒，抗蚀图案的线宽的平均值变得越细。此外，“SCAN30s”的结果与60秒的结果几乎相同。这是因为“SCAN30s”将表面活性剂冲洗液Lsf合计喷出了约60秒。
参考图12B。喷出时间变得越长，如10秒、30秒、60秒，3sigma的值(均一性)变得越大。另外，“SCAN30s”的3sigma的结果小于“10s”、“30s”、“60s”的结果。也就是说，与将表面活性剂冲洗液Lsf持续喷出到衬底W的中心CT的情况相比，使表面活性剂冲洗液Lsf的触液位置51从衬底W的中心CT移动更能改善衬底W面内的抗蚀图案的线宽均一性。
此外，在图12A、图12B中，在使表面活性剂冲洗液SF的触液位置51进行往复移动之前，开始对衬底W的中心CT喷出表面活性剂冲洗液Lsf。为了更加明确图12A、图12B的效果，于本发明中，开始从第2冲洗喷嘴4对从衬底W的中心CT偏离的位置51喷出表面活性剂冲洗液Lsf。
图14是表示改变往复移动的距离时的缺陷数量及缺陷图的图。在供给显影液Ldev而进行显影处理后，开始对衬底W的中心CT喷出表面活性剂冲洗液Lsf。之后，在“0mm(中心)”中，不进行往复移动，在“10mm”、“30mm”中，以中心CT为基准并以该距离进行往复移动。
参考图14。缺陷例如为抗蚀剂的溶解生成物的残留。“0mm(中心)”、“10mm”、“30mm”均为衬底W整体出现缺陷。“10mm”的缺陷数量少于“0mm(中心)”及“30mm”的缺陷数量。在“0mm(中心)”中，尤其在衬底W的中心附近大量出现缺陷。在“30mm”中，像图7所示那样，缺陷DF呈圆环状分布。认为该圆环状的缺陷分布是因为表面活性剂冲洗液Lsf的扩展从衬底W的中心CT偏离。
基于图14的结果可知，在与衬底W的中心CT相隔的距离较大的往复移动的情况下，出现圆环状的缺陷分布，产生与抗蚀图案的线宽均一性不同的其它问题。因此，需要在不出现圆环状的缺陷分布的与衬底W中心CT相隔的距离RD1的范围内、也就是在到达的表面活性剂冲洗液Lsf的扩展不从衬底W的中心CT偏离的范围内，进行表面活性剂冲洗液Lsf的触液位置51(第2冲洗喷嘴4)的往复移动。
[实施例2]
其次，参考附图对本发明的实施例2进行说明。此外，省略与实施例1重复的说明。图15是表示对实施例2的显影工序进行表示的时序图的一例的图。
在实施例1的冲洗工序中，对衬底W仅供给表面活性剂冲洗液Lsf。在此方面，在实施例2的冲洗工序中，也可在对衬底W供给了纯水Lpw后供给表面活性剂冲洗液Lsf。
此处，对在冲洗处理中使用纯水Lpw及表面活性剂冲洗液Lsf的原因进行说明。抗蚀图案的图案崩塌与其说是在向衬底W供给纯水Lpw而进行冲洗处理的过程中发生的，不如说是在干燥处理中将衬底W干燥时发生的。为了防止该图案崩塌，冲洗处理使用表面活性剂冲洗液Lsf来进行。然而，表面活性剂冲洗液Lsf的费用比纯水Lpw更高。因此，采用在使用纯水Lpw进行的冲洗处理与干燥处理之间具有使用表面活性剂冲洗液Lsf进行的冲洗处理的方法。
图15是表示实施例2的显影工序的时序图的一例。在图15中，预湿工序(时间T0～时间T3)、主显影工序(时间T3～时间T10)、干燥工序(时间T16～时间T19)因为是与实施例1相同的动作，所以省略它们的说明。
在图15中，在经过时间T8后且经过时间T10之前，图3所示的冲洗喷嘴移动机构25使第1冲洗喷嘴3代替显影喷嘴2移动到衬底W的中心CT附近的上方。也就是说，冲洗喷嘴移动机构25使第1冲洗喷嘴3移动到对准衬底W的中心CT的位置(参考图2A)。
(步骤S03)冲洗工序
在时间T10，保持旋转部5使衬底W的旋转速度从100rpm提高到1000rpm。另外，在时间T10，控制部29开始对衬底W的中心CT从第1冲洗喷嘴3喷出纯水Lpw。之后，直到时间T10A为止，在从第1冲洗喷嘴3正喷出纯水Lpw的状态下，保持旋转部5使衬底W以1000rpm(第1旋转速度)旋转。
在时间T10A，保持旋转部5使衬底W的旋转速度从1000rpm提高到1800rpm(第2旋转速度)。在时间T10B，保持旋转部5使衬底W的旋转速度从1800rpm下降到1000rpm。也就是说，保持旋转部5在开始喷出纯水Lpw后，以正在喷出纯水Lpw的状态在预先设定的期间(时间T10A～时间T10B)内，使衬底W以比1000rpm更快的1800rpm旋转。由此，可容易将显影液Ldev中或纯水Lpw中所存在的抗蚀剂的溶解生成物等浮沫(或灰尘)排出到衬底W外。
此外，第2旋转速度(1800rpm)是比第2冲洗喷嘴4的往复移动时(时间T11～时间T12)的旋转速度(800rpm以上且1000rpm以下)更快的旋转速度。另外，也可像图15的时间T10A与时间T10B之间所示的V字形双点划线CL那样，使旋转速度从1800rpm下降到1000rpm，并再次使旋转速度从1000rpm提高到1800rpm。也就是说，进行2次使旋转速度从1000rpm提高到1800rpm的动作。该动作并不限于2次，也可为3次以上。
在时间T10B之后且衬底W的旋转速度恢复到1000rpm之后，从使用第1冲洗喷嘴3进行的纯水Lpw的喷出切换成使用第2冲洗喷嘴4进行的表面活性剂冲洗液Lsf的喷出。直到切换的时间T10C为止，冲洗喷嘴移动机构25使设置着第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4的支撑块27沿第1方向移动。由此，使从第1冲洗喷嘴3喷出的纯水Lpw的触液位置61移动到与衬底W的中心CT相隔距离RD1(例如10mm)的位置(参考图16B)。此时，通过喷到衬底W状的纯水Lpw的扩展而覆盖衬底W的中心CT。
图16A是表示正从第1冲洗喷嘴3向衬底W的中心CT喷出纯水Lpw的情况的图。从第1冲洗喷嘴3喷出的纯水Lpw的触液位置61与衬底W的中心CT几乎一致。图16B是表示已将纯水Lpw的触液位置61移动到与中心CT相隔距离RD1的位置的状态的图。图16C是表示从图16B的使用第1冲洗喷嘴3进行的纯水Lpw的喷出切换到使用第2冲洗喷嘴4进行的表面活性剂冲洗液Lsf的喷出的动作的图。在时间T10C，停止纯水Lpw的喷出，几乎与此同时开始表面活性剂冲洗液Lsf的喷出。
在时间T10C的表面活性剂冲洗液Lsf的喷出后且表面活性剂冲洗液Lsf在衬底W上刚触液后，立即通过在衬底W上触液的表面活性剂冲洗液Lsf的扩展来覆盖衬底W的中心CT。
在时间T11，冲洗喷嘴移动机构25使第2冲洗喷嘴4像图8A、图9A、图10A、图11A的实施例1的往复动作那样，进行往复移动。也就是说，控制部29在通过表面活性剂冲洗液Lsf的扩展而覆盖了衬底W的中心CT后，在衬底W上触液的表面活性剂冲洗液Lsf的扩展不从衬底W的中心CT偏离的范围内使表面活性剂冲洗液Lsf的触液区域53的位置51往复移动。也就是说，在与中心CT相隔预先设定的距离(例如10mm)的范围内使位置51往复移动。
时间T12～时间T16的冲洗工序因为与实施例1的动作相同，所以省略其说明。
根据本实施例，在进行显影处理后且开始喷出表面活性剂冲洗液Lsf之前，开始从第1冲洗喷嘴3向正在旋转的衬底W上喷出纯水Lpw。表面活性剂冲洗液Lsf的喷出的开始与停止纯水Lpw的喷出同时进行。由此，可进行使用纯水Lpw及表面活性剂冲洗液Lsf的冲洗处理。
另外，在开始从第1冲洗喷嘴3喷出纯水Lpw并使衬底W以第1旋转速度旋转后，以正在喷出纯水Lpw的状态在预先设定的期间内，使衬底W从第1旋转速度以比第1旋转速度更快的第2旋转速度旋转。也就是说，在利用纯水Lpw对以第1旋转速度进行旋转的衬底W进行冲洗处理时，在预先设定的期间内使衬底W的旋转速度从第1旋转速度提高到第2旋转速度。由此，可容易将例如抗蚀剂的溶解生成物排出到衬底W外。
此外，图2A、图16A所示的第1冲洗喷嘴3对衬底W的表面并非垂直地而是倾斜地喷出纯水Lpw。在此方面，也可像图17A、图17B那样，第1冲洗喷嘴3对衬底W的表面垂直地喷出纯水Lpw。在该情况下，第2冲洗喷嘴4在相对于第1冲洗喷嘴3相隔距离RD1(例如10mm)以内的位置设置在支撑块27。进而，第2冲洗喷嘴4以如下方式设置在支撑块27：在纯水Lpw的触液位置61存在于衬底W的中心CT时，对表面活性剂冲洗液Lsf的触液区域53不包含衬底W的中心CT这样的位置喷出表面活性剂冲洗液Lsf。
对该情况下的切换动作进行说明。像图17A那样，纯水Lpw被喷出到衬底W的中心CT。像图17B那样，从纯水Lpw的喷出切换成表面活性剂冲洗液Lsf的喷出。表面活性剂冲洗液Lsf的触液位置51成为不使支撑块27移动而与衬底W的中心CT相隔距离RD1的位置。此外，也可将图16A～图16C的方法与图17A、图17B的方法组合。
本发明并不限于所述实施方式，可像下文所述那样变化实施。
(1)在所述各实施例中，在图4及图15所示的第2冲洗喷嘴4的往复移动期间(时间T11～时间T13)，衬底W的旋转速度为1000rpm或800rpm。在此方面，像图15的时间T10A～时间T10C那样，在开始喷出表面活性剂冲洗液Lsf后，使衬底W以1000rpm(第1旋转速度)旋转。之后，也可以正在喷出表面活性剂冲洗液Lsf的状态在预先设定的期间内，使衬底W从1000rpm(第1旋转速度)例如以1800rpm(比第1旋转速度更快的第2旋转速度)旋转。
在第2冲洗喷嘴4的往复移动时，如果使衬底W高速旋转，那么衬底W的中心CT及其附近可能会干燥。因此，在第2冲洗喷嘴4的往复移动时，控制部29以使衬底W的中心CT及其附近不干燥的方式，对第2冲洗喷嘴4的折返位置55A、55B、旋转速度、及喷出流量等进行控制，。另外，也可对照表面活性剂冲洗液Lsf的触液位置51穿过衬底W的中心CT的时刻，从第1旋转速度提高到第2旋转速度。通过从第1旋转速度提高到第2旋转速度，而容易将例如抗蚀剂的溶解生成物排出到衬底W外。
(2)在所述各实施例及变化例(1)中，在通过表面活性剂冲洗液Lsf的扩展而覆盖了衬底W的中心CT后，使从第2冲洗喷嘴4喷出并在衬底W上触液的表面活性剂冲洗液Lsf的触液位置51往复移动。在此方面，也可从表面活性剂冲洗液Lsf在衬底W上刚触液后直到停止表面活性剂冲洗液Lsf的喷出为止，不移动表面活性剂冲洗液Lsf的触液位置而使之固定。也就是说，从开始喷出表面活性剂冲洗液Lsf后到停止表面活性剂冲洗液Lsf的喷出为止，不移动第2冲洗喷嘴4而使之固定。
由此，在对衬底W供给显影液Ldev而进行显影处理后，开始对正在旋转的衬底W上的从衬底W的中心CT偏离的位置，从第2冲洗喷嘴4喷出表面活性剂冲洗液Lsf。该动作是以衬底W的中心CT不在触液区域53的方式进行的，所述触液区域53是从第2冲洗喷嘴4喷出的表面活性剂冲洗液Lsf在衬底W上最先触液的区域。由此，表面活性剂冲洗液的触液区域的位置被分散，因此抑制在衬底W的中心CT及其附近局部地抗蚀图案的线宽变粗或变细。因此，可改善冲洗处理中的衬底W面内的抗蚀图案的线宽均一性。
另外，因为通过在衬底W上触液的表面活性剂冲洗液Lsf的扩展来覆盖衬底W的中心CT，所以即便将表面活性剂冲洗液Lsf喷出到从衬底W的中心CT偏离的位置，也可利用表面活性剂冲洗液Lsf来清洗衬底W的中心CT。
(3)在所述各实施例及各变化例中，像图4、图15那样，时间T12～时间T16中的旋转速度未达1000rpm，但并不限于此。例如，时间T12～时间T16中的旋转速度也可为1000rpm。在该情况下，在时间T16，保持旋转部5使衬底W的旋转速度从1000rpm提高到1800rpm。
(4)在所述各实施例及各变化例中，图3所示的平面移动机构45使第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4等沿第1方向(例如X方向)移动。在此方面，平面移动机构45也可以如下方式构成：除了使第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4沿第1方向移动以外，还沿与第1方向正交的第2方向(Y方向)移动。
另外，在所述各实施例中，第2冲洗喷嘴4对衬底W的表面垂直地喷出表面活性剂冲洗液Lsf，但并不限于此，只要刚开始喷出后的触液区域53成为从衬底W的中心CT偏离的位置，则也可对衬底W的表面倾斜地喷出表面活性剂冲洗液Lsf。
(5)在所述各实施例及各变化例中，图3所示的冲洗喷嘴移动机构25的平面移动机构45使第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4等沿第1方向(例如X方向)移动。也可代替这种构成，而使冲洗喷嘴移动机构25以如下方式构成：在图3中，使第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4绕配置在衬底W的外侧的旋转轴旋转(移动)。另外，冲洗喷嘴移动机构25也可具备多关节臂。在这些情况下，冲洗喷嘴移动机构25具备电动马达。
另外，显影喷嘴2、第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4也可以分别被移动的方式构成。另外，显影喷嘴2也可以与第1冲洗喷嘴3及第2冲洗喷嘴4中的至少一者一体地移动的方式构成。
(6)在所述各实施例及各变化例中，在预湿工序、显影工序及图15所示的时间T10～时间T10C的喷出纯水Lpw的工序中，显影液Ldev或纯水Lpw被喷出到衬底W的中心CT。在此方面，也可开始对正在旋转的衬底W上的从衬底W的中心CT偏离的位置，从第1冲洗喷嘴3喷出纯水Lpw。该动作是以衬底W的中心CT不在触液区域的方式进行的，所述触液区域是从第1冲洗喷嘴3喷出的纯水Lpw在衬底W上最先触液的区域。另外，也可在纯水Lpw在衬底W上刚触液后，立即通过在衬底W上触液的纯水Lpw的扩展来覆盖衬底W的中心CT。显影液Ldev的情况也同样如此。
(7)在所述各实施例及各变化例中，表面活性剂冲洗液Lsf的触液位置51像以下那样移动。也就是说，例如在图4所示的时间T10，对从衬底W的中心CT偏离的触液位置51(例如与中心CT相隔10mm的位置)喷出表面活性剂冲洗液Lsf。在时间T11，在衬底W上触液的表面活性剂冲洗液Lsf的扩展不从衬底W的中心CT偏离的范围内(例如与中心CT相隔10mm的范围内)，使触液位置51往复移动1次或多次。之后，使触液位置51返回到最初的触液位置(例如与中心CT相隔10mm的位置)。
也就是说，触液位置51的往复移动是以次数决定的。并不限于此。例如，触液位置51的往复移动也可由期间来决定。也就是说，例如在图4中，也可从时间T11的往复移动的开始到时间T15的停止表面活性剂冲洗液Lsf的喷出为止，使触液位置51(第2冲洗喷嘴4)持续移动。
本发明可在不脱离本发明的思想或本质的前提下以其它具体形式实施，因此，作为表示发明的范围的内容，应参考随附的权利要求书而非以上说明。

Claims (7)

1.一种显影方法，对衬底进行显影，且包含以下要素，即，如下工序：
对正围绕衬底的中心进行旋转的所述衬底供给显影液而进行显影处理；
在进行所述显影处理后，以所述衬底的中心不在触液区域的方式，开始对正在旋转的所述衬底上的从所述衬底的中心偏离的位置，从表面活性剂冲洗喷嘴喷出表面活性剂冲洗液，所述触液区域是从所述表面活性剂冲洗喷嘴喷出的所述表面活性剂冲洗液在所述衬底上最先触液的区域；
在所述表面活性剂冲洗液在所述衬底上刚触液后，立即通过在所述衬底上触液的所述表面活性剂冲洗液的扩展来覆盖所述衬底的中心；以及
从所述表面活性剂冲洗液在所述衬底上刚触液后直到停止所述表面活性剂冲洗液的喷出为止，固定所述表面活性剂冲洗液的触液区域的位置。
2.一种显影方法，对衬底进行显影，且包含以下要素，即，如下工序：
对正围绕衬底的中心进行旋转的所述衬底供给显影液而进行显影处理；
在进行所述显影处理后，以所述衬底的中心不在触液区域的方式，开始对正在旋转的所述衬底上的从所述衬底的中心偏离的位置，从表面活性剂冲洗喷嘴喷出表面活性剂冲洗液，所述触液区域是从所述表面活性剂冲洗喷嘴喷出的所述表面活性剂冲洗液在所述衬底上最先触液的区域；
在所述表面活性剂冲洗液在所述衬底上刚触液后，立即通过在所述衬底上触液的所述表面活性剂冲洗液的扩展来覆盖所述衬底的中心；以及
在通过所述表面活性剂冲洗液的扩展而覆盖了所述衬底的中心后，在所述衬底上触液的所述表面活性剂冲洗液的扩展不从所述衬底的中心偏离的范围内，使所述表面活性剂冲洗液的触液区域的位置位移。
3.根据权利要求2所述的显影方法，其中
使所述触液区域的位置位移的工序是在以隔着所述衬底的中心的方式设定着2个折返位置的包含所述衬底的中心的路径上，使所述触液区域的位置往复移动。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的显影方法，其
还具备如下工序：在进行所述显影处理后且开始所述表面活性剂冲洗液的喷出之前，开始从纯水冲洗喷嘴向正在旋转的所述衬底上喷出纯水；且
开始所述表面活性剂冲洗液的喷出的工序与停止所述纯水的喷出同时进行。
5.根据权利要求4所述的显影方法，其
还具备如下工序：在开始从所述纯水冲洗喷嘴喷出所述纯水并使所述衬底以第1旋转速度旋转后，以正在喷出所述纯水的状态在预先设定的期间内，使所述衬底从所述第1旋转速度以比所述第1旋转速度更快的第2旋转速度旋转。
6.根据权利要求5所述的显影方法，其中
所述第1旋转速度及所述第2旋转速度为500rpm以上且2000rpm以下。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的显影方法，其
还具备如下工序：在开始从所述表面活性剂冲洗喷嘴喷出所述表面活性剂冲洗液后，直到停止所述表面活性剂冲洗液的喷出为止，使所述衬底以500rpm以上且2000rpm以下旋转。
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