CN115206252B - 配线基板和显示装置 - Google Patents

Abstract

一种配线基板和显示装置，降低位置检测电极的电阻分布，并且屏蔽来自配线的电场。配线基板(21)具备：多个位置检测配线(31)，其沿着第1方向延伸，至少传送位置检测信号；多个位置检测电极(30)，其连接到位置检测配线(31)，并且在第1方向上空开间隔配置；配线(26)，其位于在第1方向上相邻的位置检测电极(30)之间，沿着与第1方向交叉的第2方向延伸；多个连接配线(33)，其沿着第1方向延伸，连接到位置检测电极(30)，并且在第2方向上空开间隔配置；以及短路配线(34)，其沿着第2方向延伸并配置为与配线(26)隔着绝缘膜(F2、F5、F6)重叠，使多个连接配线(33)短路。

Description

配线基板和显示装置

技术领域

本说明书所公开的技术涉及配线基板和显示装置。

背景技术

以往，作为显示装置所具备的配线基板的一例，已知下述专利文献1所记载的配线基板。在专利文献1中记载有显示器装置的内置型触摸面板的阵列基板作为配线基板。该内置型触摸面板具有：阵列基板，其具备多个子像素；多个栅极线和数据线，其设置在上述阵列基板上，相互交叉并绝缘；多个自电容电极，其设置在相同的层，相互独立；以及多个触摸控制线，其将各上述自电容电极分别连接到触摸检测芯片，上述多个栅极线与上述数据线相互交叉而划定了上述多个子像素，各子像素具有长边和短边并包含像素电极，上述触摸控制线设置为沿着上述子像素的短边方向延伸。该内置型触摸面板是采用新的像素结构来设计的，因此，触摸控制线的位置得以最佳化，能够提高开口率，降低功耗。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特表2018-509662号公报

发明内容

发明要解决的问题

在上述的专利文献1所记载的内置型触摸面板中，形成有与触摸控制线设置在相同的层且相互绝缘的多个金属线，这多个金属线经由通孔与自电容电极电连接，从而能够降低电阻值高的自电容电极的电阻。在此，要想降低自电容电极的电阻分布，优选增多各金属线与自电容电极的连接部位，即增多通孔。但是，如果通孔变多，则显示质量可能会恶化，要想避免这一问题则需要将通孔附近遮光，因此，可能会产生像素的开口率下降的问题。

而另一方面，在设置于内置型触摸面板所具备的阵列基板的多个栅极线中存在配置为介于空开间隔排列的自电容电极之间的栅极线。这种配置的栅极线相比于配置为与自电容电极重叠的栅极线，其与像素电极之间产生的电场难以被屏蔽，因此，显示质量可能会由于该电场而恶化。要想避免这一问题则需要将配置为介于自电容电极之间的栅极线的附近遮光，会产生像素的开口率下降的问题。

本说明书所述的技术是基于如上所述的情形而完成的，目的在于降低位置检测电极的电阻分布并且屏蔽来自配线的电场。

用于解决问题的方案

(1)与本说明书所述的技术相关的配线基板具备：多个位置检测配线，其沿着第1方向延伸，至少传送位置检测信号；多个位置检测电极，其连接到上述位置检测配线，并且至少在上述第1方向上空开间隔配置；配线，其位于在上述第1方向上相邻的上述位置检测电极之间并沿着与上述第1方向交叉的第2方向延伸；多个连接配线，其沿着上述第1方向延伸，连接到上述位置检测电极，并且在上述第2方向上空开间隔配置；以及短路配线，其沿着上述第2方向延伸并配置为与上述配线隔着绝缘膜重叠，使多个上述连接配线短路。

(2)另外也可以是，上述配线基板在上述(1)的基础上，上述位置检测配线相对于上述连接配线在上述第2方向上空开间隔配置，上述短路配线具有突出部，上述突出部从该上述短路配线的连接到与上述位置检测配线相邻的上述连接配线的端部沿着上述第2方向朝向上述位置检测配线侧突出，并且配置为与上述配线隔着绝缘膜重叠。

(3)另外也可以是，上述配线基板在上述(1)或上述(2)的基础上，在上述位置检测电极连接有多个上述位置检测配线，上述配线基板具备短路部，上述短路部使连接到相同的上述位置检测电极的多个上述位置检测配线短路，并且配置为与上述配线隔着绝缘膜重叠。

(4)另外也可以是，上述配线基板在上述(1)至上述(3)中的任意一项的基础上，与在上述第1方向上空开间隔配置的多个上述位置检测电极分别连接的多个上述位置检测配线以相互在上述第2方向上空开间隔并且其间不存在上述连接配线的方式排列配置。

(5)另外也可以是，上述配线基板在上述(4)的基础上，多个上述位置检测电极在上述第2方向上空开间隔配置，与在上述第1方向上空开间隔配置的多个上述位置检测电极分别连接的多个上述位置检测配线配置为在该多个上述位置检测配线与上述位置检测电极中的上述第2方向上的端位置之间存在被上述短路配线短路的多个上述连接配线。

(6)另外也可以是，上述配线基板在上述(1)至上述(5)中的任意一项的基础上，多个上述位置检测电极在上述第2方向上空开间隔配置，上述配线基板具备：第2配线，其位于在上述第2方向上相邻的上述位置检测电极之间，沿着上述第1方向延伸；以及重叠配线，其沿着上述第1方向延伸，并配置为与上述第2配线隔着绝缘膜重叠，上述重叠配线连接到上述短路配线。

(7)另外也可以是，上述配线基板在上述(6)的基础上，在多个上述连接配线中，包含相对于上述重叠配线在上述第2方向上空开间隔配置的上述连接配线，上述配线基板具备重叠配线短路部，上述重叠配线短路部使上述重叠配线与相对于上述重叠配线在上述第2方向上空开间隔配置的上述连接配线短路。

(8)另外也可以是，上述配线基板在上述(1)至上述(7)中的任意一项的基础上，上述短路配线与以相同的上述位置检测电极为连接对象的上述位置检测配线和多个上述连接配线之中的上述位置检测配线不连接，而与多个上述连接配线连接。

(9)另外也可以是，上述配线基板在上述(1)至上述(8)中的任意一项的基础上，上述短路配线与上述连接配线包括相同的导电膜。

(10)另外也可以是，上述配线基板在上述(1)至上述(9)中的任意一项的基础上，具备信号供应部，上述信号供应部相对于包括沿着上述第1方向排列的多个上述位置检测电极的位置检测电极列在上述第1方向上配置在一端侧，向上述位置检测配线供应上述位置检测信号，上述短路配线在上述第1方向上以与上述位置检测电极交替反复排列的方式配置有多个，分别连接到多个上述短路配线的上述连接配线的数量构成为越是在上述第1方向上远离上述信号供应部就越多。

(11)与本说明书所述的技术相关的显示装置具备：上述(1)至上述(10)中的任意一项所述的配线基板；以及相对基板，其配置为与上述配线基板空开间隔相对，上述配线基板具备：像素电极；以及开关元件，其连接到上述像素电极和上述配线。

(12)另外也可以是，上述显示装置在上述(11)的基础上，上述相对基板具备用于保持该相对基板与上述配线基板之间的间隔的间隔物，上述短路配线具有与上述间隔物重叠配置且局部被扩张而成的短路配线扩张部。

(13)另外也可以是，上述显示装置在上述(11)或上述(12)的基础上，上述相对基板具备用于保持该相对基板与上述配线基板之间的间隔的间隔物，上述连接配线具有与上述间隔物重叠配置且局部被扩张而成的连接配线扩张部。

(14)另外也可以是，上述显示装置在上述(11)至上述(13)中的任意一项的基础上，上述相对基板具备用于保持该相对基板与上述配线基板之间的间隔的间隔物，并且上述间隔物配置为与上述位置检测配线的一部分重叠，上述位置检测电极具有沿着上述第1方向延伸并配置为与上述位置检测配线重叠而与上述间隔物不重叠的开口，并且具有配置为与上述间隔物重叠的间隔物重叠部。

(15)另外也可以是，上述显示装置在上述(11)至上述(14)中的任意一项的基础上，上述相对基板具备用于保持该相对基板与上述配线基板之间的间隔的间隔物，并且上述间隔物配置为与上述位置检测配线的一部分重叠，上述位置检测电极具有沿着上述第1方向延伸并配置为与上述位置检测配线和上述间隔物重叠的开口，具备岛状间隔物重叠部，上述岛状间隔物重叠部被上述位置检测电极中的上述开口的开口缘包围并配置为与上述间隔物重叠，与上述位置检测电极包括相同的导电膜。

发明效果

根据本说明书所述的技术，能够降低位置检测电极的电阻分布并且屏蔽来自配线的电场。

附图说明

图1是示出实施方式1的液晶面板的触摸电极和触摸配线等的俯视图。

图2是构成液晶面板的阵列基板所具备的共用电极的第1分隔开口部附近的俯视图。

图3是将阵列基板中的共用电极的第1分隔开口部附近放大的俯视图。

图4是液晶面板中的图3的A-A线截面图。

图5是液晶面板中的图2的B-B线截面图。

图6是示出阵列基板中的第1金属膜和第2金属膜的图案的与图2相同的范围的俯视图。

图7是示出阵列基板中的第1金属膜和第2金属膜的图案的与图3相同的范围的俯视图。

图8是概略性示出阵列基板中的触摸电极、触摸配线、连接配线、短路配线、重叠配线、短路部以及重叠配线短路部的构成的俯视图。

图9是示出阵列基板中的第3金属膜的图案的与图2相同的范围的俯视图。

图10是示出阵列基板中的第3金属膜的图案的与图3相同的范围的俯视图。

图11是示出将阵列基板中的触摸配线用接触孔和连接配线用接触孔附近放大的第3金属膜的图案的俯视图。

图12是液晶面板中的图11的C-C线截面图。

图13是液晶面板中的图2的D-D线截面图。

图14是示出阵列基板中的第1透明电极膜的图案的与图2相同的范围的俯视图。

图15是示出阵列基板中的第1透明电极膜的图案的与图3相同的范围的俯视图。

图16是液晶面板中的图3的E-E线截面图。

图17是示出阵列基板中的共用电极的第2分隔开口部附近的第3金属膜的图案的俯视图。

图18是示出阵列基板中的第1透明电极膜的图案的与图17相同的范围的俯视图。

图19是示出实施方式2所涉及的阵列基板中的第3金属膜的图案的与图2相同的范围的俯视图。

图20是示出阵列基板中的第3金属膜的图案的与图3相同的范围的俯视图。

图21是液晶面板中的图20的F-F线截面图。

图22是示出实施方式2所涉及的阵列基板中的第1透明电极膜的图案的与图2相同的范围的俯视图。

图23是示出阵列基板中的第1透明电极膜的图案的与图3相同的范围的俯视图。

图24是液晶面板中的图23的G-G线截面图。

附图标记说明

10…液晶面板(显示装置)，11…驱动器(信号供应部)，20、120、220…CF基板(相对基板)，21、121、221…阵列基板(配线基板)，23、123…TFT(开关元件)，24…像素电极，26、126…栅极配线(配线)，27…源极配线(第2配线)，30、230…触摸电极(位置检测电极)，30A、230A…第1开口(开口)，31、131、231…触摸配线(位置检测配线)，33、133…连接配线，33A…连接配线扩张部，34、134…短路配线，34A…突出部，34B、134B…短路配线扩张部，35…短路部，36…重叠配线，37…重叠配线短路部，38…岛状间隔物重叠部，F2…栅极绝缘膜(绝缘膜)，F5…第1层间绝缘膜(绝缘膜)，F6…平坦化膜(绝缘膜)，F7…第3金属膜(导电膜)，F9…第1透明电极膜(导电膜)，SP…间隔物。

具体实施方式

＜实施方式1＞

根据图1至图18来说明实施方式1。在本实施方式中，例示具备图像显示功能和触摸面板功能(位置输入功能、位置检测功能)的液晶面板(显示装置)10。此外，在各附图的一部分示出了X轴、Y轴以及Z轴，以使各轴方向成为各附图所示的方向的方式进行绘制。另外，以图4、图5、图12、图13以及图16的上侧为表侧，以该图下侧为里侧。

图1是液晶面板10的概略性俯视图。如图1所示，液晶面板10的平面形状整体上是横长的大致方形形状。该液晶面板10的短边方向与Y轴方向一致，长边方向与X轴方向一致，板厚方向与Z轴方向一致。液晶面板10能利用从配置在自身的里侧的背光源装置(照明装置)照射的照明光来显示图像。背光源装置相对于液晶面板10配置在里侧(背面侧)，具有例如发出白色的光(白色光)的光源(例如LED等)、通过对来自光源的光赋予光学作用而将其转换为面状的光的光学构件等。

如图1所示，液晶面板10的屏幕的中央侧部分被设为显示图像的显示区域(在图1中由单点划线围起来的范围)AA。相对于此，液晶面板10的屏幕中的包围显示区域AA的边框状(框状)的外周侧部分被设为不显示图像的非显示区域NAA。液晶面板10是将一对基板20、21贴合而成的。一对基板20、21之中的表侧(正面侧)被设为CF基板(相对基板)20，里侧(背面侧)被设为阵列基板(配线基板、有源矩阵基板)21。CF基板20和阵列基板21均是在玻璃基板的内表面侧层叠形成各种膜而成的。此外，在两个基板20、21的外表面侧分别贴附有偏振板。

如图1所示，CF基板20的短边尺寸比阵列基板21的短边尺寸短，而CF基板20是与阵列基板21以短边方向(Y轴方向)上的一个端部对齐的形式贴合。因此，阵列基板21的短边方向上的另一个端部被设为相对于CF基板20向侧方突出且与CF基板20不重叠的CF基板非重叠部21A。在该CF基板非重叠部21A安装有用于供应后述的显示功能或触摸面板功能所涉及的各种信号的驱动器(信号供应部)11和柔性基板12。驱动器11包括在内部具有驱动电路的LSI芯片，以COG(Chip on Glass；玻璃上芯片)方式安装到阵列基板21的CF基板非重叠部21A，处理由柔性基板12传送来的各种信号。柔性基板12被设为在包括具有绝缘性和挠性的合成树脂材料(例如聚酰亚胺系树脂等)的基材上形成有多条配线图案(未图示)的构成，其一端侧连接到阵列基板21，另一端侧连接到外部的控制基板(信号供应源)。从控制基板供应的各种信号经由柔性基板12传送到液晶面板10。另外，在阵列基板21的非显示区域NAA，以在X轴方向上从两侧夹着显示区域AA的形式设置有一对栅极电路部13。栅极电路部13用于对后述的栅极配线26供应扫描信号，单片地设置于阵列基板21。

本实施方式的液晶面板10兼具显示图像的显示功能、以及检测使用者基于所显示的图像而进行输入的位置(输入位置)的触摸面板功能，将用于发挥其中的触摸面板功能的触摸面板图案一体化(内嵌化)。该触摸面板图案被设为所谓的投影型静电电容方式，其检测方式被设为自电容方式。如图1所示，触摸面板图案包括在液晶面板10的板面内以矩阵状排列配置的多个触摸电极(位置检测电极)30。触摸电极30配置在液晶面板10的显示区域AA。因此，液晶面板10的显示区域AA与能检测输入位置的触摸区域(位置输入区域)大致一致，非显示区域NAA与不能检测输入位置的非触摸区域(非位置输入区域)大致一致。并且，当使用者想要基于视觉识别到的液晶面板10的显示区域AA的图像进行位置输入，而使作为导电体的使用者的手指或由使用者操作的触摸笔等位置输入体靠近液晶面板10的表面(显示面)时，会在该位置输入体与触摸电极30之间形成静电电容。从而，由位于位置输入体附近的触摸电极30检测出的静电电容会伴随着位置输入体的靠近而产生变化，变得与位于远离位置输入体的位置的触摸电极30不同，因此，能基于此来检测输入位置。

如图1所示，在显示区域AA中沿着X轴方向(第2方向)和Y轴方向(第1方向)分别空开间隔地各排列配置有多个触摸电极30。触摸电极30沿着X轴方向例如各排列配置有80个，沿着Y轴方向例如各排列配置有50个。沿着X轴方向排列的多个触摸电极30构成1个触摸电极行，沿着Y轴方向排列的多个触摸电极30构成1个触摸电极列(位置检测电极列)。此外，可以说驱动器11在阵列基板21中相对于触摸电极列在Y轴方向上配置在一端侧。触摸电极30在俯视时呈大致方形形状，一边的尺寸被设为几mm的程度。触摸电极30的俯视时的大小远远大于后述的像素PX，配置于在X轴方向和Y轴方向上各跨越多个(几十～几百的程度)像素PX的范围。此外，触摸电极30的一边的尺寸、在触摸区域中的设置数量等具体的数值除了上述以外也能适当变更。触摸电极30的详细构成稍后另行说明。

如图1所示，设置于液晶面板10的多个触摸配线(位置检测配线)31选择性地连接到多个触摸电极30。触摸配线31大体沿着Y轴方向延伸，其一端侧在非显示区域NAA与驱动器11连接，而另一端侧在显示区域AA与沿着Y轴方向排列的多个触摸电极30之中的特定的触摸电极30连接。此外，在图1中，用大黑圆点图示出了触摸配线31与触摸电极30的连接部位(触摸配线用接触孔CH2)。而且，触摸配线31与检测电路连接。可以是驱动器11具备检测电路，也可以是经由柔性基板12而在液晶面板10的外部具备检测电路。触摸配线31的详细构成稍后另行说明。

图2是构成液晶面板10的阵列基板21的显示区域AA的俯视图，是示出第1分隔开口部25A1附近的俯视图。图3是将图2的由单点划线围起来的范围(第1分隔开口部25A1附近)放大的俯视图。如图2和图3所示，在构成液晶面板10的阵列基板21的显示区域AA的内表面侧设置有TFT(薄膜晶体管、开关元件)23和像素电极24。TFT23和像素电极24各沿着X轴方向和Y轴方向空开间隔排列多个而设置成矩阵状。其中的像素电极24构成作为显示单位的像素PX。在这些TFT23和像素电极24的周围配设有相互大致正交(交叉)的栅极配线(配线、扫描配线)26和源极配线(第2配线、图像配线)27。栅极配线26沿着X轴方向大致直线延伸并且线宽度在中途发生变化，而源极配线27大体沿着Y轴方向延伸并且以之字形反复弯曲。栅极配线26连接到沿着X轴方向排列的多个TFT23所具备的栅极电极23A，并在Y轴方向上空开间隔排列配置有多个。源极配线27连接到沿着Y轴方向排列的多个TFT23所具备的源极电极23B，并在X轴方向上空开间隔排列配置有多个。TFT23基于分别供应到这些栅极配线26和源极配线27的各种信号而被驱动，伴随着TFT23的驱动，电位向连接到TFT23的漏极电极23C的像素电极24的供应受到控制。此外，TFT23相对于被设为其连接对象的源极配线27位于图2和图3所示的左侧，并且相对于被设为其连接对象的像素电极24位于图2和图3所示的下侧。

在CF基板20侧形成有在图2和图3中用最粗的双点划线图示出的遮光部(像素间遮光部、黑矩阵)29。此外，在图2和图3中用细双点划线图示出了像素电极24。如图2和图3所示，遮光部29的平面形状呈大致格子状，以将相邻的像素电极24之间分隔开，遮光部29在俯视时与像素电极24的大部分重叠的位置具有像素开口部29A。能通过该像素开口部29A使像素电极24的透射光向液晶面板10的外部出射。遮光部29被设为与阵列基板21侧的至少栅极配线26和源极配线27(也包含触摸配线31)在俯视时重叠的配置。在CF基板20中的与栅极配线26和源极配线27的交叉部位重叠的位置设置有用于保持一对基板20、21之间的间隔的间隔物SP。此外，在图2和图3中用比像素电极24粗的双点划线图示出了间隔物SP。间隔物SP包含：主间隔物SP1；以及副间隔物SP2，其俯视时的形成范围比主间隔物SP1小。主间隔物SP1在X轴方向和Y轴方向上空开多个(几十个的程度)像素PX的间隔而配置，而副间隔物SP2在除了主间隔物SP1的周围以外的地方在X轴方向和Y轴方向上空开1个像素PX的间隔而配置。

图4是液晶面板10中的像素PX的中央部附近的截面图(图3的A-A线截面图)。如图4所示，液晶面板10具有液晶层(介质层)22，液晶层22配置在一对基板20、21之间，包含作为光学特性伴随着电场施加而改变的物质的液晶分子。在构成液晶面板10的CF基板20的内表面侧的显示区域AA设置有呈现蓝色(B)、绿色(G)以及红色(R)的3个颜色的彩色滤光片28。呈现相互不同的颜色的许多个彩色滤光片28沿着栅极配线26的延伸方向(X轴方向)反复排列，它们沿着源极配线27的延伸方向(大体Y轴方向)延伸，从而整体上排布成条纹状。这些彩色滤光片28被设为与阵列基板21侧的各像素电极24在俯视时重叠的配置。在X轴方向上相邻且呈现相互不同的颜色的彩色滤光片28被设为其边界(颜色边界)与源极配线27(也包含触摸配线31)和遮光部29重叠的配置。在该液晶面板10中，沿着X轴方向排列的R、G、B的彩色滤光片28及与各彩色滤光片28相对的3个像素电极24分别构成了3个颜色的像素PX。并且，在该液晶面板10中，由沿着X轴方向相邻的R、G、B这3个颜色的像素PX构成了能进行规定灰度级的彩色显示的显示像素。像素PX的Y轴方向上的排布间距被设为X轴方向上的排布间距的3倍的程度。遮光部29以将相邻的彩色滤光片28之间分隔开的形式配置。在彩色滤光片28的上层侧(液晶层22侧)设置有为了平坦化而沿着CF基板20的大致整个区域满面状配置的覆膜OC。此外，在两个基板20、21中的与液晶层22接触的最内表面分别形成有用于使液晶层22中包含的液晶分子取向的取向膜。

接着，参照图3和图4来说明共用电极25。如图3和图4所示，在阵列基板21的显示区域AA的内表面侧，以与所有像素电极24重叠的形式在比像素电极24靠下层侧形成有共用电极25。共用电极25除了在被供应触摸信号(位置检测信号)来检测位置输入体的输入位置的期间(感测期间)以外，被供应公共电位(基准电位)的公共电位信号(基准电位信号)，沿着显示区域AA的大致整个区域延伸。当伴随着像素电极24被充电而在相互重叠的像素电极24与共用电极25之间产生了电位差时，在像素电极24中的狭缝24A1的开口缘与共用电极25之间会产生边缘电场(倾斜电场)，该边缘电场中不仅包含沿着阵列基板21的板面的分量，还包含相对于阵列基板21的板面的法线方向的分量。因此，能够通过利用该边缘电场来控制液晶层22中包含的液晶分子的取向状态。也就是说，本实施方式的液晶面板10的动作模式被设为FFS(Fringe Field Switching；边缘场开关)模式。

并且，如图1所示，该共用电极25构成了已叙述的触摸电极30。共用电极25具有将相邻的触摸电极30之间分隔开的分隔开口部(分隔狭缝)25A。分隔开口部25A包括：第1分隔开口部25A1，其大体沿着X轴方向横贯共用电极25的整个长度；以及第2分隔开口部25A2，其大体沿着Y轴方向纵贯共用电极25的整个长度，分隔开口部25A整体上在俯视时呈大致格子状。共用电极25包括由分隔开口部25A在俯视时分割成大致棋盘格状且相互电独立的多个触摸电极30。沿着Y轴方向排列的触摸电极30被第1分隔开口部25A1分隔开，而沿着X轴方向排列的触摸电极30被第2分隔开口部25A2分隔开。从驱动器11向连接到这种触摸电极30的触摸配线31分时供应图像显示功能所涉及的公共电位信号和触摸面板功能所涉及的触摸信号(位置检测信号)。从驱动器11向触摸配线31供应公共电位信号的定时为显示期间，从驱动器11向触摸配线31供应触摸信号的定时为感测期间(位置检测期间)。该公共电位信号在相同的定时(显示期间)被传送到所有触摸配线31，因此，所有触摸电极30变为基于公共电位信号的基准电位而作为共用电极25发挥功能。

在此，参照图5来说明在阵列基板21的内表面侧层叠形成的各种膜。图5是液晶面板10中的TFT23附近的截面图(图2的B-B线截面图)。如图5所示，在阵列基板21上从下层侧(玻璃基板侧)起按顺序层叠形成有：第1金属膜F1、栅极绝缘膜F2、半导体膜F3、第2金属膜F4、第1层间绝缘膜F5、平坦化膜F6、第3金属膜(导电膜)F7、第2层间绝缘膜F8、第1透明电极膜F9、第3层间绝缘膜F10、第2透明电极膜(导电膜)F11。第1金属膜F1、第2金属膜F4以及第3金属膜F7分别设为包括从铜、钛、铝、钼、钨等当中选择的1种金属材料的单层膜、或包括不同种类的金属材料的层叠膜或合金，从而具有导电性和遮光性。第1金属膜F1构成栅极配线26或TFT23的栅极电极23A等。第2金属膜F4构成源极配线27或TFT23的源极电极23B和漏极电极23C等。第3金属膜F7构成触摸配线31等。半导体膜F3例如包括使用氧化物半导体、非晶硅等作为材料的薄膜，构成TFT23的沟道部23D等。第1透明电极膜F9和第2透明电极膜F11包括透明电极材料(例如ITO(Indium Tin Oxide；铟锡氧化物)或IZO(Indium Zinc Oxide；铟锌氧化物)等)。第1透明电极膜F9构成共用电极25(触摸电极30)等。第2透明电极膜F11构成像素电极24等。

栅极绝缘膜F2、第1层间绝缘膜F5、第2层间绝缘膜F8以及第3层间绝缘膜F10分别包括氮化硅(SiN_x)、氧化硅(SiO₂)等无机材料。平坦化膜F6例如包括PMMA(丙烯酸树脂)等有机材料，如图5所示，其膜厚大于包括无机材料的其它绝缘膜F2、F5、F8、F10。阵列基板21的表面被该平坦化膜F6平坦化。栅极绝缘膜F2将下层侧的第1金属膜F1与上层侧的半导体膜F3及第2金属膜F4保持为绝缘状态。第1层间绝缘膜F5和平坦化膜F6将下层侧的半导体膜F3及第2金属膜F4与上层侧的第3金属膜F7保持为绝缘状态。在第1层间绝缘膜F5、平坦化膜F6、第2层间绝缘膜F8以及第3层间绝缘膜F10中的与包括第2金属膜F4的漏极电极23C、以及包括第1透明电极膜F9的像素电极24的一部分(后述的接触部24B)这两者重叠的位置，开口形成有用于将这两个电极23C、24连接的像素接触孔CH1。在俯视时与像素接触孔CH1重叠的位置配置有包括位于第2金属膜F4与第2透明电极膜F11的中间的第3金属膜F7的中间电极32，漏极电极23C经由该中间电极32与像素电极24的一部分连接。第2层间绝缘膜F8将下层侧的第3金属膜F7与上层侧的第1透明电极膜F9保持为绝缘状态。第3层间绝缘膜F10将下层侧的第1透明电极膜F9与上层侧的第2透明电极膜F11保持为绝缘状态。

另外，也参照图5来说明CF基板20的内表面侧的构成。如图5所示，在CF基板20的覆膜OC的内表面侧形成有间隔物SP。间隔物SP呈朝向阵列基板21侧突出的锥形的圆柱状(柱状)。在图5中，间隔物SP中的副间隔物SP2作为代表被图示出。副间隔物SP2构成为：突出尺寸小于液晶层22的厚度，其突出线端面始终不与阵列基板21侧接触。也就是说，副间隔物SP2在外力作用于液晶面板10等而强制地缩窄了一对基板20、21之间的间隔的情况下与阵列基板21的内表面接触。此外，主间隔物SP1(参照图2的双点划线)的突出尺寸被设为与液晶层22的厚度相同的程度，始终与阵列基板21的内表面接触。

接下来，主要参照图5至图7来说明关于TFT23的构成。图6和图7虽然比例尺或位置不同，但均是示出阵列基板21所具备的第1金属膜F1(栅极配线26等)和第2金属膜F4(源极配线27等)的图案的俯视图。在图6和图7中，以不同的阴影状图示出了第1金属膜F1和第2金属膜F4的形成范围。如图6和图7所示，TFT23整体上呈沿着X轴方向延伸的横长形状。TFT23具有由栅极配线26的一部分(与源极配线27的交叉部位附近)形成的栅极电极23A。栅极电极23A是将栅极配线26局部加宽而成的，基于供应到栅极配线26的扫描信号驱动TFT23，从而控制源极电极23B与漏极电极23C之间的电流。TFT23具有由源极配线27的一部分(与栅极配线26的交叉部位)形成的源极电极23B。源极电极23B配置在TFT23的X轴方向上的一端侧，其大致整个区域与栅极电极23A的一部分重叠，并且连接到沟道部23D。TFT23具有漏极电极23C，漏极电极23C配置在与源极电极23B之间空开间隔的位置，也就是配置在TFT23的X轴方向上的另一端侧。漏极电极23C配置为与栅极电极23A的一部分重叠，连接到沟道部23D并且连接到像素电极24。

如图5和图7所示，TFT23具有沟道部(半导体部)23D，沟道部23D隔着栅极绝缘膜F2与栅极电极23A重叠，并且连接到源极电极23B和漏极电极23C。沟道部23D与栅极电极23A的一部分重叠，并且沿着X轴方向延伸，其一端侧连接到源极电极23B，另一端侧连接到漏极电极23C。并且，当TFT23基于供应到栅极电极23A的扫描信号而成为了导通状态时，供应到源极配线27的图像信号(数据信号)会从源极电极23B经由包括半导体膜F3的沟道部23D供应至漏极电极23C。其结果是，像素电极24被充电至基于图像信号的电位。

如图7所示，在被多个栅极配线26和多个源极配线27包围的纵长的大致方形的区域配置有像素电极24。像素电极24具有平面形状为纵长的大致方形形状的像素电极主体24A，长边沿着源极配线27延伸。详细地说，像素电极主体24A的长边侧的两侧缘相对于Y轴方向略微倾斜。在像素电极主体24A分别形成有沿着自身的长边方向(大体沿着Y轴方向)延伸的多条(在图7等中为2条)狭缝24A1。此外，狭缝24A1的具体的设置条数、形状或形成范围等除了图示以外也能适当进行变更。另外，像素电极24具有从像素电极主体24A沿着Y轴方向突出的接触部24B。接触部24B如图7所示配置为从像素电极主体24A向下突出，并且与中间电极32和漏极电极23C的一部分重叠。与接触部24B重叠的中间电极32呈比像素接触孔CH1大一圈的岛状。如图5所示，接触部24B通过像素接触孔CH1直接连接到中间电极32，并且经由该中间电极32连接到漏极电极23C。另外，如图7所示，栅极配线26以与漏极电极23C中的在X轴方向上与沟道部23D侧相反的一侧(图7的左侧)的端部重叠的方式被局部加宽。这样设置是为了使得即便在制造阵列基板21时漏极电极23C相对于栅极配线26发生了位置偏移的情况下，栅极配线26与漏极电极23C(即像素电极24)之间的容量也不会发生变动。

接着，主要使用图8至图12来说明触摸配线31的构成。图8是概略性示出多个触摸电极30中的图1的左端的触摸电极列与相邻的触摸电极列的边界和从图1的上端起第4个触摸电极行与第5个触摸电极行的边界相交叉的部位附近的构成的附图。在图8中，用黑圆点图示出了触摸配线31等与触摸电极30的连接部位(后述的触摸配线用接触孔CH2和连接配线用接触孔CH3)。图9至图11虽然比例尺或位置不同，但均是示出阵列基板21所具备的第3金属膜F7(触摸配线31等)的图案的俯视图。在图9至图11中，以阴影状图示出了第3金属膜F7的形成范围。图10是将图9的左侧的由单点划线围起来的范围(图2的由单点划线围起来的范围相同的范围)放大的俯视图。图11是将图9的右侧的由单点划线围起来的范围(触摸配线用接触孔CH2和连接配线用接触孔CH3附近)放大的俯视图。图12是图11的C-C线截面图。

如图9和图10所示，触摸配线31呈与源极配线27大致相同的平面形状，并且配置为与源极配线27的大部分重叠。也就是说，触摸配线31与源极配线27同样地大体沿着Y轴方向延伸并且以之字形反复弯曲。触摸配线31包括第3金属膜F7。因此，在触摸配线31与包括第2金属膜F4的源极配线27之间是存在第1层间绝缘膜F5和平坦化膜F6的，从而两个配线27、31相互保持为绝缘状态(参照图4)。由此，与假如将两个配线配置为不重叠的情况相比，在实现像素PX的开口率的提高这方面是优选的。

如图11和图12所示，触摸配线31通过触摸配线用接触孔CH2连接到作为其连接对象的触摸电极30。触摸配线用接触孔CH2配置在介于第3金属膜F7与第1透明电极膜F9之间的第2层间绝缘膜F8中的、相互被设为连接对象的触摸配线31与触摸电极30的重叠部位(更详细地说是与源极电极23B重叠的部位)。如图8所示，对于1根触摸配线31，在Y轴方向上空开间隔的位置设置有多个触摸配线用接触孔CH2，从而触摸电极30与触摸配线31在多个部位相互连接。

如图8所示，如上所述构成的触摸配线31从驱动器11到作为其连接对象的触摸电极30为止以沿着源极配线27的方式大体沿着Y轴方向延伸，中途横穿将在Y轴方向上相邻的触摸电极30之间分隔开的第1分隔开口部25A1。对于1个触摸电极30，各连接有多根(在本实施方式中2根)触摸配线31。因此，连接到属于1个触摸电极列的所有触摸电极30的触摸配线31的数量是构成触摸电极列的触摸电极30的数量乘以连接到1个触摸电极30的触摸配线31的数量而得到的数量，该数量少于与1个触摸电极30重叠的源极配线27的数量。也就是说，触摸配线31的设置数量少于源极配线27的设置数量，因此，在多个源极配线27中，包含很多在整个长度上未重叠配置有触摸配线31的源极配线27。另外，触摸配线31在Y轴方向上的形成范围限于从驱动器11到作为其连接对象的触摸电极30为止的范围，并不配置在与作为其连接对象的触摸电极30相比在Y轴方向上靠与驱动器11侧相反的一侧的位置。也就是说，多个触摸配线31除了连接到离驱动器11最远的触摸电极30的触摸配线31以外，几乎都没有沿着源极配线27的整个长度重叠配置。

如图8和图9所示，在本实施方式的阵列基板21上，利用在源极配线27的上层侧没有重叠配置触摸配线31的空间设置有连接到触摸电极30的连接配线33。触摸电极30包括电阻比各金属膜F1、F4、F7高的第1透明电极膜F9，因此，在触摸配线31的连接部位与远离该连接部位的部位(例如四个角落的角位置等)之间可能会产生电位差，会有电阻分布高的问题。对此，由于连接到触摸电极30的连接配线33包括电阻比第1透明电极膜F9低的第3金属膜F7，因此，能够使得在作为其连接对象的触摸电极30的面内不易产生电位差，能够降低触摸电极30的电阻分布。特别是，连接配线33是与触摸配线31包括相同的第3金属膜F7，因此，在连接配线33与源极配线27之间存在第1层间绝缘膜F5和平坦化膜F6的层叠结构是与触摸配线31相同的，并且即使与包括第1金属膜F1的栅极配线26交叉也防止了短路。

如图8和图9所示，连接配线33以与源极配线27重叠并且沿着源极配线27的方式大体沿着Y轴方向延伸，在Y轴方向上的形成范围限于作为其连接对象的触摸电极30。因此，连接配线33不会横穿将在Y轴方向上相邻的触摸电极30之间分隔开的第1分隔开口部25A1。对于多个源极配线27之中的在整个长度上未重叠配置有触摸配线31的源极配线27，重叠配置有数量与构成触摸电极列的触摸电极30的数量相同的连接配线33，这些连接配线33与构成触摸电极列的所有触摸电极30分别单独连接。另一方面，对于源极配线27之中的局部重叠配置有触摸配线31的源极配线27，仅在未重叠有触摸配线31的范围内重叠配置有连接配线33。详细地说，在局部重叠配置有触摸配线31的源极配线27中的、与成为触摸配线31的连接对象的触摸电极30相比在Y轴方向上靠与驱动器11侧相反的一侧的部分重叠配置有连接配线33。因此，构成触摸电极列的多个触摸电极30具有如下倾向：越是在Y轴方向上远离驱动器11，其所连接的连接配线33的数量就越多。在此，触摸配线31具有作为其连接对象的触摸电极30越是在Y轴方向上远离驱动器11则其配线电阻就越高的倾向，其所传送的触摸信号容易产生钝化。对此，由于是如上所述，构成触摸电极列的触摸电极30越是远离驱动器11则连接配线33的连接数量变得越多，因此，即使触摸信号由于触摸配线31的配线电阻而钝化，在触摸电极30的面内也不易产生电位差，触摸检测灵敏度(位置检测灵敏度)不易下降。

如图11和图13所示，连接配线33与作为其连接对象的触摸电极30通过连接配线用接触孔CH3连接。此外，图13是图2的D-D线截面图。连接配线用接触孔CH3配置在介于第3金属膜F7与第1透明电极膜F9之间的第2层间绝缘膜F8中的、相互被设为连接对象的连接配线33与触摸电极30的重叠部位(更详细地说是与源极电极23B重叠的部位)。如图8所示，对于1根连接配线33设置有多个连接配线用接触孔CH3，从而触摸电极30与连接配线33在多个部位相互连接。

主要参照图14和图15来说明上述的连接触摸配线31和连接配线33的触摸电极30的详细构成。图14和图15虽然比例尺或位置不同，但均是示出阵列基板21所具备的第1透明电极膜F9(触摸电极30等)的图案的俯视图。在图14和图15中，以阴影状图示出了第1透明电极膜F9的形成范围。如图14和图15所示，触摸电极30具有：第1开口(开口)30A，其形成在与触摸配线31重叠的位置；第2开口30B，其形成在与连接配线33重叠的位置；以及第3开口30C，其形成在与像素接触孔CH1重叠的位置。由于触摸电极30与触摸配线31的重叠面积减小了第1开口30A的开口面积的量，因此，在触摸电极30与连接到其它触摸电极30的触摸配线31之间可能产生的寄生电容得以减少。从而，不易产生寄生电容所引起的触摸检测灵敏度的下降。

如图14和图15所示，第1开口30A在Y轴方向上的形成范围被限定为在触摸电极30的面内不是与触摸配线31的整个区域重叠而是与触摸配线31的一部分重叠。从而，防止了触摸电极30被第1开口30A左右分割。详细地说，第1开口30A主要选择性地配置在与间隔物SP不重叠的部分，以使触摸电极30中的作为与间隔物SP重叠的部分的间隔物重叠部30D的一部分残留。由于触摸电极30具有间隔物重叠部30D，因而，不仅触摸电极30的电阻分布降低，而且阵列基板21中的与间隔物SP相对的部分的平坦程度保持得高。从而，能够通过阵列基板21的内表面稳定地承接间隔物SP，能够稳定地保持液晶层22的厚度(一对基板20、21之间的间隔)(参照图5)。

如图14和图15所示，第1开口30A不是配置为与所有间隔物SP不重叠，而是配置为与一部分间隔物SP重叠。从而，与假如将第1开口配置为与所有间隔物SP不重叠的情况相比，能够将触摸电极30中的第1开口30A的开口面积确保得大，因此，能够进一步减少在触摸电极30与连接到其它触摸电极30的触摸配线31之间可能产生的寄生电容。详细说明的话，首先，在本实施方式中，连接到相同的触摸电极30的2根触摸配线31在X轴方向上空开间隔相邻配置(参照图8)。关于与连接到相同的触摸电极30的2根触摸配线31之中的一方触摸配线31重叠的第1开口30A、以及与另一方触摸配线31重叠的第1开口30A，这两个第1开口30A中的与间隔物SP重叠的部分在Y轴方向上的配置是不同的。从而，触摸电极30的面内的电荷的移动变得顺畅，因此，触摸电极30的电阻分布不易由于第1开口30A而变高。

如图14和图15所示，与第1开口30A同样地，第2开口30B在Y轴方向上的形成范围被限定为在触摸电极30的面内不是与连接配线33的整个区域重叠而是与连接配线33的一部分重叠。由于是将这样的第2开口30B形成在触摸电极30，因而在触摸配线31附近与连接配线33附近，光的透射光量不易产生差异。因此，与假如不形成第2开口的情况相比，在触摸配线31附近不易视觉识别到线状的显示不均，显示质量良好。详细地说，第2开口30B选择性地配置在触摸电极30中的与间隔物SP不重叠的部分，以使间隔物重叠部30D残留于触摸电极30。第2开口30B虽然与所有连接配线33重叠，但配置为与所有间隔物SP不重叠，这一点与第1开口30A不同。从而，在触摸电极30中的与连接配线33重叠的部分会残留最大限度的间隔物重叠部30D，因此，不仅在降低触摸电极30的电阻分布这方面是有用的，还能够通过阵列基板21的内表面稳定地承接间隔物SP，在稳定地保持液晶层22的厚度这方面也是有用的。第3开口30C配置为与所有像素接触孔CH1重叠，从而防止了像素电极24与触摸电极30(共用电极25)短路。第3开口30C中包含在X轴方向上介于第1开口30A与间隔物重叠部30D之间的第3开口30C、以及在X轴方向上介于2个间隔物重叠部30D之间的第3开口30C。此外，将在Y轴方向上相邻的触摸电极30之间分隔开的第1分隔开口部25A1形成为与属于与第1分隔开口部25A1相邻的像素行的各像素接触孔CH1重叠并与沿着X轴方向排列的所有多个第3开口30C连通。

使用图8来说明触摸电极30的面内的触摸配线31和连接配线33在X轴方向上的配置。如图8所示，多个触摸配线31在X轴方向上集中配置在触摸电极30的中央侧部分。这些触摸配线31配置为在X轴方向上空开1个像素PX的间隔相互相邻，其间不会存在连接配线33。相对于此，连接配线33在X轴方向上在触摸电极30的两端侧部分以成为2组的方式分别汇总配置有多个。分别按多个被汇总后的连接配线33配置为在X轴方向上空开1个像素PX的间隔相互相邻，其间不会存在触摸配线31。因此可以说，多个触摸配线31配置为在其与触摸电极30中的X轴方向上的端位置之间存在多个连接配线33。这样一来，与假如将触摸配线配置为在其与触摸电极30中的X轴方向上的端位置之间不存在连接配线33的情况相比，在将可能会在多个触摸配线31与相对于以多个触摸配线31为连接对象的触摸电极30在X轴方向上空开间隔配置的触摸电极30之间产生的寄生电容保持得小这方面是优选的。

然而，要想实现触摸电极30的电阻分布的降低，优选增多连接配线33与触摸电极30的连接部位。但是，由于在阵列基板21的内表面中的触摸电极30与连接配线33的连接部位附近会产生连接配线用接触孔CH3所引起的凹部，因此，如果增多上述连接部位，则凹部也会变多。在产生于阵列基板21的内表面的凹部的周边，液晶层22中包含的液晶分子的取向容易产生紊乱，因此，容易产生漏光，可能成为显示不均的原因。在本实施方式中，通过将连接配线用接触孔CH3配置在TFT23附近，能够由CF基板20的遮光部29来遮挡连接配线用接触孔CH3附近的漏光。但是，由于在TFT23附近也配置有与连接配线33的一部分重叠的间隔物SP，因此，不得不将连接配线用接触孔CH3设为与间隔物SP重叠的配置。当连接配线用接触孔CH3是与间隔物SP重叠的配置时，间隔物SP相对于阵列基板21的内表面的接触面积会由于凹部而减小，因此，有可能无法通过阵列基板21的内表面稳定地承接间隔物SP。由于以上原因，当为了实现触摸电极30的电阻分布的降低而使触摸电极30与连接配线33的连接部位增多时，有可能难以稳定地保持阵列基板21与CF基板20之间的间隔。

因此，如图8和图9所示，在本实施方式的阵列基板21上设置有短路配线34，短路配线34使以其间不存在触摸配线31的方式汇总配置的多个连接配线33彼此短路。短路配线34沿着与连接配线33的延伸方向(Y轴方向)交叉的X轴方向延伸，配置为与触摸电极30不重叠，并且配置为与栅极配线26在俯视时重叠。这样，由于多个连接配线33被短路配线34短路，因而能够使存在于多个连接配线33的电荷经由短路配线34顺畅地移动。从而，在触摸电极30中的与触摸配线31的连接部位和与连接配线33的连接部位之间不易产生电位差，并且与多个连接配线33的各连接部位之间不易产生电位差，因此，即使触摸电极30与连接配线33的连接部位不那么多，也能够充分降低触摸电极30的电阻分布。而且，由于短路配线34配置为与触摸电极30不重叠，并且配置为与栅极配线26重叠，因此，能够通过短路配线34来屏蔽在与触摸电极30不重叠的栅极配线26和像素电极24之间产生的电场。由于在栅极配线26与像素电极24之间产生的电场可能会使液晶层22中包含的液晶分子产生取向紊乱，因此，通过使这种电场被短路配线34屏蔽，液晶分子不易产生取向紊乱，从而不易视觉识别到显示不良。

另外，要想使液晶分子的取向紊乱所引起的显示不良不易被视觉识别，虽然可以考虑扩张CF基板20的遮光部29的形成范围，但根据本实施方式，无需采取这种对策，因此，在将像素PX的开口率保持得高这方面是优选的。另外，多个栅极配线26中包含配置为与触摸电极30不重叠的栅极配线26、以及配置为与触摸电极30重叠的栅极配线26，后者与像素电极24之间产生的电场被触摸电极30屏蔽。因此，通过使配置为与触摸电极30不重叠的栅极配线26与像素电极24之间产生的电场被短路配线34屏蔽，能完全实现对于从所有栅极配线26产生的电场的屏蔽。从而，不易产生如下这样的显示不均：液晶分子的取向紊乱所引起的显示不良在与触摸电极30不重叠的部分(第1分隔开口部25A1)附近被局部视觉识别到。

接着，说明短路配线34的详细配置。如图8和图9所示，短路配线34相对于包括沿着X轴方向排列的多个触摸电极30的触摸电极行相邻配置在图8和图9的下侧(Y轴方向上的驱动器11侧)。短路配线34在Y轴方向上以与触摸电极30交替反复排列的方式排布，Y轴方向上的短路配线34的排列数量与触摸电极行的数量一致。在Y轴方向上空开触摸电极30的尺寸的程度的间隔排列的多个短路配线34之中，除了最靠近驱动器11配置的短路配线34以外，几乎都配置为介于在Y轴方向上相邻的触摸电极30之间，并且配置在将这些触摸电极30之间分隔开的第1分隔开口部25A1。

如图8和图9所示，短路配线34以与触摸电极30中的X轴方向上的两端侧部分在Y轴方向上相邻的方式配置有2个。也就是说，短路配线34的设置数量被设为触摸电极30的设置数量的2倍的程度。这2个短路配线34在X轴方向上空开间隔配置，在它们之间存在触摸配线31。在此，连接到短路配线34的多个连接配线33如上所述是集中配置的，被设为其间不存在触摸配线31的配置。因此，无需使连接到多个连接配线33的短路配线34与触摸配线31交叉。另外，如上所述，触摸配线31在Y轴方向上的形成范围限于从驱动器11到作为连接对象的触摸电极30为止的范围。因此，关于在Y轴方向上空开间隔排列的多个短路配线34，在Y轴方向上越是远离驱动器11，介于上述2个短路配线34之间的触摸配线31的数量就越少。因此，在Y轴方向上空开间隔排列的多个短路配线34具有如下倾向：其越是在Y轴方向上远离驱动器11，在X轴方向上的延伸长度就越大，并且所短路的连接配线33的数量(短路数量)就越多。从而，在远离驱动器11的触摸电极30的面内更不易产生电位差，因此，即使触摸信号由于连接到远离驱动器11的触摸电极30的触摸配线31的配线电阻而钝化，触摸检测灵敏度也不易下降。

使用图16来说明短路配线34在Z轴方向上的配置。图16是图3的E-E线截面图。如图16所示，短路配线34被设为相对于栅极配线26隔着栅极绝缘膜F2、第1层间绝缘膜F5以及平坦化膜F6重叠到上层侧的配置。短路配线34包括第3金属膜F7，因此，在Z轴方向上位于包括第1金属膜F1的栅极配线26与包括第2透明电极膜F11的像素电极24的中间。从而，能够使在位于最下层的栅极配线26与位于最上层的像素电极24之间产生的电场被位于它们中间的短路配线34良好地屏蔽。构成短路配线34的第3金属膜F7的电阻低于构成触摸电极30的第1透明电极膜F9的电阻，因此，被短路配线34短路的多个连接配线33之间的电荷的移动足够顺畅，从而能够良好地降低触摸电极30的电阻分布。并且，构成短路配线34的第3金属膜F7构成了连接配线33。也就是说，短路配线34和连接配线33包括相同的第3金属膜F7，因此，短路配线34与连接配线33相互直接相连。从而，无需在短路配线34与连接配线33的连接部位设置接触孔，因此，能够避免在阵列基板21的内表面产生上述的接触孔所引起的凹部。

使用图10和图11说明短路配线34的详细的平面构成。首先，如图10和图11所示，短路配线34沿着X轴方向从作为其短路对象的多个连接配线33之中的、位于X轴方向上的一端的连接配线33延伸到位于另一端的连接配线33。包含在成为短路配线34的短路对象的多个连接配线33中并且在X轴方向上位于两端的连接配线33之中的一方连接配线33与成为别的短路配线34的连接对象的连接配线33在X轴方向上相邻，而另一方连接配线33与触摸配线31在X轴方向上相邻配置。并且，短路配线34具有从连接到与触摸配线31相邻的连接配线33的端部沿着X轴方向朝向触摸配线31侧突出的突出部34A。突出部34A是短路配线34的一部分，并且包括第3金属膜F7，因此，配置为与栅极配线26隔着栅极绝缘膜F2、第1层间绝缘膜F5以及平坦化膜F6重叠(参照图16)。这样一来，在X轴方向上相邻的触摸配线31与连接配线33之间的区域中，能够通过突出部34A来屏蔽从栅极配线26产生的电场。与假如将突出部设置在触摸配线31的情况相比，能够将在触摸配线31与栅极配线26之间可能产生的寄生电容保持得小。

如图10和图11所示，短路配线34的线宽度根据在X轴方向上的位置而变化，具有局部被扩张而成的短路配线扩张部34B。短路配线扩张部34B是短路配线34中的与间隔物SP重叠的部分，其线宽度大于与间隔物SP不重叠的其它部分。短路配线扩张部34B也是短路配线34中的与连接配线33相连的部分，以线宽度随着靠近连接配线33而连续地逐渐增加的方式构成。也就是说，短路配线扩张部34B的侧缘相对于X轴方向和Y轴方向呈倾斜状。从而，短路配线34与平面形状为圆形的间隔物SP的重叠面积被确保得更大，因此，能够通过阵列基板21的内表面稳定地承接间隔物SP，得以稳定地保持液晶层22的厚度。

另外，如图11所示，短路配线34虽然连接到多个连接配线33，但并不连接于与多个连接配线33连接到相同的触摸电极30的触摸配线31。假如短路配线不仅与多个连接配线33连接还与触摸配线31连接的话，触摸信号可能会由于连接到短路配线的触摸配线31与栅极配线26之间产生的寄生电容而容易产生钝化。对于这一点，通过将短路配线34设为与触摸配线31不连接，能够将在触摸配线31与栅极配线26之间可能产生的寄生电容保持得小，从而，传送到触摸配线31的触摸信号不易产生钝化。

如图10和图11所示，关于如上所述与短路配线34不连接的触摸配线31，连接到相同的触摸电极30的触摸配线31彼此是被短路部35相互短路的。短路部35以架设在连接对象为相同的触摸电极30的2根触摸配线31之间的方式沿着X轴方向延伸。这样一来，在触摸电极30连接有2根触摸配线31并且这些触摸配线31彼此被短路部35短路，因此，触摸配线31的配线电阻降低，所传送的触摸信号不易产生钝化。短路部35包括位于第1金属膜F1与第2透明电极膜F11的中间的第3金属膜F7，并配置为与包括第1金属膜F1的栅极配线26重叠。因此，在包括第3金属膜F7的短路部35与包括第1金属膜F1的栅极配线26之间，与短路配线34与栅极配线26之间同样地存在栅极绝缘膜F2、第1层间绝缘膜F5以及平坦化膜F6(参照图16)。从而，能够使位于最下层的栅极配线26与位于最上层的像素电极24之间产生的电场被位于它们中间的短路部35良好地屏蔽。构成短路部35的第3金属膜F7的电阻低于构成触摸电极30的第1透明电极膜F9，因此，被短路部35短路的2根触摸配线31之间的电荷的移动足够顺畅，从而能够良好地降低触摸配线31的配线电阻。并且，构成短路部35的第3金属膜F7构成了触摸配线31。也就是说，短路部35和触摸配线31包括相同的第3金属膜F7，因此，短路部35与触摸配线31相互直接相连。从而，无需在短路部35与触摸配线31的连接部位设置接触孔，因此，能够避免在阵列基板21的内表面产生上述的接触孔所引起的凹部。

接下来，主要使用图17和图18来说明在X轴方向上相邻的触摸电极30的边界(第2分隔开口部25A2)附近的构成。图17是示出阵列基板21的第2分隔开口部25A2附近的第3金属膜F7(触摸配线31等)的图案的俯视图。在图17中，以阴影状图示出了第3金属膜F7的形成范围。图18是示出阵列基板21的第2分隔开口部25A2附近的第1透明电极膜F9(触摸电极30等)的图案的俯视图。在图18中，以阴影状图示出了第1透明电极膜F9的形成范围。

首先，如图17和图18所示，触摸配线31未配置在与触摸电极30不重叠的位置。在阵列基板21上，在与触摸电极30不重叠的位置利用在源极配线27的上层侧没有重叠配置触摸配线31的空间设置有重叠配线36。由于重叠配线36与触摸配线31包括相同的第3金属膜F7，因此，在重叠配线36与包括第2金属膜F4的源极配线27之间存在第1层间绝缘膜F5和平坦化膜F6的层叠结构是与触摸配线31相同的，并且即使与包括第1金属膜F1的栅极配线26交叉也防止了短路(参照图4)。包括第3金属膜F7的重叠配线36位于包括第2金属膜F4的源极配线27与包括第2透明电极膜F11的像素电极24的中间。根据这种构成，能够通过重叠配线36来屏蔽在与触摸电极30不重叠的源极配线27和像素电极24之间产生的电场。源极配线27与像素电极24之间产生的电场可能会使液晶层22中包含的液晶分子产生取向紊乱，因此，通过使这种电场被重叠配线36屏蔽，液晶分子不易产生取向紊乱，从而不易视觉识别到显示不良。

如图8、图17以及图18所示，重叠配线36以与源极配线27重叠并且沿着源极配线27的方式大体沿着Y轴方向延伸，在Y轴方向上的形成范围限于在X轴方向上相邻的触摸电极30的形成范围。因此，重叠配线36不会横穿将在Y轴方向上相邻的触摸电极30之间分隔开的第1分隔开口部25A1。重叠配线36相对于包括沿着Y轴方向排列的多个触摸电极30的触摸电极列相邻配置在图8、图17以及图18的右侧(相对于TFT23作为连接对象的源极配线27侧)。重叠配线36在X轴方向上以与触摸电极30交替反复排列的方式排布，X轴方向上的重叠配线36的排列数量与触摸电极列的数量一致。在X轴方向上空开触摸电极30的尺寸的程度的间隔排列的多个重叠配线36之中，除了位于图17和图18的右端的重叠配线36以外，几乎都配置为介于在X轴方向上相邻的触摸电极30之间，并且配置在将这些触摸电极30之间分隔开的第2分隔开口部25A2。

如图8、图17以及图18所示，如上所述构成的重叠配线36连接到短路配线34。详细地说，短路配线34从连接到与重叠配线36在X轴方向上空开间隔相邻的连接配线33的端部沿着X轴方向朝向重叠配线36侧突出，并且其突出端部是与重叠配线36相连的。这样，通过使重叠配线36连接到短路配线34，能够进一步降低触摸电极30的电阻分布。并且，构成重叠配线36的第3金属膜F7构成了短路配线34。也就是说，重叠配线36和短路配线34包括相同的第3金属膜F7，因此，重叠配线36与短路配线34相互直接相连。从而，无需在重叠配线36与短路配线34的连接部位设置接触孔，因此，能够避免在阵列基板21的内表面产生上述的接触孔所引起的凹部。

如图8、图17以及图18所示，如上所述连接到短路配线34的重叠配线36通过重叠配线短路部37而被与连接到相同的短路配线34的连接配线33短路。重叠配线短路部37以架设在重叠配线36与相对于重叠配线36在X轴方向上空开1个像素PX的程度的间隔配置的连接配线33之间的方式沿着X轴方向延伸。重叠配线短路部37在Y轴方向上空开多个像素PX的程度的间隔的位置配置有多个(例如3个)，从而重叠配线36与连接配线33的多个部位彼此被短路。这样，重叠配线36通过重叠配线短路部37而被与连接配线33短路，从而能实现与重叠配线36和连接配线33相关的配线电阻的降低。由此，能够进一步降低触摸电极30的电阻分布。构成重叠配线短路部37的第3金属膜F7构成了连接配线33和重叠配线36。也就是说，重叠配线短路部37、连接配线33以及重叠配线36包括相同的第3金属膜F7，因此，重叠配线短路部37、连接配线33以及重叠配线36相互直接相连。从而，无需在重叠配线短路部37、连接配线33以及重叠配线36的各连接部位设置接触孔，因此，能够避免在阵列基板21的内表面产生上述的接触孔所引起的凹部。

如以上说明的那样，本实施方式的阵列基板(配线基板)21具备：多个触摸配线(位置检测配线)31，其沿着第1方向延伸，至少传送触摸信号(位置检测信号)；多个触摸电极(位置检测电极)30，其连接到触摸配线31，并且至少在第1方向上空开间隔配置；栅极配线(配线)26，其位于在第1方向上相邻的触摸电极30之间并沿着与第1方向交叉的第2方向延伸；多个连接配线33，其沿着第1方向延伸，连接到触摸电极30，并且在第2方向上空开间隔配置；以及短路配线34，其沿着第2方向延伸并配置为与栅极配线26隔着作为绝缘膜的栅极绝缘膜F2、第1层间绝缘膜F5以及平坦化膜F6重叠，使多个连接配线33短路。

这样一来，在触摸电极30与进行位置输入的位置输入体之间形成静电电容，触摸电极30能够利用由触摸配线31供应的触摸信号来检测位置输入体的输入位置。在触摸电极30连接有沿着第1方向延伸且在第2方向上空开间隔配置的多个连接配线33，这些多个连接配线33被沿着第2方向延伸的短路配线34短路。从而，能够降低触摸电极30的电阻分布。在此，假如要想在不使用短路配线34的情况下降低触摸电极30的电阻分布，则需要增多各连接配线33与触摸电极30的连接部位，但通过使用短路配线34就无需如此。因此，各连接配线33与触摸电极30的连接部位很少即可。而且，由于短路配线34沿着第2方向延伸并配置为与栅极配线26隔着作为绝缘膜的栅极绝缘膜F2、第1层间绝缘膜F5以及平坦化膜F6重叠，因此，能够通过短路配线34来屏蔽从位于在第1方向上相邻的触摸电极30之间的栅极配线26产生的电场。从而，能够抑制从栅极配线26产生的电场所引起的不良状况的发生。

另外，触摸配线31相对于连接配线33在第2方向上空开间隔配置，短路配线34具有突出部34A，突出部34A从短路配线34的连接到与触摸配线31相邻的连接配线33的端部沿着第2方向朝向触摸配线31侧突出，并且配置为与栅极配线26隔着作为绝缘膜的栅极绝缘膜F2、第1层间绝缘膜F5以及平坦化膜F6重叠。这样一来，在相邻的触摸配线31与连接配线33之间的区域中，能够通过突出部34A来屏蔽从栅极配线26产生的电场。与假如将突出部设置在触摸配线31的情况相比，能够将在触摸配线31与栅极配线26之间可能产生的寄生电容保持得小。

另外，在触摸电极30连接有多个触摸配线31，阵列基板21具备短路部35，短路部35使连接到相同的触摸电极30的多个触摸配线31短路，并且配置为与栅极配线26隔着作为绝缘膜的栅极绝缘膜F2、第1层间绝缘膜F5以及平坦化膜F6重叠。这样一来，在1个触摸电极30连接有多个触摸配线31，并且这些触摸配线31彼此被短路部35短路，因此，触摸配线31的配线电阻降低，所传送的触摸信号不易产生钝化。并且，由于短路部35配置为与栅极配线26隔着作为绝缘膜的栅极绝缘膜F2、第1层间绝缘膜F5以及平坦化膜F6重叠，因此，能够通过短路部35来屏蔽从栅极配线26产生的电场。从而，能够抑制从栅极配线26产生的电场所引起的不良状况的发生。

另外，与在第1方向上空开间隔配置的多个触摸电极30分别连接的多个触摸配线31以相互在第2方向上空开间隔并且其间不存在连接配线33的方式排列配置。通过像这样设为在第2方向上空开间隔排列的多个触摸配线31之间不存在连接配线33的配置，不必使短路配线34不与触摸配线31交叉就能够将短路配线34连接到多个连接配线33。因此，例如在短路配线34和触摸配线31包括相同的导电膜的情况下是优选的。

另外，多个触摸电极30在第2方向上空开间隔配置，与在第1方向上空开间隔配置的多个触摸电极30分别连接的多个触摸配线31配置为在该多个触摸配线31与触摸电极30中的第2方向上的端位置之间存在被短路配线34短路的多个连接配线33。这样一来，与假如将触摸配线配置为在该触摸配线与触摸电极30中的第2方向上的端位置之间不存在连接配线33的情况相比，在将可能会在多个触摸配线31与相对于以多个触摸配线31为连接对象的触摸电极30在第2方向上空开间隔配置的触摸电极30之间产生的寄生电容保持得小这方面是优选的。

另外，多个触摸电极30在第2方向上空开间隔配置，阵列基板21具备：源极配线(第2配线)27，其位于在第2方向上相邻的触摸电极30之间，沿着第1方向延伸；以及重叠配线36，其沿着第1方向延伸，并配置为与源极配线27隔着作为绝缘膜的第1层间绝缘膜F5和平坦化膜F6重叠，重叠配线36连接到短路配线34。这样一来，由于位于在第2方向上相邻的触摸电极30之间且沿着第1方向延伸的源极配线27被配置为与沿着第1方向延伸的重叠配线36隔着作为绝缘膜的第1层间绝缘膜F5和平坦化膜F6重叠，因此，能够通过重叠配线36来屏蔽从源极配线27产生的电场。从而，能够抑制从源极配线27产生的电场所引起的不良状况的发生。并且，由于重叠配线36连接到短路配线34，因此，能够进一步降低触摸电极30的电阻分布。

另外，在多个连接配线33中，包含相对于重叠配线36在第2方向上空开间隔配置的连接配线33，阵列基板21具备重叠配线短路部37，重叠配线短路部37使重叠配线36与相对于重叠配线36在第2方向上空开间隔配置的连接配线33短路。这样一来，重叠配线36通过重叠配线短路部37而被与连接配线33短路，从而能实现与重叠配线36和连接配线33相关的配线电阻的降低。由此，能够进一步降低触摸电极30的电阻分布。

另外，短路配线34与以相同的触摸电极30为连接对象的触摸配线31和多个连接配线33之中的触摸配线31不连接，而与多个连接配线33连接。这样一来，与假如短路配线连接到以相同触摸电极30为连接对象的触摸配线31和多个连接配线33这两者的情况相比，能够将在触摸配线31与栅极配线26之间可能产生的寄生电容保持得小。

另外，短路配线34与连接配线33包括相同的第3金属膜(导电膜)F7。这样一来，通过使短路配线34与多个连接配线33直接相连，能够实现相互的连接。从而，在短路配线34与多个连接配线33的连接部位不需要接触孔。

另外，具备驱动器(信号供应部)11，驱动器11相对于包括沿着第1方向排列的多个触摸电极30的触摸电极列(位置检测电极列)在第1方向上配置在一端侧，向触摸配线31供应触摸信号，短路配线34在第1方向上以与触摸电极30交替反复排列的方式配置有多个，多个短路配线34构成为：越是在第1方向上远离驱动器11，连接配线33的短路数量就越多。这样一来，触摸电极30能够利用从驱动器11供应到触摸配线31的触摸信号来检测位置输入体的输入位置。在此，关于连接到构成触摸电极列的多个触摸电极30中的每一个触摸电极30的多个触摸配线31，作为其连接对象的触摸电极30越是在第1方向上远离驱动器11，其配线电阻就越高并且触摸信号越容易产生钝化，因此，在第1方向上的远离驱动器11的触摸电极30中，电阻分布存在容易变高的倾向。对于这一点，由于分别连接到多个短路配线34的连接配线33的数量构成为越在第1方向上远离驱动器11就越多，因此，能够良好地降低第1方向上的远离驱动器11的触摸电极30的电阻分布。从而，在构成触摸电极列的多个触摸电极30中，电阻分布不易产生差异。

另外，本实施方式的液晶面板(显示装置)10具备：上述记载的阵列基板21；以及CF基板(相对基板)20，其配置为与阵列基板21空开间隔相对，阵列基板21具备：像素电极24；以及TFT(开关元件)23，其连接到像素电极24和栅极配线26。根据这种构成的液晶面板10，通过利用传送到栅极配线26的信号驱动TFT23并且对像素电极24充电来显示图像。通过配置为与栅极配线26隔着作为绝缘膜的栅极绝缘膜F2、第1层间绝缘膜F5以及平坦化膜F6重叠的短路配线34，能够屏蔽在栅极配线26与像素电极24之间可能产生的电场，因此，能够抑制显示质量由于电场而劣化。

另外，CF基板20具备用于保持CF基板20与阵列基板21之间的间隔的间隔物SP，短路配线34具有与间隔物SP重叠配置且局部被扩张而成的短路配线扩张部34B。这样一来，通过间隔物SP，得以保持阵列基板21与CF基板20之间的间隔。由于与间隔物SP重叠配置的短路配线扩张部34B是将短路配线34局部扩张而形成的，因此，与假如不将短路配线局部扩张的情况相比，与间隔物SP的重叠面积变大。从而，能够通过阵列基板21稳定地承接间隔物SP，因此，得以稳定地保持阵列基板21与CF基板20之间的间隔。

另外，CF基板20具备用于保持CF基板20与阵列基板21之间的间隔的间隔物SP，并且间隔物SP配置为与触摸配线31的一部分重叠，触摸电极30具有沿着第1方向延伸并配置为与触摸配线31重叠而与间隔物SP不重叠的第1开口30A，并且具有配置为与间隔物SP重叠的间隔物重叠部30D。这样一来，通过间隔物SP，得以保持阵列基板21与CF基板20之间的间隔。触摸电极30与触摸配线31的重叠面积减小了沿着第1方向延伸的第1开口30A的量。因此，能够降低在触摸电极30与连接到其它触摸电极30的触摸配线31之间可能产生的寄生电容。并且，由于触摸电极30的第1开口30A配置为与间隔物SP不重叠，并且触摸电极30具有与间隔物SP重叠配置的间隔物重叠部30D，因此，得以充分确保触摸电极30与间隔物SP的重叠面积。从而，能够通过阵列基板21稳定地承接间隔物SP，因此，得以稳定地保持阵列基板21与CF基板20之间的间隔。

＜实施方式2＞

根据图19至图21来说明实施方式2。在该实施方式2中，示出将连接配线133的构成变更后的构成。此外，对于与上述实施方式1同样的结构、作用以及效果，省略重复的说明。

如图19和图20所示，本实施方式的连接配线133的线宽度根据在Y轴方向上的位置而变化，具有局部被扩张而成的连接配线扩张部33A。图19和图20虽然比例尺或位置不同，但均是示出阵列基板121所具备的第3金属膜F7的图案的俯视图。在图19和图20中，以阴影状图示出了第3金属膜F7的形成范围。连接配线扩张部33A是连接配线133中的与间隔物SP重叠的部分，其线宽度大于与间隔物SP不重叠的其它部分。连接配线扩张部33A与连接配线133的其它部分相比沿着X轴方向分别向两侧突出。连接配线扩张部33A也是连接配线133中的与栅极配线126交叉的部分，朝向TFT123侧的侧缘相对于X轴方向和Y轴方向呈倾斜状。连接配线扩张部33A的平面形状与短路配线扩张部134B大致相同。从而，连接配线133相对于间隔物SP的重叠面积被确保为与短路配线134相对于间隔物SP的重叠面积为同等程度，因此，如图21所示，能够通过阵列基板121的内表面稳定地承接间隔物SP，得以稳定地保持液晶层122的厚度。图21是图20的F-F线截面图。此外，如图20所示，与上述的连接配线133同样地，触摸配线131的线宽度根据在Y轴方向上的位置而变化，具有局部被扩张而成的触摸配线扩张部(位置检测配线扩张部)31A。触摸配线扩张部31A是触摸配线131中的与间隔物SP重叠的部分，其线宽度大于与间隔物SP不重叠的其它部分。触摸配线扩张部31A的平面形状与短路配线扩张部134B和连接配线扩张部33A大致相同，能得到与连接配线扩张部33A同样的作用和效果。

如以上说明的那样，根据本实施方式，CF基板120具备用于保持CF基板120与阵列基板121之间的间隔的间隔物SP，连接配线133具有与间隔物SP重叠配置且局部被扩张而成的连接配线扩张部33A。这样一来，通过间隔物SP，得以保持阵列基板121与CF基板120之间的间隔。由于与间隔物SP重叠配置的连接配线扩张部33A是将连接配线133局部扩张而形成的，因此，与假如不将连接配线局部扩张的情况相比，与间隔物SP的重叠面积变大。从而，能够通过阵列基板121稳定地承接间隔物SP，因此，得以稳定地保持阵列基板121与CF基板120之间的间隔。

＜实施方式3＞

根据图22至图24来说明实施方式3。在该实施方式3中，示出在上述实施方式2所记载的构成中追加了岛状间隔物重叠部38的构成。此外，对于与上述实施方式2同样的结构、作用以及效果，省略重复的说明。

如图22和图23所示，在本实施方式的阵列基板221上，设置有被触摸电极230中与触摸配线231重叠的第1开口230A的开口缘包围的岛状间隔物重叠部38。图22和图23虽然比例尺或位置不同，但均是示出阵列基板221所具备的第1透明电极膜F9的图案的俯视图。在图22和图23中，以阴影状图示出了第1透明电极膜F9的形成范围。详细地说，岛状间隔物重叠部38配置为被触摸电极230所具备的多个第1开口230A之中的、与间隔物SP重叠配置的第1开口230A的开口缘包围。岛状间隔物重叠部38沿着Y轴方向延伸，在俯视时呈纵长的方形形状。并且，岛状间隔物重叠部38配置为与间隔物SP重叠，与触摸电极230包括相同的第1透明电极膜F9。根据这种构成，与如实施方式1那样不形成岛状间隔物重叠部的情况相比，如图24所示，通过岛状间隔物重叠部38提高了阵列基板221的内表面的平坦性，因此，能够通过阵列基板221的内表面稳定地承接间隔物SP。从而，得以稳定地保持液晶层222的厚度。图24是图23的G-G线截面图。

如以上说明的那样，根据本实施方式，CF基板220具备用于保持CF基板220与阵列基板221之间的间隔的间隔物SP，并且间隔物SP配置为与触摸配线231的一部分重叠，触摸电极230具有沿着第1方向延伸并配置为与触摸配线231和间隔物SP重叠的第1开口230A，具备岛状间隔物重叠部38，岛状间隔物重叠部38被触摸电极230中的第1开口230A的开口缘包围并与间隔物SP重叠配置，与触摸电极230包括相同的作为导电膜的第1透明电极膜F9。这样一来，通过间隔物SP，得以保持阵列基板221与CF基板220之间的间隔。触摸电极230与触摸配线231的重叠面积减小了沿着第1方向延伸的第1开口230A的量。并且，由于第1开口230A配置为与触摸配线231和间隔物SP重叠，因此，与假如将第1开口的形成范围设为与间隔物SP不重叠的情况相比，第1开口230A的面积变大。因此，能够进一步降低在触摸电极230与连接到其它触摸电极230的触摸配线231之间可能产生的寄生电容。而且，由于与触摸电极230包括相同导电膜的岛状间隔物重叠部38被第1开口230A的开口缘包围并配置为与间隔物SP重叠，因此，与假如不形成岛状间隔物重叠部的情况相比，能够通过阵列基板221稳定地承接间隔物SP。从而，得以稳定地保持阵列基板221与CF基板220之间的间隔。

＜其它实施方式＞

本说明书所公开的技术不限于根据上述记述和附图所说明的实施方式，例如以下实施方式也包含在技术范围内。

(1)多个连接配线33、133中也可以包含不与短路配线34、134连接的连接配线33、133。也就是说，也可以不必一定是所有连接配线33、133都被短路配线34、134短路。不与短路配线34、134连接的连接配线33、133例如可以是在X轴方向上被2根触摸配线31、131、231夹着的配置。

(2)短路配线34、134也可以连接到触摸电极30、230。另外，短路配线34、134也可以连接于与所短路的连接配线33、133连接到相同的触摸电极30、230的触摸配线31、131、231。

(3)重叠配线36也可以连接到触摸电极30、230。另外，也可以省略重叠配线短路部37，设为重叠配线36与连接配线33、133不连接。另外，也可以是重叠配线36虽然通过重叠配线短路部37连接到连接配线33、133，但不与短路配线34、134连接。

(4)突出部34A也可以设置在触摸配线31、131、231。突出部34A也可以设置在短路配线34、134和触摸配线31、131、231这两者。另外，也能省略突出部34A。

(5)短路配线34、134也可以由与连接配线33、133不同的金属膜构成。

(6)短路部35也可以由与触摸配线31、131、231不同的金属膜构成。

(7)重叠配线短路部37也可以由与重叠配线36或连接配线33、133不同的金属膜构成。

(8)短路配线扩张部34B、134B或连接配线扩张部33A的俯视时的形成范围或平面形状能适当变更。

(9)连接配线33、133也可以由第1金属膜F1构成。在这种情况下，为了避免与栅极配线26、126短路，连接配线33、133的Y轴方向上的长度为像素电极24的长边尺寸的程度。另外也可以是，为了使连接配线33、133以横穿栅极配线26、126的方式延伸，仅使与栅极配线26、126交叉的部分例如由第3金属膜F7构成等。

(10)栅极配线26、126、源极配线27、触摸配线31、131、231、连接配线33、133、短路配线34、134以及重叠配线36的俯视时的具体的布线路径能适当变更。例如可以是源极配线27、触摸配线31、131、231以及连接配线33、133沿着Y轴方向直线延伸。另外也可以是，栅极配线26、126和短路配线34、134以之字形大体沿着X轴方向延伸。在像这样变更了各配线的布线路径的情况下，突出部34A、短路部35、重叠配线短路部37、岛状间隔物重叠部38等的平面形状也能够适当变更。

(11)触摸电极30、230中也可以包含不与连接配线33、133连接的触摸电极30、230。例如，关于构成触摸电极列的多个触摸电极30、230之中的离驱动器11近的触摸电极30、230，由于其所连接的触摸配线31、131、231的配线电阻低，因此，也可以仅将这样的触摸电极30、230设为不与连接配线33、133连接。在这种情况下，也可以是触摸配线31、131、231配置为与重叠于离驱动器11近的触摸电极30、230的所有多个源极配线27重叠。

(12)也可以是，构成触摸电极列的多个触摸电极30、230所连接的触摸配线31、131、231的数量不同。例如可以是，分别连接到构成触摸电极列的多个触摸电极30、230的触摸配线31、131、231的数量构成为越是在Y轴方向上远离驱动器11就越多。

(13)触摸电极30、230中的第1开口30A、230A和间隔物重叠部30D的具体的平面配置或设置数量除了图示以外也能适当变更。

(14)连接到1个触摸电极30、230的触摸配线31、131、231的数量除了2根以外也能变更为1根或3根以上。

(15)也可以是，触摸配线31、131、231配置在触摸电极30、230的X轴方向上的端位置附近。

(16)也可以是，所有触摸配线31、131、231构成为在Y轴方向上的形成范围为从驱动器11到最远的触摸电极30、230。

(17)也可以是，多个TFT23、123以使连接到相对于作为其连接对象的源极配线27在X轴方向上位于一侧的像素电极24的TFT23、123与连接到在X轴方向上位于另一侧的像素电极24的TFT23、123在Y轴方向上交替反复排列的方式排布成锯齿状。

(18)也可以是，间隔物SP呈朝向阵列基板21、121、221侧突出的锥形的棱柱状。另外也可以是，间隔物SP的粗细在整个长度上是恒定的。

(19)间隔物SP中包含的第1间隔物SP1和第2间隔物SP2的具体的平面配置或设置数量或平面形状等除了图示以外也能适当变更。

(20)驱动器11和柔性基板12的设置数量能适当变更。

(21)也可以是，驱动器11以COF(Chip On Film；膜上芯片)方式安装于柔性基板12。

(22)也可以将具有与栅极电路部13同样的功能的栅极驱动器安装于阵列基板21、121、221来取代栅极电路部13。

(23)设置于像素电极24的狭缝24A1的具体的平面形状能适当变更，例如也能设为W字形或直线状等。另外，狭缝24A1的具体的设置数量或排布间距等也能适当地变更。

(24)也可以是，共用电极25和触摸电极30、230包括第2透明电极膜F11，像素电极24包括第1透明电极膜F9。在这种情况下，只要将设置于像素电极24的狭缝24A1省略，取而代之在共用电极25和触摸电极30、230中设置狭缝即可。

(25)也能使半导体膜F3的一部分低电阻化而形成低电阻化区域。在这种情况下，能由低电阻化区域来构成TFT23、123的源极电极23B和漏极电极23C，而且也能由低电阻化区域来构成像素电极24。在由低电阻化区域构成像素电极24的情况下，能够省略第1透明电极膜F9或第2透明电极膜F11。

(26)TFT23、123除了锯齿状的排布以外，也可以是矩阵状的排布，其中，在Y轴方向上相邻的像素PX在X轴方向上的配置相同。

(27)半导体膜F3也能由多晶硅(LTPS)形成。

(28)液晶面板10的显示模式也可以是IPS模式等。

(29)触摸面板图案除了是自电容方式以外，也可以是互电容方式。

(30)液晶面板10的平面形状也可以是纵长的长方形、正方形、圆形、半圆形、长圆形、椭圆形、梯形等。

(31)液晶面板10除了是透射型以外，也可以是反射型或半透射型。

(32)也可以是液晶面板10以外的种类的显示面板(有机EL(ElectroLuminescence；电致发光)显示面板等)或EPD(微胶囊型电泳方式的显示器面板)。

Claims (15)

1.一种配线基板，其特征在于，具备：

多个位置检测配线，其沿着第1方向延伸，至少传送位置检测信号；

多个位置检测电极，其连接到上述位置检测配线，并且至少在上述第1方向上空开间隔配置；

配线，其位于在上述第1方向上相邻的上述位置检测电极之间并沿着与上述第1方向交叉的第2方向延伸；

多个连接配线，其沿着上述第1方向延伸，连接到上述位置检测电极，并且在上述第2方向上空开间隔配置；以及

短路配线，其沿着上述第2方向延伸并配置为与上述配线隔着绝缘膜重叠，使多个上述连接配线短路，

上述配线基板还具备第2配线，上述第2配线位于在上述第2方向上相邻的上述位置检测电极之间，沿着上述第1方向延伸，

上述位置检测配线配置为与上述第2配线重叠，在上述第2配线的上层侧没有重叠配置上述位置检测配线的空间设置有连接到上述位置检测电极的上述连接配线，

上述连接配线包括比上述位置检测电极电阻低的导电膜，

上述连接配线包括与上述位置检测配线相同的导电膜。

2.根据权利要求1所述的配线基板，其中，

上述位置检测配线相对于上述连接配线在上述第2方向上空开间隔配置，

上述短路配线具有突出部，上述突出部从该短路配线的连接到与上述位置检测配线相邻的上述连接配线的端部沿着上述第2方向朝向上述位置检测配线侧突出，并且配置为与上述配线隔着绝缘膜重叠。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的配线基板，其中，

在上述位置检测电极连接有多个上述位置检测配线，

具备短路部，上述短路部使连接到相同的上述位置检测电极的多个上述位置检测配线短路，并且配置为与上述配线隔着绝缘膜重叠。

4.根据权利要求1或权利要求2所述的配线基板，其中，

与在上述第1方向上空开间隔配置的多个上述位置检测电极分别连接的多个上述位置检测配线以相互在上述第2方向上空开间隔并且其间不存在上述连接配线的方式排列配置。

5.根据权利要求4所述的配线基板，其中，

多个上述位置检测电极在上述第2方向上空开间隔配置，

与在上述第1方向上空开间隔配置的多个上述位置检测电极分别连接的多个上述位置检测配线配置为在该多个上述位置检测配线与上述位置检测电极中的上述第2方向上的端位置之间存在被上述短路配线短路的多个上述连接配线。

6.根据权利要求1或权利要求2所述的配线基板，其中，

多个上述位置检测电极在上述第2方向上空开间隔配置，

具备：重叠配线，其沿着上述第1方向延伸，并配置为与上述第2配线隔着绝缘膜重叠，

上述重叠配线连接到上述短路配线。

7.根据权利要求6所述的配线基板，其中，

在多个上述连接配线中，包含相对于上述重叠配线在上述第2方向上空开间隔配置的上述连接配线，

具备重叠配线短路部，上述重叠配线短路部使上述重叠配线与相对于上述重叠配线在上述第2方向上空开间隔配置的上述连接配线短路。

8.根据权利要求1或权利要求2所述的配线基板，其中，

上述短路配线与以相同的上述位置检测电极为连接对象的上述位置检测配线和多个上述连接配线之中的上述位置检测配线不连接，而与多个上述连接配线连接。

9.根据权利要求1或权利要求2所述的配线基板，其中，

上述短路配线与上述连接配线包括相同的导电膜。

10.根据权利要求1或权利要求2所述的配线基板，其中，

具备信号供应部，上述信号供应部相对于包括沿着上述第1方向排列的多个上述位置检测电极的位置检测电极列在上述第1方向上配置在一端侧，向上述位置检测配线供应上述位置检测信号，

上述短路配线在上述第1方向上以与上述位置检测电极交替反复排列的方式配置有多个，

分别连接到多个上述短路配线的上述连接配线的数量构成为越是在上述第1方向上远离上述信号供应部就越多。

11.一种显示装置，其特征在于，

具备：权利要求1至权利要求10中的任意一项所述的配线基板；以及相对基板，其配置为与上述配线基板空开间隔相对，

上述配线基板具备：像素电极；以及开关元件，其连接到上述像素电极和上述配线。

12.根据权利要求11所述的显示装置，其中，

上述相对基板具备用于保持该相对基板与上述配线基板之间的间隔的间隔物，

上述短路配线具有与上述间隔物重叠配置且局部被扩张而成的短路配线扩张部。

13.根据权利要求11或权利要求12所述的显示装置，其中，

上述相对基板具备用于保持该相对基板与上述配线基板之间的间隔的间隔物，

上述连接配线具有与上述间隔物重叠配置且局部被扩张而成的连接配线扩张部。

14.根据权利要求11或权利要求12所述的显示装置，其中，

上述相对基板具备用于保持该相对基板与上述配线基板之间的间隔的间隔物，并且上述间隔物配置为与上述位置检测配线的一部分重叠，

上述位置检测电极具有沿着上述第1方向延伸并配置为与上述位置检测配线重叠而与上述间隔物不重叠的开口，并且具有配置为与上述间隔物重叠的间隔物重叠部。

15.根据权利要求11或权利要求12所述的显示装置，其中，

上述相对基板具备用于保持该相对基板与上述配线基板之间的间隔的间隔物，并且上述间隔物配置为与上述位置检测配线的一部分重叠，

上述位置检测电极具有沿着上述第1方向延伸并配置为与上述位置检测配线和上述间隔物重叠的开口，

具备岛状间隔物重叠部，上述岛状间隔物重叠部被上述位置检测电极中的上述开口的开口缘包围并配置为与上述间隔物重叠，与上述位置检测电极包括相同的导电膜。