CN109696766B - 显示装置用基板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种实现窄边框化的显示用基板和显示装置。解决方案：阵列基板(11B)具备：周边电路部(电路部)(17)；第一平坦化膜(第一有机绝缘膜)(20)，其配置于周边电路部(17)的上层侧；第二平坦化膜(第二有机绝缘膜)(21)，其配置于第一平坦化膜(20)的上层侧；阵列侧取向膜(取向膜)(28)，其配置于第二平坦化膜(21)的上层侧；以及阵列侧成膜范围限制部(成膜范围限制部)(30)，其使第二平坦化膜(21)局部性地凹陷而设置，限制阵列侧取向膜(28)的成膜范围，配置为与周边电路部(17)重叠。

Description

显示装置用基板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示装置用基板及显示装置。
背景技术
以往，作为液晶显示装置的一例，已知有下述专利文献1中记载的液晶显示装置。专利文献1中记载的液晶显示装置具备：阵列基板；对置基板，其与上述阵列基板对置配置；密封件，其设置于显示区域外侧，使上述阵列基板及对置基板粘合；液晶层，其设置于上述阵列基板与对置基板之间的由上述密封件围起的区域；以及取向膜，其分别设置于上述阵列基板的液晶层侧表面和对置基板的液晶层侧表面中的包含显示区域的区域。在上述阵列基板的上述液晶层侧表面上，沿该密封件延伸的多个槽在密封件的宽度方向上相互分离地形成，向在比上述密封件的宽度方向中途部靠显示区域侧形成的上述多个槽的一部分或者全部填充上述取向膜，上述密封件与该取向膜接触，且上述密封件的比该宽度方向中途部靠反显示区域侧不夹设上述取向膜，密封件与上述阵列基板直接接触。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第5857125号公报
发明内容
本发明所要解决的技术问题
在上述专利文献1中记载的结构的液晶显示装置中，利用在阵列基板的液晶层侧表面形成的多个槽以使限制取向膜的成膜范围。该槽具体而言通过使成膜于阵列基板上的绝缘膜开口而形成。然而，存在在阵列基板上用于对向显示区域供给的信号进行处理等的电路部以与显示区域邻接的形式设置于非显示区域的情况，若针对该电路部重叠配置上述槽，则担心会对电路部造成短路、断线等负面影响。因此，需要避开电路部将槽配置于非显示区域，但如此一来，非显示区域变大，在实现窄边框化方面存在问题。
本发明基于如上所述的情况完成，目的在于实现窄边框化。
解决问题的手段
本发明的显示装置用基板具备：电路部；第一有机绝缘膜，其配置于所述电路部的上层侧；第二有机绝缘膜，其配置于所述第一有机绝缘膜的上层侧；取向膜，其配置于所述第二有机绝缘膜的上层侧；以及成膜范围限制部，其使所述第二有机绝缘膜局部性地凹陷地设置，而以限制所述取向膜的成膜范围，并与所述电路部重叠的方式配置。
这样，在取向膜成膜时，向第二有机绝缘膜的上侧层供给具备流动性的取向膜的材料，该材料在第二有机绝缘膜的上层侧以扩展开的方式流动，由此取向膜成膜。在第二有机绝缘膜上流动的取向膜的材料的成膜范围受使第二有机绝缘膜局部性地凹陷地设置的成膜范围限制部限制。而且，成膜范围限制部配置为与电路部重叠，因此假若与设定为同电路部不重叠的配置的情况相比，能够实现配置的省空间化，由此适宜实现该显示装置用基板的窄边框化。配置为与成膜范围限制部重叠的电路部由配置于第二有机绝缘膜的下层侧的第一有机绝缘膜覆盖，因此避免受到使第二有机绝缘膜局部性地凹陷而设置的成膜范围限制部的负面影响。
发明效果
根据本发明，能够实现窄边框化。
附图说明
图1是简要地示出本发明的第一实施方式的液晶显示装置所具备的液晶面板的触控电极和触控布线等的平面配置的俯视图。
图2是沿长边方向切断液晶面板的端部的剖视图。
图3是沿短边方向切断液晶面板的端部的剖视图。
图4是简要地示出构成液晶面板的阵列基板中的阵列侧成膜范围限制部和各密封重叠开口部等的平面配置的俯视图。
图5是简要地示出构成本发明的第二实施方式的液晶面板的阵列基板中的阵列侧成膜范围限制部和各密封重叠开口部等的平面配置的俯视图。
图6是沿短边方向切断液晶面板的端部的剖视图。
图7是简要地示出构成本发明的第三实施方式的液晶面板的阵列基板中的阵列侧成膜范围限制部和各密封重叠开口部等的平面配置的俯视图。
图8是简要地示出构成本发明的第四实施方式的液晶面板的阵列基板中的阵列侧成膜范围限制部和各密封重叠开口部等的平面配置的俯视图。
图9是沿短边方向切断液晶面板的端部的剖视图。
图10是简要地示出构成本发明的第五实施方式的液晶面板的阵列基板中的阵列侧成膜范围限制部和各密封重叠开口部等的平面配置的俯视图。
图11是沿长边方向切断本发明的第六实施方式的液晶面板的端部的剖视图。
图12是简要地示出构成本发明的其他实施方式(1)的液晶面板的阵列基板中的阵列侧成膜范围限制部和各密封重叠开口部等的平面配置的俯视图。
图13是简要地示出构成本发明的其他实施方式(2)的液晶面板的阵列基板中的阵列侧成膜范围限制部和各密封重叠开口部等的平面配置的俯视图。
具体实施方式
＜第一实施方式＞
根据图1至图4说明本发明的第一实施方式。在本实施方式中，例示具备位置输入功能的液晶显示装置(带位置输入功能的显示装置)10。此外，在各附图的局部示出X轴、Y轴以及Z轴，描绘为各轴向为各附图中示出的方向。另外，上下方向以图2和图3为基准，并且将该图上侧设为正面侧，并将该图下侧设为背面侧。
如图1所示，液晶显示装置10至少具备：液晶面板(显示装置、显示面板)11，其能够显示图像；和背光灯装置(照明装置)，其是对液晶面板11照射显示所使用的光的外部光源。背光灯装置相对于液晶面板11配置于背面侧(背面侧)，具有发出白色的光(白色光)的光源(例如LED等)、通过对来自光源的光赋予光学作用从而将其转换为面状的光的光学部件等。此外，有关背光灯装置，省略图示。
如图1所示，液晶面板11整体呈纵长的方形状(矩形状)，其长边方向与Y轴方向一致，短边方向与X轴方向一致。液晶面板11被划分为能够显示图像的显示区域(有效显示区域)AA和包围显示区域AA的呈边框状(框状)并且不能显示图像的非显示区域(非有效显示区域)NAA。此外，在图1中，比CF基板11A小一圈的框状的单点划线表示显示区域AA的外形，比该单点划线靠外侧的区域成为非显示区域NAA。液晶面板11为粘合一对基板11A、11B而成，将配置于正面侧(正面侧)的设为CF基板(对置基板)11A，将配设于背面侧(背面侧)的设为阵列基板(显示装置用基板、有效显示矩阵基板)11B。这其中的阵列基板11B比CF基板11A大型，其一部分相对于CF基板11A向侧方突出，在该突出部分(非显示区域NAA)安装有驱动器(面板驱动部件)12和挠性基板(信号传输部件)13，作为用于供给与显示功能、触控面板功能相关的各种信号的部件。驱动器12由内部具有驱动电路的LSI芯片构成，相对于阵列基板11B实施COG(Chip On Glass：玻璃衬底芯片)式安装，处理由挠性基板13传输的各种信号。挠性基板13是在具有绝缘性和挠性的基材上形成多条布线图案而成，通过将液晶面板11中的阵列基板11B与未图示的控制基板(信号供给源)连接，将从控制基板输出的各种信号向液晶面板11传输。
如图2和图3所示，在呈相互对置状的一对基板11A、11B之间，至少夹设有：液晶层11C，其包含作为光学特性随着电场施加而变化的物质的液晶分子；和密封部11D，其用于密封液晶层11C。密封部11D配置于两基板11A、11B中的非显示区域NAA即外周端部，并且以在该外周端部的整周上延伸的形式设置，俯视观察下，整体上呈方形的框状(无端头环状)(参见图1)。此外，在图1中，对密封部11D的形成范围打上点状阴影进行图示。由密封部11D在两基板11A、11B的外周端部，保持液晶层11C厚度量的间隙(单元间隙)。密封部11D在液晶面板11的制造工序中粘合分别另外制造的CF基板11A和阵列基板11B时设置，因此与两基板11A、11B中的外周端部的最内表面接触并且位于最上层。另外，虽然省略图示，但在显示区域AA中，在两基板11A、11B之间夹设有用于保持单元间隙的隔离物。此外，在两基板11A、11B的外表面侧分别粘贴有未图示的偏振片。
接下来，说明液晶面板11的内部构造，但简化对内部构造的各种构造物的图示。如图2和图3所示，在阵列基板11B的内表面侧，分别设置有配置于显示区域AA的像素电路部14、像素电极15及共用电极16以及配置于非显示区域NAA的周边电路部(电路部)17和接线部18。省略详细图示，像素电路部14至少具有：栅极布线(扫描布线)，其传输扫描信号；源极布线(信号布线)，其传输图像信号；以及TFT(Thin Film Transistor：薄膜晶体管)，其是与栅极布线和源极布线连接的开关元件。栅极布线由金属膜(第一金属膜)构成，沿X轴方向延伸，沿Y轴方向空开间隔地排列配置多根。源极布线由相对于栅极布线隔着栅极绝缘膜配置于上层侧的金属膜(第二金属膜)构成，沿Y轴方向延伸，沿X轴方向空开间隔地排列配置多根。TFT是具有由半导体膜构成的沟道部等的已知结构，与像素电极15连接。TFT基于传输到栅极布线的扫描信号被驱动，将传输至源极布线的图像信号经由沟道部向像素电极15供给，由此将像素电极15充电到规定电位。TFT和像素电极15配置于由栅极布线和源极布线围起的区域，沿X轴方向和Y轴方向以多个为单位呈矩阵状排列配置。像素电极15由透明电极膜构成。共用电极16与像素电极15相同，由透明电极膜构成，相对于像素电极15，隔着透明电极膜间绝缘膜(层间绝缘膜)19配置于下层侧。共用电极16将在后面详细阐述，但整体上，具有与显示区域AA同等的大小，但被分割为格子状，其分割出的段(触控电极22)与多个像素电极15重叠并且与驱动器12连接。共用电极16至少在显示期间，被供给几乎恒定的基准电位，设定为能够在与像素电极15之间，产生基于对像素电极15充电而形成的电位的电位差。在基于共用电极16与像素电极15之间的电位差产生的电场中，除了沿阵列基板11B的板面的分量外，还包含边缘电场(斜电场)，该边缘电场(斜电场)包括相对于阵列基板11B的板面的法线方向上的分量。因此，该液晶面板11设定为利用边缘电场控制液晶层11C中所包含的液晶分子的取向状态的所谓FFS(Fringe Field Switching：边缘场开关)模式。另外，共用电极16的详情将在后面阐述，但其具有单元内触控面板功能，即在非显示期间，发挥对静电容的与位置输入相伴随的变化进行检测的电极(触控电极22)的作用，由与该电极连接的驱动器12计算静电容的变化，由此确定显示区域AA中的输入位置。
如图1所示，周边电路部17由一对栅极驱动器电路部17A、预充电电路部17B以及SSD(Source Shared Driving：源极共享驱动)电路部17C构成。这些各电路部17A～17C都由利用与栅极布线、源极布线等相同的金属膜构成的布线、利用与栅极布线、源极布线等相同的金属膜和与沟道部相同的半导体膜构成的TFT等电路元件等构成。也就是说，各电路部17A～17C作为配置于非显示区域NAA中的各金属膜和半导体膜等基材整体地形成于阵列基板11B上。一对栅极驱动器电路部17A分别配置于阵列基板11B的非显示区域NAA中的一对长边部，设置为沿Y轴方向在显示区域AA的几乎全长上延伸。各栅极驱动器电路部17A与从显示区域AA引出的各栅极布线连接，由此能够依次扫描各栅极布线，驱动各TFT。预充电电路部17B配置于阵列基板11B的非显示区域NAA中的与供安装驱动器12一侧相反一侧的短边部，设置为沿X轴方向跨显示区域AA的几乎全长地延伸。预充电电路部17B与从显示区域AA向与驱动器12侧相反一侧引出的各源极布线等连接，例如具有预充电功能等，即在从驱动器12向各源极布线供给图像信号之前，向各源极布线供给预充电信号，将各像素电极15预先充电到规定电位。SSD电路部17C配置于阵列基板11B的非显示区域NAA中的供安装驱动器12一侧的短边部，设置为沿X轴方向跨显示区域AA的几乎全长延伸。SSD电路部17C与从显示区域AA向驱动器12侧引出的各源极布线连接，具有将从驱动器12供给的图像信号分配给各源极布线的开关功能。如以上说明的各电路部17A～17C在俯视观察下配置为，从四周在几乎整周上包围方形的显示区域AA。另外，各电路部17A～17C在非显示区域NAA中配置于比密封部11D靠内侧(显示区域AA的附近)，设置为在俯视观察下与密封部11D不重叠的配置。此外，各电路部17A～17C借助在阵列基板11B的非显示区域NAA中设置的未图示的连接布线分别与驱动器12连接。
如图2和图3所示，接线部18将各电路部17A～17C中包含的布线、源极布线等转接到由其他层的金属膜构成的连接布线。在接线部18通过使夹设于各金属膜间的各绝缘膜开口而设置有用于对布线彼此进行接线的接触孔(未图示)。接线部18配置于非显示区域NAA中比周边电路部17靠外侧。接线部18设定为，在俯视观察下大部分都与密封部11D重叠的配置。与此相对地，周边电路部17在俯视观察下为夹设于显示区域AA与接线部18(密封部11D)之间的平面配置，是与显示区域AA邻接的配置。
如图2和图3所示，在阵列基板11B中的像素电路部14、周边电路部17以及接线部18的上层侧设置有第一平坦化膜(第一有机绝缘膜)20和第二平坦化膜(第二有机绝缘膜)21。第一平坦化膜20和第二平坦化膜21在阵列基板11B上在整个跨显示区域AA与非显示区域NAA的范围呈大致整面状地设置。第一平坦化膜20和第二平坦化膜21例如由丙烯酸树脂(例如PMMA等)等有机材料构成，在使于比自身靠下层侧产生的阶梯差平坦化方面发挥作用。第一平坦化膜20和第二平坦化膜21具有比由无机材料构成的其他绝缘膜大的膜厚。第一平坦化膜20配置于像素电路部14、周边电路部17以及接线部18的紧上层侧，从上层侧覆盖它们，配置于比第二平坦化膜21靠下层侧。第二平坦化膜21配置于第一平坦化膜20的上层侧，在与像素电路部14、周边电路部17以及接线部18之间夹有第一平坦化膜20。在第二平坦化膜21的上层侧配置有共用电极16。另外，在第一平坦化膜20和第二平坦化膜21开口形成有接触孔(未图示)，该接触孔用于在显示区域AA将像素电极15等与像素电路部14连接。
这里，本实施方式的液晶面板11兼具显示图像的显示功能和基于所显示的图像对使用者进行输入的位置(输入位置)进行检测的触控面板功能(位置输入功能)，将用于发挥其中的触控面板功能的触控面板图案一体化(单元内化)。该触控面板图案设定为所谓的投影型静电容方式，其检测方式设定为自电容方式。如图1所示，触控面板图案专门设置于一对基板11A、11B中的阵列基板11B侧，由在阵列基板11B的板面内呈矩阵状排列配置的多个触控电极(位置检测电极)22构成。触控电极22配置于阵列基板11B的显示区域AA。因此，液晶面板11中的显示区域AA与能够检测输入位置的触摸区域(位置输入区域)几乎一致，非显示区域NAA与无法检测输入位置的非触摸区域(非位置输入区域)几乎一致。而且，若使用者欲基于目视确认到的液晶面板11的显示区域AA的图像实施位置输入，而将作为导电体的未图示的手指(位置输入体)接近液晶面板11的表面(显示面)，则在其手指与触控电极22之间形成静电容。由此，由位于手指附近的触控电极22检测出的静电容随着手指的接近而产生变化，因其与位于远离手指之处的触控电极22不同，故能够基于此对输入位置进行检测。
而且，如图1所示，该触控电极22由设置于阵列基板11B的共用电极16构成。共用电极16由通过分隔为近似格子状而在俯视观察下分割为棋盘格状的、相互电气隔离的多个触控电极22构成。分隔共用电极16而成的触控电极22在显示区域AA上沿X轴方向和Y轴方向以多个为单位呈矩阵状排列配置。触控电极22在俯视观察下呈方形，一边的尺寸设定为数mm(例如约2mm～5mm)左右，远大于像素电极14。在多个触控电极22择一地连接有设置于阵列基板11B上的多个触控布线(位置检测布线)23。触控布线23在阵列基板11B上以与源极布线重叠并且并行的形式沿Y轴方向延伸，择一地与沿Y轴方向排列的多个触控电极22中的特定的触控电极22连接。进而，触控布线23与内置有检测电路的驱动器12连接。此外，检测电路也可以借助挠性基板13，设置于液晶面板11的外部。触控布线23在不同的时间点向触控电极22供给与显示功能相关的基准电位信号和与触控功能相关的触摸信号(位置检测信号)。通过将其中的基准电位信号在相同的时间点传输到全部触控布线23，全部触控电极22都变为基准电位，作为共用电极16发挥功能。此外，图1示意性地示出触控电极22的排列，触控电极22的具体设置数、配置能够在图示以外适当地变更。
详细说明触控布线23。如图2和图3所示，触控布线23配置于第一平坦化膜20的上层侧且配置于第二平坦化膜21的下层侧，由与栅极布线、源极布线不同层的金属膜(第三金属膜)构成。也就是说，触控布线23配置为夹设于第一平坦化膜20与第二平坦化膜21之间。如图1所示，在配置为夹设于触控布线23与触控电极22(共用电极16)之间的第二平坦化膜21中，开口形成有用于将触控布线23与触控电极22连接起来的触控布线用接触孔(位置检测布线用接触孔)24。触控布线23以横穿全部触控电极22的形式沿大致Y轴方向延伸，但借助触控布线用接触孔24的平面配置仅择一地与特定的触控电极22连接。此外，在图1中，借助黑圈更加简单地图示了触控布线用接触孔24。触控布线23也可以与预充电电路部17B连接。另外，触控布线23在接线部18(参见图2)中转接到由其他层金属膜构成的连接布线。
接下来，说明CF基板11A的内部构造。如图2和图3所示，在CF基板11A的靠内表面侧的显示区域AA中，在与各像素电极15重叠的位置，设置有多个彩色滤光片25。彩色滤光片25设定为，呈现红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的三种颜色沿X轴方向反复交替排列的配置，并且它们沿Y轴方向延伸，由此整体上排列为条纹状。为了通过分隔相邻的彩色滤光片25之间来防止混色等，而在CF基板11A的内表面侧，在整个跨显示区域AA和非显示区域NAA的范围，设置有遮光部(黑矩阵)26。遮光部26虽然在显示区域AA中呈与栅极布线和源极布线重叠那样的格子状，但在非显示区域NAA中却呈整面状。在彩色滤光片25和遮光部26的上层侧，形成保护膜(对置侧绝缘膜)27。保护膜27在CF基板11A，在整个跨显示区域AA和非显示区域NAA的范围，设置为大致整面状。保护膜27与两平坦化膜20、21相同，例如由丙烯酸树脂(例如PMMA等)等有机材料构成，在使于比自身靠下层侧产生的阶梯差平坦化方面发挥功能。
如图2和图3所示，在两基板11A、11B中与液晶层11C接触的最内表面，分别设置有用于使在液晶层11C中包含的液晶分子取向的阵列侧取向膜(取向膜)28和CF侧取向膜(对置侧取向膜)29。阵列侧取向膜28和CF侧取向膜29都例如由聚酰亚胺构成，在各基板11A、11B上，分别至少在显示区域AA的几乎全域，形成为整面状。阵列侧取向膜28和CF侧取向膜29设定为例如通过照射特定波长区域的光(例如紫外线等)能够沿该光的照射方向使液晶分子取向的光取向膜。阵列侧取向膜28配置于像素电极15和第二平坦化膜21的上层侧，至少在显示区域AA中，遍布全域地从上侧覆盖像素电极15和第二平坦化膜21。CF侧取向膜29配置于保护膜27的上层侧，至少在显示区域AA中，遍布全域地从上层侧覆盖保护膜27。
如图2和图3所示，在本实施方式的阵列基板11B上，通过使第二平坦化膜21局部性地凹陷而设置有对阵列侧取向膜28的成膜范围进行限制的阵列侧成膜范围限制部(成膜范围限制部、第一成膜范围限制部)30。阵列侧成膜范围限制部30在非显示区域NAA中，使第二平坦化膜21沿膜厚方向(Z轴方向)贯通，开口形成于第二平坦化膜21。阵列侧成膜范围限制部30配置于比密封部11D靠内侧(显示区域AA附近)。这里，在阵列基板11B的制造过程中，在阵列侧取向膜28成膜时，将具备流动性的阵列侧取向膜28的材料在显示区域AA中向第二平坦化膜21的上层侧供给，该材料在第二平坦化膜21的上层侧以扩展开的方式流动，由此阵列侧取向膜28成膜。在第二平坦化膜21上流动的阵列侧取向膜28的材料在从显示区域AA的外周端附近朝向非显示区域NAA侧的中途，被使第二平坦化膜21局部性地凹陷而设置的阵列侧成膜范围限制部30限制其成膜范围。由此，能够避免阵列侧取向膜28的材料到达密封部11D的形成预定位置，因此能够防止在将阵列基板11B与CF基板11A粘合起来时密封部11D成为与阵列侧取向膜28重叠的配置而与阵列侧取向膜28接触的情况。阵列侧取向膜28由于与密封部11D的贴合性不佳，因此通过如上所述避免与密封部11D的接触，由此密封部11D的粘结强度提高，在密封部11D不易产生剥离。至此，例示出了设定为阵列侧取向膜28与密封部11D非接触的情况，但并非意图排除阵列侧取向膜28与密封部11D接触的情况。例如，也能够在密封部11D形成时，以向阵列侧成膜范围限制部30侧延伸(探出)的方式涂敷密封部11D的材料，使密封部11D中的配置于阵列侧成膜范围限制部30的部分与阵列侧取向膜28接触。这样，虽然阵列侧取向膜28与密封部11D的贴合性不佳，但能够与密封部11D局部性地同阵列侧取向膜28接触相应地，比非接触的情况提高粘结强度。并且，还能够通过阵列侧成膜范围限制部30，吸收在密封部11D形成时可能产生的形成范围的偏差。此外，在涂敷阵列侧取向膜28时，例如能够使用喷墨装置等。
而且，如图2和图3所示，该阵列侧成膜范围限制部30比接线部18靠内侧配置，配置为在俯视观察下与周边电路部17重叠。这里，在假设将阵列侧成膜范围限制部设定为与周边电路部17不重叠、与接线部18重叠的配置的情况下，需要以与阵列侧成膜范围限制部不重叠的方式，将密封部11D配置得比阵列侧成膜范围限制部靠外侧。与此相比，如上所述，只要阵列侧成膜范围限制部30与周边电路部17重叠，就能实现配置的省空间化。由此，适宜实现阵列基板11B和液晶面板11的窄边框化。另一方面，配置为与阵列侧成膜范围限制部30重叠的周边电路部17由配置于第二平坦化膜21的下层侧的第一平坦化膜20覆盖，因此能够避免使第二平坦化膜21开口而设置的阵列侧成膜范围限制部30所产生的负面影响。以往，平坦化膜被设定为单层，因此若采用阵列侧成膜范围限制部与周边电路部17重叠的配置，则可能产生因贯通单层的平坦化膜的阵列侧成膜范围限制部使得周边电路部17与共用电极16、触控布线23等短路、在它们产生断线等问题。针对于此，在本实施方式中，将平坦化膜20、21双层化，在其中的上层侧的第二平坦化膜21设置有阵列侧成膜范围限制部30，因此即使将阵列侧成膜范围限制部30与周边电路部17重叠配置，也能避免产生以往那样的问题。
如图4所示，阵列侧成膜范围限制部30沿阵列基板11B的外周(遵从外周端面的周向)延伸，呈槽状。阵列侧成膜范围限制部30在阵列基板11B的整周上延伸，在俯视观察下呈方形的无端头环状(框状)。也就是说，阵列侧成膜范围限制部30在整周上与密封部11D并行。此外，在图4中，对第二平坦化膜21的非形成范围(阵列侧成膜范围限制部30等的形成范围)标注斜格子状的阴影进行图示。这样，假若与沿阵列基板11B的外周空开间隔排列配置多个阵列侧成膜范围限制部的情况、阵列侧成膜范围限制部呈有端头环状的情况相比，阵列侧成膜范围限制部30对阵列侧取向膜28的成膜范围限制功能进一步提高。阵列侧成膜范围限制部30以相互并行的形式在内外空开间隔地排列配置多个(三个)。由多个阵列侧成膜范围限制部30限制阵列侧取向膜28的成膜范围的可靠性提高，因此能够更加可靠地避免阵列侧取向膜28的材料到达密封部11D的形成预定位置。
进而，如图2和图3所示，在阵列基板11B，通过使第一平坦化膜20局部性地开口而设置有第一密封重叠开口部31。第一密封重叠开口部31配置为与密封部11D的一部分重叠。除此之外，在阵列基板11B设置有第二密封重叠开口部32，所述第二密封重叠开口部32通过使第二平坦化膜21局部性地开口而配置为至少与第一密封重叠开口部31重叠。因此，设置于上层侧的第二平坦化膜21中的第二密封重叠开口部32与设置于第一平坦化膜20中的第一密封重叠开口部31连通。由此，在设置密封部11D时，密封部11D通过第二密封重叠开口部32进入第一密封重叠开口部31内，与基底(例如配置于接线部18、由无机材料构成的绝缘膜)接触。因此，假若同假若密封部不与基底接触而仅与第一平坦化膜20、第二平坦化膜21接触的情况相比，则密封部11D的贴合性增大。并且，第二密封重叠开口部32具有与密封部11D的全域重叠的形成范围。因此，第二平坦化膜21在与密封部11D重叠的范围，不形成。由此，即使在第二平坦化膜21相对于第一平坦化膜20的贴合性不佳的情况下，也不易在密封部11D产生剥离。
如图4所示，第一密封重叠开口部31呈沿阵列基板11B的外周延伸的槽状。第一密封重叠开口部31在阵列基板11B的整周上延伸，在俯视观察下呈方形的无端头环状(框状)。也就是说，第一密封重叠开口部31相对于密封部11D和阵列侧成膜范围限制部30在整周上并行。此外，在图4中，对第一平坦化膜20的非形成范围(第一密封重叠开口部31的形成范围)标注与第二平坦化膜21的非形成范围(斜格子状的阴影)不同的点状的阴影进行图示。这样，假若与沿阵列基板11B的外周空开间隔地配置多个第一密封重叠开口部的情况、第一密封重叠开口部呈有端头环状的情况相比，则第一密封重叠开口部31的形成范围变大，因此能够进一步提高密封部11D的贴合性。第一密封重叠开口部31以相互并行的形式在内外空开间隔地排列配置多个(三个)。能够由多个第一密封重叠开口部31更加提高密封部11D的贴合性。第二密封重叠开口部32具有将上述多个第一密封重叠开口部31总括起来那样的宽度尺寸，并且，一边与第一密封重叠开口部31并行一边在阵列基板11B的整周上延伸。由此，第二密封重叠开口部32成为分别与密封部11D和多个第一密封重叠开口部31在整周上、遍布全域地重叠的配置。
如图2和图3所示，在CF基板11A上，通过使保护膜27局部性地凹陷来设置对CF侧取向膜29的成膜范围进行限制的CF侧成膜范围限制部(对置侧成膜范围限制部、第二成膜范围限制部)33。CF侧成膜范围限制部33在非显示区域NAA中，沿膜厚方向(Z轴方向)贯通保护膜27，在保护膜27开口形成。CF侧成膜范围限制部33配置于比密封部11D靠内侧(显示区域AA的附近)。这里，在CF基板11A的制造过程中，在CF侧取向膜29成膜时，将具备流动性的CF侧取向膜29的材料在显示区域AA中向保护膜27的上层侧供给，该材料在保护膜27的上层侧以扩展开的方式流动，由此CF侧取向膜29成膜。在保护膜27上流动的CF侧取向膜29的材料在从显示区域AA的外周端附近朝向非显示区域NAA侧的中途，由使保护膜27局部性地凹陷而设置的CF侧成膜范围限制部33限制其成膜范围。由此，能够避免CF侧取向膜29的材料到达密封部11D的形成预定位置，因此在将CF基板11A与阵列基板11B粘合起来时，能够防止密封部11D成为与CF侧取向膜29重叠的配置而与CF侧取向膜29接触的情况。CF侧取向膜29因与密封部11D的贴合性不佳，因此通过如上所述避免与密封部11D的接触，由此密封部11D的粘结强度提高，不易在密封部11D产生剥离。此外，在CF侧取向膜29涂敷时，例如能够使用喷墨装置等。
而且，如图2和图3所示，该CF侧成膜范围限制部33配置得比阵列基板11B侧的接线部18靠内侧，配置为俯视观察下与阵列侧成膜范围限制部30和周边电路部17重叠。这里，假设在将CF侧成膜范围限制部设定为与周边电路部17不重叠、与接线部18重叠的配置的情况下，需要以与CF侧成膜范围限制部不重叠的方式，将密封部11D配置得比CF侧成膜范围限制部靠外侧。与此相比，如上所述，只要CF侧成膜范围限制部33与周边电路部17重叠，就能实现配置的省空间化。由此，适宜实现CF基板11A和液晶面板11的窄边框化。此外，由于在CF基板11A上未设置有像阵列基板11B侧那样的周边电路部17，因此即使在保护膜27开口形成CF侧成膜范围限制部33，也不会特别产生负面影响。
进而，如图2和图3所示，在CF基板11A上，通过使保护膜27局部性地开口而设置有CF侧密封重叠开口部(对置侧密封重叠开口部)34。CF侧密封重叠开口部34配置为与密封部11D的一部分重叠。由此，在设置密封部11D时，密封部11D进入CF侧密封重叠开口部34内，与基底(例如遮光部26)接触。因此，假若同密封部不与基底接触而仅与保护膜27接触的情况相比，则密封部11D的贴合性提高。另外，省略详细图示，CF侧密封重叠开口部34与阵列基板11B侧的第一密封重叠开口部31相同，在CF基板11A的整周上延伸，在俯视观察下呈方形的无端头环状(框状)，并且，在内外空开间隔地配置有多个(三个)。
如以上说明所示，本实施方式的阵列基板(显示装置用基板)11B具备：周边电路部(电路部)17；第一平坦化膜(第一有机绝缘膜)20，其配置于周边电路部17的上层侧；第二平坦化膜(第二有机绝缘膜)21，其配置于第一平坦化膜20的上层侧；阵列侧取向膜(取向膜)28，其配置于第二平坦化膜21的上层侧；以及阵列侧成膜范围限制部(成膜范围限制部)30，其将第二平坦化膜21局部性地凹陷而设置，限制阵列侧取向膜28的成膜范围，配置为与周边电路部17重叠。
这样，在阵列侧取向膜28成膜时，将具备流动性的阵列侧取向膜28的材料向第二平坦化膜21的上层侧供给，通过该材料在第二平坦化膜21的上层侧以扩展开的方式流动，由此阵列侧取向膜28成膜。在第二平坦化膜21上流动的阵列侧取向膜28的材料由使第二平坦化膜21局部性凹陷而设置的阵列侧成膜范围限制部30限制其成膜范围。而且，阵列侧成膜范围限制部30配置为与周边电路部17重叠，因此假若同设定为与周边电路部17不重叠的配置的情况相比，能够实现配置的省空间化，由此适宜实现该阵列基板11B的窄边框化。配置为与阵列侧成膜范围限制部30重叠的周边电路部17由配置于第二平坦化膜21的下层侧的第一平坦化膜20覆盖，因此能够避免受到使第二平坦化膜21局部性地凹陷而设置的阵列侧成膜范围限制部30的负面影响。
另外，还具备：密封部11D，其配置于第二平坦化膜21的上层侧且比阵列侧成膜范围限制部30靠外侧；第一密封重叠开口部31，其使第一平坦化膜20局部性地开口而设置，配置为与密封部11D的至少一部分重叠；以及第二密封重叠开口部32，其使第二平坦化膜21局部性地开口而设置，配置为至少与第一密封重叠开口部31重叠。这样，通过由阵列侧成膜范围限制部30限制阵列侧取向膜28的成膜范围，不易产生配置于第二平坦化膜21的上层侧且比阵列侧成膜范围限制部30靠外侧的密封部11D与阵列侧取向膜28接触的情况。由此，在密封部11D不易产生剥离。并且，密封部11D通过使第二平坦化膜21局部性地开口而设置并与第一密封重叠开口部31重叠的第二密封重叠开口部32，进入使第一平坦化膜20局部性地开口而设置且与密封部11D的至少一部分重叠的第一密封重叠开口部31内。进入了第一密封重叠开口部31内的密封部11D与基底接触，因此假若与密封部不同基底接触而仅同第一平坦化膜20、第二平坦化膜21接触的情况相比，密封部11D的贴合性变高。
另外，第二密封重叠开口部32至少具有与密封部11D的全域重叠的形成范围。这样，能够避免在与密封部11D重叠的范围中存在第二平坦化膜21。由此，即使在第二平坦化膜21相对于第一平坦化膜20的贴合性不佳的情况下，也不易在密封部11D产生剥离。
另外，第一密封重叠开口部31沿该阵列基板11B的外周延伸。这样，假若与沿该阵列基板11B的外周空开间隔地配置多个第一密封重叠开口部的情况相比，能够更加提高密封部11D的贴合性。
另外，第一密封重叠开口部31在该阵列基板11B的整周上延伸，呈无端头环状。这样，假若与第一密封重叠开口部呈有端头环状的情况相比，能够进一步提高密封部11D的贴合性。
另外，阵列侧成膜范围限制部30沿该阵列基板11B的外周延伸。这样，假若与沿该阵列基板11B的外周空开间隔地排列配置多个阵列侧成膜范围限制部的情况相比，阵列侧成膜范围限制部30对阵列侧取向膜28的成膜范围限制功能变得更高。
另外，阵列侧成膜范围限制部30在该阵列基板11B的整周上延伸，呈无端头环状。这样，假若与阵列侧成膜范围限制部呈有端头环状的情况相比，阵列侧成膜范围限制部30对阵列侧取向膜28的成膜范围限制功能进一步变高。
另外，本实施方式的液晶面板(显示装置)11具备上述记载的阵列基板11B和与阵列基板11B呈对置状配置的CF基板(对置基板)11A。采用这样结构的液晶面板11，能够实现阵列基板11B的窄边框化，因此适宜实现外观的设计性的提高等。
另外，还具备：保护膜(对置侧绝缘膜)27，其配置于CF基板11A；CF侧取向膜(对置侧取向膜)29，其配置于保护膜27的上层侧；以及CF侧成膜范围限制部(对置侧成膜范围限制部)33，其使保护膜27局部性地凹陷而设置，限制CF侧取向膜29的成膜范围，配置为与周边电路部17重叠。这样，在CF侧取向膜29成膜时，将具备流动性的CF侧取向膜29的材料向CF基板11A供给，通过该材料在CF基板11A中的保护膜27的上层侧以扩展开的方式流动，由此CF侧取向膜29成膜。在保护膜27上流动的CF侧取向膜29的材料由使保护膜27局部性地凹陷而设置的CF侧成膜范围限制部33限制其成膜范围。而且，CF侧成膜范围限制部33配置为与周边电路部17重叠，因此假若与设定为同周边电路部17不重叠的配置的情况相比，能够实现配置的省空间化，由此适宜实现该液晶面板11的窄边框化。
另外，还具备：密封部11D，其配置于比阵列侧成膜范围限制部30和CF侧成膜范围限制部33靠外侧，对阵列基板11B与CF基板11A之间进行密封；和CF侧密封重叠开口部(对置侧密封重叠开口部)34，其使保护膜27局部性地开口而设置，配置为与密封部11D的至少一部分重叠。这样，通过由CF侧成膜范围限制部33限制CF侧取向膜29的成膜范围，不易产生配置得比CF侧成膜范围限制部33靠外侧的密封部11D与CF侧取向膜29接触的情况。由此，在密封部11D不易产生剥离。并且，密封部11D进入使保护膜27局部性地开口而设置且与密封部11D的至少一部分重叠的CF侧密封重叠开口部34内。由于进入了CF侧密封重叠开口部34内的密封部11D与基底接触，因此假若与密封部不同基底接触而仅同保护膜27接触的情况相比，密封部11D的贴合性增高。
＜第二实施方式＞
根据图5或图6说明本发明的第二实施方式。在该第二实施方式中，示出变更了第一密封重叠开口部131的结构的情况。此外，有关与上述第一实施方式相同的构造、作用以及效果省略重复说明。
如图5所示，本实施方式的第一密封重叠开口部131以沿阵列基板111B中的一对短边和一对长边呈直线状延伸的形式分别设置有四个，整体上呈包围显示区域AA的有端头环状。也就是说，该第一密封重叠开口部131构成为在阵列基板111B中的四角的各角部中断。另外，如图6所示，第二密封重叠开口部132与第一密封重叠开口部131相同，在内外空开间隔地排列配置有多个(三个)，其宽度尺寸和平面配置与第一密封重叠开口部131一致。也就是说，多个第二密封重叠开口部132在整周上、遍布全域地与多个第一密封重叠开口部131分别独立地重叠。另外，设置有第二密封重叠开口部132的第二平坦化膜121与设置有第一密封重叠开口部131的第一平坦化膜120相同也存留于密封部111D的形成范围，设定为其存留部分与第一平坦化膜120的存留部分重叠的配置。
＜第三实施方式＞
根据图7说明本发明的第三实施方式。在该第三实施方式中，示出在上述第一实施方式的基础上变更了第一密封重叠开口部231的结构的情况。此外，有关与上述第一实施方式相同的构造、作用以及效果省略重复说明。
如图7所示，本实施方式的第一密封重叠开口部231沿阵列基板211B的外周空开间隔地排列设置多个。第一密封重叠开口部231的平面形状呈近似正方形的点状，在第一平坦化膜(在本实施方式中未图示)中开口形成。第一密封重叠开口部231在重叠的密封部211D的整周上，以几乎等间隔排列有多个。第一密封重叠开口部231沿重叠的密封部211D的宽度方向，以几乎等间隔排列有多个(三个)。也就是说，第一密封重叠开口部231在与密封部211D重叠的框状的区域中，呈矩阵状平面配置。这样，与如上述第一实施方式那样第一密封重叠开口部31沿阵列基板11B的外周延伸的情况(参见图4)相比，第一平坦化膜的非开口范围变大。由此，第一平坦化膜的绝缘性能等保持得较高。
如以上说明所示，采用本实施方式，第一密封重叠开口部231沿该阵列基板211B的外周空开间隔地排列配置多个。这样，假若与第一密封重叠开口部沿该阵列基板211B的外周延伸的情况相比，第一平坦化膜的非开口范围变大。由此，第一平坦化膜的绝缘性能等保持得较高。
＜第四实施方式＞
根据图8和图9说明本发明的第四实施方式。在该第四实施方式中，示出在上述第一实施方式的基础上变更了第一密封重叠开口部331的结构并对阵列侧筒状部35进行了追加等的情况。此外，有关与上述第一实施方式相同的构造、作用以及效果省略重复说明。
如图8和图9所示，本实施方式的第一密封重叠开口部331具有与密封部311D的宽度尺寸同等的宽度尺寸，与密封部311D并行，在阵列基板311B的整周上延伸。具体而言，第一密封重叠开口部331虽然其宽度尺寸比密封部311D的宽度尺寸略小，但是设定为与密封部311D的大部分重叠的配置。而且，在第一密封重叠开口部331内，设置有由第一平坦化膜320构成的阵列侧筒状部(筒状部)35。阵列侧筒状部35呈圆筒状，自身的中央侧具有开口部35A。因此，开口部35A的平面形状设定为圆形。阵列侧筒状部35配置于第一密封重叠开口部331中的宽度方向上的大致中央位置，并且，沿第一密封重叠开口部331的延伸方向，空开间隔地排列配置有多个。具体而言，阵列侧筒状部35在第一密封重叠开口部331的整周上，以几乎等间隔且呈一列地排列有多个。另一方面，CF侧密封重叠开口部334与第一密封重叠开口部331相同，具有与密封部311D的宽度尺寸同等的宽度尺寸，与密封部311D并行，在CF基板311A的整周上延伸。CF侧密封重叠开口部334的宽度尺寸与第一密封重叠开口部331几乎相同。在CF侧密封重叠开口部334内，设置有由保护膜327构成的CF侧筒状部36。CF侧筒状部36与阵列侧筒状部35相同，呈圆筒状，在自身的中央侧具有开口部36A。此外，CF侧筒状部36与阵列侧筒状部35同样地配置，以在俯视观察下与各阵列侧筒状部35重叠的方式设置有多个。
这里，例如，若随着窄边框化的发展，周边电路部317的形成范围变窄，则不得不减少阵列侧成膜范围限制部330和CF侧膜范围限制部333的设置数量、缩小阵列侧成膜范围限制部330的宽度尺寸和CF侧膜范围限制部333的宽度尺寸，因此有可能无法利用阵列侧成膜范围限制部330和CF侧膜范围限制部333充分地限制阵列侧取向膜328和CF侧取向膜329的流动。在像这样的情况下，在阵列侧取向膜328和CF侧取向膜329成膜时，在第二平坦化膜321和平坦化膜327上流动的材料有可能越过阵列侧成膜范围限制部330和CF侧膜范围限制部333，进入到第一密封重叠开口部331和CF侧密封重叠开口部334内。针对于此，在第一密封重叠开口部331和CF侧密封重叠开口部334内，配置有在自身的中央侧具有开口部35A、36A的阵列侧筒状部35和CF侧筒状部36，因此即使在阵列侧取向膜328和CF侧取向膜329的材料进入到第一密封重叠开口部331和CF侧密封重叠开口部334内的情况下，也不易产生该材料越过阵列侧筒状部35和CF侧筒状部36而进入到开口部35A、36A内的情况。由此，能够使基底在阵列侧筒状部35和CF侧筒状部36的开口部35A、36A内暴露。因此，在形成密封部311D时，能够使密封部311D进入到阵列侧筒状部35和CF侧筒状部36的开口部35A、36A内，并且不隔着阵列侧取向膜328和CF侧取向膜329，与基底贴合。由此，适宜将密封部311D的贴合性保持得高。并且，相互独立的多个阵列侧筒状部35和CF侧筒状部36分别具有开口部35A、36A，因此阵列侧取向膜328和CF侧取向膜329的材料不进入的开口部35A、36A存留下来的可靠性变大。由此，适宜将密封部311D的贴合性保持得更高。
如以上说明的那样，采用本实施方式，具备阵列侧筒状部(筒状部)35，其由第一平坦化膜320构成，配置于第一密封重叠开口部331内，在自身的中央侧具有开口部35A。例如，若随着窄边框化的发展，周边电路部317和阵列侧成膜范围限制部330的形成范围变窄，则有可能无法由阵列侧成膜范围限制部330充分限制阵列侧取向膜328的流动。在这样的情况下，越过了阵列侧成膜范围限制部330的阵列侧取向膜328的材料进入到第一密封重叠开口部331内。但是，由于在第一密封重叠开口部331内配置有在自身的中央侧具有开口部35A的阵列侧筒状部35，因此不易产生阵列侧取向膜328的材料越过阵列侧筒状部35进入到开口部35A内的情况。由此，使密封部311D进入到阵列侧筒状部35的开口部35A内的可靠性提高，因此适宜将密封部311D的贴合性保持得较高。
另外，阵列侧筒状部35空开间隔地排列配置多个。这样，相互独立的多个阵列侧筒状部35分别具有开口部35A，因此阵列侧取向膜328的材料不会进入的开口部35A存留下来的可靠性变高。由此，适宜将密封部311D的贴合性保持得更高。
＜第五实施方式＞
根据图10说明本发明的第五实施方式。在该第五实施方式中，示出在上述第四实施方式的基础上变更了阵列侧筒状部435的结构的情况。此外，有关与上述第四实施方式相同的构造、作用以及效果，省略重复说明。
如图10所示，本实施方式的阵列侧筒状部435呈方形的方筒状。因此，开口部435A的平面形状设定为方形。即使是这样的结构，也与上述第四实施方式相同，能够充分获得将密封部411D的贴合性保持得高的效果。
＜第六实施方式＞
根据图11说明本发明的第六实施方式。在该第六实施方式中，示出在上述第一实施方式的基础上变更了液晶面板511的结构的情况。此外，有关与上述第一实施方式相同的构造、作用以及效果，省略重复说明。
如图11所示，本实施方式的液晶面板511设定为利用太阳光、室内灯光等外部光实施图像的显示的反射型。因此，在本实施方式中，液晶显示装置510没有背光灯装置。该反射型的液晶面板511不具有在上述第一实施方式中记载的液晶面板11那样的触控面板功能及与其相关的结构(触控电极22和触控布线23等)，而专门具有显示功能。下面，说明反射型的液晶面板511的具体结构。
构成反射型的液晶面板511的阵列基板511B具有由金属膜构成的反射像素电极37，来取代上述第一实施方式中记载的由透明电极膜构成的像素电极15(参见图2)。反射像素电极37能够利用具有金属光泽的表面高效率地反射外部光。在阵列基板511B上以夹设于第一平坦化膜520与第二平坦化膜521之间的形式设置有由金属膜构成的中继部(中继电极)38。中继部38设置于显示区域AA和非显示区域NAA，但在其中的显示区域AA，在第一平坦化膜520的上层侧设置的中继部38将上层侧的反射像素电极37和下层侧的像素电路部514中继连接起来。设置于显示区域AA中的中继部38设定为在俯视观察下与反射像素电极37重叠的配置，设置有与反射像素电极37的设置数量相同的数量。在非显示区域NAA中在第一平坦化膜520的上层侧设置的中继部38设定为与密封部511D和接线部518重叠的配置。而且，在与设置于非显示区域NAA中的中继部38重叠的位置上，设置有由与反射像素电极37相同的金属膜构成的基准电位部39。基准电位部39经由中继部38与接线部518连接，在接线部518，还具备用于向基准电位部39供给基准电位信号的布线。此外，在第一平坦化膜520和第二平坦化膜521中，在显示区域AA中与上述反射像素电极37、中继部38、基准电位部39、像素电路部514以及接线部518重叠的位置，开口形成有接触孔(未图示)。
构成反射型的液晶面板511的CF基板511A具有与反射像素电极37呈对置状的对置电极40。对置电极40配置于保护膜527的上层侧，由透明电极膜构成。对置电极40至少在显示区域AA中呈整面状设置，隔着液晶层511C相对于全部反射像素电极37对置。对置电极40具有从配置于显示区域AA中的主体部分向非显示区域NAA侧延长的部分，该延长部分40A的一部分与密封部511D和基准电位部39重叠。而且，密封部511D中含有导电性粒子41。密封部511D中含有的导电性粒子41将对置电极40的延长部分40A与基准电位部39导通连接起来。因此，传输到接线部518的布线的准电位信号经由中继部38、基准电位部39以及导电性粒子41供给至对置电极40。由此，对置电极40保持恒定的基准电位，因此在对置电极40与反射像素电极37之间，能够产生基于对反射像素电极37进行了充电而形成的电位的电位差。借助基于在对置电极40与反射像素电极37之间产生的电位差而产生的电场，能够控制液晶层511C中包含的液晶分子的取向状态。
即使在如上所述的反射型的液晶面板511中，也与上述第一实施方式相同，通过将阵列侧成膜范围限制部530和CF侧成膜范围限制部533配置为与周边电路部517重叠，由此能够实现窄边框化。此外，其他作用和效果也与第一实施方式相同。
＜其他实施方式＞
本发明并不局限于基于上述记述和附图说明了的实施方式，例如如下所示的实施方式也包含于本发明的技术范围中。
(1)作为上述第二实施方式的变形例，可以如图12所示，是将第一密封重叠开口部131-1和第二密封重叠开口部132-1设定为无端头环状、将阵列侧成膜范围限制部30-1设定为有端头环状的结构。阵列侧成膜范围限制部30-1以沿阵列基板111B-1上的一对短边和一对长边呈直线状延伸的形状分别设置有四个。
(2)作为上述第二实施方式的变形例，可以如图13所示，是将第一密封重叠开口部131-2、第二密封重叠开口部132-2以及阵列侧成膜范围限制部30-2设定为有端头环状的结构。第一密封重叠开口部131-2、第二密封重叠开口部132-2以及阵列侧成膜范围限制部30-2都以沿阵列基板111B-2中的一对短边和一对长边呈直线状延伸的形式分别设置有四个。
(3)在上述各实施方式(第三实施方式除外)中，示出了阵列侧成膜范围限制部和第一密封重叠开口部沿阵列基板的外周呈直线状延伸的情况，但是也可以是阵列侧成膜范围限制部和第一密封重叠开口部沿阵列基板的外周延伸但在中途屈曲或者弯曲。具体而言，阵列侧成膜范围限制部和第一密封重叠开口部也可以在俯视观察下例如呈波形或者锯齿形。阵列侧成膜范围限制部和第一密封重叠开口部的具体平面形状也能够在上述以外适当地变更。
(4)在上述各实施方式中，示出了第二密封重叠开口部沿阵列基板的外周呈直线状延伸的情况，但也可以与上述(3)的记载相同，第二密封重叠开口部在中途屈曲或者弯曲。第二密封重叠开口部的具体的平面形状除了波形、锯齿形以外也能够适当地变更。此外，CF侧成膜范围限制部和CF侧密封重叠开口部的平面形状也同样能够变更。
(5)在上述各实施方式(第三实施方式除外)中，示出了阵列侧成膜范围限制部和第一密封重叠开口部以长度至少与阵列基板的短边或者长边相等的方式呈直线状延伸的情况，但阵列侧成膜范围限制部和第一密封重叠开口部的长度也能够设定为小于阵列基板的短边或者长边的长度。
(6)在上述各实施方式中，示出了第二密封重叠开口部以长度至少与阵列基板的短边或者长边相等的方式呈直线状延伸的情况，但与上述(5)的记载相同，也能够将第二密封重叠开口部的长度设定为小于阵列基板的短边或者长边的长度。此外，CF侧成膜范围限制部和CF侧密封重叠开口部的长度也同样能够变更。
(7)在上述各实施方式中，示出了阵列侧成膜范围限制部呈环状且在内外排列设置三个的情况，但也可以是环状的阵列侧成膜范围限制部在内外排列设置两个或者四个以上。另外，也能够仅设置一个环状的阵列侧成膜范围限制部。此外，CF侧成膜范围限制部和CF侧密封重叠开口部的排列数量也同样能够变更。
(8)在上述各实施方式(第三实施方式除外)中，示出了第一密封重叠开口部呈环状且在内外排列设置三个的情况、仅设置一个的情况，但也可以是环状的第一密封重叠开口在内外排列设置两个或者四个以上。
(9)在上述各实施方式中，示出了阵列基板的阵列侧成膜范围限制部与CF基板的CF侧成膜范围限制部重叠配置的结构，但它们也可以是相互不重叠的配置。同样地，阵列基板的第一密封重叠开口部与CF基板的CF侧密封重叠开口部也可以是相互不重叠的配置。
(10)在上述各实施方式中，示出了阵列侧成膜范围限制部贯通第二平坦化膜而设置的情况，但阵列侧成膜范围限制部也可以不贯通第二平坦化膜而是使第二平坦化膜凹陷而设置。这样，能够避免在第一平坦化膜与第二平坦化膜之间夹设的触控布线的暴露，因此在触控布线不易产生短路。同样地，CF侧成膜范围限制部也可以不贯通保护膜而是使保护膜凹陷而设置。此外，为了如上所述非贯通地形成阵列侧成膜范围限制部、CF侧成膜范围限制部，只要在对第二平坦化膜、保护膜刻画图案时，使用半色调掩模或者灰色调掩模，使阵列侧成膜范围限制部、CF侧成膜范围限制部的形成部位半色调曝光即可。
(11)在上述各实施方式(第六实施方式除外)中，示出了触控布线夹设于两平坦化膜之间配置的情况，但触控布线也可以配置于第二平坦化膜的上层侧。在该情况下优选为，使绝缘膜夹设于触控布线与触控电极(共用电极)之间，在该绝缘膜中适当地开口形成触控布线用接触孔。
(12)在上述第三实施方式中，示出了将呈点状的第一密封重叠开口部的平面形状设定为近似正方形的情况，但呈点状的第一密封重叠开口部的平面形状例如能够变更为长方形、三角形、梯形、菱形、五边形以上的多边形(含蜂窝型)、圆形、椭圆形等。另外，也能够将第一密封重叠开口部的平面形状设定为格子形。
(13)在上述第三实施方式中，示出了呈点状的第一密封重叠开口部呈矩阵状排列配置的情况，但呈点状的第一密封重叠开口部也可以呈锯齿状地排列配置。
(14)在上述第四实施方式、第五实施方式中，示出了将阵列侧筒状部和CF侧筒状部、它们的开口部的平面形状设定为圆形或者近似正方形的情况，但阵列侧筒状部和CF侧筒状部、它们的开口部的平面形状例如也能够变更为椭圆形、长方形、三角形、梯形、菱形、五边形以上的多边形(含蜂窝型)等。
(15)在上述第四实施方式、第五实施方式中，示出了阵列侧筒状部和CF侧筒状部排列成一列配置的情况，但也能够采用阵列侧筒状部以及CF侧筒状部排列为多列的配置。另外，阵列侧筒状部和CF侧筒状部也可以在俯视观察下呈矩阵状或者锯齿状地排列配置。
(16)在上述第六实施方式中，与第一实施方式中记载的透射式的液晶面板相同，示出了具备R、G、B这三色的彩色滤光片的反射型的液晶面板，但在单色显示型的反射型的液晶面板中，彩色滤光片也可以是蓝色单色。反射型的液晶面板因利用外部光进行显示，而呈现显示图像容易带黄色的趋势，但通过设置作为黄色的补色的蓝色的彩色滤光片，能够抑制显示图像带有颜色。反射型的液晶面板的彩色滤光片也能够设定为白色(无色透明)等。
(17)在上述各实施方式(第六实施方式除外)中，示出了将触控面板图案设定为自电容方式的情况，但触控面板图案也可以是互电容方式。
(18)除了上述各实施方式以外，也能够更换像素电极与共用电极的层叠顺序。
(19)在上述各实施方式中，示出了将液晶面板的平面形状设定为纵长的方形的情况，除此以外，也可以是横长的方形、正方形等，还可以是圆形、椭圆形、梯形等非方形(将外形的一部分或者全域设定为曲线状的形状)。
(20)在上述各实施方式中，例示了设定为在一对基板间夹持有液晶层的结构的液晶面板，但在一对基板间夹持有液晶材料以外的功能性有机分子的显示面板也能够使用本发明。
(21)在上述各实施方式(第六实施方式除外)中，示出了夹设于第一平坦化膜与第二平坦化膜之间的触控布线延伸至到达SSD电路部的结构，但也能够将触控布线的形成范围限制于比阵列侧成膜范围限制部靠显示区域侧，将触控布线设定为与阵列侧成膜范围限制部不重叠的配置。在该情况下，只要设置比第一平坦化膜靠下层侧的由金属膜构成的引出布线，在比阵列侧成膜范围限制部靠显示区域侧的位置上通过至少在第一平坦化膜上开口形成的接触孔，将该引出布线与触控布线连接起来即可。
附图标记说明
11、511…液晶面板(显示装置)；11A、311A、511A…CF基板(对置基板)；11B、111B、111B-1、111B-2311B、511B…阵列基板(显示装置用基板)；11D、111D、211D、311D、411D、511D…密封部；17、317、517…周边电路部(电路部)；20、120、320、520…第一平坦化膜(第一有机绝缘膜)；21、121、321、521…第二平坦化膜(第二有机绝缘膜)；27、327…保护膜(对置侧绝缘膜)；28、328…阵列侧取向膜(取向膜)；29、329…CF侧取向膜(对置侧取向膜)；30、30-1、30-2、330、530…阵列侧成膜范围限制部(成膜范围限制部)；31、131、131-1、131-2、231、331…第一密封重叠开口部；32、132、132-1、132-2…第二密封重叠开口部；33、333、533…CF侧成膜范围限制部(对置侧成膜范围限制部)；34、334…CF侧密封重叠开口部(对置侧密封重叠开口部)；35、435…阵列侧筒状部(筒状部)；35A、435A…开口部。

Claims (12)

1.一种显示装置用基板，其特征在于，包括：
电路部；
第一有机绝缘膜，其配置于所述电路部的上层侧；
第二有机绝缘膜，其配置于所述第一有机绝缘膜的上层侧；
取向膜，其配置于所述第二有机绝缘膜的上层侧；
成膜范围限制部，其使所述第二有机绝缘膜局部性地凹陷地设置，而以限制所述取向膜的成膜范围，并与所述电路部重叠的方式配置；
密封部，其配置于所述第二有机绝缘膜的上层侧且比所述成膜范围限制部靠外侧；
第一密封重叠开口部，其使所述第一有机绝缘膜局部性地开口地设置，而以与所述密封部的至少一部分重叠的方式配置；以及
第二密封重叠开口部，其使所述第二有机绝缘膜局部性地开口地设置，而以至少与所述第一密封重叠开口部重叠的方式配置，
所述第二密封重叠开口部具有至少与所述密封部的全域重叠的形成范围。
2.一种显示装置用基板，其特征在于，包括：
电路部；
第一有机绝缘膜，其配置于所述电路部的上层侧；
第二有机绝缘膜，其配置于所述第一有机绝缘膜的上层侧；
取向膜，其配置于所述第二有机绝缘膜的上层侧；
成膜范围限制部，其使所述第二有机绝缘膜局部性地凹陷地设置，而以限制所述取向膜的成膜范围，并与所述电路部重叠的方式配置；
密封部，其配置于所述第二有机绝缘膜的上层侧且比所述成膜范围限制部靠外侧；
第一密封重叠开口部，其使所述第一有机绝缘膜局部性地开口地设置，而以与所述密封部的至少一部分重叠的方式配置；
第二密封重叠开口部，其使所述第二有机绝缘膜局部性地开口地设置，而以至少与所述第一密封重叠开口部重叠的方式配置；以及
筒状部，其由所述第一有机绝缘膜构成，并配置于所述第一密封重叠开口部内，在自身的中央侧具有开口部。
3.根据权利要求2所述的显示装置用基板，其特征在于，
所述第二密封重叠开口部具有至少与所述密封部的全域重叠的形成范围。
4.根据权利要求1或者权利要求2所述的显示装置用基板，其特征在于，
所述第一密封重叠开口部沿该显示装置用基板的外周延伸。
5.根据权利要求4所述的显示装置用基板，其特征在于，
所述第一密封重叠开口部在该显示装置用基板的整周上延伸，呈无端头环状。
6.根据权利要求1或者权利要求2所述的显示装置用基板，其特征在于，
所述第一密封重叠开口部沿该显示装置用基板的外周空开间隔地排列配置多个。
7.根据权利要求2所述的显示装置用基板，其特征在于，
所述筒状部空开间隔地排列配置多个。
8.根据权利要求1或权利要求2所述的显示装置用基板，其特征在于，
所述成膜范围限制部沿该显示装置用基板的外周延伸。
9.根据权利要求8所述的显示装置用基板，其特征在于，
所述成膜范围限制部在该显示装置用基板的整周上延伸，呈无端头环状。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：
权利要求1至权利要求9中任一项中记载的显示装置用基板和与所述显示装置用基板呈对置状配置的对置基板。
11.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，包括：
对置侧绝缘膜，其配置于所述对置基板；
对置侧取向膜，其配置于所述对置侧绝缘膜的上层侧；以及
对置侧成膜范围限制部，其使所述对置侧绝缘膜局部性地凹陷地设置，而以限制所述对置侧取向膜的成膜范围，并与所述电路部重叠的方式配置。
12.根据权利要求11所述的显示装置，其特征在于，包括：
密封部，其配置于比所述成膜范围限制部和所述对置侧成膜范围限制部靠外侧，对所述显示装置用基板与所述对置基板之间密封；和
对置侧密封重叠开口部，其使所述对置侧绝缘膜局部性地开口地设置，而以与所述密封部的至少一部分重叠的方式配置。
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