CN103242593B - 一种抗静电材料及由其制备的自洁光扩散板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种抗静电材料及由其制备的自洁光扩散板及其制备方法，其中，抗静电材料由基体树脂、光扩散剂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂构成，其电阻率达到107～1011，具有显著的防静电性能；应用其制备的光扩散板兼具高透光性及高防静电自洁性，有效增强透光效果并具长期稳定性，并且，原料易得，制备成本低，适于在各相关需防静电、提高自洁性能的产品领域中应用；本发明提供的自洁光扩散板的制备方法，工艺优化，操作简单，适于连续生产制造，经济成本低，适于推广应用。

Description

一种抗静电材料及由其制备的自洁光扩散板及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种高分子材料的制备及其应用技术领域，尤其涉及一种抗静电材料、由该抗静电材料制备的自洁光扩散板及该光扩散板的制备方法。
背景技术
当前，随着环保节能意识的增强，LED灯因其显著的节能效果而应用日趋广泛，但LED灯在应用时因其产生的光能高而存在光线强易刺眼的缺陷，为避免光能损耗并使LED灯光线变得柔和，通常设计添加LED灯灯罩。然而，这些灯罩在使用过程中都不同程度地存在光线柔和度不够、光能损耗，尤其是长期使用后因静电吸附而堆积大量灰尘导致上述缺陷加重。
目前，所采用的灯罩普遍由聚苯乙烯树脂（PS）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、聚碳酸酯（PC）等类似材料制作而成，PC、PMMA、PS这些材料透光率高，虽然有效避免了光能损耗但不能使光线有效达到适合人眼的柔和程度，LED灯光线仍然存在强而刺眼的缺陷、以及长期使用后因静电吸附灰尘积聚而导致的光能损失问题。
为此，对PC、PMMA或PS进行加工改性的材料近年来相继出现，所进行的加工改性主要通过加入一些无机类的助剂进行，所使用的助剂如：二氧化硅、硫酸钡，加入这些无机纳米颗粒助剂，光会通过这些微小颗粒的表面进行无数次光折射达到光扩散，即发挥匀光的作用使光线柔和，但在应用此类加工改性过的材料时，因光不能穿透这些无机纳米颗粒，光穿透力而被大大削弱，造成较大的光能损耗，同时，也存在无法避免静电吸附堆积灰尘影响透光率损耗光能的缺陷。
此外，还有为避免上述缺陷而采取的在PC，PMMA或PS这些材料中添加有机光扩散剂进行加工改性的技术，发明专利ZL201010218327.8中公开了一种高雾度高透明LED灯管料及其制备方法，主要是以PC为基体，添加了PMMA微珠类光扩散剂、色泽保护剂和其他助剂，通过熔融共混，挤出造粒；该发明在光扩散材料的雾度和透光率方面有一定的进步，但是无法避免使用过程中静电吸附堆积灰尘所产生的影响，不适合长期使用推广。发明专利ZL201010140129.4提供了一种高光通量、防眩光聚碳酸酯及其制备方法，首先制备聚碳酸酯树脂光扩散母粒，再在聚碳酸酯树脂光扩散母粒的基础上添加聚碳酸酯树脂及助剂，主要是以PC为基体，采用球形甲基有机硅树脂或交联甲基丙烯酸甲酯微球的一种或两种复合的光扩散剂助剂；该发明在一定程度上有效地消除了刺眼的眩光、光损低、光通量高，但是，其仍存在静电吸附问题，严重影响其长期使用的效果。发明专利ZL201110151541.0还公开了一种LED灯具用阻燃光扩散聚碳酸酯树脂复合材料及其制备方法，有效提高了光扩散PC材料的阻燃性能，同样地，无法避免静电吸附及光损问题。此外，发明专利ZL200880106372.5公布了光扩散板用树脂组合物、光扩散板及其制造方法，该发明虽然提出了有关光扩散板的抗静电问题，但其单层的结构及制造方法，并未有效解决抗静电问题，也没有取得较好的效果。
因此，亟需研究开发出一种能够有效防止静电吸附的材料，并且，使其应用到光扩散材料中，有效保障光扩散材料的高透光性及其他相关性能的同时，高效避免静电吸附，充分防止光扩散板表面出现灰尘划痕及灰尘积聚，从而达到光线柔和不刺眼并且长期保持良好的透光效果，进而大幅减少光能损耗。
发明内容
本发明的目的是，针对现有技术存在的问题，提供一种抗静电材料、由该抗静电材料制备的自洁光扩散板及该光扩散板的制备方法，为避免静电影响提供新材料的同时，提供应用该材料的光扩散板，实现有效保障光扩散板的高透光性及其他相关性能的同时，充分避免光扩散板表面因静电而出现的灰尘划痕及灰尘积聚，从而达到使经此光扩散板发散的光线柔和不刺眼并且利于此光扩散板保持长期良好的透光效果，进而有效降低光能损耗。
本发明解决问题的技术方案是：一种抗静电材料，由基体树脂、光扩散剂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂构成，各组分的质量比m(基体树脂)：m(光扩散剂)：m(抗静电剂)：m(抗氧剂)：m(光稳定剂)：m(分散剂)为：100：（0.2～2）：（0.2～10）：（0.1～0.8）：（0.1～0.8）：（0.1～1）；其电阻率为107～1011。
优选地，本发明抗静电材料各组分的质量比m(基体树脂)：m(光扩散剂)：m(抗静电剂)：m(抗氧剂)：m(光稳定剂)：m(分散剂)为：100：（0.5～1）：（1～5）：（0.5～0.8）：（0.5～0.8）：（0.5～1）。
进一步地，所述基体树脂为聚苯乙烯树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或者聚碳酸酯；所述光扩散剂为无机光扩散剂和有机光扩散剂中的一种或者两种以上的组合；所述抗静电剂为阳离子抗静电剂、阴离子抗静电剂或者非离子型抗静剂。
优选地，所述无机光扩散剂能够为微球状二氧化硅、微球状硫酸钡和/或微球状碳酸钙等，所述有机光扩散剂能够为硅氧烷微球聚合物和/或丙烯酸微球聚合物等，其中，各所述无机光扩散剂和有机光扩散剂的粒径均优选为1μm-400μm。
优选地，所述阳离子抗静电剂能够为烷基季铵、磷或鏻盐等，其中，以三羟乙基甲基季胺甲基硫酸酯、二甲基羟乙基硬脂酰胺代丙基季胺磷酸二氢盐和三羟乙基甲基季胺甲基硫酸酯为优选；所述阴离子抗静电剂能够为烷基磺酸的碱金属盐、磷酸的碱金属盐和/或二硫代氨基甲酸的碱金属盐等，其中，以烷基磺酸钠为优选；所述非离子型抗静剂能够为乙氧基化脂肪族烷基胺和/或硬脂酸甘油酯等。
优选地，所述抗氧剂能够为酚系抗氧剂、磷系抗氧剂和硫系抗氧剂中的一种或两种以上的组合；所述光稳定剂为紫外光吸收剂、受阻胺系光稳定剂、光屏蔽剂和猝灭剂中的一种或两种以上的组合；所述分散剂为液态石蜡、高分子蜡、硬脂酸皂和硬脂酸单甘油酯中的一种或两种以上的组合。
进一步地，在本发明中，在上述各组分的质量配比范围内，还能够根据需要添加其他助剂，如所述抗氧剂还能够添加其他辅助抗氧剂，所述光稳定剂还能够添加其他辅助光稳定剂。
进一步地，本发明抗静电材料的制备采用通常的混合熔融即可实现，其中，优选的操作是，将所需基体树脂、光扩散剂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂这些组分在反应器中高速搅拌混合均匀，然后，在不断的搅拌条件下于100℃～300℃下加热至充分熔融混合均匀，再进行成型、冷却和收集。较佳地，制备本发明抗静电材料过程中加热熔融的温度为160℃～290℃，进一步地，随着各组分含量比例的变化，优选180℃、195℃、205℃、225℃、240℃和260℃。
根据本发明抗静电材料的性能表现，本发明抗静电材料能够用作防止静电吸附、增强自洁功能的产品制备，此类产品如灯罩、显示器面板等，这些产品常用的基材为光扩散板，因此，本发明还提供了一种自洁光扩散板，所述自洁光扩散板是由本发明上述抗静电材料制成的。
优选地，为充分保障本发明自洁光扩散板的透光性并节约材料，且抗静电吸附效果关键是表层性能显示，因此，将本发明自洁光扩散板设计为三层式结构，即所述自洁光扩散板包括表层和中间层，所述表层由本发明所述抗静电材料构成；所述中间层由基体树脂、光扩散剂、抗氧剂、光稳定剂、分散剂构成，其中，所述中间层的各组分的质量比m(基体树脂)：m(光扩散剂)：m(抗氧剂)：m(光稳定剂)：m(分散剂)为：100：（0.2～2）：（0.1～0.8）：（0.1～0.8）：（0.1～1）。
优选地，本发明自洁光扩散板的中间层各组分的质量比m(基体树脂)：m(光扩散剂)：m(抗氧剂)：m(光稳定剂)：m(分散剂)为：100：（0.5～1）：（0.5～0.8）：（0.5～0.8）：（0.5～1）。
进一步地，所述自洁光扩散板的表层上具有微结构，所述微结构的形状不受限制，优选为槽型、球型、椭球型、抛物面和双曲面中之一或者两种以上的组合，还能够为六边形等各种多边形或者与上述各形状的组合；其中，所述微结构的设置以均匀分布为佳，以利于增强光散射的均匀性，从而利于提高人眼感觉的舒适度。
进一步地，本发明自洁光扩散板还能够根据需要仅将常与灰尘接触或者易产生静电吸附的一个表层设计为由本发明提供的抗静电材料构成，在灰尘分布及静电吸附发生不规律的应用中，则能够根据需要设计为所有表层均由本发明提供的抗静电材料构成；对于表层上的微结构设置，则主要为了提高本发明自洁光扩散板的光扩散效果，为此，能够根据需要在各表层上进行设置或者仅在需要增强光扩散效果的表层部分设置所述微结构。
进一步地，在所述自洁光扩散板的中间层材料组分中，所述基体树脂为聚苯乙烯树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或者聚碳酸酯；所述光扩散剂为无机光扩散剂和有机光扩散剂中的一种或者两种以上的组合。优选地，所述无机光扩散剂能够为微球状二氧化硅、微球状硫酸钡和/或微球状碳酸钙等，所述有机光扩散剂能够为如聚甲基硅氧烷等硅氧烷微球聚合物和/或丙烯酸微球聚合物等，其中，各所述无机光扩散剂和有机光扩散剂的粒径均优选为1μm-400μm；所述抗氧剂为酚系抗氧剂、磷系抗氧剂和硫系抗氧剂中的一种或两种以上的组合；所述光稳定剂为紫外光吸收剂、受阻胺系光稳定剂、光屏蔽剂和猝灭剂中的一种或两种以上的组合；所述分散剂为液态石蜡、高分子蜡、硬脂酸皂和硬脂酸单甘油酯中的一种或两种以上的组合。
进一步地，本发明自洁光扩散板的厚度不影响本发明自洁光扩散板的抗静电性能和自洁效果，优选为0.1mm～9mm，其中，表层厚度优选为0.1mm～4mm，中间层的厚度优选为1mm～5mm。较佳地，在本发明所述光扩散板总厚度中，所述中间层的厚度所占的比例为65%～90%，所述表层的厚度所占的比例为10%～35%，具体板材厚度需根据实际产品应用要求进行调整。
本发明还进一步地提供了一种制备上述自洁光扩散板的方法，包括如下步骤：
（1）表层材料母粒和中间层材料母粒的制备
1.1按表层材料的重量配比称取基体树脂、光扩散剂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂，混合均匀；
1.2按中间层材料的重量配比称取基体树脂、光扩散剂、抗氧剂、光稳定剂、分散剂，混合均匀；
1.3将步骤1.1和步骤1.2中所得的原料混合物分别投入到双螺杆挤出机的加料斗中，进行熔融挤出造粒；
（2）自洁光扩散板的制备
2.1将所述步骤1.3中制得的表层材料母粒和中间层材料母粒分别加入到单螺杆挤出机的加料斗中，通过共挤复合技术成型，制得初成型光扩散板；再经冷却后，收集即可。
进一步地，在所述步骤（2）中，还包括步骤2.2，将所述步骤（2.1）中制得的初成型光扩散板通过滚轮微压印机进行压印，得到表面带有微结构的自洁光扩散板。
优选地，在所述步骤1.3中，各双螺杆挤出机的机头温度为195℃～285℃，各双螺杆挤出机的螺杆转速为100r/min-400r/min，各双螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为165℃～200℃、二区温度为170℃～220℃、三区温度为175℃～230℃、四区温度为180℃～240℃、五区温度为185℃～245℃、六区温度为190℃～260℃、七区温度为190℃～270℃、八区温度为195℃～270℃、九区温度为195℃～290℃。
优选地，在所述步骤2.1中，各单螺杆挤出机的机头温度为195℃～285℃，各单螺杆挤出机的螺杆转速为10r/min～70r/min，各单螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为165℃～240℃、二区温度为180℃～280℃、三区温度为200℃～290℃。
优选地，在所述步骤2.2中，所述滚轮微压印机包括驱动滚轮和由所述驱动滚轮进行牵引驱动的压印滚轮，所述压印滚轮表面上设有微结构模具，所述压印滚轮的温度为30℃～150℃，所述驱动滚轮的驱动速度为2m/min～10m/min。
优选地，在所述步骤2.1结束后，使所得初成型光扩散板以最快的速度进入步骤2.2的处理程序，因为当所得初成型光扩散板在高温时，易在其表层形成稳固的微结构，即让步骤2.1所得的初成型光扩散板直接进入所述滚轮微压印机中，使压印滚轮表面上的微结构转印至初成型光扩散板上，从而得到表层具有微结构的成型自洁光扩散板。
本发明还提供了一种能够实现上述制备方法的自洁光扩散板的制备系统，包括两台或三台单螺杆挤出机、三层复合机头，其中，所述各单螺杆挤出机分别与所述三层复合机头相连接，所述每个单螺杆挤出机包括相连接的加料斗和料筒以及依次相连接的电机、连接轴、螺杆，所述料筒外设有加热圈。
进一步地，所述自洁光扩散板的制备系统还包括滚轮微压印机，其中，所述三层复合机头与所述滚轮微压印机相连接。
进一步地，所述滚轮微压印机包括驱动滚轮和由所述驱动滚轮进行牵引驱动的压印滚轮，所述压印滚轮表面上设有微结构模具。
进一步地，所述螺杆的外围设置有螺旋槽。
进一步地，所述压印滚轮的数量为两个以上，优选为2～3个；较佳地，所述压印滚轮为两个时，至少一个压印滚轮上设置有微结构模具，余下的压印滚轮作为驱动滚轮；所述压印滚轮为三个时，位于中间的压印滚轮上设置有微结构模具，另外两个压印滚轮上不设置微结构模具作为驱动滚轮。优选地，所述滚轮微压印机设有微压印双滚，即能够通过两个压印滚轮进行压印，从而利于加快制备的速度。
进一步地，本发明制备系统还包括牵引轮，作为牵引光扩散板的收集装置。
本发明所述的自洁光扩散板制备，还能够通过共挤复合技术外的镀膜、共注射、层压、粘合等方法进行相复合制备；其中，所述自洁光扩散板的表层上的微结构设置还能够通过滚轮微压印机压印成型外的挤出微压印、微结构注射、微结构模压等方法制备。
在本发明中，所述抗静电材料及自洁光扩散板的制备中所应用的各组分原料来源较多，所述基体树脂、光扩散剂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂等均能通过市售获得，如市售的基体树脂台湾奇美公司生产的CM211型聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、日本帝人生产的L-1250Y型PC、杭州临安永胜塑化生产的乙氧基化脂肪族烷基胺抗静电剂520、韩国科隆公司生产的光扩散剂聚甲基硅氧烷聚合物KS-200C、巴斯夫生产的酚系抗氧剂1010和磷系抗氧剂168等等。
本发明所述抗静电材料表面电阻率按照GB/T1410-2006标准进行检验；本发明所述的光扩散板检测中，透光率和雾度按照GB/T2410-2008标准进行，表面电阻率按照GB/T1410-2006标准进行，经上述检测，本发明的抗静电材料的电阻率达107以上，具有突出的抗静电性能，由此抗静电材料制得的本发明自洁光扩散板的电阻率保持不变，说明本发明的抗静电材料性能稳定，且用于光扩散板的制备能够完全体现并保持自身的电阻率，从而使所制备的光扩散板表现出抗静电吸附和自洁的功效；再者，本发明自洁光扩散板的性能检测结果表明，透光率达80%以上和雾度达85%以上，使其具有高扩散效果，从而在充分保护光扩散板表面、有效避免静电吸附导致的灰尘划痕及灰尘积聚、实现高度自洁的同时，使经此光扩散板发散的光线柔和不刺眼，增强透光效果的长期稳定性，大幅降低光能损耗，显著增强环保节能效果；本发明自洁光扩散板的制备方法，以双螺杆机和单螺杆机的优化结合，通过对各处理程序精密控制，以共挤出成型与微结构压印高效结合的方法制得产品，整个过程操作简单，经济成本低，适于工业大规模生产应用。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、本发明所提供的抗静电材料未见报导，且其作为光扩散板的用途以及用其制备的光扩散板和制备方法也均未见报导，本发明所述的抗静电材料的高电阻率，能够有效实现使用该材料的产品具有显著的防静电效应及自洁效能，并且，原料易得，制备成本低，适于在各相关需防静电、提高自洁性能的产品领域应用；
2、本发明所提供的自洁光扩散板，能够在实现有效保障光扩散板的高透光性及优良的机械性能等他相关性能的同时，充分保护光扩散板表面，有效避免静电吸附导致的灰尘划痕及灰尘积聚，实现高度自洁效果，同时，使经此光扩散板发散的光线柔和不刺眼，从而增强了透光效果的长期稳定性，大幅降低光能损耗；适于在灯罩、显示器面板等相关材料领域推广应用；
3、本发明提供的自洁光扩散板的制备方法，充分利用单螺杆挤出机，通过对各处理程序精密控制，共挤复合技术成型以及结合微结构压印法得到产品，整个过程操作简单，适于连续生产制造，经济成本低，适于推广应用。
附图说明
图1为本发明自洁光扩散板的立体结构示意图；
图2为本发明一侧表层具有微结构的自洁光扩散板的俯视图；
图3为本发明一侧表层具有微结构的自洁光扩散板的侧视图；
图4为本发明上下两表层均有微结构的自洁光扩散板的侧视图；
图5为本发明一侧表层具有微结构的自洁光扩散板的两滚制备系统结构示意图；
图6为本发明一侧表层具有微结构的自洁光扩散板的三滚制备系统结构示意图；
图7为上下表层均有微结构的自洁光扩散板的两滚制备系统结构示意图。
图中所示：1-电机；2-连接轴；3-加料斗；4-螺杆；5-压印滚轮；6-初成型的扩散板；7-加热圈；8-驱动滚轮；9-牵引轮；10-三层复合机头；11-微结构；A-表层；B-中间层；A-表层。
具体实施方式
下面通过实施例更详细具体地说明本发明抗静电材料、基于本发明抗静电材料的用途提供的一种自洁光扩散板及其制备方法，但本发明不受实施例的任何限制。
以下各实施例中自洁光扩散板均对应两种情况，即表层设有微结构及不设微结构的情况，并相应地分别进行了性能测试，为方便对比查看，均列在同一表格中。
实施例1
本发明抗静电材料，按表1所示各组分及含量配比称取各组分，在反应器中高速搅拌混合均匀，然后，在不断地搅拌条件下于230℃下加热至充分熔融混合均匀，再进行成型、冷却和收集。所得抗静电材料的电阻率按照GB/T1410-2006标准进行检验，具体结果如表1所示。
在上述本发明抗静电材料的制备中，加热熔融的温度能够设置为100℃～300℃，具体以达到熔融混合充分均匀为标准。
如图1至图3所示，一种由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，为由两个表层A和一个中间层B复合构成的三层式复合层结构，在其中一个表层A上均匀分布有多个半球形微结构11；所述表层A由本发明所述抗静电材料构成；所述中间层B由基体树脂、光扩散剂、抗氧剂、光稳定剂、分散剂构成。
本发明所述自洁光扩散板的具体制备方法包括如下步骤：
（1）表层材料母粒和中间层材料母粒的制备
1.1按表1称取表层材料的各组分，混合均匀；
1.2按表1称取中间层材料的各组分，混合均匀；
1.3将步骤1.1和步骤1.2中所得的原料混合物分别投入到双螺杆挤出机的加料斗中，进行熔融挤出造粒；其中，各双螺杆挤出机的机头温度为245℃，各双螺杆挤出机的螺杆转速为320r/min，各双螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为200℃、二区温度为210℃、三区温度为220℃、四区温度为220℃、五区温度为230℃、六区温度为240℃、七区温度为240℃、八区温度为245℃、九区温度为245℃；
（2）自洁光扩散板的制备
2.1将所述步骤1.3中制得的表层材料母粒和中间层材料母粒分别加入到单螺杆挤出机的加料斗中，通过共挤出成型，制得初成型自洁光扩散板，所得初成型自洁光扩散板为三层式结构；其中，各单螺杆挤出机的机头温度为240℃，各单螺杆挤出机的螺杆转速为30r/min，各单螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为230℃、二区温度为240℃、三区温度为245℃；
2.2将所述步骤2.1中制得的初成型光扩散板通过滚轮微压印机进行压印，其中，所述滚轮微压印机包括驱动滚轮和由所述驱动滚轮进行牵引驱动的压印滚轮，所述压印滚轮表面上设有微结构模具，所述压印滚轮的温度为90℃，所述驱动滚轮的驱动速度为6.8m/min；最后制得成型的自洁光扩散板，所得成型的自洁光扩散板产品为如图1至3所示的表面具有微结构的三层式自洁光扩散板，其中，两个A层为表层，B层为中间层，B层一侧的A层上有压印形成的半球形微结构。
在上述本发明自洁光扩散板的制备实施例中：
所述压印滚轮表面上设有的微结构模具为半球形，还能够根据实际需要进行其他形状设置，从而使所述光扩散板的一侧的表层A层具有不同的微结构，所述微结构还能够为槽型、椭球型、抛物面和双曲面中之一或者两种及两种以上的组合，或者为六边形等各种多边形或者与上述各形状的组合；
对上述步骤中所涉及的相关温度和速度设置，根据实际生产需要进行调控，具体的调控范围为：在所述步骤1.3中，各双螺杆挤出机的机头温度为195℃～285℃，各双螺杆挤出机的螺杆转速为100r/min-400r/min，各双螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为165℃～200℃、二区温度为170℃～220℃、三区温度为175℃～230℃、四区温度为180℃～240℃、五区温度为185℃～245℃、六区温度为190℃～260℃、七区温度为190℃～270℃、八区温度为195℃～270℃、九区温度为195℃～290℃；在所述步骤2.1中，各单螺杆挤出机的机头温度为195℃～285℃，各单螺杆挤出机的螺杆转速为10r/min～70r/min，各单螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为165℃～240℃、二区温度为180℃～280℃、三区温度为200℃～290℃；在所述步骤2.2中，所述压印滚轮的温度为30℃～150℃，所述驱动滚轮的驱动速度为2m/min～10m/min。
具体地，本发明上述自洁光扩散板的制备能够通过如下自洁光扩散板制备系统完成，如图5所示，一种自洁光扩散板的制备系统，包括两台单螺杆挤出机、三层复合机头10、滚轮微压印机，其中，所述两个单螺杆挤出机分别与所述三层复合机头10相连接，所述三层复合机头10与所述滚轮微压印机相连接，所述每个单螺杆挤出机包括相连接的加料斗3和料筒以及依次相连接的电机1、连接轴2、螺杆4，所述料筒外设有加热圈7。
如图5所示，在上述制备系统中，所述滚轮微压印机包括驱动滚轮8和由所述驱动滚轮8进行牵引驱动的压印滚轮5，所述压印滚轮5表面上设有微结构模具，所述压印滚轮5表面上的微结构模具为半球形微结构，还能够根据实际需要设置为其他形状；所述螺杆4的外围设置有螺旋槽；所述三层复合机头10，以利于形成三层式光扩散板；本发明制备系统还包括牵引轮，作为牵引光扩散板的收集装置。
如图5所示，具体地，应用上述本发明自洁光扩散板制备系统进行自洁光扩散板的制备流程如下：各单螺杆挤出机由电机1通过连接轴2进行驱动控制螺杆4转动，随着螺杆4的旋转，由加料斗3加入料筒的物料沿螺杆4的螺旋槽方向被持续地向前输送，在此输送过程中，前进的物料不断地被料筒外围的加热圈7加热，同时，螺杆4与物料、料筒与物料间还不断地因摩擦而产生剪切摩擦热，从而使物料在输送过程中逐渐熔融呈粘流态；接着，各单螺杆机的物料汇集到三层复合机头10中进行挤出成型，制得初成型光扩散板6；然后，随着初成型光扩散板6进入滚轮微压印机，当初成型自洁光扩散板6进入驱动滚轮8和压印滚轮5之间的间隙时，调整调距螺母，驱动滚轮8推动压印滚轮5向驱动滚轮8靠近，由此压印滚轮5向初成型自洁光扩散板6施压，从而使压印滚轮5上的微结构模具图案转印至初成型光扩散板6上，经冷却后，成型的光扩散板由牵引轮9进行收卷，所得产品为表面具有半球形微结构的三层式自洁光扩散板。
对于本发明上述自洁光扩散板的制备还能够通过如图6所示的制备系统完成，基本结构设置以及制备流程同对图5所进行的相关上述描述，不同的是：在图6中，单螺杆挤出机的数量为三台，需使扩散板各层所对应使用的材料母粒分别进入各不同单螺杆挤出机中运行；在此制备系统中，滚轮微压印机采用三个滚轮进行压印微结构，三者呈上中下排布设置，位于中间的滚轮为带有微结构模具的压印滚轮5，位于上下两边的滚轮为驱动滚轮8；若当上下两边的滚轮为带有微结构模具的压印滚轮时，位于中间的滚轮为驱动滚轮，压印过程同据图5所述的压印过程。
在此，作进一步的说明，对于本发明由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板也可制备成表层不设微结构11的情形，此种情形的自洁光扩散板的基本结构、制备方法及制备系统同上所述，不同的是：不包括步骤（2.2）对初成型光扩散板的表层压印处理工序，即在步骤（2.1）制得初成型的光扩散板后直接进行冷却收集；所采用的制备系统，不包括滚轮微压印机，使三层复合机头10直接与牵引轮9相连接，即在制得初成型光扩散板6后经冷却直接由牵引轮9进行收卷。
此外，对于本发明由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板也可制备成如图4所示的两侧表层均设微结构11的情形，此种情形的自洁光扩散板的基本结构、制备方法及制备系统同上所述，不同的是：如图7所示，驱动滚轮8表面也设置有微结构起到压印和驱动的双重作用，在步骤（2.2）对初成型光扩散板的表层压印处理工序中，压印滚轮5和驱动滚轮8向初成型自洁光扩散板6的两个表层施压进行微结构压印。
对所制备的上述两种情形下的即表面设微结构和不设微结构的自洁光扩散板分别进行性能检测，具体检测方法如下：
透光率和雾度：按照GB/T2410-2008标准进行，利用CM-3600A型分光测色计，选择的照明光源为脉冲氙灯，选择的照明口径（LAV直径φ）为25.4cm，测试波长范围为360nm～740nm，测量的波长间隔为10nm；
表面电阻率：按照GB/T1410-2006标准进行。
对所制备的自洁光扩散板进行性能检测的结果见表1，其中，一侧表层设置微结构与两侧表层设置微结构的自洁光扩散板的性能表现相同，统一以一组性能测试结果表示。
实施例2
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例1，其中，加热熔融的温度能够设置为100℃，各组分及含量配比、检测结果见表1。
如图1至图7所示，一种由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例1，各组分及含量配比、检测结果见表1，其中：
在所述步骤1.3中，各双螺杆挤出机的机头温度为195℃，各双螺杆挤出机的螺杆转速为100r/min，各双螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为165℃、二区温度为170℃、三区温度为175℃、四区温度为180℃、五区温度为185℃、六区温度为190℃、七区温度为190℃、八区温度为195℃、九区温度为195℃；
在所述步骤2.1中，各单螺杆挤出机的机头温度为195℃，各单螺杆挤出机的螺杆转速为10r/min，各单螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为165℃、二区温度为180℃、三区温度为200℃；
在所述步骤2.2中，所述压印滚轮的温度为30℃，所述驱动滚轮的驱动速度为2m/min。
在此，对于本发明由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板也可同实施例1制备成表层不设微结构11的情形，此种情形的自洁光扩散板的，基本结构的各组分及含量配比、检测结果见表1，其制备方法及制备系统同实施例1所述。
实施例3
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例1，其中，加热熔融的温度能够设置为300℃，各组分及含量配比、检测结果见表1。
如图1至图7所示，一种由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例1，各组分及含量配比、检测结果见表1，其中：
在所述步骤1.3中，各双螺杆挤出机的机头温度为285℃，各双螺杆挤出机的螺杆转速为400r/min，各双螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为200℃、二区温度为220℃、三区温度为230℃、四区温度为240℃、五区温度为245℃、六区温度为260℃、七区温度为270℃、八区温度为270℃、九区温度为290℃；
在所述步骤2.1中，各单螺杆挤出机的机头温度为285℃，各单螺杆挤出机的螺杆转速为70r/min，各单螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为240℃、二区温度为280℃、三区温度为290℃；
在所述步骤2.2中，所述压印滚轮的温度为150℃，所述驱动滚轮的驱动速度为10m/min。
在此，对于本发明由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板也可同实施例1制备成表层不设微结构11的情形，此种情形的自洁光扩散板的，基本结构的各组分及含量配比、检测结果见表1，其制备方法及制备系统同实施例1所述。
实施例4
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例1，其中，加热熔融的温度能够设置为260℃，各组分及含量配比、检测结果见表1。
如图1至图7所示，一种由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例1，各组分及含量配比、检测结果见表1，其中：
在所述步骤1.3中，各双螺杆挤出机的机头温度为265℃，各双螺杆挤出机的螺杆转速为350r/min，各双螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为195℃、二区温度为210℃、三区温度为215℃、四区温度为220℃、五区温度为225℃、六区温度为235℃、七区温度为240℃、八区温度为250℃、九区温度为270℃；
在所述步骤2.1中，各单螺杆挤出机的机头温度为265℃，各单螺杆挤出机的螺杆转速为60r/min，各单螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为225℃、二区温度为245℃、三区温度为275℃；
在所述步骤2.2中，所述压印滚轮的温度为125℃，所述驱动滚轮的驱动速度为8.2m/min。
在此，对于本发明由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板也可同实施例1制备成表层不设微结构11的情形，此种情形的自洁光扩散板的，基本结构的各组分及含量配比、检测结果见表1，其制备方法及制备系统同实施例1所述。
实施例5
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例1，其中，加热熔融的温度能够设置为180℃，各组分及含量配比、检测结果见表1。
如图1至图7所示，一种由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例1，各组分及含量配比、检测结果见表1，其中：
在所述步骤1.3中，各双螺杆挤出机的机头温度为225℃，各双螺杆挤出机的螺杆转速为200r/min，各双螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为195℃、二区温度为190℃℃、三区温度为195℃、四区温度为198℃、五区温度为200℃、六区温度为210℃、七区温度为210℃、八区温度为215℃、九区温度为220℃；
在所述步骤2.1中，各单螺杆挤出机的机头温度为220℃，各单螺杆挤出机的螺杆转速为25r/min，各单螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为190℃、二区温度为210℃、三区温度为225℃；
在所述步骤2.2中，所述压印滚轮的温度为70℃，所述驱动滚轮的驱动速度为5m/min。
在此，对于本发明由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板也可同实施例1制备成表层不设微结构11的情形，此种情形的自洁光扩散板的，基本结构的各组分及含量配比、检测结果见表1，其制备方法及制备系统同实施例1所述。
实施例6
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例1，其中，各组分及含量配比、检测结果见表2。
由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例1，各组分及含量配比、检测结果见表2。
实施例7
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例2，其中，各组分及含量配比、检测结果见表2。
由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例2，各组分及含量配比、检测结果见表2。
实施例8
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例3，其中，各组分及含量配比、检测结果见表2。
由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例3，各组分及含量配比、检测结果见表2。
实施例9
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例4，其中，各组分及含量配比、检测结果见表2。
由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例4，各组分及含量配比、检测结果见表2。
实施例10
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例5，其中，各组分及含量配比、检测结果见表2。
由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例5，各组分及含量配比、检测结果见表2。
实施例11
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例1，其中，各组分及含量配比、检测结果见表3。
由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例1，各组分及含量配比、检测结果见表3。
实施例12
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例2，其中，各组分及含量配比、检测结果见表3。
由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例2，各组分及含量配比、检测结果见表3。
实施例13
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例3，其中，各组分及含量配比、检测结果见表3。
由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例3，各组分及含量配比、检测结果见表3。
实施例14
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例4，其中，各组分及含量配比、检测结果见表3。
由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例4，各组分及含量配比、检测结果见表3。
实施例15
一种抗静电材料，制备及检测方法同实施例5，其中，各组分及含量配比、检测结果见表3。
由上述抗静电材料制成的自洁光扩散板，其结构组成及其制备方法、以及采用的制备系统同实施例5，各组分及含量配比、检测结果见表3。
如表1、表2及表3所示，由上述各实施例的检测结果可知，本发明的抗静电材料的电阻率与本发明自洁光扩散板的表面电阻率相同，其中，表面电阻率高达1011，抗静电性能显著，这是现有的抗静电材料远远无法达到的，现有的光扩散板中也没有能够达到此种效果的任何产品出现，本发明所取得的显著效果能够使所应用的光扩散板等产品表现出明显高效的抗静电吸附和自洁的功效；再者，本发明自洁光扩散板的性能检测结果中，透光率和雾度同时高达88%以上，从而在充分保护光扩散板表面、有效避免静电吸附导致的灰尘划痕及灰尘积聚、实现高度自洁的同时，使经此光扩散板发散的光线柔和不刺眼，增强透光效果的长期稳定性，大幅降低光能损耗，显著增强环保节能效果；本发明自洁光扩散板的制备方法，以双螺杆机和单螺杆机的优化结合，通过对各处理程序精密控制，以共挤出成型与微结构压印高效结合的方法制得产品，整个过程操作简单，经济成本低，适于工业大规模生产应用。
本发明不限于上述实施方式，本领域技术人员所做出的对上述实施方式任何显而易见的改进或变更，都不会超出本发明的构思和所附权利要求的保护范围。
表1
表2
表3

Claims (8)

1.一种自洁光扩散板，其特征在于：包括表层和中间层，所述表层由抗静电材料构成；
所述抗静电材料由基体树脂、光扩散剂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂组成，各组分的质量比m(基体树脂)：m(光扩散剂)：m(抗静电剂)：m(抗氧剂)：m(光稳定剂)：m(分散剂)为100：(0.2～2)：(0.2～10)：(0.1～0.8)：(0.1～0.8)：(0.1～1)；其电阻率为107～1011；
所述中间层由基体树脂、光扩散剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂组成，其中，所述中间层各组分的质量比m(基体树脂)：m(光扩散剂)：m(抗氧剂)：m(光稳定剂)：m(分散剂)为100：(0.2～2)：(0.1～0.8)：(0.1～0.8)：(0.1～1)。
2.如权利要求1所述的自洁光扩散板，其特征在于：在所述抗静电材料中，所述基体树脂为聚苯乙烯树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或者聚碳酸酯；
所述光扩散剂为无机光扩散剂和有机光扩散剂中的一种或者两种以上的组合；
所述抗静电剂为阳离子抗静电剂、阴离子抗静电剂或者非离子型抗静电剂。
3.如权利要求2所述的自洁光扩散板，其特征在于：在所述抗静电材料中，所述无机光扩散剂为微球状二氧化硅、微球状硫酸钡和/或微球状碳酸钙；
所述有机光扩散剂为硅氧烷微球聚合物和/或丙烯酸微球聚合物；
所述阳离子抗静电剂为烷基季铵、磷或鏻盐；
所述阴离子抗静电剂为烷基磺酸的碱金属盐、磷酸的碱金属盐和/或二硫代氨基甲酸的碱金属盐；
所述非离子型抗静电剂为乙氧基化脂肪族烷基胺和/或硬脂酸甘油酯；
所述抗氧剂为酚系抗氧剂、磷系抗氧剂和硫系抗氧剂中的一种或两种以上的组合；
所述光稳定剂为紫外光吸收剂、受阻胺系光稳定剂、光屏蔽剂和猝灭剂中的一种或两种以上的组合；
所述分散剂为液态石蜡、高分子蜡、硬脂酸皂和硬脂酸单甘油酯中的一种或两种以上的组合。
4.如权利要求1所述的自洁光扩散板，其特征在于：在所述中间层中，所述基体树脂为聚苯乙烯树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或者聚碳酸酯；所述光扩散剂为无机光扩散剂和有机光扩散剂中的一种或者两种以上的组合。
5.如权利要求4所述的自洁光扩散板，其特征在于：在所述中间层中，所述无机光扩散剂为微球状二氧化硅、微球状硫酸钡和/或微球状碳酸钙；
所述有机光扩散剂为硅氧烷微球聚合物和/或丙烯酸微球聚合物；
所述抗氧剂为酚系抗氧剂、磷系抗氧剂和硫系抗氧剂中的一种或两种以上的组合；
所述光稳定剂为紫外光吸收剂、受阻胺系光稳定剂、光屏蔽剂和猝灭剂中的一种或两种以上的组合；
所述分散剂为液态石蜡、高分子蜡、硬脂酸皂和硬脂酸单甘油酯中的一种或两种以上的组合。
6.一种如权利要求1所述的自洁光扩散板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)表层材料母粒和中间层材料母粒的制备
1.1按构成表层的抗静电材料的重量配比称取基体树脂、光扩散剂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂，混合均匀；
1.2按中间层材料的重量配比称取基体树脂、光扩散剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂，混合均匀；
1.3将步骤1.1和步骤1.2中所得的原料混合物分别投入到双螺杆挤出机的加料斗中，进行熔融挤出造粒；
(2)自洁光扩散板的制备
2.1将所述步骤1.3中制得的表层材料母粒和中间层材料母粒分别加入到单螺杆挤出机的加料斗中，通过共挤出成型，制得初成型光扩散板。
7.如权利要求6所述的自洁光扩散板的制备方法，其特征在于，在所述步骤(2)中，还包括步骤2.2，将所述步骤2.1中制得的初成型光扩散板通过滚轮微压印机进行压印，得到表面带有微结构的光扩散板。
8.如权利要求7所述的自洁光扩散板的制备方法，其特征在于：
在所述步骤1.3中，各双螺杆挤出机的机头温度为195℃～285℃，各双螺杆挤出机的螺杆转速为100r/min-400r/min，各双螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为165℃～200℃、二区温度为170℃～220℃、三区温度为175℃～230℃、四区温度为180℃～240℃、五区温度为185℃～245℃、六区温度为190℃～260℃、七区温度为190℃～270℃、八区温度为195℃～270℃、九区温度为195℃～290℃；
在所述步骤2.1中，各单螺杆挤出机的机头温度为195℃～285℃，各单螺杆挤出机的螺杆转速为10r/min～70r/min，各单螺杆挤出机的各区温度设置分别为：一区温度为165℃～240℃、二区温度为180℃～280℃、三区温度为200℃～290℃；
在所述步骤2.2中，所述滚轮微压印机包括驱动滚轮和由所述驱动滚轮进行牵引驱动的压印滚轮，所述压印滚轮表面上设有微结构模具，所述压印滚轮的温度为30℃～150℃，所述驱动滚轮的驱动速度为2m/min～10m/min。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103694662B (zh) * 2013-12-18 2015-07-15 上海日之升新技术发展有限公司 一种高cti无卤阻燃光扩散改性pc及其制备方法
CN103709571B (zh) * 2013-12-20 2016-07-06 上海日之升新技术发展有限公司 一种光扩散改性pmma材料及其制备方法
CN103910945B (zh) * 2014-03-28 2016-08-31 东莞市鑫聚光电科技有限公司 使用于直下式显示屏背光源及led平板灯的扩散板生产工艺
CN104371208B (zh) * 2014-12-05 2017-04-19 成都领航科技股份有限公司 高透高遮蔽性扩散板母料和制备方法及扩散板的制备方法
CN105001609A (zh) * 2015-06-24 2015-10-28 东莞轩朗实业有限公司 一种光扩散板母粒、光扩散板及其制造方法
CN106633450A (zh) * 2015-08-15 2017-05-10 王福民 Ps扩散板及其制备方法
CN105175916B (zh) * 2015-08-27 2018-01-05 常州市联丰光电科技有限公司 复合共挤ps扩散板的生产工艺
CN106597585A (zh) * 2017-01-18 2017-04-26 肇庆市欧迪明科技有限公司 一种防眩光的扩散板及其制造方法
CN106893295A (zh) * 2017-02-22 2017-06-27 苏州康邦新材料有限公司 一种led灯具用光扩散pc灯管及其制造方法
CN106893213A (zh) * 2017-03-31 2017-06-27 东莞市鑫聚光电科技股份有限公司 一种高韧性ps扩散板及其制备方法
CN107200949A (zh) * 2017-06-23 2017-09-26 东莞市鑫聚光电科技股份有限公司 一种低成本塑胶灯管
CN107418076A (zh) * 2017-06-28 2017-12-01 常州大智光电有限公司 轻质扩散板及其制备工艺
CN107434892A (zh) * 2017-06-28 2017-12-05 常州大智光电有限公司 扩散板及其制备方法
CN107353524A (zh) * 2017-06-28 2017-11-17 常州大智光电有限公司 耐用型光扩散板及其制备方法
CN107353564A (zh) * 2017-06-28 2017-11-17 常州大智光电有限公司 Ps防眩光扩散板及其制备工艺
CN109206813A (zh) * 2017-07-03 2019-01-15 镇江市睿泽文化传播有限公司 一种高硬度广告用平板
CN107474462A (zh) * 2017-09-08 2017-12-15 太仓市华鼎塑料有限公司 一种汽车用光扩散pmma复合材料及其制备方法
CN107629432B (zh) * 2017-09-22 2019-04-30 广东国立科技股份有限公司 一种自洁免喷涂注塑材料及其制备方法
CN108044904A (zh) * 2017-10-25 2018-05-18 苏州三鑫时代新材料股份有限公司 一种三合一光扩散板的制备方法
CN108819158A (zh) * 2018-05-17 2018-11-16 浙江彩丞照明科技有限公司 一种防眩光扩散板一体成型生产工艺
CN109534445A (zh) * 2018-12-13 2019-03-29 吉林省电力科学研究院有限公司 凝结水精处理分离塔用抗静电树脂分离锥斗
CN111037956A (zh) * 2019-12-03 2020-04-21 维吉尔泰光电科技(苏州)有限公司 一种用于改善扩散板表面特性的方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103013087A (zh) * 2012-12-28 2013-04-03 大河宝利材料科技(苏州)有限公司 一种led专用阻燃光扩散级聚碳酸酯组合物及其制备方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11160800A (ja) * 1997-11-27 1999-06-18 Teijin Chem Ltd プロジェクションテレビジョンのフレネルレンズ用基材
JP2009006623A (ja) * 2007-06-29 2009-01-15 Sumitomo Dow Ltd 帯電防止性および耐光性に優れた光拡散性ポリカーボネート樹脂板

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103013087A (zh) * 2012-12-28 2013-04-03 大河宝利材料科技(苏州)有限公司 一种led专用阻燃光扩散级聚碳酸酯组合物及其制备方法

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