CN109957753A

CN109957753A - 沉积装置

Info

Publication number: CN109957753A
Application number: CN201811580898.9A
Authority: CN
Inventors: 文在晳; 李丞赈; 许昌九
Original assignee: Samsung Display Co Ltd
Current assignee: Samsung Display Co Ltd
Priority date: 2017-12-26
Filing date: 2018-12-24
Publication date: 2019-07-02
Anticipated expiration: 2038-12-24
Also published as: KR102489336B1; KR20190078717A; CN109957753B

Abstract

本发明涉及一种能够提高掩模与基板之间的紧贴性的沉积装置，该沉积装置包括：掩模支撑部，用于支撑掩模；以及至少一个第一磁化部，位于所述掩模支撑部的上方，并且朝向所述掩模支撑部交替提供极性彼此相反的磁力。

Description

沉积装置

技术领域

本发明涉及一种沉积装置，特别是涉及一种能够提高掩模与基板之间的紧贴性的沉积装置。

背景技术

最近平面显示领域的发展飞快，特别是以液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)为开端开始登场的平面显示器已超过电子射线管(Cathode Ray Tube，CRT)，最近等离子显示板(Plasma Display Panel，PDP)、可见荧光显示器(Visual Fluorescent Display，VFD)、场发射显示器(Field Emission Display，FED)、发光二极管(Light EmittingDiode，LED)或电致发光(Electroluminescence，EL)等显示元件处于展开激烈斗争的状况，分别在可视性、色感及制造工艺方面实现很多改善，不断拓宽其应用领域。

特别是，最近有机发光显示装置作为随显示装置的大型化而出现的所占空间小的平板显示面板受到关注。有机发光显示装置也被称作有机发光显示器，该显示装置不仅具有非常薄的厚度，而且也可以用15V以下的低电压来驱动。

在这种有机发光显示装置的基板上设置有各种金属图案及绝缘膜图案，这些图案通过掩模被沉积在该基板上。此时，该掩模与基板之间的紧贴性非常重要。

发明内容

本发明的目的在于提供一种能够提高掩模与基板之间的紧贴性的沉积装置。

为了实现如上所述的目的，本发明的沉积装置包括：掩模支撑部，用于支撑掩模；至少一个第一磁化部，位于所述掩模支撑部的上方，并且朝向所述掩模支撑部交替提供极性彼此相反的磁力。

所述沉积装置进一步包括位于第一磁化部的上方的多个磁铁。

所述第一磁化部沿与所述多个磁铁的排列方向平行的方向移动。

所述多个磁铁包括用于提供极性相反的磁力的第一磁铁及第二磁铁。

所述第一磁铁和所述第二磁铁交替排列。

当所述第一磁化部位于与所述第一磁铁对应的位置时，所述第一磁化部提供极性与所述第一磁铁的极性相同的磁力，当所述第一磁化部位于与所述第二磁铁对应的位置时，所述第一磁化部提供极性与所述第二磁铁的极性相同的磁力。

所述沉积装置进一步包括第二磁化部，所述第二磁化部以与所述第一磁化部相对的方式位于所述掩模支撑部的下侧。

所述第二磁化部朝向所述掩模支撑部交替提供极性彼此相反的磁力。

所述第二磁化部沿与所述多个磁铁的排列方向平行的方向移动。

所述第二磁化部和所述第一磁化部彼此相对并且沿与所述多个磁铁的排列方向平行的方向移动。

当所述第二磁化部位于与所述第一磁铁对应的位置时，所述第二磁化部提供极性与所述第一磁铁的极性相反的磁力，当所述第二磁化部位于与所述第二磁铁对应的位置时，所述第二磁化部提供极性与所述第二磁铁的极性相反的磁力。

所述沉积装置进一步包括第一导向部及第二导向部，所述第一导向部及所述第二导向部设置为隔着所述第一磁化部彼此相对，并且与所述第一磁化部连接。

所述第一磁化部包括电磁铁。

所述沉积装置进一步包括所述掩模支撑部的上方的加压板及所述掩模支撑部的下侧的沉积源。

所述第一磁化部的宽度与任一磁铁的宽度相同或者比任一磁铁的宽度更小。

此外，为了实现如上所述的目的，本发明的沉积装置包括：掩模支撑部，用于支撑掩模；以及第一磁化部及第二磁化部，在所述掩模支撑部的上方交替配置，并且提供极性彼此相反的磁力。

所述沉积装置进一步包括：第一磁铁，位于所述第一磁化部的上方；以及第二磁铁，位于所述第二磁化部的上方，并且提供极性与所述第一磁铁的极性相反的磁力。

此外，利用如上所述的沉积装置的显示装置的制造方法包括以下步骤：在掩模支撑部上配置掩模；在所述掩模的上方配置磁化部；通过使所述磁化部移动而使所述掩模磁化；在经磁化的所述掩模的上方配置基板；以及利用加压板对所述基板进行加压的同时，使该加压板的上方的磁铁位于与所述掩模的各部分对应的位置。

在通过使所述磁化部移动而使所述掩模磁化的步骤中，所述磁化部将所述掩模的所有部分磁化为极性和与该所有部分中的各部分对应的磁铁的极性彼此相反。

在通过使所述磁化部移动而使所述掩模磁化的步骤中，所述磁化部朝向所述掩模交替提供极性彼此相反的磁力。

本发明的沉积装置提供如下的效果。

根据本发明，在掩模的上方配置基板之前，各单位掩膜的上部表面的所有部分预先磁化为极性和与该所有部分中的各部分对应的磁铁的极性彼此相反。因此，在加压工序中能够提高基板与掩模之间的紧贴性。

附图说明

图1是本发明的沉积装置的主要部分的立体图，图2是沿图1的I-I'剖切的沉积装置的剖视图，并且图3是沿图1的II-II'剖切的沉积装置的剖视图。

图4a至图4d是用于说明利用本发明沉积装置的沉积方法的图。

图5是本发明另一实施例的沉积装置的剖视图。

图6是本发明又一实施例的沉积装置的剖视图。

图7是本发明又一实施例的沉积装置的剖视图。

图8是用于说明本发明的磁化部的磁力的图。

具体实施方式

参照附图的同时参照详细地后述的实施例，本发明的优点及特征、以及实现这些的方法将会明确。但是，本发明并不限定于以下所公开的实施例，而是以彼此不同的多种方式实现，本实施例仅使本发明的公开全面，并且为了给本发明所属技术领域的技术人员告知本发明的范围而提供的，本发明仅由权利要求的范围定义。因此，为了避免模糊地解释本发明，在几种实施例中不会具体说明已知的工艺步骤、已知的元件结构及已知的技术。在说明书全文中相同的附图标记指相同的结构要素。

在附图中，为了明确表达多个层及区域，放大表示厚度。在说明书全文中对类似的部分标注相同的附图标记。当提到层、膜、区域或板等部分位于另一部分的“上方”时，这不仅包括“直接”位于另一部分的“上方”的情况，还包括在其中间存在其他部分的情况。相反，当提到某部分“直接”位于另一部分的“上方”时，意味着在中间不存在其他部分。此外，当提到层、膜、区域或板等部分位于另一部分的“下方”时，这不仅包括“直接”位于另一部分的“下方”的情况，还包括在其中间存在其他部分的情况。相反，当提到某部分“直接”位于另一部分的“下方”时，意味着在中间不存在其他部分。

如图所示，作为空间上相对的用语的“下面(below)”、“下方(beneath)”、“下部(lower)”、“上方(above)”或“上部(upper)”等用语为了易于描述一个元件或结构要素与其他元件或结构要素之间的相关关系而使用。空间上相对的用语应被理解为除图中所示的方向以外，还包括使用时或操作时的元件的彼此不同的方向的用语。例如，在将图中所示的元件翻转时，被描述为处于其他元件的“下面(below)”或“下方(beneath)”的元件可位于其他元件的“上方(above)”。因此，示意性用语“下方”可将上方和下方这两个方向均包括。元件也可以取向成其他方向，因此空间上相对的用语可根据取向来解释。

在本说明书中，当提及某个部分与另一部分连接时，不仅包括直接连接的情况，还包括在中间设有其他元件的情况下电连接的情况。并且，当某部分包括某结构要素时，除非有相反的特别记载，这表示并不排除其他结构部件，而是可进一步包括其他结构要素。

在本说明书中，第一、第二、第三等用语可用于说明多种结构要素，但这种结构要素并非由所述用语限定。所述用语出于将一个结构要素与其他结构要素区别的目的使用。例如，在不脱离本发明的权利范围的情况下，第一结构要素可被命名为第二结构要素或第三结构要素等，类似地也可以交互命名第二或第三结构要素。

如果没有其他定义，则在本说明书中使用的所有用语(包括技术及科技用语)可作为本发明所属技术领域的技术人员能够普遍理解的含义来使用。另外，在通常使用的词典中定义的用语只要没有明确的特别定义，就不应理想地或过度地解释。

下面，参照图1至图8对本发明的沉积装置及利用该装置的显示装置的制造方法进行详细说明。

图1是本发明的沉积装置的主要部分的立体图，图2是是沿图1的I-I'剖切的沉积装置的剖视图，并且图3是沿图1的II-II'剖切的沉积装置的剖视图。

如图1至图3所示，本发明的沉积装置1000可包括腔室100、沉积源130、紧贴部800、掩模支撑部301、302、基板移送部811、801、822、802、磁化部700、第一导向部601及第二导向部602。

另外，作为本发明的沉积装置1000的结构要素，可以包括或者也可以不包括位于掩模支撑部301、302上方的掩模500。

腔室100在内部界定有供进行沉积工序的作业空间111。用于制造有机发光显示装置的膜沉积工序在腔室100的作业空间111中进行。

前述的沉积源130、紧贴部800、掩模支撑部301、302、磁化部700、第一导向部601及第二导向部602可位于腔室100的作业空间111内。

如图2所示，掩模支撑部301、302可包括彼此相对的第一掩模支撑部301及第二掩模支撑部302。第一掩模支撑部301及第二掩模支撑部302在X轴方向上相对。

腔室100包括彼此相对的第一侧壁100a及第二侧壁100b，第一掩模支撑部301位于第一侧壁100a，第二掩模支撑部302位于第二侧壁100b。

第一掩模支撑部301从第一侧壁100a朝向第二掩模支撑部302突出，第二掩模支撑部302从第二侧壁100b朝向第一掩模支撑部301突出。

掩模500位于掩模支撑部301、302的上方。例如，掩模500的彼此相对的边缘中的一侧边缘位于第一掩模支撑部301的支撑面上，该掩模500的彼此相对的边缘中的另一侧边缘位于第二掩模支撑部302的支撑面上。

掩模500的一侧边缘被第一掩模支撑部301支撑，该掩模500的另一侧边缘被第二掩模支撑部302支撑。掩模500的一侧边缘可以与第一掩模支撑部301的支撑面接触，掩模500的另一侧边缘可以与第二掩模支撑部302的支撑面接触。

如图1所示，掩模500可包括框架520和多个单位掩模510。前述的掩模500的一侧边缘及另一侧边缘分别相当于框架520的一侧边缘及另一侧边缘。

框架520可具有界定开口部515的环(ring)形状。例如，框架520可具有四边形的环形状。

如图1及图2所示，单位掩模510沿X轴方向在框架520上排列成一列。各单位掩模510的两侧边缘被框架520支撑。各单位掩模510的除两侧边缘以外的部分位于框架520的开口部515的上方。

各单位掩模510可具有长度在Y轴方向上长的棒(bar)形状。

各单位掩模510具有多个图案孔555。来自沉积源130的沉积物质经过各单位掩模510的图案孔555沉积在基板200上。

各单位掩模510可由金属材质形成。

基板200可以是有机发光显示装置的基板。

基板移送部811、801、822、802位于掩模支撑部301、302的上方。基板移送部811、801、822、802可沿Z轴方向或与该Z轴方向相反的方向(以下，称为“-Z轴方向”)移动。基板移送部811、801、822、802用于移送基板200。

基板移送部811、801、822、802包括彼此相对的第一移送部811及第二移送部822和彼此相对的第一基板支撑部801及第二基板支撑部802。

第一基板支撑部801与第一移送部811连接，第二基板支撑部802与第二移送部822连接。第一基板支撑部801从第一移送部811朝向第二基板支撑部802突出，第二基板支撑部802从第二移送部822朝向第一基板支撑部801突出。

基板200的彼此相对的边缘中的一侧边缘位于第一基板支撑部801上，该基板200的彼此相对的边缘中的另一侧边缘位于第二基板支撑部802上。当基板移送部811、801、822、802沿-Z轴方向移动并且第一基板支撑部801及第二基板支撑部802的支撑面位于比掩模500的上部面更靠下侧时，该基板移送部811、801、822、802上的基板200被放置在掩模500上。此时，基板200和掩模500彼此接触。

沉积源130位于掩模500的下部。具体而言，沉积源130可位于掩模500与腔室100的底面部100d之间。

沉积源130提供沉积物质。来自沉积源130的沉积物质朝向掩模500移动。具体而言，沉积源130通过以高温加热如有机物质或电极物质的沉积物质而使之蒸发，并且朝向掩模500供给该蒸发的沉积物质。

沉积源130可以顺着导向轴132沿X轴方向或与该X轴方向相反的方向(以下，称为“-X轴方向”)移动。该导向轴132可以被驱动电动机134驱动。即，可通过驱动电动机134使该导向轴132沿顺时针方向或逆时针方向旋转。例如，在导向轴132沿顺时针方向旋转的情况下，沉积源130可沿X轴方向移动，在该导向轴132沿逆时针方向旋转的情况下，沉积源130可沿-X轴方向移动。

如图2及图3所示，紧贴部800位于基板200的上方。紧贴部800可沿Z轴方向或-Z轴方向移动。紧贴部800可通过对基板200进行加压来使基板200与掩模500紧贴。

如图2及图3所示，紧贴部800可包括加压板810、基底板880、连接部840及多个磁铁851、852。

加压板810位于基板200的上方。加压板810可具有规定水平以上的重量，以便能够利用该加压板810自身的重量来加压基板200。该加压板810可由金属材质形成。例如，加压板810可由钨、铝或不锈钢等的材质形成。

基底板880位于加压板810的上方。

连接部840用于将加压板810和基底板880彼此连接。连接部840可以贯通基底板880的孔并被连接到加压板810的槽中。连接部840例如可以是螺钉。在基底板880的孔及加压板810的槽的内部可分别设置有与连接部840的螺纹对应的螺纹。

多个磁铁851、852可位于加压板810与基底板880之间。此时，该多个磁铁851、852可附着在基底板880。如图3所示，多个磁铁851、852可沿Y轴方向排列成一列。

多个磁铁851、852可包括至少一个第一磁铁851及至少一个第二磁铁852。第一磁铁851和第二磁铁852提供极性彼此相反的磁力。例如，第一磁铁851提供N极性的磁力，第二磁铁852提供S极性的磁力。在图3中用附图标记“N”指示的磁铁表示提供N极性磁力的第一磁铁851，用附图标记“S”指示的磁铁表示提供S极性磁力的第二磁铁852。

可交替配置有第一磁铁851和第二磁铁852。换言之，可沿Y轴方向交替配置有第一磁铁851及第二磁铁852。例如，图3所示的多个磁铁(例如，十个磁铁)从最左侧磁铁起依次可以是第一磁铁851、第二磁铁852、第一磁铁851、第二磁铁852、第一磁铁851及第二磁铁852、第一磁铁851、第二磁铁852、第一磁铁851及第二磁铁852。

多个磁铁851、852分别可以是电磁铁。作为又一例，多个磁铁851、852分别可以是永久磁铁。此外，可以是多个磁铁中的几个磁铁为永久磁铁，剩余磁铁为电磁铁。

移送部900位于紧贴部800的上方。例如，移送部900位于紧贴部的基底板880的上方。移送部900与基底板880连接。

移送部900可包括移送杆901及移送主体902。

移送杆901与基底板880连接。移送杆901可沿-Z轴方向伸展或沿Z轴方向收缩。当该移送杆901伸展时，与该移送杆901连接的紧贴部800朝向基板200下降，当该移送杆901收缩时，与该移送杆901连接的紧贴部800朝向腔室100的顶棚部100c上升。

移送主体902与移送杆901连接并使移送杆901的长度伸展或收缩。

磁化部700可位于掩模支撑部301、302的上方。具体而言，磁化部700可位于掩模支撑部301、302与加压板810之间。

磁化部700可具有长度在X轴方向上长的棒(bar)形状。换言之，磁化部700可具有与所有单位掩模510交叉及重叠的棒形状。

磁化部700可沿与第一掩模支撑部301(或第二掩模支撑部302)的支撑面平行的方向移动。如图3所示的例，磁化部700可沿磁铁851、852的排列方向移动。换言之，磁铁851、852沿Y轴方向排列，该磁化部700可沿该Y轴方向或-Y轴方向移动。

此外，磁化部700可朝向腔室100的底面部100d或腔室100的顶棚部100c移动。换言之，磁化部700也可以沿Z轴方向或-Z轴方向移动。

磁化部700可朝向掩模支撑部301、302交替提供极性相反的磁力。例如，磁化部700可以在对掩模施加N极性的磁力之后，接着对掩模施加S极性的磁力。此时，由于磁化部700沿单位掩模510的长度方向移动，因此按部分利用极性不同的磁力来依次磁化一个单位掩模510。

磁化部700产生极性和与该磁化部700所处的部位相对的磁铁的极性相同的磁力。例如，在磁化部700位于与提供N极性磁力的第一磁铁851对应的位置的情况下，磁化部700对单位掩模510施加N极性的磁力。相反，在磁化部700位于与提供S极性磁力的第二磁铁852对应的位置的情况下，磁化部700对单位掩模510提供S极性的磁力。

如图3所示，磁化部700的宽度d1可以与任一磁铁(例如，851)的宽度d2相同或比该宽度d2更小。当磁化部700的宽度d1与磁铁851的宽度d2相同时，能够使磁铁851、852与单位掩模510之间的斥力区间最小化。

磁化部700从最左侧的第一磁铁851的下部移动至最右侧的第二磁铁852的下部。

磁化部700可位于第一导向部601与第二导向部602之间。磁化部700与第一导向部601及第二导向部602连接，该磁化部700可以顺着第一导向部601及第二导向部602沿Y轴方向或-Y轴方向移动。

第一导向部601及第二导向部602在X轴方向上彼此相对。

第一导向部601位于第一侧壁100a，第二导向部602位于第二侧壁100b。具体而言，第一导向部601从第一侧壁100a朝向第二导向部602突出，第二导向部602从第二侧壁100b朝向第一导向部601突出。

第一导向部601的突出部60a被插入到磁化部700的第一槽70a中，第二导向部602的突出部60b被插入到磁化部700的第二槽70b中。

第一导向部601及第二导向部602可朝向腔室100的底面部100d或腔室100的顶棚部100c移动。换言之，第一导向部601及第二导向部602也可沿Z轴方向或-Z轴方向移动。伴随该第一导向部601及第二导向部602的移动，磁化部700也可以沿Z轴方向或-Z轴方向移动。

图4a至图4d是用于说明利用本发明的沉积装置的沉积方法的图。

首先，如图4a所示，在掩模支撑部301、302上放置有掩模500。并且，紧贴部800朝向腔室100的上部壁上升。随着紧贴部800沿Z轴方向上升，能够确保磁化部700的移动路径。

接着，磁化部700沿Y轴方向移动。随着磁化部700移动，位于该磁化部700的移动路径上的单位掩模510被磁化。换言之，与该磁化部700相对的各单位掩模510的上部表面被磁化为极性与由磁化部700提供的磁力的极性相反的磁力。此外，随着磁化部700的移动，按区域依次磁化各单位掩模510的上部表面。此时，由于在磁化部700的移动过程中该磁化部700的磁力的极性随着各磁铁851、852的位置发生变化，因此按区域将各单位掩模510磁化为彼此不同的极性。

例如，当磁化部700位于产生N极性磁力的第一磁铁851与各单位掩模510的第一区域A1之间时，磁化部700将N极性的磁力施加到各单位掩模510的第一区域A1。于是，各单位掩模510的第一区域A1被磁化为S极性。具体而言，在各单位掩模510的上部表面中位于第一区域A1的上部表面部分被磁化为S极性。

在图4a所示的单位掩模510的各上部表面中图示的附图标记“S”是指各第一区域A1的上部表面被磁化为S极性。

另外，当磁化部700位于产生S极性磁力的第二磁铁852与各单位掩模510的第二区域A2之间时，磁化部700将S极性的磁力施加到各单位掩模510的第二区域A2。于是，各单位掩模510的第二区域A2被磁化为N极性。具体而言，在各单位掩模510的上部表面中位于第二区域A2的上部表面部分被磁化为N极性。

在图4a所示的单位掩模510的各上部表面中图示的附图标记“N”是指第二区域A2的上部表面被磁化为N极性。

由此，各单位掩模510的上部表面的所有部分可预先被磁化为极性和与该所有部分中的各部分对应的磁铁的极性相反。

另外，单位掩模510的上部表面在被磁化部700磁化之前可部分具有彼此不同大小的磁性，在这种情况下，有可能因磁性大小的偏差而减小单位掩模510与基板200之间的紧贴性。例如，被磁化部700磁化之前的单位掩模510的特定部分可具有与对应于该特定部分设置的磁铁相同的极性，在这种情况下，有可能因斥力而减弱该单位掩模510的特定部分与基板200之间的紧贴性。

根据本发明，在掩模500的上方配置基板200之前，可通过磁化部700将各单位掩模510的上部表面的所有部分预先磁化为极性和与该所有部分中的各部分对应的磁铁的极性彼此相反。换言之，可通过磁化部700将各单位掩模510的上部表面的所有部分初始化为预先设定的极性的磁力。因此，以后能够提高基板200与掩模500之间的紧贴性。

之后，如图4b所示，磁化部700沿Y轴方向移动到腔室100的边缘。由此，能够确保基板移送部811、801、822、802的移动路径及紧贴部800的移动路径。

接着，如图4c所示，由基板移送部811、801、822、802移送的基板200被放置在经磁化的掩模500上。

接着，如图4d所示，通过移送部900，紧贴部800朝向基板200下降并对基板200进行加压。此时，由于隔着基板200彼此相对的第一磁铁851和各单位掩模510的第一区域A1的上部表面部分具有彼此相反的极性，因此在第一磁铁851与第一区域A1的上部表面之间产生较强的吸力。此外，由于隔着基板200彼此相对的第二磁铁852和各单位掩模510的第二区域A2的上部表面部分具有彼此相反的极性，因此在第二磁铁852与第二区域A2的上部表面之间产生较强的吸力。因此，位于磁铁851、852与掩模500之间的基板200能够更强烈地附着到该掩模500。由此，能够提高掩模500与基板200之间的紧贴性。

接着，从沉积源130提供沉积物质。该沉积物质通过各单位掩模510的图案孔555沉积在基板200上。

图5是本发明另一实施例的沉积装置的剖视图。

如图5所示，本发明的沉积装置2000可包括腔室100、沉积源130、紧贴部800、掩模支撑部301、302、基板移送部811、801、822、802、前磁化部701及后磁化部702、第一导向部601及第二导向部602。

图5的沉积装置2000与图1的沉积装置1000相比进一步包括一个磁化部。即，图5的沉积装置2000包括前磁化部701及后磁化部702。

前磁化部701及后磁化部702位于第一导向部601与第二导向部602之间。前磁化部701与第一导向部601及第二导向部602连接，后磁化部702与第一导向部601及第二导向部602连接。前磁化部701及后磁化部702可以顺着第一导向部601及第二导向部602沿Y轴方向或-Y轴方向移动。

前磁化部701及后磁化部702分别与前述的磁化部700相同。但是，前磁化部701的移动距离及后磁化部702的移动距离可以与前述的磁化部700的移动距离不同。例如，前磁化部701具有比磁化部700更短的移动距离。同样，后磁化部702具有比磁化部700更短的移动距离。

前磁化部701可以使各单位掩模510的面积中的1/2面积磁化，后磁化部702可以使各单位掩模510的面积中的剩余1/2面积磁化。

另外，为了在基板加压工序之前确保紧贴部800的移动路径，前磁化部701可向腔室100的一侧边缘移动，后磁化部702可向腔室100的另一侧边缘移动。

由于图5的沉积装置2000与图1的沉积装置1000相比包括更多数量的磁化部，因此能够在相对更快的时间内使掩模500磁化。

图5的腔室100、沉积源130、紧贴部800、掩模支撑部301、302、基板移送部811、801、822、802、第一导向部601及第二导向部602与前述的图1中的相应部分相同。

图6是本发明又一实施例的沉积装置的剖视图。

如图6所示，本发明的沉积装置3000可包括腔室100、沉积源130、紧贴部800、掩模支撑部301、302、基板移送部811、801、822、802、多个磁化部777、第一导向部601及第二导向部602。

图6的沉积装置3000的磁化部700的数量与磁铁851、852的数量相同。例如，沉积装置3000可包括十个磁铁851、852和十个磁化部777。

各磁化部777位于与各磁铁851、852一对一的方式对应的位置。

各磁化部777位于第一导向部601与第二导向部602之间。各磁化部777与第一导向部601及第二导向部602连接。各磁化部777可以顺着第一导向部601及第二导向部602沿Y轴方向或-Y轴方向移动。此外，各磁化部777可沿Z轴方向或-Z轴方向移动。

相邻的磁化部777可提供彼此不同极性的磁力。例如，位于与产生N极性磁力的第一磁铁851对应的位置的磁化部777可提供N极性的磁力，位于与产生S极性磁力的第二磁铁852对应的位置的磁化部777可提供S极性的磁力。

图6的各磁化部777可提供固定极性的磁力。例如，位于与第一磁铁851对应的位置的磁化部777可一直提供N极性的磁力，位于与第二磁铁852对应的位置的磁化部777可一直提供S极性的磁力。

可按磁铁851、852之间的距离，相应地调节磁化部777之间的距离(或者间距)。

另外，当如图6的磁化部777被设置于腔室100内时，为了确保紧贴部800的移动路径，腔室100可具有更宽阔的作业空间111。

由于图6的沉积装置3000与图1的沉积装置1000相比包括更多数量的磁化部，因此能够在更快的时间内使掩模500磁化。

图6的腔室100、沉积源130、紧贴部800、掩模支撑部301、302、基板移送部811、801、822、802、第一导向部601及第二导向部602与前述的图1中的相应部分相同。

图7是本发明又一实施例的沉积装置的剖视图。

如图7所示，本发明的沉积装置400可包括腔室100、沉积源130、紧贴部800、掩模支撑部301、302、基板移送部811、801、822、802、上部磁化部771、下部磁化部772、第一导向部601及第二导向部602。

上部磁化部771与前述的图1的磁化部700相同。

上部磁化部771使单位掩模510的上部表面磁化，下部磁化部772使单位掩模510的下部表面磁化。

下部磁化部772设置为隔着掩模支撑部301、302与上部磁化部771彼此相对。下部磁化部772可位于掩模支撑部301、302的下部。具体而言，下部磁化部772可位于掩模支撑部301、302与沉积源130之间。

下部磁化部772可具有长度在X轴方向上长的棒(bar)形状。换言之，下部磁化部772可具有与所有单位掩模510交叉及重叠的棒形状。

下部磁化部772可沿与第一掩模支撑部301(或第二掩模支撑部302)的支撑面平行的方向移动。下部磁化部772可沿磁铁851、852的排列方向移动。换言之，下部磁化部772可沿Y轴方向或-Y轴方向移动。

下部磁化部772和上部磁化部771以彼此相对的状态一同移动。下部磁化部772和上部磁化部771以相同的速度移动。

下部磁化部772朝向掩模支撑部301、302交替提供极性相反的磁力。例如，下部磁化部772可以在将S极性的磁力施加到掩模500之后，接着将N极性的磁力施加到掩模500。此时，由于下部磁化部772沿单位掩模510的长度方向移动，因此按部分利用极性不同的磁力来磁化一个单位掩模510的下部表面。

下部磁化部772产生极性和与该下部磁化部772所处的部位相对的磁铁的极性相反的磁力。因此，下部磁化部772和上部磁化部771提供极性彼此相反的磁力。例如，上部磁化部771和下部磁化部772位于与产生N极性磁力的第一磁铁851对应的位置时，上部磁化部771将N极性的磁力提供给单位掩模510的上部表面，与此相反地，下部磁化部772将S极性的磁力提供给该单位掩模510的下部表面。作为又一例，当上部磁化部771和下部磁化部772位于与产生S极性磁力的第二磁铁852对应的位置时，上部磁化部771将S极性的磁力提供给单位掩模510的上部表面，与此相反地，下部磁化部772将N极性的磁力提供给该单位掩模510的下部表面。因此，单位掩模510的彼此相对的上部表面和下部表面被磁化为彼此相反的极性。换言之，单位掩模510的位于相同区域的上部表面和下部表面被磁化为彼此相反的极性。由此，能够更准确地将上部表面磁化为相应极性的磁力。

下部磁化部772从最左侧的第一磁铁851的下部移动至最右侧的第二磁铁852的下部。下部磁化部772可沿Z轴方向或-Z轴方向移动。

虽然未图示，但下部磁化部772位于彼此相对的第三导向部及第四导向部之间，并且该下部磁化部772能够顺着该第三导向部及第四导向部沿Y轴方向或-Y轴方向移动。第三导向部及第四导向部与前述的第一导向部601及第二导向部602分别相同。但是，第三导向部及第四导向部位于掩模支撑部301、302的下部。第三导向部及第四导向部可分别设置于第一侧壁100a及第二侧壁100b。

此外，下部磁化部772可沿Z轴方向或-Z轴方向移动。

另外，在从前述的所有实施例的沉积装置中，可以从前述的腔室100(以下，称为第一腔室100)中去除沉积源130、紧贴部800、基板移送部811、801、822、802、导向轴132及驱动电动机134。代替此，该沉积源130、紧贴部800、基板移送部811、801、822、802、导向轴132及驱动电动机134可配置在其他独立的腔室(以下，称为第二腔室)内。在这种情况下，在前述的第一腔室100中执行掩模500的磁化工序，该经磁化的掩模500通过独立的移送机构移动到第二腔室。在第二腔室中实现利用紧贴部800的物理及磁性加压工序。

可以如图2所示那样配置第二腔室内的沉积源130、紧贴部800、基板移送部811、801、822、802、导向轴132及驱动电动机134。此外，在第二腔室的内部包括如图1所示的掩模支撑部301、302，从第一腔室100移送来的掩模500可位于第二腔室的掩模支撑部上。

图8是用于说明本发明的磁化部的磁力的图。

图8的横轴是指磁场的方向，该图8的纵轴是指磁力。

图8的第一曲线C1表示普通永久磁铁的磁力大小，第二曲线C2表示由本发明的磁化部施加的磁力的大小。

如图8的第一象限所示，由本发明的磁化部施加的N极性的磁力大于普通永久磁铁的磁力。此外，如图8的第三象限所示，由本发明的磁化部施加的S极性的磁力大于普通永久磁铁的磁力。

以上所说明的本发明并不限定于上述实施例及附图，在不脱离本发明的技术思想的范围内可进行各种置换、变形及变更，这对本发明所属技术领域的技术人员来说是显而易见的。

附图标记说明

700：磁化部 301：第一掩模支撑部

302：第二掩模支撑部 500：掩模

510：单位掩模 520：框架

601：第一导向部 602：第二导向部

60a、60b：突出部 555：图案孔

Claims

1.一种沉积装置，包括：

掩模支撑部，用于支撑掩模；以及

至少一个第一磁化部，位于所述掩模支撑部的上方，并且朝向所述掩模支撑部交替提供极性彼此相反的磁力。

2.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，

进一步包括位于所述第一磁化部的上方的多个磁铁。

3.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，

4.根据权利要求3所述的沉积装置，其中，

5.根据权利要求4所述的沉积装置，其中，

所述第一磁铁和所述第二磁铁交替排列。

6.根据权利要求5所述的沉积装置，其中，

当所述第一磁化部位于与所述第一磁铁对应的位置时，所述第一磁化部提供极性与所述第一磁铁的极性相同的磁力，

当所述第一磁化部位于与所述第二磁铁对应的位置时，所述第一磁化部提供极性与所述第二磁铁的极性相同的磁力。

7.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，

进一步包括第二磁化部，所述第二磁化部以与所述第一磁化部相对的方式位于所述掩模支撑部的下侧。

8.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，

进一步包括第一导向部及第二导向部，所述第一导向部及所述第二导向部设置为隔着所述第一磁化部彼此相对，并且与所述第一磁化部连接。

9.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，

所述第一磁化部包括电磁铁。

10.根据权利要求1所述的沉积装置，进一步包括：

所述掩模支撑部的上方的加压板；以及

所述掩模支撑部的下侧的沉积源。