CN109575459A - 一种ps扩散板 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及扩散板技术领域，更具体地，本发明涉及一种PS扩散板及其制备方法。本发明第一个方面提供一种PS扩散板，其制备原料包括光学级GPPS、光学母粒T、光学母粒H以及润滑剂；其中，光学母粒T的制备原料包括光学级GPPS、有机硅光扩散剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、抗氧剂以及润滑剂；光学母粒H的制备原料包括光学级GPPS、无机光扩散剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、抗氧剂以及润滑剂；有机硅光扩散剂的粒径为1～2μm，无机光扩散剂的粒径为0.1～3.0μm。

Description

一种PS扩散板
技术领域
本发明涉及扩散板技术领域，更具体地，本发明涉及一种PS扩散板及其制备方法。
背景技术
扩散板很大一部分应用于液晶电视所采用的直下式背光源系统中。一般情况下，扩散板具有耐热性、尺寸稳定性、机械强度、耐燃性等良好性能，并有高度光线透过率，优良的遮蔽性及耐久性，使其光线扩散效果达到最佳状态。现有技术是在扩散板的一表面或两表面加工出凹凸点或凹点条纹，它用于提高扩散板对光的分散性能，使LED光条点状光源发射出的光线通过扩散板发射出后能够均匀化，这种技术通过改变扩散板的表面形态而提高扩散板对光的分散性能，它虽然具有一定的分散作用，但是，它会在扩散板的表面形成一种雾化的光学效果，大幅度降低了扩散板的折射性能和透光性能，严重影响扩散板的实际使用效果。
目前，PS扩散板相比于其他树脂材料较轻，很大程度上降低了运输成本，并且材料本身的透光率较适中，且比较廉价，应用范围较广，但PS扩散板在直下式背光模组中对灯珠的屏蔽性有待进一步的提高；此外，PS扩散板在制备过程中容易出现白色条纹缺陷。
针对上述一些问题，本发明提供一种PS扩散板，其具有较好的力学强度以及加工性能；此外，该PS扩散板具有较低的透光率、较高的雾度以及对光源很好的遮蔽性能，且所得PS扩散板表面不会产生白色条纹缺陷；另一方面，所提供的PS扩散制备工艺简单，原料成本较低，适合工业化生产。
发明内容
本发明的第一个方面提供一种PS扩散板，其制备原料包括光学级GPPS、光学母粒T、光学母粒H以及润滑剂；其中，光学母粒T的制备原料包括光学级GPPS、有机硅光扩散剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、抗氧剂以及润滑剂；光学母粒H的制备原料包括光学级GPPS、无机光扩散剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、抗氧剂以及润滑剂；有机硅光扩散剂的粒径为1～2μm，无机光扩散剂的粒径为0.1～3.0μm。
作为本发明的一种优选技术方案，其中，有机硅光扩散剂与PS扩散板的总制备原料的质量比为1～1.5％。
作为本发明的一种优选技术方案，按重量份计算，所述PS扩散板的制备原料包括90～130份光学级GPPS、3～11份光学母粒T、2～10份光学母粒H以及0.2～1份润滑剂。
作为本发明的一种优选技术方案，按重量份计算，光学母粒T的制备原料包括90～110份光学级GPPS、0.1～0.8份光稳定剂、0.01～1份紫外线吸收剂、0.01～1份抗氧剂以及0.2～2.5份润滑剂。
作为本发明的一种优选技术方案，按重量份计算，光学母粒H的制备原料包括90～110份光学级GPPS、1～5份无机光扩散剂、0.1～0.5份光稳定剂、0.01～1份紫外线吸收剂、0.01～1份抗氧剂以及0.2～1.5份润滑剂。
根据权利要求1所述PS扩散板，其中，光稳定剂为双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基葵二酸酯)。
作为本发明的一种优选技术方案，其中，紫外线吸收剂为2-(2’-羟基-5’-叔辛基苯基)苯并三唑。
作为本发明的一种优选技术方案，其中，抗氧剂为N,N’-双-(3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰基)己二胺。
本发明第二个方面提供一种所述PS扩散板的制备方法，包括光学母粒的制备以及PS扩散板的制备两个步骤；其中，光学母粒的制备包括称量混料-1、原料预热干燥-1、熔融挤出-1、冷却-1以及切粒；PS扩散板的制备包括称量混料-2、原料预热干燥-2、熔融挤出-2以及冷却-2；其中，光学母粒T与光学母粒H的制备方法相同。
作为本发明的一种优选技术方案，其中，切粒前包括冷拉过程；切粒所得颗粒的粒径为0.4～3mm。
本发明的有益效果：本发明提供一种PS扩散板，其具有较好的力学强度以及加工性能；此外，该PS扩散板具有较低的透光率、较高的雾度以及对光源很好的遮蔽性能，且所得PS扩散板表面不会产生白色条纹缺陷；另一方面，所提供的PS扩散制备工艺简单，原料成本较低，适合工业化生产。
具体实施方式
本发明第一个方面提供一种PS扩散板，其制备原料包括光学级GPPS、光学母粒T、光学母粒H以及润滑剂；其中，光学母粒T的制备原料包括光学级GPPS、有机硅光扩散剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、抗氧剂以及润滑剂；光学母粒H的制备原料包括光学级GPPS、无机光扩散剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、抗氧剂以及润滑剂；有机硅光扩散剂的粒径为1～2μm，无机光扩散剂的粒径为0.1～3.0μm。
优选地，所述PS扩散板的制备原料包括90～130份光学级GPPS、3～11份光学母粒T、2～10份光学母粒H以及0.2～1份润滑剂。
更优选地，所述PS扩散板的制备原料包括100份光学级GPPS、6份光学母粒T、4份光学母粒H以及0.5份润滑剂。
在一种实施方式中，所述有机硅光扩散剂与PS扩散板的制备原料总的质量比为1～1.5％；优选地，所述有机硅光扩散剂与PS扩散板的制备原料总的质量比为1.1～1.4％；更优选地，所述有机硅光扩散剂与PS扩散板的制备原料总的质量比为1.25％。
在一种实施方式中，所述光学母粒T的制备原料包括90～110份光学级GPPS、0.1～0.8份光稳定剂、0.01～1份紫外线吸收剂、0.01～1份抗氧剂以及0.2～2.5份润滑剂；优选地，所述光学母粒T的制备原料包括95～105份光学级GPPS、0.3～0.7份光稳定剂、0.05～0.5份紫外线吸收剂、0.1～0.8份抗氧剂以及0.5～1份润滑剂；更优选地，所述光学母粒T的制备原料包括100份光学级GPPS、0.5份光稳定剂、0.35份紫外线吸收剂、0.55份抗氧剂以及0.75份润滑剂。
在一种实施方式中，所述光学母粒H的制备原料包括90～110份光学级GPPS、1～5份无机光扩散剂、0.1～0.5份光稳定剂、0.01～1份紫外线吸收剂、0.01～1份抗氧剂以及0.2～1.5份润滑剂；优选地，所述光学母粒H的制备原料包括95～105份光学级GPPS、2～4份无机光扩散剂、0.2～0.4份光稳定剂、0.1～0.5份紫外线吸收剂、0.05～0.5份抗氧剂以及0.5～1.0份润滑剂；更优选地，所述光学母粒H的制备原料包括100份光学级GPPS、3份无机光扩散剂、0.25份光稳定剂、0.25紫外线吸收剂、0.15抗氧剂以及0.8润滑剂。
在一种实施方式中，所述光学级GPPS购自达道尔1050；本发明中光学级GPPS的购买厂家不做限制。
有机硅光扩散剂：
有机硅光扩散剂属于有机类的光扩散剂，是一种以硅氧键连接，三维立体结构的聚合物微球.这种光扩散剂本身为一种白色粉末状，加入不同材质的树脂中，会以一种细微的透明玻璃球体均匀的分散在基体中，通过与不同基材的折射率的差异，光源穿透式的进行折射，改变光的行进路线，达到匀光而又透光的目的。同时满足雾度值和透光率的需求。
在一种实方式中，有机硅光扩散剂的粒径为2μm。
在一种实施方式中，有机硅光扩散剂为聚硅氧烷，购自长兴，DF20A0，本发明中不对购买厂家做特别限制。
申请人通过实验发现，当有机硅光扩散剂的粒径为1～2μm时，PS扩散板具有较好的性能，这可能是因为当粒径为1～2μm时，粒子分布均匀，匀光效果较好；而当其粒径大于2μm时，PS扩散板的对光源的遮蔽性降低，这可能是因为当粒径较大，光源照射时，机硅光扩散剂对光源照射路径的改变较少，光折射角较小，折射次数较少，光的分散、重叠效果减弱，因此，PS扩散板对光源的遮蔽性降低；此外，申请人也意外发现，扩散板的挺度降低、翘曲度提高，这可能是因为较大颗粒的有机硅光扩散剂在PS扩散板体系中形成空隙较大的应力集中点，很大程度上降低了扩散板体系的挺性，同时降低了扩散板整体的不平整度；同时，申请人也意外地发现，当其粒径大于或小于2μm时，所得PS扩散板表面具有白色条纹，这可能是因为当其粒径大或小时，会影响有机硅光扩散剂在体系中的分散性与相容性，同时也会影响其他原料在体系中的流动性，从而减弱PS扩散板体系的均相性，造成白色线条的产生。
此外，申请人也意外地发现，当有机硅光扩散剂的含量在1～1.5％的范围内时，PS扩散板的性能达到最佳，当有机硅光扩散剂的含量小于1％时，扩散板的透过率较高而雾度较低，而高透过率的扩散板在直下式背光模组中对灯珠的屏蔽性不如低透过率，且雾度达不到要求，此外，扩散板的力学性能较差，平整度较低，所得扩散板的性能较低，且损耗比较严重；而当有机硅光扩散剂的含量大于1.5％时，扩散板的雾度不能再提高、透光率不可以再下降，但是力学性能以及平整度会变劣，这可能是因为随着含量的增大，体系流动性降低，熔融的均一性较低，产生应力集中以及有可能影响扩散板的柔韧性。
在一种实施方式中，无机光扩散剂选自二氧化钛、玻璃微珠、金红石型钛白粉中的任一种或多种的组合；优选地，无机光扩散剂为金红石型钛白粉；所述金红石型钛白粉为CR-210。
光稳定剂：
光稳定剂它能屏蔽或吸收紫外线的能量，猝灭单线态氧及将氢过氧化物分解成非活性物质等功能，使高分子聚合物在光的辐射下，能排除或减缓光化学反应可能性，阻止或延迟光老化的过程，从而达到延长高分子聚合物制品使用寿命的目的。
在一种实施方式中，所述光稳定剂为双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基葵二酸酯)；所述双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基葵二酸酯)对于波长在425nm的可见光的透过率大于98％；其对于波长在500nm的可见光的透过率大于99％。
紫外线吸收剂：
紫外线吸收剂是一种光稳定剂，能吸收阳光及荧光光源中的紫外线部分，而本身又不发生变化。由于太阳光线中含有大量对有色物体有害的紫外光，其波长约290-460纳米，这些有害的紫外光通过化学上的氧化还原作用，使颜色分子最后分解褪色。
在一种实施方式中，所述紫外线吸收剂为2-(2’-羟基-5’-叔辛基苯基)苯并三唑；所述2-(2’-羟基-5’-叔辛基苯基)苯并三唑对于可见光的透光率大于98％。
抗氧剂：
抗氧剂是一类化学物质，当其在聚合物体系中仅少量存在时，就可延缓或抑制聚合物氧化过程的进行，从而阻止聚合物的老化并延长其使用寿命，又被称为“防老剂”。
在一种实施方式中，所述抗氧剂为N,N’-双-(3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰基)己二胺；所述N,N’-双-(3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰基)己二胺对于波长在425nm可见光的透过率97％；其对于波长在500nm可见光的透过率98％。
在一种实施方式中，所述润滑剂选自硅油、脂肪酸酰胺、油酸、白油中的任一种或多种的组合；优选地，所述润滑剂为白油，购自福达石化，15号。
本申请人通过实验发现，PS扩散板具有恰当的透光率以及对光源的遮蔽性能，这有可能是因为光稳定剂、紫外线吸收剂以及抗氧剂的分子结构的共同作用下，使PS扩散板在有较好的光源的遮蔽性的同时，保持透光率的稳定性；另一方面，PS扩散板具有较高的挺性以及较低的翘曲度，这可能是因为这些小分子的加入提高了分子彼此之间的作用力，同时，提高了加工过程中熔体之间的均相性，从而提高扩散板整体的平整度以及挺性，并且避免所得扩散板表面白色条纹的产生。
本发明第二个方面提供一种所述PS扩散板的制备方法，包括光学母粒的制备以及PS扩散板的制备两个步骤；其中，光学母粒T与光学母粒H的制备方法相同。
在一种实施方式中，光学母粒的制备包括称量混料-1、原料预热干燥-1、熔融挤出-1、冷却-1以及切粒。
在一种实施方式中，称量混料-1时混合速度为3～8m/s，混合时间为20～50min；优选地，所述混合速度为5～6m/s，混合时间为30～40min；更优选地，所述混合速度为5.5m/s，混合时间为35min。
在一种实施方式中，原料预热干燥-1的温度为60～90℃，时间为1～3h；优选地，所述原料预热干燥-1的温度为85℃，时间为2h。
在一种实施方式中，熔融挤出-1的温度为160～210℃。
优选地，在一种实施方式中，熔融挤出-1包括8个阶段。
更优选地，在一种实施方式中，熔融挤出-1的8个阶段的温度依次为170℃、180℃、190℃、200℃、210℃、220℃、210℃以及210℃。
在一种实施方式中，冷却-1过程为熔融挤出的拉条水冷却；更优选地，所述水的温度为25～30℃。
在一种实施方式中，切粒所得颗粒的粒径为0.45～4mm；优选地，所述颗粒的粒径为0.6～3mm；更优选地，所述颗粒的粒径为3mm。
在一种实施方式中，PS扩散板的制备包括称量混料-2、原料预热干燥-2、熔融挤出-2以及冷却-2。
在一种实施方式中，称量混料-2时混合速度为3～10m/s，混合时间为20～60min；优选地，所述混合速度为5～8m/s，混合时间为30～50min；更优选地，所述混合速度为7m/s，混合时间为40min。
在一种实施方式中，原料预热干燥-2的温度为60～90℃，时间为1～3h；优选地，所述原料预热干燥-2的温度为75℃，时间为2h。
在一种实施方式中，熔融挤出-2的温度为180～225℃。
优选地，在一种实施方式中，熔融挤出-2包括8个阶段。
更优选地，在一种实施方式中，熔融挤出-2的8个阶段的温度依次为185℃、200℃、210℃、210℃、185℃、213℃、220℃以及220℃。
在一种实施方式中，熔融挤出-2所得物质在空气中冷却定型。
优选地，在一种实施方式中，所述PS扩散板的制备过程为：
(1)光学母粒T的制备
①按照相应重量份称量混料-1：混合速度为5.5m/s，混合时间为35min；
②步骤①的原料预热干燥-1：温度为65℃，时间为2h；
③步骤②所得的物质熔融挤出-1：熔融挤出-1的8个阶段的温度依次为170℃、180℃、190℃、200℃、210℃、220℃、210℃以及210℃；
④步骤③所得拉条水冷却：水的温度为25～30℃；
⑤步骤④所得物质切粒：切粒所得颗粒的粒径为3mm；
(2)光学母粒H的制备
①按照相应重量份称量混料-1：混合速度为5.5m/s，混合时间为35min；
②步骤①的原料预热干燥-1：温度为65℃，时间为2h；
③步骤②所得的物质熔融挤出-1：熔融挤出-1的8个阶段的温度依次为170℃、180℃、190℃、200℃、210℃、220℃、210℃以及210℃；
④步骤③所得拉条水冷却：水的温度为25～30℃；
⑤步骤④所得物质切粒：切粒所得颗粒的粒径为3mm；
(3)PS扩散板的制备
①按照相应重量份称量混料-2：混合速度为7m/s，混合时间为40min；
②步骤①的原料预热干燥-2：温度为75℃，时间为2h；
③步骤②所得的物质熔融挤出-2：熔融挤出-2的8个阶段的温度依次为185℃、200℃、210℃、210℃、185℃、213℃、220℃以及220℃；
④步骤③所得物质在空气中冷却定型。
本发明采用光学母粒T和光学母粒H混合制备PS扩散板，实验发现，在一定加工条件下，所得PS扩散板没有白色条纹产生，这有可能是在该加工制备条件下，PS扩散板的制备原料在熔融过程中接触最佳，可以相互熔融，不会产生明显的分子界面；而在冷却定型的过程中，分子流动速度变缓一致，不会产生白色条纹状缺陷。
另一方面，通过实验意外地发现，当在制备PS扩散板的过程中，光学母粒的粒径对扩散板的性能会有一些影响，当母粒粒径为0.45～3mm时，扩散板有良好的透光率以及光源遮蔽性、挺性、平整度且没有白色条纹，这可能是因为当母粒粒径在范围时，光学母粒可与其他制备材料很好的相容，且在熔融挤出过程中可以更充分的熔融并与扩散板体系形成均相，而当粒径过小时，母粒在熔融过程中有可能不能够充分的熔融，在扩散板表明形成缺陷，从而使扩散板质量降低；而当母粒大于3mm时，母粒与体系的分散性降低，有可能存在熔融不充分，从而在扩散板表面形成缺陷，降低扩散板的质量。
实施例1
本发明实施例1提供一种PS扩散板，其制备原料包括100份光学级GPPS、6份光学母粒T、4份光学母粒H以及0.5份润滑剂；
所述光学母粒包括有机硅光扩散剂；所述有机硅光扩散剂与PS扩散板的制备原料总的质量比为1.25％；
所述光学母粒T的制备原料还包括100份光学级GPPS、0.5份光稳定剂、0.35份紫外线吸收剂、0.55份抗氧剂以及0.75份润滑剂；
所述光学母粒H的制备原料包括100份光学级GPPS、3份无机光扩散剂、0.25份光稳定剂、0.25紫外线吸收剂、0.15抗氧剂以及0.8润滑剂；
所述有机硅光扩散剂的粒径为2μm；
无机光扩散剂为金红石型钛白粉；
所述光稳定剂为双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基葵二酸酯)；
所述紫外线吸收剂为2-(2’-羟基-5’-叔辛基苯基)苯并三唑；
所述抗氧剂为N,N’-双-(3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰基)己二胺；
所述润滑剂为白油；
所述PS扩散板的制备过程为：
(2)光学母粒T的制备
①按照相应重量份称量混料-1：混合速度为5.5m/s，混合时间为35min；
②步骤①的原料预热干燥-1：温度为65℃，时间为2h；
③步骤②所得的物质熔融挤出-1：熔融挤出-1的8个阶段的温度依次为170℃、180℃、190℃、200℃、210℃、220℃、210℃以及210℃；
④步骤③所得拉条水冷却：水的温度为25～30℃；
⑤步骤④所得物质切粒：切粒所得颗粒的粒径为3mm；
(2)光学母粒H的制备
①按照相应重量份称量混料-1：混合速度为5.5m/s，混合时间为35min；
②步骤①的原料预热干燥-1：温度为65℃，时间为2h；
③步骤②所得的物质熔融挤出-1：熔融挤出-1的8个阶段的温度依次为170℃、180℃、190℃、200℃、210℃、220℃、210℃以及210℃；
④步骤③所得拉条水冷却：水的温度为25～30℃；
⑤步骤④所得物质切粒：切粒所得颗粒的粒径为3mm；
(3)PS扩散板的制备
①按照相应重量份称量混料-2：混合速度为7m/s，混合时间为40min；
②步骤①的原料预热干燥-2：温度为75℃，时间为2h；
③步骤②所得的物质熔融挤出-2：熔融挤出-2的8个阶段的温度依次为185℃、200℃、210℃、210℃、185℃、213℃、220℃以及220℃；
④步骤③所得物质在空气中冷却定型。
实施例2
本发明实施例2提供一种PS扩散板，其具体实施方式同实施例1，不同之处在于，所述PS扩散板的制备原料包括130份光学级GPPS、11份光学母粒T、10份光学母粒H以及1份润滑剂；
所述光学母粒包括有机硅光扩散剂；所述有机硅光扩散剂与PS扩散板的制备原料总的质量比为1％；
所述光学母粒T的制备原料包括110份光学级GPPS、0.8份光稳定剂、1份紫外线吸收剂、1份抗氧剂以及2.5份润滑剂；
所述光学母粒H的制备原料包括110份光学级GPPS、5份无机光扩散剂、0.5份光稳定剂、1紫外线吸收剂、1抗氧剂以及1.5润滑剂。
实施例3
本发明实施例3提供一种PS扩散板，其具体实施方式同实施例1，不同之处在于，所述PS扩散板的制备原料包括90份光学级GPPS、3份光学母粒T、2份光学母粒H以及0.2份润滑剂；
所述光学母粒包括有机硅光扩散剂；所述有机硅光扩散剂与PS扩散板的制备原料总的质量比为1.5％；
所述光学母粒T的制备原料包括90份光学级GPPS、0.1份光稳定剂、0.01份紫外线吸收剂、0.0份抗氧剂以及0.2份润滑剂；
所述光学母粒H的制备原料包括90份光学级GPPS、1份无机光扩散剂、0.1份光稳定剂、0.01紫外线吸收剂、0.01抗氧剂以及0.2润滑剂。
实施例4
本发明实施例4提供一种PS扩散板，其具体实施方式同实施例1，不同之处在于，将所述有机硅光扩散剂的粒径替换为0.3μm。
实施例5
本发明实施例5提供一种PS扩散板，其具体实施方式同实施例1，不同之处在于，将所述有机硅光扩散剂的粒径替换为4.5μm。
实施例6
本发明实施例6提供一种PS扩散板，其具体实施方式同实施例1，不同之处在于，将所述有机硅光扩散剂的含量替换为0.8。
实施例7
本发明实施例7提供一种PS扩散板，其具体实施方式同实施例1，不同之处在于，将所述有机硅光扩散剂的含量替换为2.0。
实施例8
本发明实施例8提供一种PS扩散板，其具体实施方式同实施例1，不同之处在于，将所述光学母粒T的含量替换为0。
实施例9
本发明实施例9提供一种PS扩散板，其具体实施方式同实施例1，不同之处在于，将所述光学母粒H的含量替换为0。
实施例10
本发明实施例10提供一种PS扩散板，其具体实施方式同实施例1，不同之处在于，将所述光稳定剂的含量替换为0。
实施例11
本发明实施例11提供一种PS扩散板，其具体实施方式同实施例1，不同之处在于，将所述紫外线吸收剂的含量替换为0。
实施例12
本发明实施例12提供一种PS扩散板，其具体实施方式同实施例1，不同之处在于，将所述抗氧剂的含量替换为0。
实施例13
本发明实施例13提供一种PS扩散板，其具体实施方式同实施例1，不同之处在于，将所述切粒所得颗粒的粒径替换为0.4mm。
实施例14
本发明实施例14提供一种PS扩散板，其具体实施方式同实施例1，不同之处在于，将所述切粒所得颗粒的粒径替换为4.5mm。
性能测试
1.透光率：通过WGT-S进行透光率测试；
2.雾度：通过NDH-5000进行雾度测试；
3.挺度：从实施例1～9所得PS扩散板上裁切长30cm，宽1cm的样品，在85℃，5min热定型后，将5kg砝码压住扩散板的一端，另外一端悬挂于水平桌面的一侧，量取板末端与垂直桌面的水平距离即为挺度。测量得到的水平距离越长，即数值越高，说明PS扩散板的挺度越好。
4.翘曲度：将在85℃95％RH气氛下暴露168小时的光扩散板至于设置以2.5cm等间隔地排列有6根的具有5300Cd/cm2光能的冷阴极管的46英寸直下背光单元上，使画面部分处于垂直状态，以所述第三层板103为背光侧组装在距离冷阴极管30mm的位置处。进而，在光扩散板的外侧(与背光侧相反的侧)上设置1.0mm的间隔，利用在中央部1点开有直径5mm孔的厚度1.5mm玻璃密封、保持。测定此时的玻璃与扩散板的距离(初期值)。之后使冷阴极管连续点灯，利用度盘式指示器以0.1mm的单位测定经过5小时后的光扩散板的变化，并记录翘曲最大值。
5.制备所得的PS扩散板是否含有白线：将所得的PS扩散板置于普通灯光下照射，光差是否有白线产生，根据实验情况，将实验结果分为有白线，无白线。
表1性能测试结果
由表1可知，本发明制备的含有光稳定剂、紫外线吸收剂、抗氧剂以及光学母粒的PS扩散具有了很高的雾度以及光学稳定性，且对光源有很好的遮蔽性；此外，本发明提供的PS扩散板有较高的硬度以及很好的使用性能，可以在较长时间内保持好的使用质量，且在使用过程中PS扩散板表面光滑，无白色条纹。
前述的实例仅是说明性的，用于解释本发明所述方法的一些特征。所附的权利要求旨在要求可以设想的尽可能广的范围，且本文所呈现的实施例仅是根据所有可能的实施例的组合的选择的实施方式的说明。因此，申请人的用意是所附的权利要求不被说明本发明的特征的示例的选择限制。在权利要求中所用的一些数值范围也包括了在其之内的子范围，这些范围中的变化也应在可能的情况下解释为被所附的权利要求覆盖。

Claims (10)

1.一种PS扩散板，其特征在于，其制备原料包括光学级GPPS、光学母粒T、光学母粒H以及润滑剂；其中，光学母粒T的制备原料包括光学级GPPS、有机硅光扩散剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、抗氧剂以及润滑剂；光学母粒H的制备原料包括光学级GPPS、无机光扩散剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、抗氧剂以及润滑剂；有机硅光扩散剂的粒径为1～2μm，无机光扩散剂的粒径为0.1～3.0μm。
2.根据权利要求1所述PS扩散板，其特征在于，有机硅光扩散剂与PS扩散板的制备原料总的质量比为1～1.5％。
3.根据权利要求2所述PS扩散板，其特征在于，按重量份计算，其制备原料包括90～130份光学级GPPS、3～11份光学母粒T、2～10份光学母粒H以及0.2～1份润滑剂。
4.根据权利要求3所述PS扩散板，其特征在于，按重量份计算，光学母粒T的制备原料包括90～110份光学级GPPS、0.1～0.8份光稳定剂、0.01～1份紫外线吸收剂、0.01～1份抗氧剂以及0.2～2.5份润滑剂。
5.根据权利要求3所述PS扩散板，其特征在于，按重量份计算，光学母粒H的制备原料包括90～110份光学级GPPS、1～5份无机光扩散剂、0.1～0.5份光稳定剂、0.01～1份紫外线吸收剂、0.01～1份抗氧剂以及0.2～1.5份润滑剂。
6.根据权利要求1所述PS扩散板，其特征在于，光稳定剂为双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基葵二酸酯)。
7.根据权利要求1所述PS扩散板，其特征在于，紫外线吸收剂为2-(2’-羟基-5’-叔辛基苯基)苯并三唑。
8.根据权利要求1所述PS扩散板，其特征在于，抗氧剂为N,N’-双-(3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰基)己二胺。
9.一种如权利要求1～8任一项所述PS扩散板的制备方法，其特征在于，包括光学母粒的制备以及PS扩散板的制备两个步骤；其中，光学母粒的制备包括称量混料-1、原料预热干燥-1、熔融挤出-1、冷却-1以及切粒；PS扩散板的制备包括称量混料-2、原料预热干燥-2、熔融挤出-2以及冷却-2；其中，光学母粒T与光学母粒H的制备方法相同。
10.根据权利要求9所述PS扩散板的制备方法，其特征在于，切粒前包括冷拉过程；切粒所得颗粒的粒径为0.4～3mm。
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