CN105116601A - 彩膜基板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板及其制作方法。所述彩膜面板包括：玻璃基板；黑色矩阵层，所述黑色矩阵层设置在所述玻璃基板的第一表面上；色阻层，所述色阻层设置在所述第一表面上，所述色阻层包括红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块；覆盖层，所述覆盖层设置在所述色阻层和所述黑色矩阵层上；间隔层，所述间隔层设置在所述覆盖层上，所述间隔层包括至少一间隔件；其中，所述覆盖层和所述间隔层是在同一道光罩制程中形成的；所述间隔层的材料与所述覆盖层的材料相同。本发明可以使得彩膜基板中的覆盖层和间隔件组合层在同一道光罩制程中形成，节省了彩膜基板的部分制作工序，提高了彩膜基板的制作效率。

Description

彩膜基板及其制作方法
【技术领域】
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板及其制作方法。
【背景技术】
传统的显示面板一般包括彩膜基板、液晶层和薄膜晶体管阵列基板，其中，所述液晶层设置在所述彩膜基板和所述薄膜晶体管阵列基板之间。
传统的彩膜基板的制作过程一般为：
在包括基板、BM(BlackMatrix，黑色矩阵)层以及色阻层的半成品彩膜基板上形成覆盖层，然后再在所述覆盖层上形成间隔件。
在实践中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：
上述传统的彩膜基板的制作工序效率较低。
故，有必要提出一种新的技术方案，以解决上述技术问题。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种彩膜基板及其制作方法，其能节省彩膜基板的部分制作工序，提高彩膜基板的制作效率。
为解决上述问题，本发明的技术方案如下：
一种彩膜面板，所述彩膜面板包括：玻璃基板；黑色矩阵层，所述黑色矩阵层设置在所述玻璃基板的第一表面上；色阻层，所述色阻层设置在所述第一表面上，所述色阻层包括红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块；覆盖层，所述覆盖层设置在所述色阻层和所述黑色矩阵层上；间隔层，所述间隔层设置在所述覆盖层上，所述间隔层包括至少一间隔件；其中，所述覆盖层和所述间隔层是在同一道光罩制程中形成的；所述间隔层的材料与所述覆盖层的材料相同。
在上述彩膜面板中，所述彩膜面板还包括：透明电极层，所述透明电极层设置在所述玻璃基板的第二表面上，所述透明电极层用于在所述彩膜面板与薄膜晶体管阵列面板组合成显示面板后为所述显示面板屏蔽外界电场，其中，所述第二表面背向所述第一表面。
在上述彩膜面板中，所述覆盖层和所述间隔层是通过在所述黑色矩阵层和所述色阻层上涂布覆盖间隔材料层，然后对所述覆盖间隔材料层进行一次所述光罩制程来形成的，其中，所述覆盖间隔材料层具有第一厚度。
在上述彩膜面板中，所述光罩制程所对应的掩模板为半透掩模板；所述半透掩模板包括：至少一第一区域，所述第一区域具有第一穿透率，所述第一区域用于在所述光罩制程中透过第一预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第一区域对应的部位形成所述覆盖层，其中，所述第一预定量与所述第一穿透率对应；以及至少一第二区域，所述第二区域具有第二穿透率，所述第二区域用于在所述光罩制程中透过第二预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第二区域对应的部位形成所述间隔件，其中，所述第二预定量与所述第二穿透率对应。
在上述彩膜面板中，所述色阻层还包括白色色阻块；所述间隔层的材料、所述覆盖层的材料与所述白色色阻块的材料均相同；所述覆盖层、所述间隔层和所述白色色阻块均是在同一道所述光罩制程中形成的。
在上述彩膜面板中，所述覆盖层、所述间隔层和所述白色色阻块是通过在所述玻璃基板、所述黑色矩阵层和所述色阻层上涂布所述覆盖间隔材料层，然后对所述覆盖间隔材料层进行一次所述光罩制程来形成的，其中，所述覆盖间隔材料层具有第二厚度，所述第二厚度大于或等于所述第一厚度。
一种上述彩膜面板的制作方法，所述方法包括以下步骤：A、在所述玻璃基板的所述第一表面上设置所述黑色矩阵层；B、在所述第一表面上设置所述色阻层，所述色阻层包括所述红色色阻块、所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块；C、在所述色阻层和所述黑色矩阵层上涂布覆盖间隔材料层；以及D、对所述覆盖间隔材料层进行一次所述光罩制程，以形成所述覆盖层和所述间隔层。
在上述彩膜面板的制作方法中，所述光罩制程所对应的掩模板为半透掩模板；所述半透掩模板包括：至少一第一区域，所述第一区域具有第一穿透率，所述第一区域用于在所述光罩制程中透过第一预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第一区域对应的部位形成所述覆盖层，其中，所述第一预定量与所述第一穿透率对应；以及至少一第二区域，所述第二区域具有第二穿透率，所述第二区域用于在所述光罩制程中透过第二预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第二区域对应的部位形成所述间隔件，其中，所述第二预定量与所述第二穿透率对应。
在上述彩膜面板的制作方法中，所述色阻层还包括白色色阻块；所述间隔层的材料、所述覆盖层的材料与所述白色色阻块的材料均相同；所述覆盖层、所述间隔层和所述白色色阻块均是在同一道所述光罩制程中形成的。
在上述彩膜面板的制作方法中，所述覆盖层、所述间隔层和所述白色色阻块是通过在所述玻璃基板、所述黑色矩阵层和所述色阻层上涂布所述覆盖间隔材料层，然后对所述覆盖间隔材料层进行一次所述光罩制程来形成的。
相对现有技术，本发明可以使得彩膜基板中的覆盖层和间隔件组合层在同一道光罩制程中形成，节省了彩膜基板的部分制作工序，提高了彩膜基板的制作效率。
为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。
【附图说明】
图1为本发明的彩膜基板的第一实施例的示意图；
图2为本发明的彩膜基板的第二实施例的示意图；
图3为图1或图2中的彩膜基板在光罩制程中所使用的掩模板的示意图；
图4为图3中的掩模板的A-A’截面的示意图；
图5为本发明的彩膜基板的第三实施例的示意图；
图6为本发明的彩膜基板的第三实施例在光罩制程中所使用的掩模版的示意图；
图7为本发明的彩膜基板的制作方法的第一实施例的流程图。
【具体实施方式】
本说明书所使用的词语“实施例”意指实例、示例或例证。此外，本说明书和所附权利要求中所使用的冠词“一”一般地可以被解释为“一个或多个”，除非另外指定或从上下文可以清楚确定单数形式。
参考图1、图3和图4，图1为本发明的彩膜基板的第一实施例的示意图，图3为图1或图2中的彩膜基板在光罩制程中所使用的掩模板的示意图，图4为图3中的掩模板的A-A’截面的示意图。
本实施例的彩膜面板适用于与薄膜晶体管阵列面板组合成显示面板。所述显示面板可以是TFT-LCD(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管液晶显示面板)。所述彩膜面板上不设置共通电极，在这种情况下，包括所述彩膜面板的所述显示面板可例如为IPS(InPanelSwitch)模式的薄膜晶体管液晶显示面板。
本实施例的彩膜面板包括玻璃基板101、黑色矩阵层102、色阻层103、覆盖层104、间隔层105。
所述黑色矩阵层102设置在所述玻璃基板101的第一表面上。所述色阻层103设置在所述第一表面上，所述色阻层103的至少一部分可以设置在所述黑色矩阵层102上，也就是说，所述色阻层103的至少一部分与所述色阻层103重叠，这样有利于防止漏光，所述色阻层103包括红色色阻块1031、绿色色阻块1032和蓝色色阻块1033。所述覆盖层104设置在所述色阻层103和所述黑色矩阵层102上。所述间隔层105设置在所述覆盖层104上，所述间隔层105包括至少一间隔件。其中，所述覆盖层104和所述间隔层105是在同一道光罩制程中形成的。所述间隔层105的材料与所述覆盖层104的材料相同，均可以采用业界常用的间隔层材料制成。
在本实施例中，所述覆盖层104和所述间隔层105是通过在所述黑色矩阵层102和所述色阻层103上涂布覆盖间隔材料层，然后对所述覆盖间隔材料层进行一次所述光罩制程来形成的，其中，所述覆盖间隔材料层具有第一厚度H1。
在本实施例中，所述光罩制程所对应的掩模板为如图3所示的半透掩模板301。
所述半透掩模板301包括第一区域3011和第二区域3012。
所述第一区域3011具有第一穿透率，所述第一区域3011用于在所述光罩制程中透过第一预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第一区域3011对应的部位形成所述覆盖层104，其中，所述第一预定量与所述第一穿透率对应。
所述第二区域3012具有第二穿透率，所述第二区域3012用于在所述光罩制程中透过第二预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第二区域3012对应的部位形成所述间隔件，其中，所述第二预定量与所述第二穿透率对应。
通过上述技术方案，可以使得所述覆盖层104和所述间隔件层105在同一道光罩制程中形成，节省了所述彩膜基板的部分制作工序，提高了所述彩膜基板的制作效率。
参考图2，图2为本发明的彩膜基板的第二实施例的示意图。
本实施例与上述第一实施例相似，不同之处在于：
在本实施例中，所述彩膜面板还包括透明电极层201。
所述透明电极层201设置在所述玻璃基板101的第二表面上，所述透明电极层201用于在所述彩膜面板与薄膜晶体管阵列面板组合成显示面板后为所述显示面板屏蔽外界电场，其中，所述第二表面背向所述第一表面。
参考图5，图5为本发明的彩膜基板的第三实施例的示意图。本实施例与上述第一实施例或第二实施例相似，不同之处在于：
在本实施例中，所述色阻层103还包括白色色阻块1034。
所述间隔层105的材料、所述覆盖层104的材料与所述白色色阻块1034的材料均相同，均可以采用业界常用的间隔层材料制成。
所述覆盖层104、所述间隔层105和所述白色色阻块1034均是在同一道所述光罩制程中形成的。
在本实施例中，所述覆盖层104、所述间隔层105和所述白色色阻块1034是通过在所述玻璃基板101、所述黑色矩阵层102和所述色阻层103(红色色阻块1031、绿色色阻块1032和蓝色色阻块1033)上涂布所述覆盖间隔材料层，然后对所述覆盖间隔材料层进行一次所述光罩制程来形成的，其中，所述覆盖间隔材料层具有第二厚度H2，所述第二厚度H2大于或等于所述第一厚度H1。
作为一种改进，在本实施例中，所述半透掩模板还可以包括第三区域3013，如图6所示。所述第三区域3013具有第三穿透率，所述第三区域3013用于在所述光罩制程中透过第三预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第三区域3013对应的部位形成所述白色色阻块1034，其中，所述第三预定量与所述第三穿透率对应。
参考图7，图7为本发明的彩膜基板的制作方法的第一实施例的流程图。
本实施例的彩膜面板的制作方法包括以下步骤：
A(步骤701)、在所述玻璃基板101的所述第一表面上设置所述黑色矩阵层102；
B(步骤702)、在所述第一表面上设置所述色阻层103，所述色阻层103包括所述红色色阻块1031、所述绿色色阻块1032和所述蓝色色阻块1033；
C(步骤703)、在所述色阻层103和所述黑色矩阵层102上涂布覆盖间隔材料层；以及
D(步骤704)、对所述覆盖间隔材料层进行一次所述光罩制程，以形成所述覆盖层104和所述间隔层105。
在本实施例中，所述覆盖间隔材料层具有第一厚度H1。
在本实施例中，所述光罩制程所对应的掩模板为半透掩模板301；
所述半透掩模板301包括第一区域3011和第二区域3012。
所述第一区域3011具有第一穿透率，所述第一区域3011用于在所述光罩制程中透过第一预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第一区域3011对应的部位形成所述覆盖层104，其中，所述第一预定量与所述第一穿透率对应。
所述第二区域3012具有第二穿透率，所述第二区域3012用于在所述光罩制程中透过第二预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第二区域3012对应的部位形成所述间隔件，其中，所述第二预定量与所述第二穿透率对应。
通过上述技术方案，可以使得所述覆盖层104和所述间隔件层105在同一道光罩制程中形成，节省了所述彩膜基板的部分制作工序，提高了所述彩膜基板的制作效率。
本发明的彩膜基板的制作方法的第二实施例与上述第一实施例相似，不同之处在于：
所述方法还包括以下步骤：
在所述玻璃基板101的第二表面上设置所述透明电极层201，所述透明电极层201用于在所述彩膜面板与薄膜晶体管阵列面板组合成显示面板后为所述显示面板屏蔽外界电场，其中，所述第二表面背向所述第一表面。
本发明的彩膜基板的制作方法的第三实施例与上述第一实施例或第二实施例相似，不同之处在于：
在本实施例中，所述色阻层103还包括白色色阻块1034。
所述间隔层105的材料、所述覆盖层104的材料与所述白色色阻块1034的材料均相同。
所述覆盖层104、所述间隔层105和所述白色色阻块1034均是在同一道所述光罩制程中形成的。
在本实施例中，所述覆盖层104、所述间隔层105和所述白色色阻块1034是通过在所述玻璃基板101、所述黑色矩阵层102和所述色阻层103上涂布所述覆盖间隔材料层，然后对所述覆盖间隔材料层进行一次所述光罩制程来形成的，其中，所述覆盖间隔材料层具有第二厚度H2，所述第二厚度H2大于或等于所述第一厚度H1。
作为一种改进，在本实施例中，所述半透掩模板还可以包括第三区域3013。所述第三区域3013具有第三穿透率，所述第三区域3013用于在所述光罩制程中透过第三预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第三区域3013对应的部位形成所述白色色阻块1034，其中，所述第三预定量与所述第三穿透率对应。
尽管已经相对于一个或多个实现方式示出并描述了本发明，但是本领域技术人员基于对本说明书和附图的阅读和理解将会想到等价变型和修改。本发明包括所有这样的修改和变型，并且仅由所附权利要求的范围限制。特别地关于由上述组件执行的各种功能，用于描述这样的组件的术语旨在对应于执行所述组件的指定功能(例如其在功能上是等价的)的任意组件(除非另外指示)，即使在结构上与执行本文所示的本说明书的示范性实现方式中的功能的公开结构不等同。此外，尽管本说明书的特定特征已经相对于若干实现方式中的仅一个被公开，但是这种特征可以与如可以对给定或特定应用而言是期望和有利的其他实现方式的一个或多个其他特征组合。而且，就术语“包括”、“具有”、“含有”或其变形被用在具体实施方式或权利要求中而言，这样的术语旨在以与术语“包含”相似的方式包括。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种彩膜面板，其特征在于，所述彩膜面板包括：
玻璃基板；
黑色矩阵层，所述黑色矩阵层设置在所述玻璃基板的第一表面上；
色阻层，所述色阻层设置在所述第一表面上，所述色阻层包括红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块；
覆盖层，所述覆盖层设置在所述色阻层和所述黑色矩阵层上；
间隔层，所述间隔层设置在所述覆盖层上，所述间隔层包括至少一间隔件；
其中，所述覆盖层和所述间隔层是在同一道光罩制程中形成的；
所述间隔层的材料与所述覆盖层的材料相同。
2.根据权利要求1所述的彩膜面板，其特征在于，所述彩膜面板还包括：
透明电极层，所述透明电极层设置在所述玻璃基板的第二表面上，所述透明电极层用于在所述彩膜面板与薄膜晶体管阵列面板组合成显示面板后为所述显示面板屏蔽外界电场，其中，所述第二表面背向所述第一表面。
3.根据权利要求1或2所述的彩膜面板，其特征在于，所述覆盖层和所述间隔层是通过在所述黑色矩阵层和所述色阻层上涂布覆盖间隔材料层，然后对所述覆盖间隔材料层进行一次所述光罩制程来形成的，其中，所述覆盖间隔材料层具有第一厚度。
4.根据权利要求3所述的彩膜面板，其特征在于，所述光罩制程所对应的掩模板为半透掩模板；
所述半透掩模板包括：
至少一第一区域，所述第一区域具有第一穿透率，所述第一区域用于在所述光罩制程中透过第一预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第一区域对应的部位形成所述覆盖层，其中，所述第一预定量与所述第一穿透率对应；以及
至少一第二区域，所述第二区域具有第二穿透率，所述第二区域用于在所述光罩制程中透过第二预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第二区域对应的部位形成所述间隔件，其中，所述第二预定量与所述第二穿透率对应。
5.根据权利要求4所述的彩膜面板，其特征在于，所述色阻层还包括白色色阻块；
所述间隔层的材料、所述覆盖层的材料与所述白色色阻块的材料均相同；
所述覆盖层、所述间隔层和所述白色色阻块均是在同一道所述光罩制程中形成的。
6.根据权利要求5所述的彩膜面板，其特征在于，所述覆盖层、所述间隔层和所述白色色阻块是通过在所述玻璃基板、所述黑色矩阵层和所述色阻层上涂布所述覆盖间隔材料层，然后对所述覆盖间隔材料层进行一次所述光罩制程来形成的，其中，所述覆盖间隔材料层具有第二厚度，所述第二厚度大于或等于所述第一厚度。
7.一种如权利要求1所述的彩膜面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
A、在所述玻璃基板的所述第一表面上设置所述黑色矩阵层；
B、在所述第一表面上设置所述色阻层，所述色阻层包括所述红色色阻块、所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块；
C、在所述色阻层和所述黑色矩阵层上涂布覆盖间隔材料层；以及
D、对所述覆盖间隔材料层进行一次所述光罩制程，以形成所述覆盖层和所述间隔层。
8.根据权利要求7所述的彩膜面板的制作方法，其特征在于，所述光罩制程所对应的掩模板为半透掩模板；
所述半透掩模板包括：
至少一第一区域，所述第一区域具有第一穿透率，所述第一区域用于在所述光罩制程中透过第一预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第一区域对应的部位形成所述覆盖层，其中，所述第一预定量与所述第一穿透率对应；以及
至少一第二区域，所述第二区域具有第二穿透率，所述第二区域用于在所述光罩制程中透过第二预定量的光线，以使得所述覆盖间隔材料层在与所述第二区域对应的部位形成所述间隔件，其中，所述第二预定量与所述第二穿透率对应。
9.根据权利要求8所述的彩膜面板的制作方法，其特征在于，所述色阻层还包括白色色阻块；
所述间隔层的材料、所述覆盖层的材料与所述白色色阻块的材料均相同；
所述覆盖层、所述间隔层和所述白色色阻块均是在同一道所述光罩制程中形成的。
10.根据权利要求9所述的彩膜面板的制作方法，其特征在于，所述覆盖层、所述间隔层和所述白色色阻块是通过在所述玻璃基板、所述黑色矩阵层和所述色阻层上涂布所述覆盖间隔材料层，然后对所述覆盖间隔材料层进行一次所述光罩制程来形成的。
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