CN109852253A - 一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法 - Google Patents
一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109852253A CN109852253A CN201910059464.2A CN201910059464A CN109852253A CN 109852253 A CN109852253 A CN 109852253A CN 201910059464 A CN201910059464 A CN 201910059464A CN 109852253 A CN109852253 A CN 109852253A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- polishing fluid
- component
- polishing
- aluminum sol
- silica solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
本发明公开了一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，属于抛光液技术领域，一种亚光砖去磨痕抛光液，其组成成分包括：抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，所述抛光液A组分为硅溶胶，所述抛光液B组分为铝溶胶，所述抛光液C组分为分散剂和催化剂，所述抛光液D组分为去离子水，所述抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，按照质量配比为，硅溶胶10‑30份、铝溶胶10‑30份、分散剂0.1‑0.5份和去离子水40‑80份，可以实现选择两种无机材料混合，既能修补亚光砖在砖坯水磨抛光过程中产生的磨痕，不改变原有瓷砖的光度，从而同时达到修补瓷砖磨痕和不改变瓷砖原有光度的双重效果。
Description
技术领域
本发明涉及抛光液技术领域，更具体地说，涉及一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法。
背景技术
目前市场上亚光砖、柔光砖越来越流行，它们更接近石材自然光的效果，看起来更高档，它们是将砖胚水磨抛光至一定的光度，一般来说10-20度是亚光，30-60度是柔光；不用再经过常用的超洁亮工艺，而是直接均匀涂抹一层防污剂后打包即可得到成品。在外国已普遍流行起来，国内市场也在每年翻倍递增，但是水磨抛光工艺目前存在有磨头痕的问题，很难通过调整磨具来解决，之前是经过超洁亮工艺后就可以修补，但若只是涂抹防污剂，磨头痕会更明显，如果磨头痕不能很好解决，会极大的阻碍它的发展。
发明内容
1．要解决的技术问题
针对现有技术中存在的问题，本发明的目的在于提供一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，它可以实现选择两种无机材料混合，既能修补亚光砖在砖坯水磨抛光过程中产生的磨痕，不改变原有瓷砖的光度，从而同时达到修补瓷砖磨痕和不改变瓷砖原有光度的双重效果。
2．技术方案
为解决上述问题，本发明采用如下的技术方案。
一种亚光砖去磨痕抛光液，其组成成分包括：抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，所述抛光液A组分为硅溶胶，所述抛光液B组分为铝溶胶，所述抛光液C组分为分散剂和催化剂，所述抛光液D组分为去离子水，所述抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，按照质量配比为，硅溶胶10-30份、铝溶胶10-30份、分散剂0.1-0.5份和去离子水40-80份，可以实现选择两种无机材料混合，既能修补亚光砖在砖坯水磨抛光过程中产生的磨痕，不改变原有瓷砖的光度，从而同时达到修补瓷砖磨痕和不改变瓷砖原有光度的双重效果。
进一步的，所述抛光液A组分的硅溶胶为浓度30%的硅溶胶，浓度30%的硅溶胶是氧化硅的水合溶液，具有一定的粘性，能填充瓷砖的微细毛孔，增强研磨的亚光砖的光度。
进一步的，所述抛光液B组分的铝溶胶为12%铝含量的铝溶胶，12%铝含量的铝溶胶便于降低瓷砖的光度，同时因为铝溶胶涂层均匀，对磨痕的影响较小。
一种亚光砖去磨痕抛光液，其制备方法包括：
步骤一：铝溶胶的制备，量取定量的二次蒸馏水，放入烧瓶内加热至80-85摄氏度，按水与异丙醇铝的摩尔比为200：1的配比，加入研细的异丙醇铝，水解反应1.5小时，再升温至90-95摄氏度，敞口搅拌1小时，蒸去大部分醇类物质，得到白色勃姆石沉淀，加入硝酸，PH控制在3.0-4.1之间，回流陈化24小时，制得稳定透明的铝溶胶；
步骤二：硅溶胶的制备，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液，将硅酸溶液加入到含晶种的母液中，控制加入速度和反应温度，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，从而得到合适浓度的硅溶胶；
步骤三：铝溶胶混合，将铝溶胶缓慢添加入抛光液D组分的去离子水内，在添加过程中，持续使用玻璃棒对铝溶胶和去离子水进行搅拌，从而使铝溶胶与去离子水充分混合；
步骤四：硅溶胶混合，将硅溶胶添加入铝溶胶的混合液内，在添加硅溶胶过程中缓慢加入抛光液C组的分散剂和催化剂，并不断搅拌混合。
进一步的，所述步骤一铝溶胶的制备过程中，异丙醇铝的添加方式为，将异丙醇铝定量分开后，缓慢分批加入到二次蒸馏水中，便于异丙醇铝与二次蒸馏水的快速且充分的混合。
进一步的，所述步骤二硅溶胶的制备过程中，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液后，由技术人员使用适量的NaOH或氨水调节其溶液PH值，使PH值处于8.5-10.5之间，便于增强水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂反应的稳定性。
进一步的，所述抛光液C组分中的催化剂包括固化剂、消泡剂和抗老化剂，所述固化剂的主要成分为改性聚硫醇，通过使用改性聚硫醇作为固化剂，加快抛光液在亚光砖上的粘附固定。
进一步的，步骤二硅溶胶的制备过程中，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，若聚硅酸溶液内的硅溶胶成分含量过低，需要对聚硅酸溶液进行进一步的纯化，采用离心分离法除去其中杂质，提高聚硅酸溶液的纯化诚度，提高硅溶胶的含量。
3．有益效果
相比于现有技术，本发明的优点在于：
（1）本方案可以实现选择两种无机材料混合，既能修补亚光砖在砖坯水磨抛光过程中产生的磨痕，不改变原有瓷砖的光度，从而同时达到修补瓷砖磨痕和不改变瓷砖原有光度的双重效果。
（2）抛光液A组分的硅溶胶为浓度30%的硅溶胶，浓度30%的硅溶胶是氧化硅的水合溶液，具有一定的粘性，能填充瓷砖的微细毛孔，增强研磨的亚光砖的光度。
（3）抛光液B组分的铝溶胶为12%铝含量的铝溶胶，12%铝含量的铝溶胶便于降低瓷砖的光度，同时因为铝溶胶涂层均匀，对磨痕的影响较小。
（4）通过添加的分散剂可以提升光泽，增加亚光砖表面流平效果光泽，还可以降低抛光液混合过程中部分组分的粘度，增加溶胶载入量，同时减少絮凝，增加展色性，增加透明度。
（5）步骤一铝溶胶的制备过程中，异丙醇铝的添加方式为，将异丙醇铝定量分开后，缓慢分批加入到二次蒸馏水中，便于异丙醇铝与二次蒸馏水的快速且充分的混合。
（6）步骤二硅溶胶的制备过程中，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液后，由技术人员使用适量的NaOH或氨水调节其溶液PH值，使PH值处于8.5-10.5之间，便于增强水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂反应的稳定性。
（7）抛光液C组分中的催化剂包括固化剂、消泡剂和抗老化剂，固化剂的主要成分为改性聚硫醇，通过使用改性聚硫醇作为固化剂，加快抛光液在亚光砖上的粘附固定。
（8）步骤二硅溶胶的制备过程中，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，若聚硅酸溶液内的硅溶胶成分含量过低，需要对聚硅酸溶液进行进一步的纯化，采用离心分离法除去其中杂质，提高聚硅酸溶液的纯化诚度，提高硅溶胶的含量。
附图说明
图1为本发明的主要流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述；显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”、“顶/底端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接，可以是机械连接，也可以是电连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通，对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
实施例1：
请参阅图1，一种亚光砖去磨痕抛光液，其组成成分包括：抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，抛光液A组分为硅溶胶，抛光液B组分为铝溶胶，抛光液C组分为分散剂和催化剂，抛光液D组分为去离子水，抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，按照质量配比为，硅溶胶10份、铝溶胶30份、分散剂0.1份和去离子水80份，可以实现选择两种无机材料混合，既能修补亚光砖在砖坯水磨抛光过程中产生的磨痕，不改变原有瓷砖的光度，从而同时达到修补瓷砖磨痕和不改变瓷砖原有光度的双重效果。
通过添加的分散剂可以提升光泽，增加亚光砖表面流平效果光泽，还可以降低抛光液混合过程中部分组分的粘度，增加溶胶载入量，同时减少絮凝，增加展色性，增加透明度。
抛光液A组分的硅溶胶为浓度30%的硅溶胶，浓度30%的硅溶胶是氧化硅的水合溶液，具有一定的粘性，能填充瓷砖的微细毛孔，增强研磨的亚光砖的光度，抛光液B组分的铝溶胶为12%铝含量的铝溶胶，12%铝含量的铝溶胶便于降低瓷砖的光度，同时因为铝溶胶涂层均匀，对磨痕的影响较小。
一种亚光砖去磨痕抛光液，其制备方法包括：
步骤一：铝溶胶的制备，量取定量的二次蒸馏水，放入烧瓶内加热至80-85摄氏度，按水与异丙醇铝的摩尔比为200：1的配比，加入研细的异丙醇铝，水解反应1.5小时，再升温至90-95摄氏度，敞口搅拌1小时，蒸去大部分醇类物质，得到白色勃姆石沉淀，加入硝酸，PH控制在3.0-4.1之间，回流陈化24小时，制得稳定透明的铝溶胶；
步骤二：硅溶胶的制备，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液，将硅酸溶液加入到含晶种的母液中，控制加入速度和反应温度，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，从而得到合适浓度的硅溶胶；
步骤三：铝溶胶混合，将铝溶胶缓慢添加入抛光液D组分的去离子水内，在添加过程中，持续使用玻璃棒对铝溶胶和去离子水进行搅拌，从而使铝溶胶与去离子水充分混合；
步骤四：硅溶胶混合，将硅溶胶添加入铝溶胶的混合液内，在添加硅溶胶过程中缓慢加入抛光液C组的分散剂和催化剂，并不断搅拌混合。
步骤一铝溶胶的制备过程中，异丙醇铝的添加方式为，将异丙醇铝定量分开后，缓慢分批加入到二次蒸馏水中，便于异丙醇铝与二次蒸馏水的快速且充分的混合，步骤二硅溶胶的制备过程中，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液后，由技术人员使用适量的NaOH或氨水调节其溶液PH值，使PH值处于8.5-10.5之间，便于增强水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂反应的稳定性。
抛光液C组分中的催化剂包括固化剂、消泡剂和抗老化剂，固化剂的主要成分为改性聚硫醇，通过使用改性聚硫醇作为固化剂，加快抛光液在亚光砖上的粘附固定，步骤二硅溶胶的制备过程中，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，若聚硅酸溶液内的硅溶胶成分含量过低，需要对聚硅酸溶液进行进一步的纯化，采用离心分离法除去其中杂质，提高聚硅酸溶液的纯化诚度，提高硅溶胶的含量。
实施例2：
一种亚光砖去磨痕抛光液，其组成成分包括：抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，抛光液A组分为硅溶胶，抛光液B组分为铝溶胶，抛光液C组分为分散剂和催化剂，抛光液D组分为去离子水，抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，按照质量配比为，硅溶胶30份、铝溶胶10份、分散剂0.5份和去离子水80份，可以实现选择两种无机材料混合，既能修补亚光砖在砖坯水磨抛光过程中产生的磨痕，不改变原有瓷砖的光度，从而同时达到修补瓷砖磨痕和不改变瓷砖原有光度的双重效果。
通过添加的分散剂可以提升光泽，增加亚光砖表面流平效果光泽，还可以降低抛光液混合过程中部分组分的粘度，增加溶胶载入量，同时减少絮凝，增加展色性，增加透明度。
抛光液A组分的硅溶胶为浓度30%的硅溶胶，浓度30%的硅溶胶是氧化硅的水合溶液，具有一定的粘性，能填充瓷砖的微细毛孔，增强研磨的亚光砖的光度，抛光液B组分的铝溶胶为12%铝含量的铝溶胶，12%铝含量的铝溶胶便于降低瓷砖的光度，同时因为铝溶胶涂层均匀，对磨痕的影响较小。
一种亚光砖去磨痕抛光液，其制备方法包括：
步骤一：铝溶胶的制备，量取定量的二次蒸馏水，放入烧瓶内加热至80-85摄氏度，按水与异丙醇铝的摩尔比为200：1的配比，加入研细的异丙醇铝，水解反应1.5小时，再升温至90-95摄氏度，敞口搅拌1小时，蒸去大部分醇类物质，得到白色勃姆石沉淀，加入硝酸，PH控制在3.0-4.1之间，回流陈化24小时，制得稳定透明的铝溶胶；
步骤二：硅溶胶的制备，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液，将硅酸溶液加入到含晶种的母液中，控制加入速度和反应温度，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，从而得到合适浓度的硅溶胶；
步骤三：铝溶胶混合，将铝溶胶缓慢添加入抛光液D组分的去离子水内，在添加过程中，持续使用玻璃棒对铝溶胶和去离子水进行搅拌，从而使铝溶胶与去离子水充分混合；
步骤四：硅溶胶混合，将硅溶胶添加入铝溶胶的混合液内，在添加硅溶胶过程中缓慢加入抛光液C组的分散剂和催化剂，并不断搅拌混合。
步骤一铝溶胶的制备过程中，异丙醇铝的添加方式为，将异丙醇铝定量分开后，缓慢分批加入到二次蒸馏水中，便于异丙醇铝与二次蒸馏水的快速且充分的混合，步骤二硅溶胶的制备过程中，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液后，由技术人员使用适量的NaOH或氨水调节其溶液PH值，使PH值处于8.5-10.5之间，便于增强水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂反应的稳定性。
抛光液C组分中的催化剂包括固化剂、消泡剂和抗老化剂，固化剂的主要成分为改性聚硫醇，通过使用改性聚硫醇作为固化剂，加快抛光液在亚光砖上的粘附固定，步骤二硅溶胶的制备过程中，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，若聚硅酸溶液内的硅溶胶成分含量过低，需要对聚硅酸溶液进行进一步的纯化，采用离心分离法除去其中杂质，提高聚硅酸溶液的纯化诚度，提高硅溶胶的含量。
实施例3：
一种亚光砖去磨痕抛光液，其组成成分包括：抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，抛光液A组分为硅溶胶，抛光液B组分为铝溶胶，抛光液C组分为分散剂和催化剂，抛光液D组分为去离子水，抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，按照质量配比为，硅溶胶20份、铝溶胶20份、分散剂0.3份和去离子水60份，可以实现选择两种无机材料混合，既能修补亚光砖在砖坯水磨抛光过程中产生的磨痕，不改变原有瓷砖的光度，从而同时达到修补瓷砖磨痕和不改变瓷砖原有光度的双重效果。
抛光液A组分的硅溶胶为浓度30%的硅溶胶，浓度30%的硅溶胶是氧化硅的水合溶液，具有一定的粘性，能填充瓷砖的微细毛孔，增强研磨的亚光砖的光度，抛光液B组分的铝溶胶为12%铝含量的铝溶胶，12%铝含量的铝溶胶便于降低瓷砖的光度，同时因为铝溶胶涂层均匀，对磨痕的影响较小。
一种亚光砖去磨痕抛光液，其制备方法包括：
步骤一：铝溶胶的制备，量取定量的二次蒸馏水，放入烧瓶内加热至80-85摄氏度，按水与异丙醇铝的摩尔比为200：1的配比，加入研细的异丙醇铝，水解反应1.5小时，再升温至90-95摄氏度，敞口搅拌1小时，蒸去大部分醇类物质，得到白色勃姆石沉淀，加入硝酸，PH控制在3.0-4.1之间，回流陈化24小时，制得稳定透明的铝溶胶；
步骤二：硅溶胶的制备，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液，将硅酸溶液加入到含晶种的母液中，控制加入速度和反应温度，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，从而得到合适浓度的硅溶胶；
步骤三：铝溶胶混合，将铝溶胶缓慢添加入抛光液D组分的去离子水内，在添加过程中，持续使用玻璃棒对铝溶胶和去离子水进行搅拌，从而使铝溶胶与去离子水充分混合；
步骤四：硅溶胶混合，将硅溶胶添加入铝溶胶的混合液内，在添加硅溶胶过程中缓慢加入抛光液C组的分散剂和催化剂，并不断搅拌混合。
步骤一铝溶胶的制备过程中，异丙醇铝的添加方式为，将异丙醇铝定量分开后，缓慢分批加入到二次蒸馏水中，便于异丙醇铝与二次蒸馏水的快速且充分的混合，步骤二硅溶胶的制备过程中，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液后，由技术人员使用适量的NaOH或氨水调节其溶液PH值，使PH值处于8.5-10.5之间，便于增强水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂反应的稳定性。
抛光液C组分中的催化剂包括固化剂、消泡剂和抗老化剂，固化剂的主要成分为改性聚硫醇，通过使用改性聚硫醇作为固化剂，加快抛光液在亚光砖上的粘附固定，步骤二硅溶胶的制备过程中，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，若聚硅酸溶液内的硅溶胶成分含量过低，需要对聚硅酸溶液进行进一步的纯化，采用离心分离法除去其中杂质，提高聚硅酸溶液的纯化诚度，提高硅溶胶的含量。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式；但本发明的保护范围并不局限于此。任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其改进构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围内。
Claims (8)
1.一种亚光砖去磨痕抛光液，其特征在于：其组成成分包括：抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，所述抛光液A组分为硅溶胶，所述抛光液B组分为铝溶胶，所述抛光液C组分为分散剂和催化剂，所述抛光液D组分为去离子水，所述抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，按照质量配比为，硅溶胶10-30份、铝溶胶10-30份、分散剂0.1-0.5份和去离子水40-80份。
2.根据权利要求1所述的一种亚光砖去磨痕抛光液，其特征在于：所述抛光液A组分的硅溶胶为浓度30%的硅溶胶。
3.根据权利要求1所述的一种亚光砖去磨痕抛光液，其特征在于：所述抛光液B组分的铝溶胶为12%铝含量的铝溶胶。
4.根据权利要求1所述的一种亚光砖去磨痕抛光液，其特征在于：其制备方法包括：
步骤一：铝溶胶的制备，量取定量的二次蒸馏水，放入烧瓶内加热至80-85摄氏度，按水与异丙醇铝的摩尔比为200：1的配比，加入研细的异丙醇铝，水解反应1.5小时，再升温至90-95摄氏度，敞口搅拌1小时，蒸去大部分醇类物质，得到白色勃姆石沉淀，加入硝酸，PH控制在3.0-4.1之间，回流陈化24小时，制得稳定透明的铝溶胶；
步骤二：硅溶胶的制备，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液，将硅酸溶液加入到含晶种的母液中，控制加入速度和反应温度，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，从而得到合适浓度的硅溶胶；
步骤三：铝溶胶混合，将铝溶胶缓慢添加入抛光液D组分的去离子水内，在添加过程中，持续使用玻璃棒对铝溶胶和去离子水进行搅拌，从而使铝溶胶与去离子水充分混合；
步骤四：硅溶胶混合，将硅溶胶添加入铝溶胶的混合液内，在添加硅溶胶过程中缓慢加入抛光液C组的分散剂和催化剂，并不断搅拌混合。
5.根据权利要求4所述的一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，其特征在于：所述步骤一铝溶胶的制备过程中，异丙醇铝的添加方式为，将异丙醇铝定量分开后，缓慢分批加入到二次蒸馏水中。
6.根据权利要求4所述的一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，其特征在于：所述步骤二硅溶胶的制备过程中，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液后，由技术人员使用适量的NaOH或氨水调节其溶液PH值，使PH值处于8.5-10.5之间。
7.根据权利要求4所述的一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，其特征在于：所述抛光液C组分中的催化剂包括固化剂、消泡剂和抗老化剂，所述固化剂的主要成分为改性聚硫醇。
8.根据权利要求4所述的一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，其特征在于：步骤二硅溶胶的制备过程中，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，若聚硅酸溶液内的硅溶胶成分含量过低，需要对聚硅酸溶液进行进一步的纯化，采用离心分离法除去其中杂质。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910059464.2A CN109852253A (zh) | 2019-01-22 | 2019-01-22 | 一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910059464.2A CN109852253A (zh) | 2019-01-22 | 2019-01-22 | 一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109852253A true CN109852253A (zh) | 2019-06-07 |
Family
ID=66895824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201910059464.2A Pending CN109852253A (zh) | 2019-01-22 | 2019-01-22 | 一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN109852253A (zh) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110387192A (zh) * | 2019-07-16 | 2019-10-29 | 佛山欧神诺陶瓷有限公司 | 一种能够产生负离子的瓷砖抛光液及其制备方法 |
| CN111085900A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-01 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种低光泽度仿古砖及其抛光方法 |
| CN111117494A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-08 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种仿古砖抛光液及其制备方法、应用 |
| CN111153714A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-15 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种防污防滑仿古砖及其制备方法 |
| CN114750004A (zh) * | 2022-06-14 | 2022-07-15 | 广东纳德新材料有限公司 | 一种高光陶瓷及其制备方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101560113A (zh) * | 2008-04-19 | 2009-10-21 | 黄定忠 | 硬表面处理组合物及其用途、处理后形成的覆层及带有该覆层的硬表面材料 |
| CN102146264A (zh) * | 2011-01-30 | 2011-08-10 | 上海三瑞化学有限公司 | 一种低光泽抛光剂组合物 |
| CN108002393A (zh) * | 2017-12-27 | 2018-05-08 | 上海新安纳电子科技有限公司 | 一种利用回收的硅溶胶抛光液制备硅酸的方法 |
| CN108083283A (zh) * | 2017-12-07 | 2018-05-29 | 临汾博利士纳米材料有限公司 | 铝改性酸性硅溶胶及其制备方法 |
| CN108854870A (zh) * | 2017-05-11 | 2018-11-23 | 北京化工大学 | 一种高纯度硅铝溶胶的制备方法 |
-
2019
- 2019-01-22 CN CN201910059464.2A patent/CN109852253A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101560113A (zh) * | 2008-04-19 | 2009-10-21 | 黄定忠 | 硬表面处理组合物及其用途、处理后形成的覆层及带有该覆层的硬表面材料 |
| CN102146264A (zh) * | 2011-01-30 | 2011-08-10 | 上海三瑞化学有限公司 | 一种低光泽抛光剂组合物 |
| CN108854870A (zh) * | 2017-05-11 | 2018-11-23 | 北京化工大学 | 一种高纯度硅铝溶胶的制备方法 |
| CN108083283A (zh) * | 2017-12-07 | 2018-05-29 | 临汾博利士纳米材料有限公司 | 铝改性酸性硅溶胶及其制备方法 |
| CN108002393A (zh) * | 2017-12-27 | 2018-05-08 | 上海新安纳电子科技有限公司 | 一种利用回收的硅溶胶抛光液制备硅酸的方法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110387192A (zh) * | 2019-07-16 | 2019-10-29 | 佛山欧神诺陶瓷有限公司 | 一种能够产生负离子的瓷砖抛光液及其制备方法 |
| CN111085900A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-01 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种低光泽度仿古砖及其抛光方法 |
| CN111117494A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-08 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种仿古砖抛光液及其制备方法、应用 |
| CN111153714A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-15 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种防污防滑仿古砖及其制备方法 |
| CN111085900B (zh) * | 2019-12-23 | 2021-04-20 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种低光泽度仿古砖及其抛光方法 |
| CN114750004A (zh) * | 2022-06-14 | 2022-07-15 | 广东纳德新材料有限公司 | 一种高光陶瓷及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN109852253A (zh) | 一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法 | |
| CN108249806B (zh) | 一种水化硅酸钙早强剂的制备方法及一种自密实混凝土 | |
| US20080076838A1 (en) | Methods of preparing silica sols, and stable high-solids silica sols prepared thereby | |
| NO300125B1 (no) | Stabil væskeformig silikasol, samt fremgangsmåte ved fremstilling derav | |
| US8859117B2 (en) | Light-permeable heat protection element with aluminate-modified or borate-modified silicon dioxide | |
| CN1281694C (zh) | 纳米外墙涂料及其生产方法 | |
| CN103205142A (zh) | 一种有机改性陶瓷不粘涂层及其涂覆方法 | |
| CN105645447B (zh) | 一种利用低浓度氟硅酸生产高分子比冰晶石的方法 | |
| CN108070280A (zh) | 一种二氧化硅微球-二氧化钛复合粉体颜料的制备方法 | |
| CN108786926A (zh) | 一种孔径可调的催化裂化催化剂基质的制备方法 | |
| CN104671806B (zh) | 一种纳米二氧化硅抗结皮喷涂料的制备方法 | |
| CN109181516A (zh) | 一种水性耐候抗刮自清洁无机纳米陶瓷汽车漆及其制备方法 | |
| CN104892030B (zh) | 一种纳米镨黄陶瓷色料的制备方法 | |
| CN108388040A (zh) | 一种树脂滤光片及其制备方法 | |
| CN104961134B (zh) | 硅溶胶及其制备方法 | |
| JP2001072409A (ja) | 高純度シリカの製造方法および利用方法 | |
| CN102211868B (zh) | 一种高紫外光透过率的硼硅磷酸盐玻璃及其制备方法 | |
| CN109503118A (zh) | 一种发泡陶瓷隔墙板及其制备方法 | |
| CN100595156C (zh) | 超细冰晶石的生产方法 | |
| CN108424665A (zh) | 一种改性酚醛树脂基防眩板的制备方法 | |
| CN101280536A (zh) | 数码彩喷影像纸用纳米水合氧化铝分散液的制造方法 | |
| CN111004580A (zh) | 氟化稀土抛光粉及氟化稀土抛光液的制备方法 | |
| CN108164148A (zh) | 一种低温烧结型微晶玻璃的制备方法 | |
| JP3683070B2 (ja) | 有機基含有複合酸化物ゾルおよびその製造方法 | |
| CN1274592C (zh) | 以硅灰石为原料生产纳米二氧化硅的方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20190607 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |