CN109932768A - 标尺和标尺的制造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 43
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 12
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 claims description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910008479 TiSi2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006094 Zerodur Substances 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002969 artificial stone Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000002419 bulk glass Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910021341 titanium silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/347—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells using displacement encoding scales
- G01D5/34707—Scales; Discs, e.g. fixation, fabrication, compensation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/38—Forming the light into pulses by diffraction gratings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1861—Reflection gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/008—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
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Abstract
一种标尺包括：基板，用低膨胀玻璃制造，其热膨胀系数为1×10‑7/K或更小；和标尺光栅，具有以预定间隔布置在基板第一面上且用透明无机材料制造的多个光栅，该透明无机材料的热膨胀系数大于1×10‑7/K。
Description
技术领域
本文所述的实施例的某些方面涉及标尺和标尺的制造方法。
背景技术
公开了一种技术，其中纳米压印(nanoimprint)被用作形成高准确性衍射光栅的方法(例如见日本专利申请公开No.H04-51201)。
发明内容
但是，日本专利申请公开No.H04-51201的技术中，使用树脂作为光栅。在这种情况下，无法实现足够的环境耐受性、足够的随时间稳定性等。因此，光栅会随时间劣化。且因此，想到的是，通过直接处理基板(例如人造石英)形成衍射光栅。然而，人造石应的热膨胀系数约为0.5×10-6/K，是相对高的值。因此，在衍射光栅被用作高准确性标尺时，环境温度变化的影响被放大。且因此，被称为零膨胀系数玻璃的低膨胀玻璃可以用作基板。然而，难以直接处理零膨胀系数玻璃。
在本发明的一个方面，目标是提供一种标尺，其具有抑制随时间劣化且抑制环境温度变化影响的特征，并提供一种标尺的制造方法。
根据本发明的一个方面，提供一种标尺，包括：基板，用低膨胀玻璃制造，其热膨胀系数为1×10-7/K或更小；和标尺光栅，具有以预定间隔布置在基板第一面上且用透明无机材料制造的多个光栅，该透明无机材料的热膨胀系数大于1×10-7/K。
根据本发明的另一方面，提供一种标尺的制造方法，包括：在低膨胀玻璃制造的基板上形成要被蚀刻的层，该低膨胀玻璃的热膨胀系数为1×10-7/K或更小，要被蚀刻的层用透明无机材料制造，该透明无机材料的热膨胀系数大于1×10-7/K；和通过对要被蚀刻的层进行蚀刻，形成以预定间隔布置在基板上的多个光栅。
附图说明
图1A示出了第一实施例的标尺的平面图；
图1B示出了沿图1A的线A-A截取的截面视图；
图2示出了第一实施例的标尺的另一例子；
图3A到图3D显示了标尺的制造方法；
图4A示出了第二实施例的标尺的平面图；
图4B示出了沿图4A的线B-B截取的截面视图；
图5示出了模拟结果，其显示了层状部分的厚度和衍射效率之间的关系；
图6示出了第二实施例的标尺的另一例子；
图7A和图7B显示了第二实施例的标尺的另一例子；和
图8A和图8B显示了标尺的制造方法。
具体实施方式
以下是参考附图对实施例所作的描述。
(第一实施例)图1A示出了根据第一实施例的标尺100的平面图。图1B示出了沿图1A的线A-A截取的截面视图。如图1A和图1B所示的，标尺100具有标尺光栅20，其包括以预定间隔布置在基板10的第一面上的多个光栅。通过该结构，标尺100实现光学特征，例如透光性或光反射特征。
基板10用零膨胀玻璃制造。零膨胀玻璃是热膨胀系数为1×10-7/K或更小的低膨胀玻璃。例如，可以通过将结晶化玻璃分散到非晶玻璃中来制造零膨胀玻璃。CLEARCERAM(注册商标)、Zerodur(注册商标)可以用作零膨胀玻璃。
标尺光栅20仅需要是透明无机材料，其热膨胀系数大于1×10-7/K。例如玻璃、SiO2(二氧化硅)或TiO2(二氧化钛)这样的透明氧化物或例如MgF2(氟化镁)这样的透明氟化物可以用作透明无机材料。
在该实施例中，基板10用零膨胀玻璃制造。因此，标尺100的热膨胀系数小。且，标尺100几乎不受环境温度变化的影响。标尺光栅20用透明无机材料制造。在这种情况下，与标尺光栅用树脂制造的情况相比，能实现足够的环境耐受性、随时间的稳定性(chronological stability)等等。由此，抑制随时间的劣化(chronologicaldegradation)。因此可以为标尺100提供抑制随时间劣化且抑制环境温度变化影响的特征。
优选的是，在标尺光栅20的折射率为“nf”且基板10的衍射率为“ns”时，满足nf≤ns的关系。在满足该关系时，抑制衍射光栅的光栅高度变化的影响。因此可以改善光栅形成的产量或生产能力。
在标尺100被用作反射式衍射光栅时，反射层30可以覆盖基板10的第一面的露出部分和标尺光栅20，如图2所示。例如，反射层30覆盖所有标尺光栅20。反射层30可以使用诸如Cr(铬)、TiSi2(硅化钛)、Ti(钛)、Au(金)、Al(铝)等的金属材料。
图3A到图3D显示了标尺100的制造方法。如图3A所示的，要被蚀刻的层50形成在基板10的第一面上。要被蚀刻的层50是用于形成标尺光栅20的层。因此，要被蚀刻的层50的材料与标尺光栅20的相同。可以通过物理气相沉积方法(例如真空沉积或溅射)形成要被蚀刻的层50。可以通过化学气相沉积方法形成要被蚀刻的层50。可以通过例如SOG(Spin OnGlass：旋涂玻璃)这样的湿式涂布(wet coating)形成要被蚀刻的层50。
接下来，如图3B所示，抗蚀剂图案60以预定间隔形成在要被蚀刻的层50上。抗蚀剂图案60具有与标尺光栅20相同的图案。可以通过使用预定掩膜对抗蚀层进行曝光和显影来形成抗蚀剂图案60。接下来，如图3C所示，抗蚀剂图案60用作掩膜。且要被蚀刻的层50被蚀刻(蚀刻过程)。在这种情况下，可以露出基板10的第一面的该部分，而非标尺光栅20。由此，形成标尺光栅20。接下来，如图3D所示，去除抗蚀剂图案60。因此，制造出标尺100。且在要被蚀刻的层50上形成掩膜层(该掩膜层的蚀刻选择性与要被蚀刻的层50的不同)并通过使用掩膜层处理抗蚀剂图案60之后可以处理要被蚀刻的层50，以改善掩膜的抗蚀刻性。
在制造方法中，由于化学稳定性的差异，基板10的蚀刻速率小于要被蚀刻的层50的蚀刻速率。因此，在蚀刻要被蚀刻的层50时，标尺光栅20形成在基板10上。基板10用零膨胀玻璃制造。且标尺光栅20用并非零膨胀玻璃的透明无机材料制造。因此可以将标尺100制造为具有抑制随时间劣化且抑制环境温度变化影响的特征。
(第二实施例)图4A示出了根据第二实施例的标尺100a的平面图。图4B示出了沿图4A的线B-B截取的截面视图。如图4A和图4B所示的，标尺100a与第一实施例的标尺100不同之处在于代替标尺光栅20设置了标尺光栅20a。标尺光栅20a与标尺光栅20不同之处在于标尺光栅20a的光栅在底部连接。即，标尺光栅20a具有一结构，其中多个光栅22设置在基板10第一面上的层状部分21上。层状部分21覆盖基板10的第一面的总体。层状部分21的材料与光栅22的相同。层状部分21和光栅22的材料与第一实施例的标尺光栅20的材料相同。
在该实施例中，基板10用零膨胀玻璃制造。因此，标尺100a的热膨胀系数小。且，标尺100a几乎不受环境温度变化的影响。标尺光栅20a用透明无机材料制造。在这种情况下，与标尺光栅用树脂制造的情况相比，能实现足够的环境耐受性、随时间的稳定性等等。由此，可以抑制随时间的劣化。因此可以为标尺100a提供抑制随时间劣化且抑制环境温度变化影响的特征。而且，每一个光栅22通过层状部分21连接。因此，与未形成层状部分21的情况相比，可以抑制与进入标尺100a的光有关的衍射率的变化。由此，反射的光通过干涉效应而彼此增强。因此可以扩大衍射效率。
优选的是，在层状部分21和标尺光栅的衍射率为“nf”且基板10的衍射率为“ns”时，满足nf≤ns的关系。在满足该关系时，抑制衍射光栅的光栅高度变化的影响。因此可以改善光栅形成的产量或生产能力。
图5示出了模拟结果，其显示了层状部分21的厚度和衍射效率之间的关系。在模拟中，衍射率“nf”为1.456(SiO2的衍射率)，且衍射率“ns”为1.546(CLEARCERAM(注册商标)的衍射率)。在图5中，“0μm”表示未设置层状部分21的情况。“0.5μm”、“1.0μm”和“2.0μm”分别表示层状部分21的厚度为“0.5μm”、“1.0μm”和“2.0μm”。水平轴线表示光栅22高度的标准化值(normalized value)。如图5所示，设置层状部分21的情况下的衍射效率大于未设置层状部分21的情况(0μm)。从图5的结果可见，优选的是层状部分21的厚度为0.5μm或更大。例如，层状部分21的厚度可以是0.5μm或更大且是2.5μm或更小，或可以0.5是μm或更大且是2.0μm或更小。
在标尺光栅20a具有层状部分21时，会在基板10的第一面侧发生应力。且因此，如图6所示，可以设置应力抑制层40，以便抑制应力。例如，应力抑制层40设置在基板10的第二面(与第一面面对)上。在标尺光栅20a对基板10造成挤压应力时，应力抑制层40通过用于产生挤压应力的材料制造。在标尺光栅20a对基板10造成拉伸应力时，应力抑制层40通过用于产生拉伸应力的材料制造。例如，在标尺100a用作透明式衍射光栅时，应力抑制层40用例如氧化物这样的透明材料制造。在标尺100a被用作反射式衍射光栅时，应力抑制层40的材料不受限制。
在标尺100a被用作反射式衍射光栅时，基板的第一面的露出部分和标尺光栅20a可以被第一实施例中所述的反射层30覆盖，如7A所示。
替换地，如图7B所示，标尺光栅20a可以被反射层30覆盖，且应力抑制层40可以设置在基板10的第二面上。在这种情况下，在标尺光栅20a和反射层30完全对基板10造成挤压应力时，应力抑制层40通过用于产生挤压应力的材料制造。在标尺光栅20a和反射层30完全对基板10造成拉伸应力时，应力抑制层40通过用于产生拉伸应力的材料制造。
图8A和图8B显示了标尺100a的制造方法。如图3A和图3B所示，要被蚀刻的层50形成在基板10的第一面上。抗蚀剂图案60以预定间隔形成在要被蚀刻的层50上。接下来，如图8A所示，抗蚀剂图案60用作掩膜，且要被蚀刻的层50经历蚀刻过程(蚀刻过程)。在这种情况下，完成蚀刻过程使得基板10的第一面不露出。即，在在基板10的第一面上露出除了光栅的部分之前完成蚀刻过程。由此，形成光栅22，且形成层状部分21。即，可以形成标尺光栅20a。接下来，如图8B所示，抗蚀剂图案60被去除。通过该过程，制造出标尺100a。且在要被蚀刻的层50上形成掩膜层(该掩膜层的蚀刻选择性与要被蚀刻的层50的不同)并通过使用掩膜层处理抗蚀剂图案60之后，可以处理要被蚀刻的层50，以改善掩膜的抗蚀刻性。
在第二实施例的制造方法中，可以在留有层状部分21时形成光栅22。由此，可以在基板10上形成标尺光栅20a。基板10用零膨胀玻璃制造，且标尺光栅20a用除了零膨胀系数材料的透明无机材料制造。因此可以将标尺100a制造为具有抑制随时间劣化且抑制环境温度变化影响的特征。且，可以抑制与进入标尺100a的光有关的衍射率的变化，因为光栅22通过层状部分21连接。因此可以扩大衍射效率。
本发明并不限于具体公开的实施例和变化例，而是可以包括不脱离本发明范围的其他实施例和变化例。
Claims (10)
1.一种标尺，包括：
基板，用低膨胀玻璃制造，其热膨胀系数为1×10-7/K或更小；和
标尺光栅，具有以预定间隔布置在基板的第一面上且用透明无机材料制造的多个光栅，该透明无机材料的热膨胀系数大于1×10-7/K。
2.如权利要求1所述的标尺，其中透明无机材料的衍射率不大于低膨胀玻璃的衍射率。
3.如权利要求1或2所述的标尺，其中透明无机材料为SiO2或MgF2。
4.如权利要求1或2所述的标尺，其中标尺光栅在基板的第一面上具有一结构，在该结构中多个光栅设置在透明无机材料制造的层状部分上。
5.如权利要求4所述的标尺，其中层状部分具有0.5μm到2.5μm的厚度。
6.如权利要求4所述的标尺，进一步包括：
应力抑制层，其设置在基板的第二面上，且抑制层状部分对基板施加的应力，第二面面对第一面。
7.一种标尺的制造方法，包括：
在低膨胀玻璃制造的基板上形成要被蚀刻的层，该低膨胀玻璃的热膨胀系数为1×10-7/K或更小，要被蚀刻的层用透明无机材料制造，该透明无机材料的热膨胀系数大于1×10-7/K；和
通过对要被蚀刻的层进行蚀刻，形成以预定间隔布置在基板上的多个光栅。
8.如权利要求7所述的方法，其中在要被蚀刻的层的蚀刻期间，基板的除了光栅的部分被露出。
9.如权利要求7所述的方法，其中在要被蚀刻的层的蚀刻过程中，在基板的除了光栅的部分被露出之前完成蚀刻。
10.如权利要求7到9中任一项所述的方法，其中在基板上形成要被蚀刻的层期间使用物理气相沉积方法、化学气相沉积方法和湿式涂布方法中之一。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017-241624 | 2017-12-18 | ||
| JP2017241624A JP7060370B2 (ja) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | スケールおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109932768A true CN109932768A (zh) | 2019-06-25 |
Family
ID=66674914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201811541825.9A Pending CN109932768A (zh) | 2017-12-18 | 2018-12-17 | 标尺和标尺的制造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11307058B2 (zh) |
| JP (1) | JP7060370B2 (zh) |
| CN (1) | CN109932768A (zh) |
| DE (1) | DE102018009116A1 (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114952023B (zh) * | 2022-06-24 | 2024-01-30 | 长沙麓邦光电科技有限公司 | 用于制备光栅尺的夹具及其联控方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08286020A (ja) * | 1995-04-13 | 1996-11-01 | Dr Johannes Heidenhain Gmbh | 位相格子および位相格子の作製方法 |
| JP2005114717A (ja) * | 2003-09-16 | 2005-04-28 | Citizen Watch Co Ltd | 光学式エンコーダ |
| JP2006053279A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Epson Toyocom Corp | 透過型回折素子の製造方法、及び透過型回折素子 |
| JP2008242332A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Canon Inc | 反射光学素子及び露光装置 |
| CN104515468A (zh) * | 2013-10-07 | 2015-04-15 | 约翰内斯﹒海德汉博士有限公司 | 光学位置测量装置 |
| CN106989666A (zh) * | 2016-01-21 | 2017-07-28 | 约翰内斯.海德汉博士有限公司 | 光学的位置测量装置 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0451201A (ja) | 1990-06-19 | 1992-02-19 | Canon Inc | 透過型回折格子及び該回折格子を用いたエンコーダ |
| DE19502727A1 (de) | 1995-01-28 | 1996-08-01 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Phasengitter |
| EP0773458B1 (de) | 1995-11-11 | 2000-03-08 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Auflicht-Phasengitter |
| DE19652563A1 (de) | 1996-12-17 | 1998-06-18 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Lichtelektrische Positionsmeßeinrichtung |
| JP3675314B2 (ja) * | 2000-07-26 | 2005-07-27 | 株式会社島津製作所 | 回折格子 |
| US6560020B1 (en) * | 2001-01-16 | 2003-05-06 | Holotek, Llc | Surface-relief diffraction grating |
| CN100397045C (zh) | 2004-01-26 | 2008-06-25 | 三丰株式会社 | 标尺的制造方法和光电式编码器 |
| JP4913345B2 (ja) | 2004-01-26 | 2012-04-11 | 株式会社ミツトヨ | 反射型光電式エンコーダ用スケール、スケールの製造方法及び光電式エンコーダ |
| US20050275944A1 (en) * | 2004-06-11 | 2005-12-15 | Wang Jian J | Optical films and methods of making the same |
| JP2008045931A (ja) | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光学式エンコーダのスケールの製造方法 |
| JP5434379B2 (ja) | 2009-08-28 | 2014-03-05 | 株式会社ニコン | スケール体、位置検出装置、ステージ装置、及び露光装置 |
| GB2487972A (en) * | 2011-02-11 | 2012-08-15 | Nokia Corp | A method of display of comments associated with an object |
| JP5965698B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2016-08-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 回折格子およびその製造方法 |
| US9720147B2 (en) * | 2014-03-28 | 2017-08-01 | Lumentum Operations Llc | Reflective diffraction grating and fabrication method |
| DE102015201230A1 (de) | 2015-01-26 | 2016-07-28 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmesseinrichtung |
-
2017
- 2017-12-18 JP JP2017241624A patent/JP7060370B2/ja active Active
-
2018
- 2018-11-20 DE DE102018009116.4A patent/DE102018009116A1/de active Pending
- 2018-12-14 US US16/220,368 patent/US11307058B2/en active Active
- 2018-12-17 CN CN201811541825.9A patent/CN109932768A/zh active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08286020A (ja) * | 1995-04-13 | 1996-11-01 | Dr Johannes Heidenhain Gmbh | 位相格子および位相格子の作製方法 |
| JP2005114717A (ja) * | 2003-09-16 | 2005-04-28 | Citizen Watch Co Ltd | 光学式エンコーダ |
| JP2006053279A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Epson Toyocom Corp | 透過型回折素子の製造方法、及び透過型回折素子 |
| JP2008242332A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Canon Inc | 反射光学素子及び露光装置 |
| CN104515468A (zh) * | 2013-10-07 | 2015-04-15 | 约翰内斯﹒海德汉博士有限公司 | 光学位置测量装置 |
| CN106989666A (zh) * | 2016-01-21 | 2017-07-28 | 约翰内斯.海德汉博士有限公司 | 光学的位置测量装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2019109116A (ja) | 2019-07-04 |
| DE102018009116A1 (de) | 2019-06-19 |
| US20190186957A1 (en) | 2019-06-20 |
| JP7060370B2 (ja) | 2022-04-26 |
| US11307058B2 (en) | 2022-04-19 |
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