CN110387192A - 一种能够产生负离子的瓷砖抛光液及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:石英砂24~39份,氟硅酸钾10~19份,石蜡2~8份,甲醇2~9份,电气石粉8~20份,纳米氧化锌0.15~0.91份,硅烷偶联剂11.4~25.6份,去离子水73~139份;所述抛光液将抗菌液和抛光液有机结合,解决了负离子瓷砖在烧制过程中不可控因素的影响,用量小,效能高,适合产业化生产,所述制备方法工艺简单,易于实现。
Description
技术领域
本发明涉及瓷砖表面处理技术领域,特别涉及一种能够产生负离子的瓷砖抛光液及其制备方法。
背景技术
随着人们生活水平的提高,人们对于健康的关注度逐渐提升,对于居住环境的环保意识越来越强;因此作为重要的家居装修产品的瓷砖,产生了各种抗菌保健的瓷砖,其中主要的是带有负离子的瓷砖。由于负离子能够中和空气中雾霾粒子(PM2.5)所带的正电荷,使雾霾粒子易于絮团沉降,起到净化空气的效果;而且负离子的氧化性能够分解甲醛等挥发性有机气体。但是目前负离子瓷砖无论在实验室测试还是实际生产过程中都有很大的局限性。
现有的负离子功能瓷砖在生产过程中都是将抗菌剂与釉料混合烧制而成,然而这种抗菌剂有以下缺点:一、抗菌剂中的纳米金属氧化物在高温烧成的过程中受窑炉气氛的影响容易部分失效被还原;二、生产过程中抗菌剂的使用量大于釉料使用量的2%,由于抗菌剂是纳米级的,成本较高;三、抗菌剂与釉料混合烧制,只有小部分抗菌成分浮于表面,抗菌效果不理想。同时,这种与釉料混合烧制的抗菌剂受各种生产不定性影响较大。
可见,现有技术还有待改进和提高。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足之处,本发明的目的在于提供一种能够产生负离子的瓷砖抛光液及其制备方法,旨在解决现有技术中的负离子瓷砖抗菌效果不理想、生产成本高、局限性大的技术问题。
为了达到上述目的,本发明采取了以下技术方案:
一种能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:
石英砂 24~39份,
氟硅酸钾 10~19份,
石蜡 2~8份,
甲醇 2~9份,
电气石粉 8~20份,
纳米氧化锌 0.15~0.91份,
硅烷偶联剂 11.4~25.6份,
去离子水 73~139份。
所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:
石英砂 28~39份,
氟硅酸钾 10~18份,
石蜡 2~8份,
甲醇 2~7份,
电气石粉 10~16份,
纳米氧化锌 0.15~0.75份,
硅烷偶联剂 11.4~22.5份,
去离子水 80~125份。
所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:
石英砂 25~35份,
氟硅酸钾 12~16份,
石蜡 3~10份,
甲醇 2~6份,
电气石粉 8~14份,
纳米氧化锌 0.21~0.45份,
硅烷偶联剂 13.4~25.6份,
去离子水 73~116份。
所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:
石英砂 24~37份,
氟硅酸钾 13~19份,
石蜡 3~8份,
甲醇 3~9份,
电气石粉 8~20份,
纳米氧化锌 0.35~0.91份,
硅烷偶联剂 15.3~23.4份,
去离子水 84~139份。
所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液中,所述石英砂的目数为1500~1700目。
所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液中,所述电气石粉细度≤2μm,且为镁质、钙质、铝质电气石粉中的一种或几种。
所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液中,所述纳米氧化锌在所述抛光液中的质量百分比为0.1%~0.5%。
所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液中,所述纳米氧化锌为多刺球状的纳米氧化锌。
所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液中,所述硅烷偶联剂包括异丁基三乙氧基硅烷、异辛基三乙氧基硅烷和乙烯基三甲氧基硅烷中的一种或几种。
一种能够产生负离子的瓷砖抛光液的制备方法,包括:按照上述抛光液中各组分的含量取样,加入反应釜中在60~70℃下水浴加热2~3h,自然冷却至室温,得所述抛光液。
有益效果:
本发明提供了一种能够产生负离子的瓷砖抛光液及其制备方法,具有以下优点:
1.本发明解决了负离子瓷砖在烧制过程中不可控因素的影响,如烧制气氛、坯体化学组分等的影响,功能更加高效;
2.本发明将抗菌液和抛光液有机结合,实现了抛光与抗菌双重功能,所述抛光液适用于现有的纳米抛光机进行产品的生产,适合工业化大规模生产,使用方便;
3.本发明用于瓷砖的表面处理,单位体积内的抗菌成分含量比传统的工艺将抗菌剂与釉料混合使用的方式高很多,且使用量少,不会影响瓷砖表面的光泽度,表面活性更高,成本更低。
所述制备方法操作简单,可控性强,易于实施。
具体实施方式
本发明提供一种能够产生负离子的瓷砖抛光液及其制备方法,为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确,以下举实施例对本发明进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
一种能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:
石英砂 24~39份,
氟硅酸钾 10~19份,
石蜡 2~8份,
甲醇 2~9份,
电气石粉 8~20份,
纳米氧化锌 0.15~0.91份,
硅烷偶联剂 11.4~25.6份,
去离子水 73~139份。
石英砂耐磨、化学稳定性高,在所述抛光液中起助磨的作用。氟硅酸钾能够使瓷砖在酸性的条件下与瓷砖表面的钙离子发生反应,生成致密的结晶层;而且随着抛光时间的延长,结晶层的光泽度会逐步提高,从而提高瓷砖表面的光泽度。石蜡可以使瓷砖表面细微的凹坑被突出部分的塑性移动填满,从而改变瓷砖表面凹凸不平的状况,显著提高瓷砖表面的光泽度。电气石粉是自身带有电磁场的天然矿石,具有热电性和压电性,所述抛光液在应用过程中,当纳米抛光机高速磨头引起压力变化时,可引起电气石晶体之间的电势差,促使周围环境的空气中的水分子发生电离,脱离出的电子附着在邻近的水和氧分子上,使它转化为空气负离子;同时,受到密度差异化的影响,纳米抛光机在抛光过程中,纳米氧化锌被硅烷偶联剂牢牢覆盖在瓷砖表面,形成胶结性表面,小分子结构穿透胶结性表面与暴露在酸性环境中的空气及基底中的水分子发生化学反应,形成斥水处理层,抑制水分进入到基底中,产生防水、防辐射和抗紫外线的性能,还具有透气性。Zn+和负离子可以自由进出胶结层,提高了负离子瓷砖的使用寿命。
上述配比的所述抛光液,通过各成分的协同作用,不仅能够作为抛光液使用,提高瓷砖表面的光泽度;而且能够作为一种高效的、用量少的抗菌剂,简化了生产工艺,降低了生产成本。
具体的,所述石英砂的目数为1500~1700目,该规格下的石英砂的助磨效果最为理想;所述甲醇包括化学纯、分析纯和优级纯中的一种,优选化学纯,可以降低产品的成本。
所述电气石粉细度≤2μm,电气石的粒度越小,表面积越大,有更多的电荷使周围空气中的水分子电离,产生更多的负离子;而且电气石的热释电或自发极化性能不会因其加工成超细微分而产生负面影响。所述电气石粉优选镁质、钙质、铝质电气石粉中的一种或几种,所述材质的电气石表面的静电场较强。
所述纳米氧化锌在所述抛光液中的质量百分比为0.1%~0.5%。所述抛光液中,纳米氧化锌通过硅烷偶联剂进行改性,大大提高了其分散性能和疏水性;当纳米氧化锌在所述抛光液中的含量为0.1%~0.5%时,其改性效果最好。
所述纳米氧化锌为多刺球状的纳米氧化锌,分散性好,粒径分布较窄。
所述硅烷偶联剂包括异丁基三乙氧基硅烷、异辛基三乙氧基硅烷和乙烯基三甲氧基硅烷中的一种或几种。所述异丁基三乙氧基硅烷、异辛基三乙氧基硅烷和乙烯基三甲氧基硅烷具有小分子结构,可穿透胶结性表面与暴露在酸性环境中的空气及基底中的水分子发生化学反应,形成永久牢固的高环保防水层,深层渗透,抑制水分的吸收,产生防水、抗紫外线的性能,且具有透气性,提高所述瓷砖的使用寿命。
一种能够产生负离子的瓷砖抛光液的制备方法,包括:按照上述抛光液中各组分的含量取样,加入反应釜中在60~70℃下水浴加热2~3h,自然冷却至室温,得所述抛光液。
实施例 1
一种能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:
石英砂 28份,
氟硅酸钾 19份,
石蜡 6份,
甲醇 7份,
电气石粉 12份,
纳米氧化锌 0.75份,
硅烷偶联剂 22.5份,
去离子水 80份。
所述抛光液的制备方法包括:按照上述抛光液中各组分的含量取样,加入反应釜中在60~70℃下水浴加热2~3h,自然冷却至室温,得所述抛光液。
实施例 2
一种能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:
石英砂 39份,
氟硅酸钾 16份,
石蜡 8份,
甲醇 5份,
电气石粉 12份,
纳米氧化锌 0.45份,
硅烷偶联剂 18份,
去离子水 125份。
所述抛光液的制备方法包括:按照上述抛光液中各组分的含量取样,加入反应釜中在60~70℃下水浴加热2~3h,自然冷却至室温,得所述抛光液。
实施例 3
一种能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:
石英砂 35份,
氟硅酸钾 14份,
石蜡 3份,
甲醇 6份,
电气石粉 14份,
纳米氧化锌 0.38份,
硅烷偶联剂 13.4份,
去离子水 110份。
所述抛光液的制备方法包括:按照上述抛光液中各组分的含量取样,加入反应釜中在60~70℃下水浴加热2~3h,自然冷却至室温,得所述抛光液。
实施例 4
一种能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:
石英砂 26份,
氟硅酸钾 12份,
石蜡 9份,
甲醇 2份,
电气石粉 9份,
纳米氧化锌 0.25份,
硅烷偶联剂 23.8份,
去离子水 73份。
所述抛光液的制备方法包括:按照上述抛光液中各组分的含量取样,加入反应釜中在60~70℃下水浴加热2~3h,自然冷却至室温,得所述抛光液。
实施例 5
一种能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:
石英砂 24份,
氟硅酸钾 18份,
石蜡 5份,
甲醇 9份,
电气石粉 10份,
纳米氧化锌 0.15份,
硅烷偶联剂 25.6份,
去离子水 139份。
所述抛光液的制备方法包括:按照上述抛光液中各组分的含量取样,加入反应釜中在60~70℃下水浴加热2~3h,自然冷却至室温,得所述抛光液。
实施例 6
一种能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:
石英砂 32份,
氟硅酸钾 15份,
石蜡 7份,
甲醇 4份,
电气石粉 8份,
纳米氧化锌 0.35份,
硅烷偶联剂 15.3份,
去离子水 116份。
所述抛光液的制备方法包括:按照上述抛光液中各组分的含量取样,加入反应釜中在60~70℃下水浴加热2~3h,自然冷却至室温,得所述抛光液。
实施例 7
一种能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:
石英砂 37份,
氟硅酸钾 13份,
石蜡 4份,
甲醇 8份,
电气石粉 20份,
纳米氧化锌 0.91份,
硅烷偶联剂 23.4份,
去离子水 84份。
所述抛光液的制备方法包括:按照上述抛光液中各组分的含量取样,加入反应釜中在60~70℃下水浴加热2~3h,自然冷却至室温,得所述抛光液。
实施例 8
一种能够产生负离子的瓷砖抛光液,包括以下重量份的成分:
石英砂 25份,
氟硅酸钾 17份,
石蜡 7份,
甲醇 3份,
电气石粉 15份,
纳米氧化锌 0.68份,
硅烷偶联剂 11.4份,
去离子水 134份。
所述抛光液的制备方法包括:按照上述抛光液中各组分的含量取样,加入反应釜中在60~70℃下水浴加热2~3h,自然冷却至室温,得所述抛光液。
可以理解的是,对本领域普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,而所有这些改变或替换都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种能够产生负离子的瓷砖抛光液,其特征在于,包括以下重量份的成分:
石英砂 24~39份,
氟硅酸钾 10~19份,
石蜡 2~8份,
甲醇 2~9份,
电气石粉 8~20份,
纳米氧化锌 0.15~0.91份,
硅烷偶联剂 11.4~25.6份,
去离子水 73~139份。
2.根据权利要求1所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液,其特征在于,包括以下重量份的成分:
石英砂 28~39份,
氟硅酸钾 10~18份,
石蜡 2~8份,
甲醇 2~7份,
电气石粉 10~16份,
纳米氧化锌 0.15~0.75份,
硅烷偶联剂 11.4~22.5份,
去离子水 80~125份。
3.根据权利要求1所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液,其特征在于,包括以下重量份的成分:
石英砂 25~35份,
氟硅酸钾 12~16份,
石蜡 3~10份,
甲醇 2~6份,
电气石粉 8~14份,
纳米氧化锌 0.21~0.45份,
硅烷偶联剂 13.4~25.6份,
去离子水 73~116份。
4.根据权利要求1所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液,其特征在于,包括以下重量份的成分:
石英砂 24~37份,
氟硅酸钾 13~19份,
石蜡 3~8份,
甲醇 3~9份,
电气石粉 9~20份,
纳米氧化锌 0.35~0.91份,
硅烷偶联剂 15.3~23.4份,
去离子水 84~139份。
5.根据权利要求1所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液,其特征在于,所述石英砂的目数为1500~1700目。
6.根据权利要求1所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液,其特征在于,所述电气石粉细度≤2μm,且为镁质、钙质、铝质电气石粉中的一种或几种。
7.根据权利要求1所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液,其特征在于,所述纳米氧化锌在所述抛光液中的质量百分比为0.1%~0.5%。
8.根据权利要求1所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液,其特征在于,所述纳米氧化锌为多刺球状的纳米氧化锌。
9.根据权利要求1所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液,其特征在于,所述硅烷偶联剂包括异丁基三乙氧基硅烷、异辛基三乙氧基硅烷和乙烯基三甲氧基硅烷中的一种或几种。
10.一种如权利要求1~9中任一项所述的能够产生负离子的瓷砖抛光液的制备方法,其特征在于,包括:按照上述抛光液中各组分的含量取样,加入反应釜中在60~70℃下水浴加热2~3h,自然冷却至室温,得所述抛光液。
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Application publication date: 20191029 |
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