CN110257783A - 一种钛硅合金靶材的低成本制备方法 - Google Patents
一种钛硅合金靶材的低成本制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110257783A CN110257783A CN201910568170.2A CN201910568170A CN110257783A CN 110257783 A CN110257783 A CN 110257783A CN 201910568170 A CN201910568170 A CN 201910568170A CN 110257783 A CN110257783 A CN 110257783A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- titanium silicon
- ingot
- titanium
- low cost
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/02—Making non-ferrous alloys by melting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C14/00—Alloys based on titanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
本发明提供了一种钛硅合金靶材的低成本制备方法,包括以下步骤:A、混料:将海绵钛与结晶硅按比例均匀混合;B、电极压制:将混合好的原料压制成电极棒,再将电极棒进行加热;C、一次自耗熔炼:在保护性气氛下,将加热后的电极棒焊接,然后进行第一次真空自耗熔炼,得到钛硅合金一次锭;D、焊接:将钛硅合金一次锭的两端平头后,利用真空电子束焊接技术将钛硅合金一次锭组合后焊接,得电极料;E、二次自耗熔炼:将电极料进行第二次真空自耗熔炼,得到钛硅合金二次锭;F、将钛硅合金二次锭进行加工即得最终的钛硅靶材。本发明提供的方法制备的钛硅合金靶材具有组织致密、均匀细小,原材料出品率高,成本低,适于工程化规模生产。
Description
技术领域
本发明涉及一种材料表面改性镀膜用靶材的制备工艺技术领域,尤其是涉及一种钛硅合金靶材的低成本制备方法。
背景技术
随着电子信息产业的飞速发展,以及社会环保意识的提高,薄膜科学应用日益广泛,材料的表面镀膜工艺也由传统的电镀、化学镀发展到真空溅射镀膜技术。真空溅射法已成为制备薄膜材料的主要技术之一,在五金装饰、电子产品、汽车和建筑等镀膜领域得到广泛应用。所以,上述领域对镀膜靶材的需求日益显得迫切,对靶材组织和成本也提出了越来越高的要求。
钛硅合金为金属间化合物,是一种真空溅射镀膜用靶材,通过调整钛和硅的比例可以获得具有不同特性的钛硅合金靶材。钛硅金属间化合物属于比较硬而脆的材料,具有良好耐磨性能、光学性等,溅镀在普通刀具或者电子产品上,可以有效延长刀具的使用寿命,改善电子光学性能,因此钛硅靶材在机械加工、电子、仪器仪表、显示器等行业具有良好的应用前景。
另外,现代装饰业的快速发展对所用材料的色泽要求越来越高,而且对装饰膜的化学稳定性、颜色耐候性的要求也日益增加。钛硅合金靶材根据需求可以提高多颜色、多品种的色膜,具有良好的耐蚀、耐磨和美观等优点,满足装饰材料行业的需求。
据文献报道,钛硅靶材采用常规熔炼方法则出现合金脆、成分偏析及组织不均匀等问题,而且硅添含量一般低于15%(质量比),硅含量大于15%的锭坯容易发生开裂现象,而硅含量低于15%,易出现成分偏析或脆性裂纹的问题。CN102699325A、CN102321833A分别提供了一种热压烧结压制备钛硅或钛铝硅靶材的方法,但这两种方法存在流程长、工艺复杂、要求高、成本昂贵等缺点,不利于钛硅靶的制备与广泛应用,无法满足工模具等对镀膜层的使用要求。
发明内容
本发明的目的是针对钛硅合金靶材现有制备技术的不足,提供一种钛硅合金靶材的低成本制备方法,本发明提供的方法制备的钛硅合金靶材具有组织致密、均匀细小,原材料成品率高(>95%),成本低,适于工程化规模生产等优点。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的:
本发明提供了一种钛硅合金靶材的低成本制备方法,包括以下步骤:
A、混料:将海绵钛与结晶硅按比例均匀混合;
B、电极压制:将步骤A混合好的原料压制成电极棒,再将电极棒进行加热;
C、一次自耗熔炼:在保护性气氛下,将步骤B加热后的电极棒按首尾相接的方式焊接在一起,然后进行第一次真空自耗熔炼,得到钛硅合金一次锭;
D、焊接:将步骤C得到的钛硅合金一次锭的两端平头后,利用真空电子束焊接技术将钛硅合金一次锭组合后焊接,得电极料;
E、二次自耗熔炼:将步骤D得到的电极料进行第二次真空自耗熔炼,得到钛硅合金二次锭;
F、将步骤E得到的钛硅合金二次锭进行加工即得最终的钛硅靶材。
优选地,步骤A中,所述海绵钛纯度≥99.6%,其粒径尺寸为0.83~25.4mm;结晶硅纯度≥99.8%,其粒径尺寸为2~8mm。
优选地,步骤A中,所述海绵钛与结晶硅的混合质量比例为85~97.5:2.5~25;
所述混合时间为5~10min。
优选地,步骤B中,所述压制成的电极棒尺寸为35×(45~60)×(350~400)mm,重量为2.2~4.5kg;
所述电极棒的加热温度80~110℃,加热时间≥3.5h。
优选地,步骤C中,所述第一次真空自耗熔炼的具体步骤如下:
在10kg或150kg真空自耗电弧炉进行,真空度达到5×10-1~5×10-2Pa时起弧熔炼,熔炼电流1.4~2.6kA,稳弧控制在2~6A,熔炼速度6~12mm/s,冷却至一定时间出炉,得到直径80mm或120mm的钛硅合金一次锭。
优选地,步骤D中,所述真空电子束焊接技术中,焊接时的真空度<10-2Pa,电子束加速电压90~150kV。本发明若采用其他焊接方法,则不能有效隔绝空气中的氧气,而且效率不高,从而导致最终产品质量不高。
优选地,步骤E中,所述第二次真空自耗熔炼的具体步骤如下:
在150kg真空自耗电弧炉进行,当真空度达到3×10-1~5×10-2Pa时起弧熔炼,熔炼电流2.8~5.2kA,熔炼速度1.2~3.5mm/s,补缩电流0.8~1.5kA,补缩时间不少于5min,冷却至一定时间出炉,得到直径120mm或170mm的钛硅合金二次锭。
优选地,所述方法还包括在步骤E后,将钛硅合金二次锭重复步骤D和E的处理,得到钛硅合金三次锭。
优选地,所述钛硅合金三次锭为170mm或230mm的钛硅合金三次锭。
优选地,所述冷却时间为90~240min,采用的循环冷却水流量为30~50m3/h。所述循环冷却水的水速大小,对于铸锭质量有很大影响,流量过大或过小,均会导致铸锭开裂,及影响铸锭质量。
本发明方法的原理是:采用低真空熔铸技术,通过合理调整熔炼电流和冷却水强度的工艺参数,高效低成本生产金属靶材,满足大规模化生产的需要。
利用本发明的上述方法能制备出硅含量为2.5%-25%(质量分数)的钛硅靶材,致密度可达99%以上,组织和成分均匀,无偏析现象,根据用户需求可加工成不同形状与尺寸的靶材。
与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:
本发明提供一种钛硅合金靶材的低成本制造方法,改进了现有熔铸法制备钛硅靶材的不足,弥补了热等静压、热压烧结等方法制备钛硅靶材成本高等缺点。本发明方法所制备靶材具有成分配比灵活、成分均匀、无偏析、晶粒组织细小、成品率高和低成本的优点,是较适宜的大规模化生产钛硅靶材的工艺方法。
本发明通过至少两步真空自耗熔炼,一步真空自耗熔炼可得到一次锭,初步得到成分和冶金质量一般的铸锭,二步真空自耗熔炼可得到二次锭,进一步提高了铸锭的成分均一性和冶金质量。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1为本发明制备得到的靶材成品;其中,图1a为本发明实施例1制备的靶材;图1b为本发明实施例2制备的靶材;图1c为本发明实施例3制备的靶材;
图2为本发明实施例2制备的12.5%靶材微观组织图片;
图3为本发明实施例3制备的20%靶材微观组织图片。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本发明,但不以任何形式限制本发明。应当指出的是,对本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进。这些都属于本发明的保护范围。
实施例1:
本发明之钛硅合金靶材由以下质量分数的原料制成:海绵钛93.5%,结晶硅6.5%;
所述海绵钛纯度≥99.6%,结晶硅纯度≥99.68%。
本实施例之钛硅合金靶材的制备方法,包括以下步骤:
(1)混料:将海绵钛(粒径尺寸为1mm)与结晶硅(粒径尺寸为2mm)利用三维搅拌机均匀混合,混料时间为5min;
(2)电极压制:利用630吨液压机将混合均匀的原料压制成直径35×45×380mm电极棒,每支电极棒2.5kg;在90℃烘箱内保温3.5h。
(3)一次自耗熔炼:利用氩弧焊机在保护性气氛下,将步骤(2)中适量数量的电极棒按首尾相接的方式焊接在一起,然后在10kg真空自耗电弧炉中进行,当真空度达到2×10-1Pa起弧,电流1.7kA,稳弧控制在2 A,熔炼速度7mm/s,冷却90min出炉,冷却水流量30m3/h,得到直径80mm的钛硅合金一次锭;
(4)平头:使用C616型普通车床将步骤(3)中的所有钛硅合金一次锭两端平头,待用;
(5)焊接:利用真空电子束焊接技术,将步骤(4)中的若干钛硅合金一次锭分成几组,按照一定的分布组合方式将几组钛硅合金一次锭焊接在一起。真空度<10-2Pa,电子束加速电压100kV;
(6)二次自耗熔炼:将步骤(5)中焊接好的钛硅合金一次锭安装在150kg真空自耗电弧炉进行第二次熔炼,真空度达到1.8×10-1Pa起弧,电流3.0kA,熔炼速度1.3mm/s,补缩电流1.0kA,补缩时间5min,冷却至150min出炉,冷却水流量35m3/h,得到直径120mm的钛硅合金二次锭。
本实施例制备得到的钛硅合金二次锭的硅含量为6.45%,其致密度为99.0%,组织和成分均匀,无偏析现象,原材料成品率为98%。根据用户需要,采用钛硅合金铸锭机加工即可得到最终的钛硅合金靶材,如图1a所示。
实施例2:
本发明之钛硅合金靶材由以下原子百分比的原料制成:海绵钛钛87.5%,结晶硅12.5%;
所述海绵钛纯度≥99.6%,结晶硅纯度≥99.68%。
本实施例之钛硅合金靶材的制备方法,包括以下步骤:
(1)混料:将海绵钛(粒径尺寸为10mm)与结晶硅(尺寸为6mm)利用三维搅拌机均匀混合,混料时间为8min;
(2)电极压制:利用630吨液压机将混合均匀的原料压制成直径35×50×380mm电极棒,每支电极棒2.8kg;在100℃烘箱内保温4h。
(3)一次自耗熔炼:利用氩弧焊机在保护性气氛下,将步骤(2)中适量数量的电极棒按首尾相接的方式焊接在一起,然后在150kg真空自耗电弧炉进行,真空度达到2.5×10- 1Pa起弧,电流1.8kA,稳弧控制在4 A,熔炼速度8mm/s,冷却至120min出炉,冷却水流量35m3/h,得到直径120mm的钛硅合金一次锭;
(4)平头:使用CS816型普通车床将步骤(3)中的所有钛硅合金一次合金锭平头,待用;
(5)焊接:利用真空电子束焊接技术,将步骤(4)中的若干钛硅合金一次锭分成几组,按照一定的分布组合方式将几组钛硅合金一次锭焊接在一起。真空度<10-2Pa,电子束加速电压140kV;
(6)二次自耗熔炼:将步骤(5)中焊接好的钛硅合金一次锭在150kg真空自耗电弧炉进行第二次熔炼,真空度达到1.7×10-1Pa起弧,电流3.5kA,熔炼速度1.2mm/s,补缩电流1.2kA,补缩时间7min,冷却至180min出炉,冷却水流量45m3/h,得到直径170mm钛硅合金二锭。
本实施例制备得到的钛硅合金二次锭的硅含量为12.45%,其致密度为99.5%,组织和成分均匀,无偏析现象,原材料成品率为97%。根据用户需要,采用钛硅合金铸锭机加工即可得到最终的钛硅合金靶材,如图1b和图2所示。
实施例3:
本发明之钛硅合金靶材由以下原子百分比的原料制成:海绵钛钛80%,结晶硅20%;
所述海绵钛纯度≥99.6%,结晶硅纯度≥99.68%。
本实施例之钛硅合金靶材的制备方法,包括以下步骤:
(1)混料:将海绵钛(粒径尺寸为8mm)与结晶硅(尺寸为6mm)利用三维搅拌机均匀混合,混料时间为10min;
(2)电极压制:利用630吨液压机将混合均匀的原料压制成直径35×60×380mm电极棒,每支电极棒4.5kg;在110℃烘箱内保温6h。
(3)一次自耗熔炼:利用氩弧焊机在保护性气氛下,将步骤(2)中适量数量的电极棒按首尾相接的方式焊接在一起,然后在10kg真空自耗电弧炉进行,真空度达到4.0×10- 1Pa起弧,电流2.6kA,稳弧控制在6A,熔炼速度6mm/s,冷却至180min出炉,冷却水流量30m3/h,得到直径80mm的钛硅合金一次锭;
(4)平头:使用CS816型普通车床将步骤(3)中的所有钛硅合金一次锭平头;待用。
(5)焊接:利用真空电子束焊接技术,将步骤(4)中的若干钛硅合金一次锭分成几组,按照一定的分布组合方式将几组钛硅合金一次锭焊接在一起。真空度<10-2Pa,电子束加速电压120kV;
(6)二次自耗熔炼:将步骤(5)中焊接好的钛硅合金一次锭在150kg真空自耗电弧炉进行第二次熔炼,真空度达到1.1×10-1Pa起弧,电流4.5kA,熔炼速度2.8mm/s,补缩电流1.5kA,补缩时间20min,冷却至200min出炉,冷却水流量45m3/h,得到直径170mm钛硅合金二锭。
(7)平头:使用CS816型普通车床将步骤(6)中所有钛硅合金二次锭平头,待用;
(8)焊接:利用真空电子束焊接技术,将步骤(7)中的若干钛硅合金二次锭分成几组,按照一定的分布组合方式将几组一次锭焊接在一起。真空度<10-2Pa,电子束加速电压150kV;
(9)三次自耗熔炼:将步骤(8)中焊接好的钛硅合金二次锭在150kg真空自耗电弧炉进行第三次熔炼,真空度达到1.0×10-1Pa起弧,电流4.7kA,熔炼速度1.5mm/s,补缩电流1.5kA,补缩时间30min,冷却至210min出炉,冷却水流量50m3/h,得到直径230mm钛硅合金三次锭。
本实施例制备得到的钛硅合金三次锭的硅含量为19.96%,其致密度为99.8%,组织和成分均匀,无偏析现象,原材料成品率为96%。根据用户需要,采用钛硅合金铸锭机加工即可得到最终的钛硅合金靶材,如图1c和图3所示。
对比例1
本对比例与实施例1的制备方法基本相同,不同之处仅在于:将一次自耗熔炼的参数条件与二次自耗熔炼的参数条件对换,即具体为本发明的步骤(3)一次自耗熔炼中,采用的参数为真空度达到1.8×10-1Pa起弧,电流3.0kA,熔炼速度1.3mm/s;本发明的步骤(6)二次自耗熔炼中,采用的参数为真空度达到2×10-1Pa起弧,电流1.7kA,熔炼速度7mm/s。
本对比例制备得到的钛硅合金二次锭的硅含量为6.48%,其致密度为99.5%,组织和成分均匀,无偏析现象。
以上对本发明的具体实施例进行了描述。需要理解的是,本发明并不局限于上述特定实施方式,本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变化或修改,这并不影响本发明的实质内容。在不冲突的情况下,本申请的实施例和实施例中的特征可以任意相互组合。
Claims (10)
1.一种钛硅合金靶材的低成本制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
A、混料:将海绵钛与结晶硅按比例均匀混合;
B、电极压制:将步骤A混合好的原料压制成电极棒,再将电极棒进行加热;
C、一次自耗熔炼:在保护性气氛下,将步骤B加热后的电极棒按首尾相接的方式焊接在一起,然后进行第一次真空自耗熔炼,得到钛硅合金一次锭;
D、焊接:将步骤C得到的钛硅合金一次锭的两端平头后,利用真空电子束焊接技术将钛硅合金一次锭组合后焊接,得电极料;
E、二次自耗熔炼:将步骤D得到的电极料进行第二次真空自耗熔炼,得到钛硅合金二次锭;
F、将步骤E得到的钛硅合金二次锭进行加工即得最终的钛硅靶材。
2.根据权利要求1所述的钛硅合金靶材的低成本制备方法,其特征在于,步骤A中,所述海绵钛纯度≥99.6%,其粒径尺寸为0.83~25.4mm;结晶硅纯度≥99.8%,其粒径尺寸为2~8mm。
3.根据权利要求1所述的钛硅合金靶材的低成本制备方法,其特征在于,步骤A中,由下述质量百分比的原材料制备:海绵钛85%~97.5%,结晶硅2.5%~25%;
所述混合时间为5~10min。
4.根据权利要求1所述的钛硅合金靶材的低成本制备方法,其特征在于,步骤B中,所述压制成的电极棒尺寸为35×(45~60)×(350~400)mm,重量为2.2~4.5kg;
所述电极棒的加热温度80~110℃,加热时间≥3.5h。
5.根据权利要求1所述的钛硅合金靶材的低成本制备方法,其特征在于,步骤C中,所述第一次真空自耗熔炼的具体步骤如下:
在10kg或150kg真空自耗电弧炉进行,真空度达到5×10-1~5×10-2Pa时起弧熔炼,熔炼电流1.4~2.6kA,稳弧控制在2~6A,熔炼速度6~12mm/s,冷却至一定时间出炉,得到直径80mm或120mm的钛硅合金一次锭。
6.根据权利要求1所述的钛硅合金靶材的低成本制备方法,其特征在于,步骤D中,所述真空电子束焊接技术中,焊接时的真空度<10-2Pa,电子束加速电压90~150kV。
7.根据权利要求1所述的钛硅合金靶材的低成本制备方法,其特征在于,步骤E中,所述第二次真空自耗熔炼的具体步骤如下:
在150kg真空自耗电弧炉进行,当真空度达到3×10-1~5×10-2Pa时起弧熔炼,熔炼电流2.8~5.2kA,熔炼速度1.2~3.5mm/s,补缩电流0.8~1.5kA,补缩时间不少于5min,冷却至一定时间出炉,得到直径120mm或170mm的钛硅合金二次锭。
8.根据权利要求1所述的钛硅合金靶材的低成本制备方法,其特征在于,所述方法还包括在步骤E后,将钛硅合金二次锭重复步骤D和E的处理,得到钛硅合金三次锭。
9.根据权利要求8所述的钛硅合金靶材的低成本制备方法,其特征在于,所述钛硅合金三次锭为170mm或230mm的钛硅合金三次锭。
10.根据权利要求5或7所述的钛硅合金靶材的低成本制备方法,其特征在于,所述冷却时间为90~240min,采用的循环冷却水流量为30~50m3/h。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910568170.2A CN110257783B (zh) | 2019-06-27 | 2019-06-27 | 一种钛硅合金靶材的低成本制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910568170.2A CN110257783B (zh) | 2019-06-27 | 2019-06-27 | 一种钛硅合金靶材的低成本制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110257783A true CN110257783A (zh) | 2019-09-20 |
CN110257783B CN110257783B (zh) | 2020-12-01 |
Family
ID=67922360
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910568170.2A Active CN110257783B (zh) | 2019-06-27 | 2019-06-27 | 一种钛硅合金靶材的低成本制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110257783B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112496333A (zh) * | 2020-11-26 | 2021-03-16 | 大连理工大学 | 一种Si-Ti合金纳米粉体的制备方法及应用 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1370853A (zh) * | 2001-02-23 | 2002-09-25 | 光洋应用材料科技股份有限公司 | 金属溅镀靶材的制造方法 |
TW200643197A (en) * | 2005-06-02 | 2006-12-16 | Csist | Sputtering target of magnetic recording medium and its fabrication |
RU2392685C1 (ru) * | 2009-07-17 | 2010-06-20 | Вадим Георгиевич Глебовский | Распыляемые мишени из высокочистых сплавов на основе переходных металлов и способ их производства |
RU2010122531A (ru) * | 2010-06-03 | 2011-12-10 | Учреждение Российской академии наук ИНСТИТУТ ФИЗИКИ ТВЕРДОГО ТЕЛА РАН (ИФТТ РАН) (RU) | Способ получения составной мишени для распыления из сплава вольфрам-титан-кремний |
CN102312111A (zh) * | 2011-09-07 | 2012-01-11 | 上海交通大学 | 采用真空自耗电弧炉熔炼TiAl合金的方法 |
CN102699325A (zh) * | 2012-06-20 | 2012-10-03 | 江苏美特林科特殊合金有限公司 | 一种钛硅合金靶材的制造方法 |
-
2019
- 2019-06-27 CN CN201910568170.2A patent/CN110257783B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1370853A (zh) * | 2001-02-23 | 2002-09-25 | 光洋应用材料科技股份有限公司 | 金属溅镀靶材的制造方法 |
TW200643197A (en) * | 2005-06-02 | 2006-12-16 | Csist | Sputtering target of magnetic recording medium and its fabrication |
RU2392685C1 (ru) * | 2009-07-17 | 2010-06-20 | Вадим Георгиевич Глебовский | Распыляемые мишени из высокочистых сплавов на основе переходных металлов и способ их производства |
RU2010122531A (ru) * | 2010-06-03 | 2011-12-10 | Учреждение Российской академии наук ИНСТИТУТ ФИЗИКИ ТВЕРДОГО ТЕЛА РАН (ИФТТ РАН) (RU) | Способ получения составной мишени для распыления из сплава вольфрам-титан-кремний |
CN102312111A (zh) * | 2011-09-07 | 2012-01-11 | 上海交通大学 | 采用真空自耗电弧炉熔炼TiAl合金的方法 |
CN102699325A (zh) * | 2012-06-20 | 2012-10-03 | 江苏美特林科特殊合金有限公司 | 一种钛硅合金靶材的制造方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
王惠等: "《金属材料冶炼工艺学》", 31 May 1995, 冶金工业出版社 * |
马宏声等: "《钛及难熔金属真空熔炼》", 31 December 2012, 中南大学出版社 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112496333A (zh) * | 2020-11-26 | 2021-03-16 | 大连理工大学 | 一种Si-Ti合金纳米粉体的制备方法及应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110257783B (zh) | 2020-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110004312B (zh) | 一种镍基高温合金gh4698大规格铸锭的三联冶炼工艺 | |
CN105950947B (zh) | 用于3d打印的富铁高熵合金粉体材料及其制备方法 | |
CN109234690B (zh) | 一种含铝和硼元素的高熵合金靶材及其制备工艺 | |
CN110125383B (zh) | 高纯铁铬铝合金粉末的制造方法 | |
CN110453085B (zh) | 电渣重熔含B型9Cr耐热钢用渣系、制备方法和使用方法 | |
CN105648407B (zh) | 一种高致密度钼铌合金靶材及其制备工艺 | |
TWI471442B (zh) | Cu-Ga alloy powder, Cu-Ga alloy powder, and Cu-Ga alloy sputtering target manufacturing method and Cu-Ga alloy sputtering target | |
CN102719682B (zh) | Gh901合金的冶炼方法 | |
CN103757514A (zh) | 一种高熵AlCoCrFeNiCuC合金及其制备方法 | |
CN113020598B (zh) | 一种选区激光熔化成形镍基高温合金及其制备方法 | |
CN102449176A (zh) | 生产β-γ-TiAl基合金的方法 | |
CN110218910A (zh) | 一种新型粉末高温合金及其制备方法 | |
CN110484886A (zh) | 一种含微量稀土元素的镍铼合金旋转管状靶材及制备方法 | |
CN112725658B (zh) | 一种钛铝合金靶材的制备方法 | |
CN112030013A (zh) | 一种锆钇合金靶材的制备方法 | |
CN104789817A (zh) | 发动机涡轮用ods高温合金材料及其制备方法 | |
CN105618723B (zh) | 一种基于惰性气氛的钛合金自耗电极凝壳熔炼铸造工艺 | |
CN101914697B (zh) | 一种银镁镍合金坯锭的制备方法 | |
CN110257783A (zh) | 一种钛硅合金靶材的低成本制备方法 | |
CN111101043B (zh) | 一种激光增材制造的CrMoVNbAl高熵合金及其成形工艺 | |
CN107245606A (zh) | 一种钛镍合金大型铸锭的制备方法 | |
CN108950273A (zh) | 一种中间合金及其制备方法和应用 | |
CN111945023A (zh) | 一种钛及钛合金铸锭的真空感应熔炼方法 | |
CN104018016B (zh) | 一种制备CoCrAlYSi合金靶材的方法 | |
CN115007869A (zh) | 一种服役温度为850℃的粉末冶金用钛铝粉末的制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20210924 Address after: 014020 entrepreneurship Park C-12, rare earth high tech Zone, Baotou City, Inner Mongolia Autonomous Region Patentee after: Shanghai Jiaotong University Baotou Materials Research Institute Patentee after: SHANGHAI JIAO TONG University Address before: 200240 No. 800, Dongchuan Road, Shanghai, Minhang District Patentee before: SHANGHAI JIAO TONG University |
|
TR01 | Transfer of patent right |