CN109928778B - 一种哑光防污釉料及釉浆制备方法、陶瓷砖及制备方法 - Google Patents
一种哑光防污釉料及釉浆制备方法、陶瓷砖及制备方法 Download PDFInfo
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Abstract
本发明公开了一种哑光防污釉料,包括釉料A和釉料B;釉料A的原料使用煅烧滑石、霞石和α‑锂辉石调节釉料的烧成温度,使釉料在950‑1050℃的时候局部产生液相;釉料B使用碳酸钡、方解石和氧化锆调节玻璃相形成。相应的,本发明还公开了哑光防污釉料的釉浆的制备方法、哑光防污陶瓷砖及该陶瓷砖的制备方法。釉料在烧制过程中,温度达到950~1050℃时,釉料中的碳酸盐物质、有机物等排除的时候会有气泡产生,这时候液相进入气泡空隙中进行填补,使得釉料在1192~1205℃温度烧结的时候更致密气孔最少,釉面有很好的防污效果。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷砖技术领域,尤其涉及一种哑光防污釉料及釉浆制备方法、陶瓷砖及制备方法。
背景技术
随着人们的生活水平提高了,对产品的质量要求越来越高了。基于现在的瓷砖产品流行仿大理石或者木头效果,为了追求更逼真的效果和触感,瓷砖产品的设计就会做的光泽度比较低,表面的质感比较粗糙,瓷砖产品的表面光泽度低了、粗糙了,伴随着防污问题就产生了。产品如果防污效果很差,用户使用一段时间后,产品表面会残留很多污垢,影响视觉感,用户体验不好。
现在市场上做的防污釉料瓷砖:(例如中国专利ZL201710714237.X)是由钠长石、石英粉、方解石、滑石粉、煅烧高岭土、锆白熔块、氧化铝粉、硅酸锆成分组成。这种防污瓷砖的具有高光泽度(70度以上),其表面光滑,还有的防污瓷砖进行表面处理,填充表面孔洞达到防污效果,也使得瓷砖表面光泽度提高。上述这些防污技术智能应用在对光泽度较高的产品上,但是仿木、仿石和仿古等陶瓷砖要求表面的光泽度尽可能低,且有些产品要求表面质感粗燥,上述的防污技术难以应用到这些陶瓷砖产品上。
发明内容
本发明的目的在于提出一种哑光防污釉料及釉浆制备方法、陶瓷砖及制备方法,该釉料烧成后光泽度低、防污性能好。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一种哑光防污釉料,包括釉料A和釉料B;釉料A的原料使用煅烧滑石、霞石和α-锂辉石调节釉料的烧成温度,使釉料在950-1050℃的时候局部产生液相;釉料B使用碳酸钡、方解石和氧化锆调节玻璃相形成。
进一步的,釉料A中以重量百分比计的煅烧滑石、霞石和α-锂辉石依次为:6.2~10.4%、9.4~15.5%和9.4~16.3%;
釉料B中以重量百分比计的碳酸钡、方解石和氧化锆依次为:9.4~13.8%、7.5~13.5%和3.8~10.6%。
进一步的,釉料A的以重量份计的原料包括:钠长石23~25份、石英粉8~10份、煅烧高岭土5~10份、氧化铝2~3份、高铝钾砂2份、球粘土6~10份、黑土8~10份、碳酸钡1~2份、氧化锌5份、方解石2~3份、煅烧滑石8~10份、霞石12~15份和α-锂辉石12~16份。
进一步的,釉料B的以重量份计的原料包括:钠长石23~25份、石英粉8~10份、煅烧高岭土12~15份、氧化铝6~9份、高铝钾砂2~5份、球粘土12~14份、黑土10~12份、氧化锌2份、煅烧滑石3~5份、碳酸钡13~15份、方解石10~15份和氧化锆5~12份。
进一步的,釉料A和釉料B分别制浆后混合均匀得到哑光防污釉料的釉浆;
釉料A的釉浆和釉料B的釉浆的混合体积比例为1:(3~4)。
进一步的,该哑光防污釉料的烧成温度为1192℃~1205℃。
上述哑光防污釉料的釉浆制备方法,包括以下步骤:
(1)、将釉料A的原料按配比加入球磨机,将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水混入球磨机进行球磨,获得釉浆A;
(2)、将釉料B的原料按配比加入球磨机,将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水混入球磨机进行球磨,获得釉浆B;
(3)、将釉浆A和釉浆B以体积比1:(3~4)混合均匀得釉浆C即为哑光防污釉料的釉浆,禁止将釉浆C再次球磨。
进一步的,在步骤(1)和(2)中,釉浆A和釉浆B均过325目筛,筛余0.1~0.2,两釉浆比重均为1.47土1.55;
步骤(1)和(2)中,羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水的加入量均依次为0.15~0.20重量份、0.4重量份、40重量份。
一种哑光防污陶瓷砖,包括砖层和位于砖层表面的釉面层,釉面层由上述方法制备的釉浆C烧制而成,釉面层的光泽度为2~3度。
上述哑光防污陶瓷砖的制备方法,包括以下步骤:
(1)、制备砖坯;
(2)、将釉浆C布施在砖坯表面,施釉量为500~670g/m2;
(3)、将布施有釉浆C的砖坯烘干,之后入窑烧制,烧成温度为1192~1205℃,烧成时间50~60min。
本发明的有益效果为:
1、釉料A中通过添加煅烧滑石、霞石和α-锂辉石来调节釉料的温度,使得釉料在950~1050℃的时候局部产生液相。釉料在烧制过程中,温度达到950~1050℃时,釉料中的碳酸盐物质、有机物等排除的时候会有气泡产生,这时候液相进入气泡空隙中进行填补,使得釉料在1192~1205℃温度烧结的时候更致密气孔最少,釉面有很好的防污效果。
2、釉料B中通过添加碳酸钡、方解石、氧化锆调节釉料的玻璃相形成,使得釉料在一定温度的烧结的时候玻璃相少,因而釉料的光泽度低,这是由于玻璃相折射率大,如果玻璃相减少则光泽度降低。
3、釉料A和釉料B制浆后以一定比例混合获得一种哑光防污釉料,在该哑光防污釉料中,釉料A和釉料B能保持各自的性能,使得烧成后更致密且玻璃相少,具有很好的防污效果,釉面光泽度低至2~3度。
具体实施方式
下面结合附具体实施方式进一步说明本发明的技术方案。
一种哑光防污釉料,包括釉料A和釉料B;如果釉料A的原料使用煅烧滑石、霞石和α-锂辉石调节釉料的烧成温度,使釉料在950-1050℃的时候局部产生液相;釉料B使用碳酸钡、方解石和氧化锆调节玻璃相形成。该哑光防污釉料的烧成温度为1192℃~1205℃。
釉料中通过添加煅烧滑石、霞石和α-锂辉石来调节釉料的温度,使得釉料在950~1050℃的时候局部产生液相。釉料在烧制过程中,温度达到950~1050℃时,釉料中的碳酸盐物质、有机物等排除的时候会有气泡产生,这时候液相进入气泡空隙中进行填补,使得釉料在1192~1205℃温度烧结的时候更致密气孔最少,釉面有很好的防污效果。
釉料中通过添加碳酸钡、方解石、氧化锆调节釉料的玻璃相形成,使得釉料在一定温度的烧结的时候玻璃相少,因而釉料的光泽度低,这是由于玻璃相折射率大,如果玻璃相减少则光泽度降低。
本发明中,釉料A和釉料B以一定比例混合获得一种哑光防污釉料,该釉料烧成后更致密且玻璃相少,具有很好的防污效果,釉面光泽度低至2~3度。
本发明的哑光防污釉料是由釉料A和釉料B的形成,两釉料能保持各自的性能。如果是一种釉料包含釉料A和釉料B的全部原料,如煅烧滑石、霞石、α-锂辉石、碳酸钡、方解石和氧化锆,则该种釉料不能实现防污光泽度低的效果,因为这种釉料包含他们的话,整体釉料属于低温釉料了,烧出来的釉面效果就是高光的。在本发明中釉料A和釉料B两种釉料混在一起,禁止再次球磨,而不是一起球磨。两种釉料混在一起成为釉料C,釉料A的颗粒与釉料B的颗粒还是独立的,并不能统一成一个体系,而如果釉料A和釉料B一起球磨的时候,就会变成一个体系的釉料了,也就是一种釉料。所以两种釉料混合里面是两个体系的釉料,而一种釉料得到哑光防污釉是一个体系的釉料。
进一步的,釉料A中以重量百分比计的煅烧滑石、霞石和α-锂辉石依次为:6.2~10.4%、9.4~15.5%和9.4~16.3%;釉料B中以重量百分比计的碳酸钡、方解石和氧化锆依次为:9.4~13.8%、7.5~13.5%和3.8~10.6%。根据釉料在烧制过程中,温度达到950~1050℃时,釉料中的碳酸盐物质、有机物等排除的时候会有气泡产生的温度要求,以及液相进入气泡空隙中进行填补的温度要求进行设计的。如果釉料A和釉料B中的上述原料低于这个配比在该温度下气体排放不完全,如果高于这个配比很容易出现过烧玻璃相多,光泽度偏高,严重的过烧还会二次产生气泡,严重影响防污性能。
在釉料A中,通过限定煅烧滑石、霞石和α-锂辉石的用量,实现对氧化镁、氧化铝、氧化钾、氧化锂量的限定,进而实现对釉料温度的调节,降低釉料的烧成温度,在较低的温度下能局部产生液相来填补气泡空气。在釉料B中,通过限定碳酸钡、方解石和氧化锆依的用量,实现对氧化钡、氧化钙和氧化锆的含量限定,三者协同使得釉料烧结后玻璃相最少,在很大程度上降低釉料炒成后的光泽度。
进一步的,釉料A的以重量份计的原料包括:钠长石23~25份、石英粉8~10份、煅烧高岭土5~10份、氧化铝2~3份、高铝钾砂2份、球粘土6~10份、黑土8~10份、碳酸钡1~2份、氧化锌5份、方解石2~3份、煅烧滑石8~10份、霞石12~15份和α-锂辉石12~16份。
釉料A的配方体系能在950~1050℃时局部产生液相,其烧成温度为1192~1205℃,在烧成后的釉面致密性高。釉料A的配方体系中加入了1~2份的碳酸钡,能在一定程度上减少釉料烧成后的玻璃相,降低釉面的光泽度。釉料A的配方体系中还具有6~10份的球粘土和8~10份的黑土,球粘土和黑土的塑性较高,较大量的加入配方体系后,能提高釉料的粘性,有利于形成更加致密的釉层,提高釉层与砖坯层的结合力。
进一步的,釉料B的以重量份计的原料包括:钠长石23~25份、石英粉8~10份、煅烧高岭土12~15份、氧化铝6~9份、高铝钾砂2~5份、球粘土12~14份、黑土10~12份、氧化锌2份、煅烧滑石3~5份、碳酸钡13~15份、方解石10~15份和氧化锆5~12份。
釉料B的烧成温度与釉料A相匹配,使两者的烧成温度相似,实现哑光防污釉料较好的烧成状态。釉料B的配方体系中加入了13~15份的碳酸钡,碳酸钡的加入量较大,能在很大程度上减少釉料烧成后的玻璃相,降低釉面的光泽度,碳酸钡还能降低烧成温度,使釉料在烧成时原料中的杂质和碳酸物完全排出,釉面的气孔大量减少。釉料B的配方体系中氧化硅的质量含量是氧化铝的2.3~2.8倍,能降低釉面的光泽度,但是氧化硅和氧化铝两者的用量比例在此范围内时,会导致釉料松散与砖坯结合能力差,本发明通过在釉料配方体系中加入一定量的球粘土和黑土提高其粘性,进而提高釉料与砖坯的结合力,防止分层现象。
本发明哑光防污釉料的配方体系中,碳酸钡的加入量需控制在合适的范围内,当碳酸钡的加入量过小时,虽然可通过调整氧化锌和滑石的用量来调整烧成温度,但是,烧成后釉面的光泽度较高气孔数量增加,不能达到较好的哑光防污效果。若碳酸钡的加入量过大,则膨胀系数过大,影响釉面性能。
进一步的,釉料A和釉料B分别制浆后混合均匀得到哑光防污釉料的釉浆;釉料A的釉浆和釉料B的釉浆的混合体积比例为1:(3~4)。根据本发明釉料光泽度要求和气孔填充的要求实验得到该比例,如果比例偏大,在同样的温度下烧成,釉面的光泽度偏高,如果比例偏小,在同样的温度下烧成,釉面的气孔偏多。
上述哑光防污釉料的釉浆制备方法,包括以下步骤:
(1)、将釉料A的原料按配比加入球磨机,将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水混入球磨机进行球磨,获得釉浆A;
(2)、将釉料B的原料按配比加入球磨机,将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水混入球磨机进行球磨,获得釉浆B;
(3)、将釉浆A和釉浆B以体积比1:(3~4)混合均匀得釉浆C即为哑光防污釉料的釉浆,禁止将釉浆C再次球磨。
采用上述的釉浆制备方法获得的哑光防污釉料的釉浆,具有良好的均质性,将釉浆A和釉浆B混合成为釉浆C,保证了釉料A和釉料B各自的原料能充分混合,釉浆A和釉浆B两种釉浆中均形成微颗粒悬浮浆液,同时禁止釉浆C再次球磨,能使釉浆C中的釉料A和釉料B各自的微颗粒保持独立,进而保持釉料A和釉料B的性能,在烧制时,釉料A和釉料B能保持各自的性能,保证了烧成后釉面的哑光防污性能。
进一步的,在步骤(1)和(2)中,釉浆A和釉浆B均过325目筛,筛余0.1~0.2,两釉浆比重均为1.47土1.55;
步骤(1)和(2)中,羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水的加入量均依次为0.15~0.20重量份、0.4重量份、40重量份。
釉浆A和釉浆B中加入相同的羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水,球磨达到相同的颗粒度和釉浆比重,使得两种釉浆能充分混合。
一种哑光防污陶瓷砖,包括砖层和位于砖层表面的釉面层,釉面层由上述方法制备的釉浆C烧制而成,釉面层的光泽度为2~3度。
上述哑光防污陶瓷砖的制备方法,包括以下步骤:
(1)、制备砖坯;
(2)、将釉浆C布施在砖坯表面,施釉量为500~670g/m2;
(3)、将布施有釉浆C的砖坯烘干,之后入窑烧制,烧成温度为1192~1205℃,烧成时间50~60min。
上述陶瓷砖的烧成温度与哑光防污釉料的烧成温度一致,保证了釉面的性能,在50~60min的烧成时间内,釉料中的气体能充分排出,釉料中的液相能充分填充气孔,提高釉面的致密度,达到较好的防污效果。
采用现有的淋釉或喷釉方式将釉浆C布施在砖坯的表面。砖坯可采用现有的配方制成。在砖坯上布施釉浆C之前,砖坯上还可以布施底釉或面釉,还可以在布施釉浆C之前设置图案装饰层,或者在布施釉浆C后再设置装饰图案。图案装饰可采用现有的印花方式,如丝网印花、辊筒印花、喷墨印花。
以下通过实施例进一步阐述本发明。
实施例组A为哑光防污釉料,该哑光防污釉料的烧成温度为1192℃~1205℃。实施例A1-A6中哑光防污釉料的配方如表1和表2所示,其中表1为釉料A的配方,表2为釉料B的配方。
表1釉料A以重量份计的原料配方
表2釉料B以重量份计的原料配方
实施例组A中的哑光防污釉料中,釉料A在950-1050℃的时候局部产生液相,釉料B使用碳酸钡、方解石和氧化锆调节玻璃相形成。釉料A中的煅烧滑石、霞石和α-锂辉石的重量百分比计均在以下范围内:煅烧滑石6.2~10.4%、霞石9.4~15.5%和α-锂辉石9.4~16.3%。釉料B中的碳酸钡、方解石和氧化锆的重量百分比计均在以下范围内:碳酸钡9.4~13.8%、方解石7.5~13.5%和氧化锆3.8~10.6%。
实施例组A中的哑光防污釉料的釉浆是将釉料A和釉料B分别制浆后混合均匀而成,釉料A的釉浆和釉料B的釉浆的混合体积比例为1:(3~4)。实施例组A中的哑光防污釉料的釉浆制备方法如下:
(1)、将釉料A的原料按配比加入球磨机,将羟甲基纤维素钠0.15~0.20重量份、三聚磷酸钠0.4重量份和水40重量份混入球磨机进行球磨,获得釉浆A;釉浆A过325目筛,筛余0.1~0.2,釉浆比重为1.47土1.55;
(2)、将釉料B的原料按配比加入球磨机,将羟甲基纤维素钠0.15~0.20重量份、三聚磷酸钠0.4重量份和水40重量份混入球磨机进行球磨,获得釉浆B;釉浆B过325目筛,筛余0.1~0.2,釉浆比重为1.47土1.55;
(3)、将釉浆A和釉浆B以体积比1:(3~4)混合均匀得釉浆C即为哑光防污釉料的釉浆,禁止将釉浆C再次球磨。
实施例A1-A6釉浆A和釉浆B的混合比例如表3所示。
表3
实施例组B为哑光防污瓷砖
实施例B1-B6的哑光防污瓷砖均包括砖层表面的釉面层,釉面层由实施例A1-A6之一制备的釉浆C烧制而成,釉面层的光泽度为2~3度。该哑光防污瓷砖的制备方法如下:
(1)、制备砖坯;
(2)、将釉浆C布施在砖坯表面,施釉量为500~670g/m2;
(3)、将布施有釉浆C的砖坯烘干,之后入窑烧制,烧成温度为1192~1205℃,烧成时间50~60min。
实施例B1-B6的哑光防污瓷砖的釉浆C及其制备工艺参数如表4所示。
表4
项目 | 实施例B1 | 实施例B2 | 实施例B3 | 实施例B4 | 实施例B5 | 实施例B6 |
釉浆C | 实施例A1 | 实施例A2 | 实施例A3 | 实施例A4 | 实施例A5 | 实施例A6 |
施釉量g/m<sup>2</sup> | 500 | 520 | 560 | 600 | 640 | 670 |
烧成时间min | 54 | 52 | 58 | 55 | 50 | 60 |
烧成温度℃ | 1192~1205 | 1192~1205 | 1192~1205 | 1192~1205 | 1192~1205 | 1192~1205 |
实施例B1-B6中的陶瓷砖烧成后进行光泽度检测和防污性能检测,结果如表5所示。
表5
项目 | 实施例B1 | 实施例B2 | 实施例B3 | 实施例B4 | 实施例B5 | 实施例B6 |
光泽度 | 2.0度 | 2.5度 | 2.8度 | 3.0度 | 2.2度 | 2.4度 |
防污等级 | 五级 | 五级 | 五级 | 五级 | 五级 | 五级 |
对比例1
将实施例A3的哑光防污釉料的釉浆C再次球磨得釉浆D。将釉浆D布施于砖坯的表面,施釉量为600g/m2,将砖坯干燥后入窑烧制,烧成温度为1205℃,烧成时间55min。
由于该对比例的釉浆C再次球磨,釉浆A和釉浆B中的微小颗粒基团被再次破碎,釉料A和釉料B的性能不能被保存,釉浆D被烧成后,光泽度较高达到6-8度、表面气泡多,防污性能差为三级。
对比例2
本对比例釉料的以重量份计的原料如下:钠长石24份、石英粉10份、煅烧高岭土10份、氧化铝5份、高铝钾砂2份、球粘土8份、黑土9份、碳酸钡6份、氧化锌3份、方解石8份、煅烧滑石6份、霞石12份、α-锂辉石15份和氧化锆8份。
上述釉料的釉浆为:将全部原料按配比加入球磨机中,并将羟甲基纤维素钠0.20重量份、三聚磷酸钠0.4重量份、水40重量份混入球磨机,制成釉浆。
将上述的釉浆布施在砖坯表面,将砖坯烘干后入窑烧制,烧制温度为烧成温度为1192~1205℃,烧成时间60min。
该釉料的配方与本发明的哑光防污釉料的配方近似,但是,各原料的用量不同。将全部原料同时加入同一球磨机制浆,各原料充分混合均匀。由于各原料的用量不同,与本发明的配方体系完全不同,这就导致本对比例的釉料在950-1050℃的温度下不能产生局部液相,由于碳酸钡、方解石和氧化锆的比例发生变化,玻璃相形成较多,使得本对比例的釉料在烧成后光泽度为6-8度,防污等级为三级。
对比例3
本对比例限定一种防污面釉,以重量份计的原料为:钠长石粉30-45份、石英粉3-8份、方解石2-6份、滑石粉5-10份、煅烧高岭土10-16份、溶剂3-7份、锆白熔块6-10份、水洗球土5-9份。该防污面釉的烧成温度在1225-1250℃,釉面光泽度在60-70度。该对比例的配方体系中二氧化硅与三氧化二铝的质量比较大,导致釉面有较高的光泽度,不适用于仿木、仿石和仿古等陶瓷砖的要求。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理,而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释,本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式,这些方式都将落入本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种哑光防污釉料的釉浆制备方法,其特征在于,所述哑光防污釉料包括釉料A和釉料B;所述釉料A的原料使用煅烧滑石、霞石和α-锂辉石调节釉料的烧成温度,使釉料在950-1050℃的时候局部产生液相;所述釉料B使用碳酸钡、方解石和氧化锆调节玻璃相形成;
该方法包括以下步骤:
(1)、将釉料A的原料按配比加入球磨机,将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水混入球磨机进行球磨,获得釉浆A;
(2)、将釉料B的原料按配比加入球磨机,将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水混入球磨机进行球磨,获得釉浆B;
(3)、将釉浆A和釉浆B以体积比1:(3~4)混合均匀得釉浆C即为哑光防污釉料的釉浆,禁止将釉浆C再次球磨;
所述釉料A的以重量份计的原料包括:钠长石23 ~ 25份、石英粉8 ~ 10份、煅烧高岭土5~ 10份、氧化铝2~ 3份、高铝钾砂2份、球粘土6 ~ 10份、黑土8 ~ 10份、碳酸钡1~2份、氧化锌5份、方解石2 ~ 3份、煅烧滑石8~10份、霞石12~15份和α-锂辉石12~16份;
所述釉料B的以重量份计的原料包括:钠长石23 ~ 25份、石英粉8 ~ 10份、煅烧高岭土12 ~ 15份、氧化铝6~ 9份、高铝钾砂2 ~ 5份、球粘土12 ~ 14份、黑土10 ~ 12份、氧化锌2份、煅烧滑石3~ 5份、碳酸钡13 ~ 15份、方解石10~ 15份和氧化锆5~12份。
2.根据权利要求1所述的哑光防污釉料的釉浆制备方法,其特征在于,在所述步骤(1)和(2)中,釉浆A和釉浆B均过325目筛,筛余0.1 ~ 0.2,两釉浆比重均为1.47土1.55;
所述步骤(1)和(2)中,羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水的加入量均依次为0.15 ~0.20重量份、0.4重量份、40重量份。
3.根据权利要求1所述的哑光防污釉料的釉浆制备方法,其特征在于,所述釉料A中以重量百分比计的煅烧滑石、霞石和α-锂辉石依次为:6.2~10.4%、9.4~15.5%和9.4~16.3%;
所述釉料B中以重量百分比计的碳酸钡、方解石和氧化锆依次为:9.4~13.8%、7.5~13.5%和3.8~10.6%。
4.根据权利要求1所述的哑光防污釉料的釉浆制备方法,其特征在于,所述釉料A和釉料B分别制浆后混合均匀得到哑光防污釉料的釉浆;
所述釉料A的釉浆和釉料B的釉浆的混合体积比例为1:(3~4)。
5.根据权利要求1所述的哑光防污釉料的釉浆制备方法,其特征在于,该哑光防污釉料的烧成温度为1192℃~1205℃。
6.一种哑光防污陶瓷砖,其特征在于,包括砖层和位于砖层表面的釉面层,所述釉面层由权利要求1制备的釉浆C烧制而成,所述釉面层的光泽度为2~3度。
7.权利要求6所述哑光防污陶瓷砖的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)、制备砖坯;
(2)、将釉浆C布施在砖坯表面,施釉量为500~670g/m2;
(3)、将布施有釉浆C的砖坯烘干,之后入窑烧制,烧成温度为1192~1205℃,烧成时间50~60min。
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