CN110221474A - 彩膜基板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

一种用于液晶显示面板的彩膜基板,包括透明基体层、黑矩阵层、彩膜层、导电层及隔垫层。黑矩阵层设于透明基体层上,并包括多个相互间隔的中空区。彩膜层包括多个相互间隔设置的色阻块,其分别覆盖于所述黑矩阵层的多个中空区,且相邻的色阻块之间具有间隙。导电层设于彩膜层上。隔垫层包括多个隔垫元件。每一所述隔垫元件的部分设于彩膜层的间隙内,而另一部分叠设于对应的多个色阻块的导电层上。

Description

彩膜基板及其制作方法
【技术领域】
本申请涉及显示技术领域,特别是涉及一种彩膜基板及其制作方法。
【背景技术】
在液晶显示面板的生产工艺中,彩膜基板面向阵列基板一侧的表面形成有多个隔垫物(post spacer,PS),用以将彩膜基板与阵列基板隔开,进行成盒并填充液晶,进而完成该液晶显示器的制作。
该些隔垫物分别与该阵列基板和该彩膜基板相接触,用于支撑该阵列基板和该彩膜基板,使得该阵列基板和该彩膜基板之间形成空间,液晶位于该空间内。然而,传统液晶显示面板的表面受到外力挤压时,位于该阵列基板和该彩膜基板之间的隔垫物会在外力的作用下移动,使得隔垫物脱离预设位置。当背光源发出的光打在液晶显示器上时,由于隔垫物的位置与预设位置不同,因此,液晶显示器的表面会出现条纹,影响显示效果。
【发明内容】
本申请的目的在于提供一种彩膜基板,其具有不易偏移及脱落的隔垫结构,用以稳固地支撑于相应设置的阵列基板上,并形成容置液晶层的空间。
为实现上述目的,本申请提供一种彩膜基板,用于液晶显示面板,其特征在于,所述彩膜基板包括:透明基体层;黑矩阵层,设于所述透明基体层上,并包括多个相互间隔的中空区;彩膜层,包括多个相互间隔设置的色阻块,其分别覆盖于所述黑矩阵层的多个中空区,且相邻的所述色阻块之间具有间隙;导电层,设于所述彩膜层上;以及隔垫层,包括多个隔垫元件,其中每一所述隔垫元件的部分设于所述彩膜层的间隙内,而另一部分叠设于对应的多个所述色阻块的导电层上。
本申请另外提供一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:在透明基体层上形成黑矩阵层,并通过光刻工艺在所述黑矩阵层形成多个相互间隔的中空区;在所述透明基体层上形成彩膜层,其包括多个相互间隔设置的色阻块,且所述多个色阻块分别覆盖于所述黑矩阵层的多个中空区,其中相邻的所述色阻块之间形成有间隙;在所述彩膜层上形成导电层;在所述透明基体层上涂布光阻层,使所述光阻层的部分填充于所述彩膜层的间隙内,而另一部分覆盖于所述多个色阻块的导电层上;以及通过包括曝光及显影的光刻工艺及烘烤制程,使所述光阻层形成多个隔垫元件,其中每一所述隔垫元件的部分填满于所述间隙内,而另一部分叠设于对应的多个所述色阻块的导电层上。
根据本申请的一实施例,所述黑矩阵层包括多个光阻条,其相互交错设置,且其内设有所述多个中空区,其中每一所述色阻块包括唇部,其叠设于所述黑矩阵层的光阻条上。
根据本申请的另一实施例,每一所述色阻块的唇部在断面上叠设于所述光阻条的的全部范围,小于所对应的光阻条在断面上的宽度。
根据本申请的另一实施例,所述色阻块的唇部沿所述色阻块的周围设置,其中相邻所述色阻块之间的所述间隙具有5微米-40微米的宽度。
根据本申请的另一实施例,所述色阻块的唇部为半色调光罩所制,其中所述唇部具有斜边或弧形边。
根据本申请的另一实施例,每一所述隔垫元件包括根部及外露部,其中所述根部填满于所述间隙内,所述外露部显露于所述间隙外,并叠设于对应的多个所述色阻块的导电层上,且所述外露部相邻于所述导电层的一面的宽度,大于所述外露部远离所述导电层的一面的宽度。
本申请的彩膜基板及彩膜基板的制作方法,通过所述多个色阻块之间的间隙,使所述隔垫元件可稳固地定位于所述黑矩阵层上所对应的间隙,且所述隔垫元件更通过向外突出的外露部与所述多个色阻块的交叠,进一步增加所述隔垫元件相应于所述多个色阻块上的导电层的接触面积,提高附着力。此外,所述多个色阻块的唇部和所述黑矩阵层的交叠设置,可大幅提升所述彩膜基板在横向的结构强度,并进一步强化所述黑矩阵层在纵向的结构强度。因此,通过所述隔垫元件及所述多个色阻块的结构,本申请的彩膜基板可以有效地避免外力造成隔垫元件的位置偏移,防止彩膜基板移动,进而提高显示效果,解决传统隔垫物无法稳固支撑于阵列基板上,而造成显示不良的问题。
【附图说明】
图1为根据本申请的一实施例的彩膜基板的平面示意图。
图2为根据本申请所述实施例的彩膜基板的部分剖面结构示意图。
图3为根据本申请所述实施例的彩膜基板的另一部分的结构示意图。
图3A为图3的彩膜基板的剖面结构示意图。
图4为根据本申请所述实施例的彩膜基板的另一部分的剖面结构示意图。
图5为根据本申请所述实施例的彩膜基板的剖面结构示意图。
图6为根据本申请另一实施例的彩膜基板的剖面结构示意图。
图7为根据本申请的彩膜基板的制作方法的流程图。
【具体实施方式】
以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本申请,而非用以限制本申请。
本申请为一种液晶显示面板的彩膜基板,其中所述液晶显示面板具有多个像素单元,且每一像素单元具有一般像素单元的结构,亦即,每一像素单元包括红色子像素、绿色子像素及蓝色子像素。图1为根据本申请的一实施例的彩膜基板的平面示意图。图2至图4分别为根据本申请一实施例的彩膜基板的部分剖面结构示意图,亦可作为本申请彩膜基板的制作流程说明。如图1所示,本申请的彩膜基板1包括透明基体层2、黑矩阵层3、彩膜层4、导电层5及隔垫层6。所述透明基体层2为玻璃材质所制,并对应所述液晶显示面板的阵列基板(未图示)设置。
请参阅图2配合图1观之。本申请的黑矩阵层3设于所述基体层2上,并包括多个相互间隔的中空区30。具体而言,所述黑矩阵层3包括多个光阻条31,其为光阻材料所制,且相互交错设置。亦即,所述多个光阻条31以横向及纵向交错设置,使所述多个光阻条31之间形成有所述多个中空区30,其对应所述子像素区设置。
请参阅图3及图3A,其中图3A为图3的彩膜基板的剖面结构示意图。如图3所示,所述彩膜层4包括多个相互间隔设置的色阻块41及42,其为透光材料所制,并分别覆盖于所述黑矩阵层3的多个中空区30,其中所述多个色阻块41及42包括红色、绿色及蓝色的色阻块,其作用在使液晶显示器的背光模组(未图示)发出的光,能透过所述彩膜层4呈现对应的颜色。特别说明的是,每一所述色阻块41及42的面积大于相应的所述中空区30的面积,使相邻的所述色阻块41及42之间形成间隙40(如图3A所示)。亦即,每一所述色阻块41的四周围与相邻色阻块42的周围都具有所述间隙40。如图3A所示,每一所述色阻块41及42包括唇部43,其叠设于所述黑矩阵层3的光阻条31上。具体而言,每一所述色阻块41的唇部43在断面上叠设于所述光阻条31的的全部范围,小于所对应的光阻条31在断面上的宽度。亦即,所述色阻块41及相邻的色阻块42覆盖在同一光阻条31上的全部范围(即所述唇部43),小于所述光阻条31在断面上的宽度。于此实施例中,所述色阻块41及42的唇部43分别沿所述色阻块41及42的周围设置,其中相邻所述色阻块41及42之间的间隙40具有5微米-40微米的宽度。
续请参阅图3A。在形成所述彩膜层4后,进一步在所述彩膜层4上设置导电层5,其由氧化铟锡所制,作为金属电极使用,并通过电压施加于液晶粒子。
请参阅图4及图5。本申请的彩膜基板1更在所述透明基体层2涂布光层层,用以形成所述隔垫层6(如图4所示),其通过光刻工艺及烘烤制程形成多个隔垫元件61(如图5所示)。每一所述隔垫元件61的部分设于所述彩膜层4的间隙40内,而另一部分叠设于对应的多个所述色阻块41及42的导电层5上。具体而言,每一所述隔垫元61包括根部611及外露部612,其中所述根部611填满于所述间隙40内,而所述外露部612显露于所述间隙40外,并叠设于对应的多个所述色阻块41及42的导电层5上。于此实施例中,所述外露部612相邻于所述导电层5的一面的宽度,大于所述外露部612远离所述导电层5的一面的宽度。亦即,所述隔垫元件61的外露部612的径向宽度向所述根部611外逐渐延伸,使所述外露部612具有近似锥状构型。
图6为根据本申请另一实施例的彩膜基板的剖面结构示意图。图6所述为本申请的彩膜层4及隔垫层5的另一种结构。于此实施例中,所述色阻块41及42的唇部43通过半色调光罩所制,用以控制所述色阻块41及42及所述黑矩阵层3交叠处的厚度,其亦即所述唇部43的厚度。于此实施例中,所述唇部43可具有斜边431或弧形边,其中所述隔垫元件61的根部611对应所述唇部43的构型设置,并填满于所述间隙40内。藉由前述构造,可增加所述根部611与所述色阻块41及42的接触面积,从而稳固述隔垫元件61于所述间隙40。
如前所述,本申请彩膜基板1通过所述多个色阻块41及42之间的间隙40,使所述隔垫元件61稳固地定位于所述黑矩阵层3上所对应的间隙40,并支撑于相应的阵列基板。此外,所述隔垫元件61更通过其向外突出的边缘叠设于所述多个色阻块41及42上,进一步增加所述隔垫元件61相应于所述多个色阻块41及42上的导电层5的接触面积,提高附着力,避免外力造成所述隔垫元件61的移动。
图7为根据本申请的彩膜基板的制作方法的流程图。本申请另外提供一种彩膜基板的制作方法,包括步骤S 10-S60,其说明如下:
步骤S 10:在透明基体层上形成黑矩阵层,并通过光刻工艺在所述黑矩阵层形成多个相互间隔的中空区。
步骤S20:在所述透明基体层上形成彩膜层,其包括多个相互间隔设置的色阻块,且所述多个色阻块分别覆盖于所述黑矩阵层的多个中空区,其中相邻的所述色阻块之间形成有间隙。
步骤S30:在所述彩膜层上形成导电层。
步骤S40:在所述透明基体层上涂布光阻层,使所述光阻层的部分填充于所述彩膜层的间隙内,而另一部分覆盖于所述多个色阻块的导电层上。
步骤S50:通过包括曝光及显影的光刻工艺及烘烤制程,使所述光阻层形成多个隔垫元件,其中每一所述隔垫元件的部分填满于所述间隙内,而另一部分叠设于对应的多个所述色阻块的导电层上。
在本申请所述彩膜基板的制作方法中,有关所述彩膜基板的详细构造元件与前述实施例所述的彩膜基板相同,于此不再复述。
本申请的彩膜基板及彩膜基板的制作方法,通过所述多个色阻块之间的间隙,使所述隔垫元件可稳固地定位于所述黑矩阵层上所对应的间隙,且所述隔垫元件更通过向外突出的外露部与所述多个色阻块的交叠,进一步增加所述隔垫元件相应于所述多个色阻块上的导电层的接触面积,提高附着力。此外,所述多个色阻块的唇部和所述黑矩阵层的交叠设置,可大幅提升所述彩膜基板在横向的结构强度,并进一步强化所述黑矩阵层在纵向的结构强度。因此,通过所述隔垫元件及所述多个色阻块的结构,本申请的彩膜基板可以有效地避免外力造成隔垫元件的位置偏移,防止彩膜基板移动,进而提高显示效果,解决传统隔垫物无法稳固支撑于阵列基板上,而造成显示不良的问题。
综上所述,虽然本申请已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本申请,本领域的普通技术人员,在不脱离本申请的范围内,均可作各种更动与润饰,因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种彩膜基板,用于液晶显示面板,其特征在于,所述彩膜基板包括:
透明基体层;
黑矩阵层,设于所述透明基体层上,并包括多个相互间隔的中空区;
彩膜层,包括多个相互间隔设置的色阻块,其分别覆盖于所述黑矩阵层的多个中空区,且相邻的所述色阻块之间具有间隙;
导电层,设于所述彩膜层上;以及
隔垫层,包括多个隔垫元件,其中每一所述隔垫元件的部分设于所述彩膜层的间隙内,而另一部分叠设于对应的多个所述色阻块的导电层上。
2.如权利要求1的彩膜基板,其特征在于,所述黑矩阵层包括多个光阻条,其相互交错设置,且其内设有所述多个中空区,其中每一色阻块包括唇部,其叠设于所述黑矩阵层的光阻条上。
3.如权利要求2的彩膜基板,其特征在于,每一所述色阻块的唇部在断面上叠设于所述光阻条的的全部范围,小于所对应的光阻条在断面上的宽度。
4.如权利要求2的彩膜基板,其特征在于,所述色阻块的唇部沿所述色阻块的周围设置,其中相邻所述色阻块之间的所述间隙具有5微米-40微米的宽度。
5.如权利要求2的彩膜基板,其特征在于,所述色阻块的唇部为半色调光罩所制,其中所述唇部具有斜边或弧形边。
6.如权利要求1的彩膜基板,其特征在于,每一所述隔垫元件包括根部及外露部,其中所述根部填满于所述间隙内,所述外露部显露于所述间隙外,并叠设于对应的多个所述色阻块的导电层上,且所述外露部相邻于所述导电层的一面的宽度,大于所述外露部远离所述导电层的一面的宽度。
7.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:
在透明基体层上形成黑矩阵层,并通过光刻工艺在所述黑矩阵层形成多个相互间隔的中空区;
在所述透明基体层上形成彩膜层,其包括多个相互间隔设置的色阻块,且所述多个色阻块分别覆盖于所述黑矩阵层的多个中空区,其中相邻的所述色阻块之间形成有间隙;
在所述彩膜层上形成导电层;
在所述透明基体层上涂布光阻层,使所述光阻层的部分填充于所述彩膜层的间隙内,而另一部分覆盖于所述多个色阻块的导电层上;以及
通过包括曝光及显影的光刻工艺及烘烤制程,使所述光阻层形成多个隔垫元件,其中每一所述隔垫元件的部分填满于所述间隙内,而另一部分叠设于对应的多个所述色阻块的导电层上。
8.如权利要求7的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述黑矩阵层包括多个光阻条,其相互交错设置,且其内设有所述多个中空区,其中每一色阻块包括唇部,其叠设于所述黑矩阵层的光阻条上。
9.如权利要求8的彩膜基板的制作方法,其特征在于,每一所述色阻块的唇部在断面上叠设于所述光阻条的的全部范围,小于所对应的光阻条在断面上的宽度。
10.如权利要求8的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述色阻块的唇部沿所述色阻块的周围设置,其中相邻所述色阻块之间的所述间隙具有5微米-40微米的宽度。
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