CN110167883B - 氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子、含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物、化妆材料 - Google Patents

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Abstract

本发明的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子由氧化硅被膜包覆紫外线屏蔽粒子的表面而成，在所述氧化硅被膜的表面存在选自由烷基、烯基及环烷基组成的组中的至少一种官能团，所述官能团的含量为0.0001质量％以上且0.30质量％以下。

Description

氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子、含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒 子的水系组合物、化妆材料
技术领域
本发明涉及一种氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子、含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物及化妆材料。
本申请主张基于2017年1月6日在日本申请的日本特愿2017-001082号及2017年1月6日在日本申请的日本特愿2017-001083号的优先权，并将其内容援用于此。
背景技术
含有紫外线屏蔽粒子的化妆材料不限于休闲娱乐用途而在日常生活中经常使用。因此，化妆材料中重视感觉不到压力的触感，以便能够每天使用。为了得到这种触感，作为化妆材料，要求水润使用感的水系化妆材料。
与油系化妆材料相比，水系化妆材料没有发粘感，对皮肤的负担很小，因此近年来，用作防晒剂、乳液、乳霜等各种水包油型(O/W)的化妆材料。
作为能够用于这种水系化妆材料的紫外线屏蔽粒子，已知有由氧化硅包覆的氧化锌粒子(例如，参考专利文献1、2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2014/171322号
专利文献2：国际公开第2015/072499号
发明内容
发明要解决的问题
然而，存在如下问题：即使在使用专利文献1或专利文献2中所记载的氧化硅包覆氧化锌制作水系化妆材料的情况下，也能够在水系化妆材料中混合氧化硅包覆氧化锌，但是制成涂膜时，无法获得所期望的紫外线屏蔽性。
本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种即使应用于水系化妆材料也可获得所期望的紫外线屏蔽性的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子、含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物及包含其的化妆材料。
用于解决问题的方案
本发明人等为了解决上述课题而反复进行了深入研究，结果发现通过由氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，并且使该氧化硅被膜存在规定的官能团来形成涂膜时，可获得所期望的紫外线屏蔽性的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，以至于完成了本发明。
本发明的第一方式为一种氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，其由氧化硅被膜包覆紫外线屏蔽粒子的表面而成，在所述氧化硅被膜的表面存在选自由烷基、烯基及环烷基组成的组中的至少一种官能团，所述官能团的含量为0.0001质量％以上且0.30质量％以下。
本发明的第二方式为一种含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物，其含有所述氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及水。
本发明的第三方式为一种化妆材料，其含有：所述氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及所述含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的至少一者；以及化妆品基剂原料。
本发明的第四方式为一种水包油型化妆材料，在水相中含有所述氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及所述含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的至少一者。
发明的效果
根据本发明的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，即使应用于水系化妆材料，紫外线屏蔽性也优异。
根据本发明的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物，由于包含本发明的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，因此即使应用于水系化妆材料，紫外线屏蔽性也优异。
根据本发明的化妆材料，由于含有本发明的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及本发明的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的至少一者，因此紫外线屏蔽性优异。
根据本发明的水包油型化妆材料，由于含有本发明的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及本发明的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的至少一者，因此紫外线屏蔽性优异。
附图说明
图1是表示实施例1的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物的光学显微镜图像的图。
图2是表示实施例1～实施例3及比较例1的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物的分光透射率的曲线图。
图3是表示实施例1、实施例2的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物在40℃下的粘度的经时变化的图。
图4是表示实施例2的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物的光学显微镜图像的图。
图5是表示实施例3的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物的光学显微镜图像的图。
图6是表示比较例1的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物的光学显微镜图像的图。
图7是表示实施例1的水包油型化妆材料的光学显微镜图像的图。
具体实施方式
对用于实施本发明的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子、含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物及含有这些的化妆材料、水包油型化妆材料的优选方式进行说明。
另外，以下的实施方式是为了更好地理解发明的宗旨而具体说明的，只要没有特别指定，则并不限定本发明。
[氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子]
本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子由氧化硅被膜包覆紫外线屏蔽粒子的表面而成，在氧化硅被膜的表面存在选自由烷基、烯基及环烷基组成的组中的至少一种官能团，官能团的含量为0.0001质量％以上且0.30质量％以下。
关于本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，详细而言，具有紫外线屏蔽粒子及包覆该紫外线屏蔽粒子的表面的氧化硅被膜，并且在氧化硅被膜的表面(最表面)存在由二氧化硅(氧化硅(SiO2))化合物形成的薄膜，所述二氧化硅化合物具有选自由烷基、烯基及环烷基组成的组中的至少一种官能团。即，本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子中，氧化硅被膜包含氧化硅和上述官能团(详细而言为具有上述官能团的化合物)。由此，本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子中，在氧化硅被膜的表面存在选自由烷基、烯基及环烷基组成的组中的至少一种官能团。并且，具有官能团的二氧化硅化合物是指二氧化硅的表面通过后述的有机硅化合物等进行表面处理而得到的化合物。即，具有官能团的二氧化硅化合物是指在二氧化硅的表面具有选自由来源于有机硅化合物等的烷基、烯基及环烷基组成的组中的至少一种官能团。
选自由烷基、烯基及环烷基组成的组中的至少一种官能团只要是能够提高与油成分的相容性的官能团，则并无特别限定。
烷基优选为碳原子数为1以上且8以下的烷基，更优选为碳原子数为1以上且6以下的烷基，进一步优选为碳原子数为1以上且4以下的烷基，最优选为碳原子数为1以上且2以下的烷基。
烷基的碳原子数为1以上且8以下，由此不会过度损害氧化硅被膜的亲水性，并且能够抑制在氧化硅被膜的表面过度存在选自由烷基、烯基及环烷基组成的组中的至少一种官能团。因此，在将本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子用于水系化妆材料或水包油型化妆材料时，能够获得所期望的紫外线屏蔽性。
在本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子中，相对于其总量(100质量％)，选自由烷基、烯基及环烷基组成的组中的至少一种的含量为0.0001质量％以上且0.30质量％以下，优选为0.01质量％以上且0.25质量％以下，更优选为0.02质量％以上且0.20质量％以下，进一步优选为0.02质量％以上且0.10质量％以下。当含有2种以上的官能团时，这些官能团的合计含量优选为上述范围。
选自由烷基、烯基及环烷基组成的组中的至少一种官能团的含量为上述范围，由此不会过度损害氧化硅被膜的亲水性，并且能够抑制在氧化硅被膜的表面过度存在选自由烷基、烯基及环烷基组成的组中的至少一种官能团。因此，在将本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子用于水系化妆材料或水包油型化妆材料时，能够获得所期望的紫外线屏蔽性。
在本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子中，相对于其总量(100质量％)，紫外线屏蔽粒子的含量优选为50质量％以上且95质量％以下，更优选为60质量％以上且90质量％以下，进一步优选为70质量％以上且80质量％以下。
紫外线屏蔽粒子的含量为上述范围，由此在将本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子用于水系化妆材料或水包油型化妆材料时，可获得所期望的紫外线屏蔽性。并且，能够将本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子与水系化妆材料或水包油型化妆材料混合。
在本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子中，相对于其总量(100质量％)，氧化硅的含量优选为3质量％以上且45质量％以下，更优选为10质量％以上且40质量％以下，进一步优选为15质量％以上且35质量％以下。在抑制紫外线屏蔽粒子中的金属离子的溶出的观点上，氧化硅的含量优选为15质量％以上。在获得所期望的紫外线屏蔽性的观点上，氧化硅的含量优选为30质量％以下。当紫外线屏蔽粒子的平均一次粒径为50nm以下时，氧化硅的含量优选为3质量％以上且45质量％以下。并且，当紫外线屏蔽粒子的平均一次粒径超过50nm时，氧化硅的含量优选为1质量％以上且35质量％以下。
作为紫外线屏蔽粒子，只要是能够屏蔽紫外线的金属氧化物粒子，则并无特别限定。作为这种紫外线屏蔽粒子，例如可列举选自由氧化锌粒子、氧化钛粒子及氧化铈粒子组成的组中的至少一种。这些中，就作为化妆材料用的紫外线屏蔽粒子而通用的观点而言，优选氧化锌粒子及氧化钛粒子。
在本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子中，将氧化硅被膜中的硅在Q3环境下的存在比设为Q3、将氧化硅被膜中的硅在Q4环境下的存在比设为Q4时，优选为Q3+Q4≥0.6且Q4/(Q3+Q4)≥0.5。此外，优选以通过该氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的光催化活性而产生的亮蓝的分解率成为3％以下的程度由氧化硅被膜均匀地包覆紫外线屏蔽粒子整体。通过该氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的光催化活性而产生的亮蓝的分解率更优选为2％以下，进一步优选为1％以下。
氧化硅被膜只要越是满足“将氧化硅被膜中的硅在Q3环境下的存在比设为Q3、将氧化硅被膜中的硅在Q4环境下的存在比设为Q4时，Q3+Q4≥0.6且Q4/(Q3+Q4)≥0.5”、缩合度越高即可。
另外，致密的氧化硅被膜的“致密性”与氧化硅的“缩合度”之间存在密切的关系，氧化硅的缩合度越高，氧化硅被膜的致密性越高。
即，在此所说的致密的氧化硅被膜的“致密的”是指越是满足Q3+Q4≥0.6且Q4/(Q3+Q4)≥0.5、氧化硅的缩合度越高的状态的氧化硅被膜。
氧化硅被膜是致密的，由此能够抑制紫外线屏蔽粒子中的金属离子从本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子溶出。
关于氧化硅的缩合度，能够通过以下方法容易地得知：对于氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，通过固体29Si MAS-核磁共振(NMR)分光法测定NMR光谱，并根据该NMR光谱的峰面积比测定归属于Q0、Q1、Q2、Q3、Q4各自的环境下的信号的面积比。
在此，Qn(n＝0～4)是指根据作为氧化硅的构成单元的SiO4四面体单元的氧原子中的交联氧原子、即与2个Si键合的氧原子的数量而决定的化学结构。
将归属于这些Q0、Q1、Q2、Q3、Q4各自的环境下的信号的面积比标记为Q0、Q1、Q2、Q3、Q4。其中，Q0+Q1+Q2+Q3+Q4＝1。
以下叙述通过氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的光催化活性而产生的亮蓝的分解率优选为3％以下的原因。其原因在于，若该亮蓝的分解率为3％以下，则紫外线屏蔽粒子的光催化活性得到抑制，因此覆盖紫外线屏蔽粒子的氧化硅被膜的均质性也高。在此，覆盖紫外线屏蔽粒子的氧化硅被膜的均质性高表示不存在包覆不均、不存在被膜的局部化、不存在针孔等的情况。亮蓝的分解率用作紫外线屏蔽粒子的光催化活性的指标。紫外线屏蔽粒子的光催化反应基本在紫外线屏蔽粒子的表面发生。即，通过紫外线屏蔽粒子的光催化活性而产生的亮蓝的分解率低表示紫外线屏蔽粒子在氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的表面上露出的部位少。
亮蓝的分解率的测定方法如下。
首先，制备使亮蓝成为规定的含量(例如，5ppm)的亮蓝水溶液，从该亮蓝水溶液采集规定量至螺杆管中，向该采集的亮蓝水溶液中投入以紫外线屏蔽粒子换算为该水溶液的质量的1质量％的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，并进行超声波分散而制备悬浮液。
接着，使用紫外线照射灯，隔开规定距离(例如，10cm)向该悬浮液照射规定时间(例如，6小时)的规定波长的紫外线。
作为紫外线照射灯，例如能够使用杀菌灯GL20(波长253.7nm，紫外线输出7.5W：TOSHIBA CORPORATION制造)。
接着，从照射了该紫外线的悬浮液采集上清液，通过原子吸收分光光度法测定上述亮蓝水溶液及上清液各自的吸光光度光谱。
并且，使用这些测定值，通过下述式(1)计算亮蓝的分解率D。
D＝(A0-A1)/A0……(1)
(其中，A0为亮蓝水溶液(5ppm)的吸光光度光谱的吸收极大波长(630nm)下的吸光度，A1为上清液的吸光光度光谱的吸收极大波长下的吸光度。)
另外，对作为紫外线屏蔽粒子的通常的氧化锌粒子(平均粒径35nm；SumitomoOsaka Cement Co.,Ltd.制造)，根据上述方法测定了亮蓝的分解率的结果为90％。由此，该氧化锌粒子(平均粒径35nm；Sumitomo Osaka Cement Co.,Ltd.制造)中，确认到若具有光催化活性则亮蓝的分解率高。
氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的平均一次粒径优选为1nm以上且2μm以下，为了使氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子获得所期望的透明性和紫外线屏蔽性，在所述范围内适当地进行调节。欲提高涂布调配了本实施方式的氧化硅被膜紫外线屏蔽粒子的防晒等化妆材料时的透明性时，氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的平均一次粒径优选为1nm以上且50nm以下。另一方面，欲提高紫外线屏蔽性时，氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的平均一次粒径优选为50nm以上且2μm以下。
另外，本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子中的“平均一次粒径”是通过以下方法求出的数值。即，当使用透射型电子显微镜(TEM)等观察本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子时，选出规定数量例如200个或100个氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子。并且，测定这些氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子各自的最长的直线部分(最大长径)，并将这些测定值进行加权平均。
另外，氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子彼此凝聚时，并不测定该凝聚体的凝聚粒径。测定规定数量的构成该凝聚体的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子(一次粒子)，将其作为平均一次粒径。
将本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子在氢离子指数5的水溶液中以成为0.05质量％的方式浸渍1小时时，在所述水溶液中溶出的紫外线屏蔽粒子中的金属离子的溶出率优选为60质量％以下，更优选为20质量％以下，进一步优选为10质量％以下。
在此，金属离子的溶出率优选为60质量％以下的原因在于，若金属离子的溶出率超过60质量％，则氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子本身的稳定性降低，当将氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子应用于化妆材料时，溶出的金属离子与有机系紫外线屏蔽剂、增稠剂等水溶性高分子等反应，发生作为化妆材料的性能降低、变色、粘度的增减等，因此不优选。
金属离子的溶出率例如通过如下方法来获得：将氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子以成为0.05质量％的方式分散于pH＝5的缓冲液中，搅拌1小时之后，进行固液分离，并通过ICP发光分析装置测定液相的金属浓度。
作为pH＝5的缓冲液，只要是能够使氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子分散的缓冲液，则并无特别限定，例如适宜使用将0.1mol/L的邻苯二甲酸氢钾水溶液500mL与0.1mol/L的氢氧化钠水溶液226mL进行混合之后添加水而将整体量设为1000mL的缓冲液。
紫外线屏蔽粒子的平均一次粒径根据所期望的透明性和紫外线屏蔽性适当地进行调节。欲提高透明性时，紫外线屏蔽粒子的平均一次粒径优选为1nm以上且50nm以下。另一方面，欲提高紫外线屏蔽性时，紫外线屏蔽粒子的平均一次粒径优选为50nm以上且500nm以下。欲提高透明性和紫外线屏蔽性时，紫外线屏蔽粒子的平均一次粒径优选为25nm以上且250nm以下。
这种具有致密的氧化硅被膜的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的制造方法在国际公开第2014/171322号中进行了详细叙述。根据该制造方法，针对氧化锌粒子，使用烷氧基硅烷或硅酸钠及烷氧基硅烷，由氧化硅被膜包覆紫外线屏蔽粒子的表面，并在200℃～600℃下进行煅烧，由此获得具有致密的氧化硅被膜的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子。
另外，当使用平均一次粒径为50nm以上的紫外线屏蔽粒子时，可以在150℃～600℃下进行煅烧。
并且，优选在本实施方式的氧化硅被膜中含有选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种。原因如下。
以通过氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的光催化活性而产生的亮蓝的分解率成为3％以下的方式由二氧化硅被膜均匀地包覆紫外线屏蔽粒子的整个表面时，优选使用包含硅酸钠等碱金属的材料形成氧化硅被膜。但是，若该碱金属残存于氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子中，则使氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子与水混合时碱离子溶出，使pH或粘度大幅变动，导致作为化妆材料的品质稳定性受损。
因此，通过用选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种来置换氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的氧化硅被膜中所含的碱金属，由此氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的氧化硅被膜中所含的碱金属从氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的氧化硅被膜中被去除。
另一方面，与氧化硅被膜中所含的碱金属置换的选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种在置换后存在于氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的氧化硅被膜中。这些被置换的Mg、Ca、Ba以在水中的溶解度低的硅酸镁、硅酸钙、硅酸钡等形式存在。
置换的结果，氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的氧化硅被膜中所含的选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种的合计的质量百分比大于氧化硅被膜中所含的碱金属的质量百分比。因此，即使将该氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子混合到水相中，碱金属的溶出也得到抑制，并能够抑制pH或粘度的变动，能够维持作为化妆材料的品质稳定性。
本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子优选含有选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种。
氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子中的、氧化硅被膜中所含的选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种的合计的质量百分比优选大于氧化硅被膜中所含的碱金属的质量百分比。而且，氧化硅被膜中所含的碱金属的质量百分比相对于氧化硅被膜中所含的选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种的合计的质量百分比之比(碱金属的质量百分比/选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种的合计的质量百分比)优选为0.001以上且0.6以下，更优选为0.01以上且0.5以下，进一步优选为0.1以上且0.4以下。
在本实施方式中，碱金属是指通常已知的碱金属，具体而言，是指选自由锂(Li)、钠(Na)、钾(K)、铷(Rb)、铯(Cs)及钫(Fr)组成的组中的至少一种。
在此，将氧化硅被膜中所含的选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种的合计的质量百分比设为大于氧化硅被膜中所含的碱金属的质量百分比的原因在于，氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的初期的氢离子指数(pH)的变动原因并不是从紫外线屏蔽粒子溶出的金属离子，而主要是因为氧化硅被膜中所含的碱金属离子的溶出。
氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子中的氧化硅被膜中所含的碱金属的质量百分比优选为0.8质量％以下，更优选为0.6质量％以下，进一步优选为0.2质量％以下。
氧化硅被膜中所含的碱金属的质量百分比的下限值能够任意地选择。碱金属的质量百分比可以为0质量％，若列举其他例子，例如可以为0.0001质量％以上或0.001质量％以上等。
氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子中的氧化硅被膜中所含的选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种的合计的质量百分比优选为0.01质量％以上且1质量％以下。
氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子(氧化硅被膜)所含的碱金属、Mg、Ca及Ba的质量百分比(质量％)可以通过原子吸光分析法进行测定。
本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子优选为：将如下混合液静置20小时之后，混合液的油相的360nm的分光透射率为100％，所述混合液如下制备：通过将水与0.2质量份的烷基改性羧基乙烯基聚合物进行混合，并将包含利用2.5mol/L氢氧化钠将pH调节为6.0的46.0质量份的凝胶、50质量份的上述氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及4.0质量份的甘油的组合物与十甲基环五硅氧烷以1:1的质量比进行混合，并通过超声波分散处理10分钟，从而制备制备混合液，将10质量份的组合物与90质量份的羧基乙烯基聚合物凝胶进行混合，并将该混合物夹在载玻片中，用光学显微镜观察时，所观察到的凝聚物的粒径为50μm以下。
另外，羧基乙烯基聚合物凝胶是指通过将卡波姆(商品名：Carbopol Ultrez10polymer、Lubrizol Advanced Materials公司制造)1.5g溶解于纯水中，接着滴加10质量％氢氧化钠水溶液来制备的、含有1.5质量％的卡波姆的pH7.5的水溶液。
作为烷基改性羧基乙烯基聚合物可列举后述化合物。
所谓十甲基环五硅氧烷是环状硅氧烷中的一个，所谓环状硅氧烷是环式有机化合物的总称。作为环状硅氧烷，例如可列举六甲基环三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷等。十甲基环五硅氧烷用于化妆材料。
上述混合液的油相的360nm的分光透射率(扩散透射率)设为从混合液中采集油相并使用光路长度1cm的石英池而基于SPF分析仪UV-1000S(Labsphere公司制造)测定的在360nm处的透射率的值。
混合液的油相的360nm的分光透射率小于100％时，氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子不仅分散于水相，一部分还分散于油相中，将氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子调配于化妆材料的水相时，一部分随时间的经过从水相向油相移动，可能会损害配方的稳定性，因此不优选。
将上述混合物夹在载玻片中，并利用光学显微镜观察时，观察到的凝聚物的粒径在用200倍的光学显微镜获得的13.5μm×18μm的3视场中，测定了最大凝聚物的长径。
测定凝聚物的粒径时，将上述组合物与羧基乙烯基聚合物凝胶进行混合的原因在于，将水与0.2质量份的烷基改性羧基乙烯基聚合物进行混合，若由使用2.5mol/L氢氧化钠将pH调节为6.0的46.0质量份的凝胶、50质量份的上述氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及4.0质量份的甘油组成的组合物与羧基乙烯基聚合物凝胶混合时生成凝聚物，则将氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子调配于水系组合物中时生成凝聚物，有时可能无法获得所期望的紫外线屏蔽性能(SPF)。
作为用于羧基乙烯基聚合物凝胶的羧基乙烯基聚合物，可列举后述化合物。
将上述混合物夹在载玻片中，并利用光学显微镜观察时，观察到的凝聚物的最大粒径超过50μm时，显示出氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子在水系组合物中容易凝聚。这种氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子调配于水系组合物中时，氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子难以均匀地涂布于皮肤上。其结果，无法获得所期望的紫外线屏蔽性能(SPF)。
根据本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，即使应用于水系化妆材料，也可抑制氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子彼此的凝聚，并且紫外线屏蔽性优异。
根据本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，即使应用于水包油型化妆材料的水相，也可抑制氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子彼此的凝聚，并且紫外线屏蔽性优异。
[氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的制造方法]
对本实施方式中的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的制造方法的一例进行说明。
本实施方式中的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的制造方法例如为具有表面处理工序的制造方法，所述表面处理工序中，使用规定的有机硅化合物对氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的表面进行表面处理。
氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子可以使用通过以下工序(以下，称为“置换工序”。)制作的粒子：在含有水的溶液中混合在紫外线屏蔽粒子的表面包覆含有碱金属的氧化硅而成的复合粒子与选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种，并用选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种置换该氧化硅中所含的碱金属。
另外，也可以设置如下工序：添加包含置换工序前的包覆含有碱金属的氧化硅而成的紫外线屏蔽粒子或置换工序后的选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子、烷氧基硅烷及10聚体以下的烷氧基硅烷的寡聚物中的至少一种、催化剂以及水，并将这些混合物搅拌30分钟以上且24小时以下而使其反应，并进行煅烧，由此形成缩合度更高的氧化硅被膜。该工序可与表面处理工序分开进行，也可以同时进行。
接着，对氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的制造方法进行详细说明。
作为包覆含有碱金属的氧化硅而成的紫外线屏蔽粒子，可以使用使硅酸钠等含有碱金属的硅酸盐和紫外线屏蔽粒子进行反应而使氧化硅包覆于紫外线屏蔽粒子的表面而成的紫外线屏蔽粒子。或者，也可以使用市售品的由氧化硅包覆的紫外线屏蔽粒子。
作为使氧化硅包覆于紫外线屏蔽粒子的表面的方法，例如能够使用日本特开平03-183620号公报、日本特开平11-256133号公报、日本特开平11-302015号公报、日本特开2007-016111号公报等中记载的方法。
由氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的表面的方法根据需要来选择，例如可列举以下方法。
首先，混合紫外线屏蔽粒子和水，接着，将紫外线屏蔽粒子超声波分散在水中，制备包含紫外线屏蔽粒子的水系悬浮液。
接着，对包含该紫外线屏蔽粒子的水系悬浮液进行加热，一边搅拌该悬浮液，一边添加硅酸钠水溶液，静置10分钟～60分钟。
接着，一边搅拌该悬浮液，一边添加稀硫酸等酸而将pH调节为5～9，静置30分钟～5小时。
接着，将该反应液进行固液分离，使用水等溶剂清洗所获得的反应物，进而在100℃～200℃左右下进行干燥，获得由含有碱金属的氧化硅包覆的紫外线屏蔽粒子。
“置换工序”
置换工序需要在由含有碱金属的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的表面的工序之后进行。其原因在于，若在仅含有水的溶液中混合包含碱金属的硅酸盐和选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种，则作为杂质生成硅酸镁、硅酸钙及硅酸钡的至少一种沉淀。因此，置换工序优选编入从通过使硅酸盐进行中和反应等而由氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的表面的工序之后至干燥工序之后的任一阶段。根据这种方法，能够减少反应工艺，并能够以低成本制作本实施方式中的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子。
在置换工序中，首先，将由含有碱金属的氧化硅包覆的紫外线屏蔽粒子和选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种添加到含有水的溶液中进行混合。
作为含有水的溶液并无特别限定，可根据需要进行选择。作为含有水的溶液，例如使用水或将水和能够与水相容的溶剂混合而成的溶液。
作为能够与水相容的溶剂，例如优选甲醇、乙醇、2-丙醇等质子性极性溶剂、丙酮、四氢呋喃等非质子性极性溶剂。这些之中，更优选甲醇、乙醇、2-丙醇等质子性极性溶剂。
该混合处理中的反应温度并无特别限定，可根据需要进行调节。只要是包含包覆有氧化硅的紫外线屏蔽粒子、选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种、和含有水的溶液的混合液中的溶剂的凝固点以上即可。
并且，即使在静置混合液的状态下，反应也会进行，但是为了提高反应效率，优选一边搅拌混合液一边使其反应。
反应时间并无特别限定，可根据需要选择。反应时间优选1小时以上。
通过该混合处理，包覆有氧化硅的紫外线屏蔽粒子中的碱金属被选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种置换，并从包覆有氧化硅的紫外线屏蔽粒子中溶出到混合液中。另一方面，与碱金属置换的选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种离子通过与碱金属的置换而被导入氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子中，其结果，成为包含选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子。
混合液中所含的选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种的含量并无特别限定，可根据需要进行选择。为了用选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种离子对包覆有氧化硅的紫外线屏蔽粒子中的Na、K等碱离子进行离子交换，混合液中所含的选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种的含量优选为包覆有氧化硅的紫外线屏蔽粒子中的碱金属的摩尔当量的总和以上。
作为用于提供选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种的原料，只要是包含这些元素的无机盐，则并无特别限定。作为用于提供Mg的原料，例如可列举氯化镁、硫酸镁、硝酸镁等。作为用于提供Ca的原料，例如可列举氯化钙、硝酸钙等。作为用于提供Ba的原料，例如优选使用氯化钡、硝酸钡等。
这些原料可以以固体的状态使用，也可以以水溶液的状态使用。
可以将通过该置换工序而生成的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的混合液进行固液分离，再次使所获得的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子与选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种在含有水的溶液中进行混合，进行该氧化硅包覆氧化锌中的碱金属与选自由Mg、Ca及Ba组成的组中的至少一种的置换工序。该置换工序也可以反复进行多次。
另外，进一步使二氧化硅被膜致密化时，在通过置换工序而生成的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的混合液中添加烷氧基硅烷及10聚体以下的烷氧基硅烷的寡聚物中的至少一种和催化剂并进行混合，可以在150℃以上且低于600℃下进行热处理。
“表面处理工序”
表面处理工序只要是能够对由下述通式(2)表示的有机硅化合物进行表面处理的方法则并无特别限定。在表面处理工序中，可以使用干式法，也可以使用湿式法。
XnSi(OR)4-n……(2)
(式中，X为烷基、烯基或环烷基，R为氢原子或碳原子数1～4的烷基、n为整数，0＜n＜4。)
作为表面处理工序，例如可列举将通过上述置换工序而生成的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子、由上述通式(2)表示的有机硅化合物及溶剂进行混合的方法。表面处理工序可以在室温下进行，也可以通过加热来进行。
作为有机硅化合物的具体例，例如可列举甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三异丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙基三丙氧基硅烷、乙基三异丙氧基硅烷、乙基三丁氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、正丙基三乙氧基硅烷、正丙基三丙氧基硅烷、正丙基三异丙氧基硅烷、正丙基三丁氧基硅烷、异丙基三甲氧基硅烷、异丙基三乙氧基硅烷、异丙基三丙氧基硅烷、异丙基三异丙氧基硅烷、异丙基三丁氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、丁基三丙氧基硅烷、丁基三异丙氧基硅烷、仲丁基三甲氧基硅烷、仲丁基三乙氧基硅烷、仲丁基三丙氧基硅烷、仲丁基三异丙氧基硅烷、叔丁基三甲氧基硅烷、叔丁基三乙氧基硅烷、叔丁基三丙氧基硅烷、叔丁基三异丙氧基硅烷等烷基烷氧基硅烷；乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三丙氧基硅烷、乙烯基三异丙氧基硅烷等烯基烷氧基硅烷；环丙基三甲氧基硅烷、环丙基三乙氧基硅烷、环丙基三丙氧基硅烷、环丙基三异丙氧基硅烷、环丁基三甲氧基硅烷、环丁基三乙氧基硅烷、环丁基三丙氧基硅烷、环丁基三异丙氧基硅烷、环戊基三甲氧基硅烷、环戊基三乙氧基硅烷、环戊基三丙氧基硅烷、环戊基三异丙氧基硅烷、环己基三甲氧基硅烷、环己基三乙氧基硅烷、环己基三丙氧基硅烷、环己基三异丙氧基硅烷等环烷基硅烷。
接着，通过常压过滤、减压过滤、加压过滤、离心分离等，将通过表面处理工序而生成的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的混合液进行固液分离。通过使用水等溶剂清洗所获得的固形物，从而可获得氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子。
如此获得的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子包含水，因此优选为了去除该水而使其干燥。
氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的干燥温度并无特别限定。通常优选在100℃以上的温度下干燥氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子。并且，在80℃以下的温度下进行干燥时，优选减压干燥。
通过以上工序，能够制作本实施方式中的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子。
当同时进行进一步使二氧化硅被膜致密化的工序和表面处理工序时，例如如下进行即可。
在含有置换工序前的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子或通过置换工序而生成的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的混合液中添加烷氧基硅烷及10聚体以下的烷氧基硅烷的寡聚物中的至少一种、催化剂、以及由上述通式(2)表示的有机硅化合物并进行混合。混合可以在室温下进行，也可以通过加热而进行。
接着，通过固液分离而从该混合液中去除液体并进行干燥，并对所获得的干燥物进行200℃以上且低于600℃的热处理(煅烧)，也能够制作本实施方式中的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子。
[含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物]
本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物含有本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子和水。
水只要是通常使用于化妆材料的水，则并无特别限定，可使用纯水、离子交换水、蒸馏水、净化水、超纯水、天然水、碱离子水、深层水等。
含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的水的含量可根据所期望的特性适当地进行调节。从提高含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物的使用感的观点考虑，水的含量优选为10质量％以上且99质量％以下，更优选为20质量％以上且95质量％以下，进一步优选为40质量％以上且94质量％以下。
在本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中，氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的平均分散粒径优选为10nm以上且2μm以下，更优选为20nm以上且800nm以下，进一步优选为25nm以上且500nm以下。
若氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的平均分散粒径为10nm以上，则氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的结晶性不会降低，因此能够显示出充分的紫外线屏蔽性。另一方面，若氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的平均分散粒径为2μm以下，则不会产生眩光、发涩等，调配于化妆材料中时的使用的触感提高，并且分散稳定性提高而能够获得稳定的组合物。
另外，在本实施方式中，平均分散粒径是指通过动态光散射法测定的二次粒径的平均值。
在获得透明的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物的观点上，平均分散粒径优选为10nm以上且200nm以下。
为了得到所期望的紫外线屏蔽性能，本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的含量只要适当调节即可，并无特别限定。氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的含量优选为1质量％以上且80质量％以下，更优选为20质量％以上且70质量％以下，进一步优选为30质量％以上且60质量％以下。
在此，优选将氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的含量设为1质量％以上且80质量％以下。其原因在于，若氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的含量为1质量％以上，则含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物能够显示充分的紫外线屏蔽性能。其结果，将含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物调配于化妆材料等时，无需为了显示所期望的紫外线屏蔽性能而添加大量的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物，能够抑制制造成本的增加。另一方面，若氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的含量为80质量％以下，则含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物的粘性不会增加，氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的分散稳定性得以保持，并能够抑制氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的沉降。
本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物可以添加柠檬酸等化妆材料中所使用的弱酸或pH缓冲液，并将pH调节为6～7。通过添加这种弱酸，能够长期将组合物的pH保持在7以下。
本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物可以在不损害其特性的范围内含有分散剂、稳定剂、水溶性粘合剂、水溶性乙烯基聚合物、增稠剂、醇类等通常使用的添加剂。
在提高水系组合物的分散稳定性的观点上，优选含有水溶性乙烯基聚合物及醇类中的至少一者。
作为分散剂，可优选使用阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性表面活性剂、非离子表面活性剂、有机烷氧基硅烷或有机氯硅烷等硅烷偶联剂、聚醚改性硅酮、氨基改性硅酮等改性硅酮。这些分散剂的种类或量只要根据氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的粒径或目标分散介质的种类适当地选择即可，可以单独仅使用上述分散剂中的1种，也可以将2种以上混合使用。
作为水溶性粘合剂，能够使用聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯吡咯烷酮、羟基纤维素、聚丙烯酸等。
水溶性乙烯基聚合物只要是能够以任意的比例与水混合，并能够使用于化妆材料的乙烯基聚合物，则并无特别限定。
作为这种水溶性乙烯基聚合物，能够使用羧基乙烯基聚合物、烷基改性羧基乙烯基聚合物、丙烯酸烷基酯/甲基丙烯酸/聚氧乙烯共聚物等。这些水溶性乙烯基聚合物可以单独仅使用1种，也可以组合使用2种以上。
作为羧基乙烯基聚合物，例如可列举以Carbopol(注册商标)940、Carbopol(注册商标)941、Carbopol(注册商标)980、Carbopol(注册商标)981、Carbopol(注册商标)Ultrez10(Lubrizol Advanced Materials公司制造)的商品名周知的聚合物。
作为烷基改性羧基乙烯基聚合物，例如可列举以Carbopol(注册商标)1342、PEMULEN(注册商标)TR-1、PEMULEN(注册商标)TR-2(Lubrizol Advanced Materials公司制造)的商品名周知的聚合物。
作为丙烯酸烷基酯/甲基丙烯酸/聚氧乙烯共聚物，例如可列举(丙烯酸酯/甲基丙烯酸硬脂醇聚醚-20)共聚物、(丙烯酸酯/甲基丙烯酸山嵛醇聚醚-25)共聚物、(丙烯酸酯/甲基丙烯酸硬脂醇聚醚-20)互聚物。并且，作为丙烯酸烷基酯/甲基丙烯酸/聚氧乙烯共聚物，可列举由Rohm and Haas公司销售的ACULYN(注册商标)22、ACULYN(注册商标)28、ACULYN(注册商标)88。
这些丙烯酸烷基酯/甲基丙烯酸烷基酯/聚氧乙烯共聚物中，就不发粘且使用感良好的方面而言，尤其优选ACULYN(注册商标)22(丙烯酸酯/甲基丙烯酸硬脂醇聚醚-20)共聚物。
本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物含有水溶性乙烯基聚合物时，水溶性乙烯基聚合物的含量相对于氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子100质量份，优选为0.02质量份以上且6.0质量份以下，更优选为0.1质量份以上且5.0质量份以下，进一步优选为0.2质量份以上且4.5质量份以下。
若水溶性乙烯基聚合物的含量相对于氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子100质量份为0.02质量份以上，则可确保分散稳定性，获得均匀的组合物。另一方面，若水溶性乙烯基聚合物的含量相对于氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子100质量份为6.0质量份以下，则粘度成为适当的范围，搅拌容易，因此可获得均匀的组合物。
并且，在本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中，水溶性乙烯基聚合物的含量优选为0.01质量％以上且1.0质量％以下，更优选为0.05质量％以上且0.75质量％以下，进一步优选为0.1质量％以上且0.5质量％以下。
另外，在本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中，各成分的合计含量为100质量％，各成分的合计含量不会超过100质量％。
作为增稠剂，将本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物应用于化妆材料时，只要是化妆材料中所使用的增稠剂，则并无特别限定。作为增稠剂，例如可优选使用明胶、酪蛋白、胶原蛋白、透明质酸、白蛋白、淀粉等天然的水溶性高分子、甲基纤维素、乙基纤维素、甲基羟丙基纤维素、羧甲基纤维素、羟甲基纤维素、羟丙基纤维素、羧甲基纤维素钠、海藻酸丙二醇酯等半合成高分子、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、卡波姆(羧基乙烯基聚合物)、聚丙烯酸盐、聚环氧乙烷等合成高分子、膨润土、合成锂皂石、锂蒙脱石等无机矿物等。这些增稠剂可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
在这些增稠剂中，优选合成高分子，更优选卡波姆(羧基乙烯基聚合物)。
在此，当使用卡波姆作为增稠剂时，本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的卡波姆的含量优选为0.01质量％以上且10质量％以下，更优选为0.01质量％以上且3质量％以下。
若本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的卡波姆的含量为0.01质量％以上，则可获得增稠效果。另一方面，若卡波姆的含量为10质量％以下，则能够抑制含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物的粘度变得过高，因此应用于化妆材料时，在涂抹于皮肤上时，对皮肤的吸附良好，不会产生使用感降低等不良情况。
并且，使用卡波姆作为增稠剂时的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的组合物中的氢离子指数(pH)优选为5以上且10以下，更优选为6以上且10以下，进一步优选为7以上且9以下。通过将本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的pH设在上述范围内，能够抑制粘度等的经时变化。
作为醇类，只要是能够使用于化妆材料的醇类，则并无特别限定，例如能够使用乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、辛醇、甘油、1,3-丁二醇、丙二醇、山梨糖醇等碳原子数1～6的一元醇或多元醇等。
在这些醇类之中，就改善化妆材料的触感或保湿效果上广泛用于化妆材料的方面而言，甘油是优选的。
当本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中含有醇类时，相对于氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子100质量份，醇类的含量优选为10质量份以上且100质量份以下，更优选为20质量份以上且50质量份以下。
若相对于氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子100质量份，醇类的含量为10质量份以上，则能够进一步提高氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的分散性。另一方面，若相对于氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子100质量份，醇类的含量为100质量份以下，则能够抑制将本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物调配于化妆材料时的发粘或触感的恶化。
并且，在本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中，醇类的含量优选为0.1质量％以上且30质量％以下，更优选为0.3质量％以上且25质量％以下，进一步优选为0.5质量％以上且20质量％以下。
关于本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物，将在促进条件下例如在40℃下保管时且经过300小时后进行测定的粘度除以初期条件下的粘度降低后的粘度、例如15小时后的粘度而得的值优选为0.8以上且1.2以下。
如此，通过将在促进条件下、即300小时后的粘度除以初期粘度降低后的粘度而得的值设在上述范围内，能够经中长期而维持本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物的粘度。
当将本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的含量设为5质量％，并使用该组合物形成厚度12μm的涂膜时，该涂膜相对于波长450nm的光的透射率优选为40％以上，更优选为45％以上，进一步优选为50％以上。
并且，该涂膜的SPF(Sun Protection Factor：防晒系数)值优选为6.0以上，更优选为6.5以上。
涂膜的透射率及SPF值能够通过使用棒涂布机将含有5质量％的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物涂布于石英基板上，形成厚度为12μm的涂膜，并使用SPF分析仪UV-1000S(Labsphere公司制造)测定该涂膜的分光透射率来求出。
并且，由该透射率计算吸收光谱，从吸收光谱的290nm到长波长侧进行积分，能够计算积分面积成为290nm～400nm整体的积分面积的90％的波长作为临界波长。关于临界波长，越靠长波长侧，UVA的屏蔽性能越高，优选为375nm以上，更优选为378nm以上，进一步优选为380nm以上。
本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物的制造方法只要能够使上述氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子分散于水中即可，并无特别限定。
作为用于这种分散的分散方法，能够使用利用了公知的分散装置的分散方法。作为分散装置，例如，除了使用搅拌机以外，还可以优选使用利用了氧化锆珠的珠磨机、球磨机、均质器、超声波分散机、混炼机、三辊磨机、自转/公转混合机的分散方法。
作为分散处理所需的时间，只要是足以使上述氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子均匀地分散在水中的时间即可。
根据本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物，由于包含本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，因此即使应用于水系化妆材料，紫外线屏蔽性也优异。
[化妆材料]
本实施方式的化妆材料含有本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的至少一者及化妆品基剂原料。
本实施方式的化妆材料优选含有水。
在此，化妆品基剂原料是指形成化妆品的主体的诸多原料，可列举油性原料、水性原料、表面活性剂、粉体原料等。
作为油性原料，例如可列举油脂、高级脂肪酸、高级醇、酯油类等。
作为水性原料，可列举净化水、醇、增稠剂等。
作为粉末原料，可列举有色颜料、白色颜料、珠光剂、体质颜料等。
本实施方式的化妆材料例如通过将本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子或本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物以公知的方法调配于乳液、乳霜、粉底霜、口红、腮红、眼影等化妆品基剂原料中而获得。
并且，本实施方式的化妆材料还可以通过将本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子或本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物调配于油相或水相中而制成O/W型或W/O型的乳液之后，与化妆品基剂原料调配而获得。
化妆材料中的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的含量只要根据所期望的特性适当地调节即可，例如，氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的含量的下限可以为0.01质量％以上，也可以为0.1质量％以上，也可以为1质量％以上。并且，氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的含量的上限可以为50质量％以下，也可以为40质量％以下，也可以为30质量％以下。
根据本实施方式的化妆材料，由于含有本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的至少一者，因此紫外线屏蔽性优异。
[水包油型化妆材料]
关于本实施方式的水包油型化妆材料，在水相中含有本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的至少一者。
本实施方式的水包油型化妆材料为在水相中包含本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的至少一者、且在油相中含有油成分的水包油型乳液。
水相中根据需要还可以包含分散剂、稳定剂、水溶性粘合剂(水溶性高分子)、增稠剂、醇等通常在水系化妆材料中使用的添加剂。
油相中根据需要还可以适当包含油溶性防腐剂、紫外线吸收剂、油溶性药剂、油溶性色素类、油溶性蛋白质类、植物油、动物油、溶剂等通常化妆材料中使用的添加剂。
油成分只要是用于化妆材料的油成分，则并无特别限定，可适当地选择能够溶解所期望的有机系紫外线屏蔽剂的油成分。
作为这种油成分，优选含有选自由高级醇、高级脂肪酸及高级醇和高级脂肪酸键合而成的脂肪酸酯组成的组中的至少一种的油成分。通过在油成分中含有这些成分，紧致感、保湿感提高，并且这些效果的持续性提高。并且，还能够使用如甲氧基肉桂酸乙基己酯等液体的有机系紫外线吸收剂作为油成分。
作为高级醇，例如可优选使用正辛醇、月桂醇、硬脂醇、油醇、肉豆蔻醇、鲸蜡醇，胆固醇、植物甾醇等。这些高级醇可以单独仅使用1种，也可以组合使用2种以上。
作为高级脂肪酸，例如，优选使用碳原子数12～24的饱和或不饱和的脂肪酸，例如，可优选使用肉豆蔻酸、棕榈酸、硬脂酸、异硬脂酸、亚油酸、花生四烯酸等。这些高级脂肪酸可以单独仅使用1种，也可以组合使用2种以上。
作为脂肪酸酯，例如可优选使用肉豆蔻酸鲸蜡酯、肉豆蔻酸辛基十二烷基酯、肉豆蔻酸异丙酯、肉豆蔻酸肉豆蔻酯、肉豆蔻酸2-己基癸酯、棕榈酸辛酯、棕榈酸异丙酯、硬脂酸丁酯、硬脂酸硬脂酯、硬脂酸辛酯、硬脂酸异鲸蜡酯、乙二醇二硬脂酸酯、2-乙基己酸鲸蜡酯、硬脂酸2-乙基己酯、硬脂酸硬脂酯、异硬脂酸胆固醇酯、异硬脂酸异鲸蜡酯、异壬酸异壬酯、油酸乙酯、油酸癸酯、油酸油酯、癸二酸二异丙酯、癸二酸二辛酯、二甲基辛酸己基癸酯、辛酸鲸蜡酯、二辛酸新戊二醇酯、月桂酸己酯、四辛酸季戊四醇酯等。这些脂肪酸酯可以单独仅使用1种，也可以组合使用2种以上。
在本实施方式中，从抑制水相和油相的分离的观点考虑，优选脂肪酸酯的酯值低。具体而言，作为脂肪酸酯，优选使用酯值为95～170的脂肪酸酯。作为这种脂肪酸酯，例如可列举肉豆蔻酸辛基十二烷基酯(酯值100～111)、2-乙基己酸鲸蜡酯(酯值135～160)等。
本实施方式的水包油型化妆材料优选含有螯合剂。通过含有螯合剂，能够进一步抑制由水包油型化妆材料的经时引起的氢指数变动。
作为螯合剂，只要是用于化妆材料的螯合剂，则并无特别限定。作为螯合剂，例如可使用乙二胺四乙酸(EDTA)、乙二醇二胺四乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、柠檬酸、植酸、多磷酸、偏磷酸等。这些之中，从通用性高的观点考虑，优选乙二胺四乙酸(EDTA)。
水包油型化妆材料中的螯合剂的含量可按照所期望的性能适当地调节，例如，优选为0.01质量％以上且1.0质量％以下。
在此，若螯合剂的含量为0.01质量％以上，则在水包油型化妆材料中，可获得所期望的特性。另一方面，若螯合剂的含量为1.0质量％以下，则能够安全地使用水包油型化妆材料。例如，在化妆材料中乙二胺四乙酸(EDTA)的调配量在准药物原料标准中规定为1.0质量％以下。
本实施方式的水包油型化妆材料优选在油相中含有有机系紫外线屏蔽剂。
作为有机系紫外线屏蔽剂，只要是用于化妆材料的有机系紫外线屏蔽剂，则并无特别限定。作为有机系紫外线屏蔽剂，例如可列举邻氨基苯甲酸酯类、肉桂酸衍生物、水杨酸衍生物、樟脑衍生物、二苯甲酮衍生物、β,β’-二苯基丙烯酸酯衍生物、苯并三唑衍生物、苯亚甲基丙二酸酯(benzal malonate)衍生物、苯并咪唑衍生物、咪唑啉类、双苯并唑衍生物、对氨基苯甲酸(PABA)衍生物、亚甲基双(羟基苯基苯并三唑)衍生物、TINUVIN等。作为有机系紫外线屏蔽剂，可使用选自所述组中的至少一种。
本实施方式的水包油型化妆材料中的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的平均分散粒径优选为10nm以上且2μm以下，更优选为20nm以上且800nm以下，进一步优选为25nm以上且500nm以下。
若氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的平均分散粒径为10nm以上，则氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的结晶性不会降低，因此能够显示出充分的紫外线屏蔽性。另一方面，若氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的平均分散粒径为2μm以下，则不会产生眩光、发涩等，使用的触感提高，并且分散稳定性提高而获得稳定的水包油型化妆材料。
本实施方式的水包油型化妆材料通过除了上述成分以外，还适当添加其他成分等，可以以乳液、乳霜、防晒品、粉底霜、精华液、彩妆粉底、口红等的形式使用。
作为其他成分，可列举氧化锌、氧化钛等无机系紫外线屏蔽剂、有机系紫外线屏蔽剂、美白剂、增稠剂等通常用于化妆材料的添加剂或化妆品基剂原料等。
根据本实施方式的水包油型化妆材料，由于含有本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的至少一者，因此紫外线屏蔽性优异。
[水包油型化妆材料的制造方法]
本实施方式的水包油型化妆材料的制造方法只要是在水相中含有本实施方式的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的至少一者，从而能够制作油成分包含于油相中的水包油型(O/W)的化妆材料的方法，则并无特别限定。
例如，预先混合水、本实施方式的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物、pH调节剂及乳化剂而制成水相用混合物。并且，在该水相用混合物中添加油成分并进行混合，制成水包油型乳液，从而能够制作本实施方式的水包油型化妆材料。
另外，含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中含有烷基改性羧基乙烯基聚合物或丙烯酸烷基酯/甲基丙烯酸/聚氧乙烯共聚物时，烷基部分发挥乳化剂的作用，因此可以不添加乳化剂。
作为乳化剂，只要是能够在制作水包油型乳液时在化妆材料中使用的乳化剂，则并无特别限定。例如，能够适合用于亲水性的表面活性剂，作为亲水性的表面活性剂，可列举甘油、甘油脂肪酸酯、聚甘油脂肪酸酯类、聚氧乙烯甘油脂肪酸酯、脱水山梨糖醇脂肪酸酯、丙二醇脂肪酸酯类、聚氧乙烯(以下，简称为“POE”。)脱水山梨糖醇脂肪酸酯类、POE山梨糖醇脂肪酸酯类、POE甘油脂肪酸酯类、POE脂肪酸酯类、POE烷基醚类、POE烷基苯基醚类、POE蓖麻油、POE烷基胺、POE脂肪酸酰胺等。
当含有有机系紫外线屏蔽剂时，只要在将油成分和有机系紫外线屏蔽剂预先混合之后，在水相用的混合物中进行混合并使其乳化即可。
实施例
以下，通过实施例及比较例对本发明进行具体的说明，但本发明并不限定于这些实施例。
[实施例1]
混合氧化锌粒子(平均粒径35nm；Sumitomo Osaka Cement Co.,Ltd.制造)和水，接着进行超声波分散，制备了氧化锌的含量为20质量％的氧化锌水系悬浮液。
接着，将该氧化锌水系悬浮液加入相对于该氧化锌水系悬浮液中的氧化锌粒子的质量以氧化硅换算计包含20质量％的硅酸钠的硅酸钠水溶液中，并进行强烈地搅拌而制成悬浮液。
接着，将该悬浮液加热至60℃，一边搅拌该悬浮液一边缓慢地添加稀盐酸而将pH调节为6.5～7。然后，静置2小时之后，再添加与该悬浮液中的氧化锌粒子的质量相同质量的氯化钙水溶液(氯化钙二水合物25质量％)并进行搅拌，进一步静置了2小时。
接着，通过离心分离机将该悬浮液进行固液分离，并使用水清洗了所获得的固形物。然后，在150℃下干燥该固形物，进而在500℃下进行2小时热处理(煅烧)，制作了氧化硅包覆氧化锌。
接着，混合该氧化硅包覆氧化锌和2-丙醇，接着对该混合物进行超声波分散，制备了该氧化硅包覆氧化锌的含量为10质量％的氧化硅包覆氧化锌2-丙醇悬浮液。
接着，将该悬浮液加热至60℃，一边搅拌该悬浮液一边添加氨水及水而将悬浮液的pH调节为10～11。另外，水的添加量设为相对于在后面添加的四乙氧基硅烷2-丙醇溶液中的四乙氧基硅烷成为120质量％。
另外，在该悬浮液中以四乙氧基硅烷的滴加量换算成氧化硅时相对于氧化锌的总质量成为15质量％的方式缓慢地滴加了四乙氧基硅烷2-丙醇溶液。
接着，在该悬浮液中以相对于氧化锌粒子的总质量成为0.5质量％(氧化硅包覆氧化锌粒子中，烷基为0.04质量％)的方式缓慢地滴加甲基三乙氧基硅烷，并持续搅拌了6小时。
反应结束后，通过离心分离机将该悬浮液进行固液分离，在150℃下干燥了所获得的固形物。接着，在500℃下对该干燥物进行3小时热处理(煅烧)，从而获得了实施例1的氧化硅包覆氧化锌粒子。
“含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物的制作”
混合水和烷基改性羧基乙烯基聚合物(商品名：PEMULEN TR-1，LubrizolAdvanced Materials公司制造)0.2质量份，利用均相分散机混合使用2.5mol/L氢氧化钠将pH调节为6.0的凝胶46.0质量份、所获得的实施例1的氧化硅包覆氧化锌粒子50质量份及甘油4.0质量份，从而获得了实施例1的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物。
[水系组合物中的氧化硅包覆氧化锌粒子的分散性的评价]
将卡波姆(商品名：Carbopol Ultrez 10 polymer、Lubrizol AdvancedMaterials公司制造)1.5g溶解于纯水中，接着滴加10质量％氢氧化钠水溶液，获得了含有1.5质量％的卡波姆的pH7.5的羧基乙烯基聚合物凝胶。
混合了实施例1的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物10质量份和所获得的羧基乙烯基聚合物凝胶90质量份。将该混合液夹在2片载玻片中，并使用光学显微镜进行了观察。
其结果，观察到的氧化硅包覆氧化锌的凝聚物中最大的粒径为20μm。将结果示于图1及表1。
[氧化硅包覆氧化锌粒子的表面湿润性评价]
以1:1的质量比混合实施例1的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物和十甲基环五硅氧烷，使用超声波清洗机(W-113MK-II、Honda Electronics公司制造)进行10分钟分散处理而制备了混合液。接着，将该混合液静置了20小时。
目视观察静置后的混合液的结果，混合液分离成水相和油相，分散有氧化硅包覆氧化锌粒子的水相混浊，油相透明。
以十甲基环五硅氧烷为基准，使用SPF分析仪UV-1000S(Labsphere公司制造)测定了该混合液的油相的分光透射率。其结果，确认到360nm处的透射率为100％，实施例1的氧化硅包覆氧化锌粒子处于容易与水相容、不易与油相容的表面状态。
[水系组合物的SPF评价]
与上述“水系组合物中的氧化硅包覆氧化锌粒子的分散性的评价”同样地混合了实施例1的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物10质量份和pH7.5的羧基乙烯基聚合物凝胶90质量份。使用该混合液，以厚度成为12μm的方式在石英基板上形成薄膜，并使用SPF分析仪UV-1000S(Labsphere公司制造)测定了该薄膜的分光透射率。将结果示于图2。SPF值为8.2。
[水系组合物的粘度的稳定性评价]
测定了制作实施例1的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物后(0小时)的pH和粘度。在40℃下保管该组合物，每隔规定时间测定了pH和粘度。将结果示于表2及图3。
“水包油型化妆材料的制作”
混合了水79.1质量份、PEG-60氢化蓖麻油0.6质量份、烷基改性羧基乙烯基聚合物(商品名：PEMULEN TR-1、Lubrizol Advanced Materials公司制造)0.3质量份。
接着，将1.8mol/L氢氧化钾与该混合物进行混合而将pH调节为7.0，制作了凝胶。
接着，在所获得的凝胶中添加甲氧基肉桂酸乙基己酯10.0质量份，并使用均相分散机进行了混合。
接着，在所获得的混合物中添加实施例1的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物10.0质量份，并使用均相分散机进行混合，从而获得了将含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物包含在水相中的、实施例1的水包油型化妆材料。
[水包油型化妆材料中的氧化硅包覆氧化锌粒子的分散性的评价]
“人造皮脂的制作”
将油酸5.0质量份、角鲨烷5.0质量份、橄榄油5.0质量份进行混合而制作了人造皮脂。
“分散性的评价”
将实施例1的水包油型化妆材料6.5质量份和人造皮脂2.5质量份进行了混合。将该混合液夹在2片载玻片中，并使用光学显微镜进行了观察。
其结果，观察到的氧化硅包覆氧化锌粒子的凝聚物中最大的粒径为25μm。将结果示于图7。
[紫外线屏蔽性的评价]
在Helioplate(商品名：HELIOPLATE HD6、Helioscreen公司制造)上以成为0.5mg/cm2的方式涂布上述制作的人造皮脂，并干燥了30分钟。
接着，将实施例1的水包油型化妆材料以成为1.3mg/cm2的方式进行涂布，并将其干燥15分钟而形成了涂膜。使用SPF分析仪UV-1000S(Labsphere公司制造)测定了该涂膜的SPF值。
其结果，SPF值为13.3。
[实施例2]
在实施例1中，将甲基三乙氧基硅烷相对于氧化锌粒子的总质量设为1.0质量％(氧化硅包覆氧化锌粒子中，烷基为0.08质量％)，除此以外，以与实施例1相同的方式获得了实施例2的氧化硅包覆氧化锌粒子。
使用实施例2的氧化硅包覆氧化锌粒子代替使用实施例1的氧化硅包覆氧化锌粒子，除此以外，以与实施例1相同的方式获得了实施例2的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物。
与实施例1同样地评价了水系组合物中的氧化硅包覆氧化锌粒子的分散性。其结果，观察到的氧化硅包覆氧化锌的凝聚物中最大的粒径为30μm。将结果示于图4。
与实施例1同样地评价了氧化硅包覆氧化锌粒子的表面湿润性。
目视观察静置20小时后的混合液的结果，混合液分离成水相和油相，分散有氧化硅包覆氧化锌粒子的水相混浊，油相透明。
并且，以与实施例1相同的方式测定了该混合液的油相的分光透射率。其结果，确认到360nm处的透射率为100％，实施例2的氧化硅包覆氧化锌粒子处于容易与水相容、不易与油相容的表面状态。
以与实施例1相同的方式测定了使用水系组合物而形成的薄膜的分光透射率。将结果示于图2。SPF值为6.9。
以与实施例1相同的方式测定了水系组合物的pH和粘度。将结果示于图3和表2。
[实施例3]
在实施例1中，将甲基三乙氧基硅烷相对于氧化锌粒子的总质量设为3.0质量％(氧化硅包覆氧化锌粒子中，烷基为0.25质量％)，除此以外，以与实施例1相同的方式获得了实施例3的氧化硅包覆氧化锌粒子。
使用实施例3的氧化硅包覆氧化锌粒子代替使用实施例1的氧化硅包覆氧化锌粒子，除此以外，以与实施例1相同的方式获得了实施例3的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物。
与实施例1同样地评价了水系组合物中的氧化硅包覆氧化锌粒子的分散性。其结果，观察到的氧化硅包覆氧化锌的凝聚物中最大的粒径为30μm。将结果示于图5。
与实施例1同样地评价了氧化硅包覆氧化锌粒子的表面湿润性。
目视观察静置20小时之后的混合液的结果，确认到混合液分离成水相和油相，分散有氧化硅包覆氧化锌粒子的水相混浊，油相也稍微混浊，油相中也包含氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子。
并且，以与实施例1相同的方式测定了该混合体系的油相的分光透射率。其结果，确认到360nm处的透射率为99％，实施例3的氧化硅包覆氧化锌粒子处于容易与水相容，且与油也稍微相容的表面状态。
以与实施例1相同的方式测定了使用水系组合物而形成的薄膜的分光透射率。将结果示于图2。SPF值为6.2。
[比较例1]
在实施例1中，将甲基三乙氧基硅烷相对于氧化锌粒子的总质量设为0质量％(氧化硅包覆氧化锌粒子中，烷基为0质量％)，除此以外，以与实施例1相同的方式获得了比较例1的氧化硅包覆氧化锌粒子。
使用了比较例1的氧化硅包覆氧化锌粒子代替使用实施例1的氧化硅包覆氧化锌粒子，除此以外，以与实施例1相同的方式获得了比较例1的含有氧化硅包覆氧化锌粒子的水系组合物。
与实施例1同样地评价了水系组合物中的氧化硅包覆氧化锌粒子的分散性。其结果，观察到的氧化硅包覆氧化锌的凝聚物中最大的粒径为80μm。将结果示于图6。
与实施例1同样地评价了氧化硅包覆氧化锌粒子的表面湿润性。
目视观察静置20小时后的混合液的结果，混合液分离成水相和油相，分散有氧化硅包覆氧化锌粒子的水相混浊，油相透明。
并且，以与实施例1相同的方式测定了该混合体系的油相的分光透射率。其结果，确认到360nm处的透射率为100％，比较例1的氧化硅包覆氧化锌粒子处于容易与水相容、不易与油相容的表面状态。
以与实施例1相同的方式测定了使用水系组合物而形成的薄膜的分光透射率。将结果示于图2。SPF值为3.3。
[表1]
Figure GDA0002120392200000341
[表2]
Figure GDA0002120392200000342
将实施例1～实施例3与比较例1进行比较时，确认到：通过使选自由烷基、烯基及环烷基组成的组中的至少一种官能团存在于氧化硅被膜的表面，可抑制与广泛使用于水系化妆材料的pH7.5的羧基乙烯基聚合物凝胶进行混合时氧化硅包覆氧化锌粒子发生凝聚，制成涂膜时的SPF值提高。
并且，将实施例1及实施例2与实施例3及比较例1进行比较时，确认到：通过设为使氧化硅包覆氧化锌粒子的表面不与十甲基环五硅氧烷相容而与羧基乙烯基聚合物进行混合时抑制凝聚的状态，制成涂膜时的SPF值提高。
并且，确认到即使在应用于水包油型化妆材料的情况下，也可抑制氧化硅包覆氧化锌粒子发生凝聚，制成涂膜时的SPF值也高。水包油型化妆材料的评价通过与人造皮脂的混合或涂布于人造皮脂上而进行，因此接近实际的使用情况。即，确认到即使应用于人的皮肤也可得到效果的可能性非常高。
产业上的可利用性
本发明的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子通过使规定的官能团存在于氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的表面的至少一部分，即使包含于水系化妆材料中，也可获得所期望的紫外线屏蔽性。因此，当然能够应用于需要紫外线屏蔽能力且使用感优异的水系化妆材料或水包油型化妆品，当在除了化妆品以外的领域中使用时，分散剂和树脂的选择范围广，能够提高涂料等的设计调配的自由度，其工业价值大。

Claims (6)

1.一种氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，其特征在于，
其由氧化硅被膜包覆紫外线屏蔽粒子的表面而成，
在所述氧化硅被膜的表面存在选自由烷基、烯基及环烷基组成的组中的至少一种官能团，
将氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的总量设为100质量％时，所述官能团的含量为0.0001质量％以上且0.30质量％以下。
2.根据权利要求1所述的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，其特征在于，
将如下混合液静置20小时之后，所述混合液的油相的360nm的透射率为100％，所述混合液如下制备：通过将水与0.2质量份的烷基改性羧基乙烯基聚合物进行混合，并将包含利用2.5mol/L氢氧化钠将pH调节为6.0的46.0质量份的凝胶、50质量份的所述氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及4.0质量份的甘油的组合物与十甲基环五硅氧烷以1:1的质量比进行混合，并通过超声波分散处理10分钟，从而制备混合液，
将10质量份的所述组合物与90质量份的羧基乙烯基聚合物凝胶进行混合，将其混合物夹在载玻片中，用光学显微镜观察时，所观察到的凝聚物的粒径为50μm以下，所述羧基乙烯基聚合物凝胶为含有1.5质量％的羧基乙烯基聚合物的pH7.5的水溶液。
3.根据权利要求1或2所述的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子，其特征在于，
所述紫外线屏蔽粒子的含量为50质量％以上且90质量％以下。
4.一种含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物，其特征在于，其含有权利要求1～3中任一项所述的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及水。
5.一种化妆材料，其特征在于，其含有：权利要求1～3中任一项所述的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及权利要求4所述的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的至少一者；以及化妆品基剂原料。
6.一种水包油型化妆材料，其特征在于，在水相中含有权利要求1～3中任一项所述的氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子及权利要求4所述的含有氧化硅包覆紫外线屏蔽粒子的水系组合物中的至少一者。
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