CN103235354B - 一种光反射板及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种光反射板及其制备方法，光反射板的内层由B材料层构成，外层由A材料层单独构成或者由A材料层与C材料层共同构成；其中，A材料层的原料组分包括基体树脂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂；B材料层的原料组分包括基体树脂、钛白粉、抗氧剂、光稳定剂、荧光增白剂和分散剂；C材料层的原料组分包括基体树脂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂；采取单螺杆机共挤出法制备。本发明的光反射板具有高反射率、高漫反射率、强抗静电性，能有效提升灯具的照明舒适度，而且，制备方法高度优化整合，操作简单，可控性强，经济成本低，适于在LED灯具及其他相关照明领域推广应用。

Description

一种光反射板及其制备方法

技术领域

本发明涉及一种高分子材料的制备及其应用技术领域，尤其涉及一种光反射板及其制备方法。

背景技术

传统市场上所售灯具普遍应用铝、铜、镍、铬等金属以及塑料表面镀金属类材料作为反射材料，这些反射材料主要是利用其表层带有的金属（如薄铝、不锈钢）、或者所涂的具有反射能力的化学物质（如氧化铝）作为光源反射器，但是，随着节能环保要求的提高，采用节能效果更好的LED作为点光源的灯具日趋普遍，上述反射材料在应用中极易形成镜面反射现象，并发生眩光、光照不均匀等大幅度降低灯光环境舒适性的问题。再者，金属或涂上化学物质的反射器还普遍存在易受温度变化、空气氧化、酸碱腐蚀等影响而发生变质或脱落的缺陷，从而使其反射功能降低，进而也导致相关灯具的照明强度显著减弱。

现有技术中，发明专利ZL201010151111.4提供了一种反光材料、反光膜及其生产制备方法，所述反光材料包括30～50wt％的硫酸钡粉末、5～8wt％的钛白粉、5～10wt％珍珠粉、10～20wt％的成膜助剂、其余为有机溶剂，制备方法主要是先将反光材料涂覆在基体上，然后再在反光材料上涂覆紫外吸收剂，该发明虽然在一定程度上提高了反光材料的反射率及稳定性，但其制备过程包括复杂的多层涂覆工艺，不适合连续生产及推广应用。

发明专利ZL201210050013.0公开了一种高分子基复合结构漫反射材料，所述的漫反射材料包括具有微结构表层材料、单层或多层中间材料、反射层材料。该表面微结构是指具有线性或非线性几何特征微透镜阵列，如微槽型、球型、椭球型、多边形、抛物面、双曲面或者其组合；该专利所制备的复合结构漫反射高分子材料具有较高的反射率及较好的漫反射效果，但其材料的聚合物表面存在静电效应，长时间使用后，在材料表面极易吸附堆积灰尘，从而显著降低漫反射的效果，并严重影响灯具的照明强度。

此外，美国专利US4104102公开了采用聚集层复合工艺的反光膜生产，但其工艺条件繁琐复杂，成品率低，且不适合在大规模工业生产中应用。

因此，为适应灯具市场对反射材料性能日益增强的要求、以及满足人们对灯具照明效果日益提高的要求，亟需研究开发出具有良好的漫反射效果、性能稳定、经济成本低且易制备的反射材料。

发明内容

本发明的目的是，针对现有技术存在的问题，提供一种光反射板及其制备方法，降低经济成本，提高反射率，增强漫反射效果，提高灯具尤其是LED灯具的照明舒适度，并增强其本身的抗静电性能，提高自洁功能，为相关灯具保持长期的照明强度及舒适度提供保障，而且，也为工业化生产及在相关领域的推广应用提供保证。

本发明解决问题的技术方案是：一种光反射板，由内层和外层复合构成，所述内层由B材料层构成，所述外层由A材料层单独构成或者由A材料层与C材料层共同构成；其中，所述A材料层的原料组分包括基体树脂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂；所述B材料层的原料组分包括基体树脂、钛白粉、抗氧剂、光稳定剂、荧光增白剂和分散剂；所述C材料层的原料组分包括基体树脂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂。

进一步地，所述A材料层的原料组分按重量份如下：基体树脂85～98份，抗静电剂0.4～1.2份，抗氧剂0.1～0.5份，光稳定剂0.5～3份，分散剂0.5～5份；所述B材料层的原料组分按重量份如下：基体树脂85～98份，钛白粉2～15份，抗氧剂0.1～0.5份，光稳定剂0.5～3份，荧光增白剂0.01～0.15份，分散剂0.5～5份；所述C材料层的原料组分按重量份如下：基体树脂85～98份，抗氧剂0.1～0.5份，光稳定剂0.5～3份，分散剂0.5～5份。

进一步地，本发明所述光反射板为由A材料层和B材料层组成的三层复合光反射板；所述三层复合光反射板的内层的数量为一个，由B材料层构成；所述三层复合光反射板的外层的数量为两个，均由A材料层构成，即所述三层复合光反射板为ABA型。

进一步地，本发明所述光反射板为由A材料层、B材料层和C材料层组成的三层复合光反射板；所述三层复合光反射板的内层的数量为一个，由B材料层构成；所述三层复合光反射板的外层的数量为两个，分别由A材料层和C材料层各构成其中一个，即所述三层复合光反射板为ABC型。

优选地，在本发明所述光反射板总厚度中，所述内层的厚度所占的比例为65%～90%，所述外层中A材料层的厚度所占的比例为10%～35%，即在上述优选方案中，B材料层作为内层，其厚度范围为光反射板整体厚度的65%-90%。

优选地，在本发明所述光反射板的外表面上设有微结构，所述微结构的特征尺寸为0.1微米～1000微米；较佳地，在构成外层的A材料层表面设置微结构；具体地，对于表层上的微结构设置，则主要为了提高本发明光反射板的漫反射效果，为此，能够根据需要在各表层上进行设置或者仅在需要增强光漫反射效果的表层部分设置所述微结构；而所述微结构的形状没有特别限制，优选为槽型、球型、椭球型、抛物面和双曲面中之一或者两种及两种以上的组合，还能够为六边形等各种多边形或者与上述各形状的组合。

进一步地，在本发明所述光反射板的各材料层中，以下各组分仅是优选的举例，但不限于此，其中，所述基体树脂优选为聚丙烯（简称PP）、聚对苯二甲酸乙二醇酯（简称PET）、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物（简称ABS）、耐冲击聚苯乙烯（简称HIPS）、聚甲基丙烯酸甲酯（简称PMMA）和聚碳酸酯（简称PC）中的一种或两种以上的组合；所述抗氧剂优选为受阻酚类和芳香胺类抗氧剂中的一种或两种以上的组合；所述光稳定剂优选为受阻胺类自由基捕获剂光稳定剂，光屏蔽剂，以及邻羟基二苯甲酮类、苯并三唑类、水杨酸酯类、三嗪类、取代丙烯腈类紫外光吸收剂中的一种或两种以上的组合；所述荧光增白剂优选为恶唑类荧光增白剂和香豆素类荧光增白剂中的一种或两种以上的组合；所述分散剂优选为液体石蜡、高分子蜡、低分子蜡和硬脂酸皂中的一种或两种以上的组合；

进一步地，在本发明所述光反射板的B材料层中，所述钛白粉优选为纳米级或者微米级，其粒径范围为0.01-1000微米。

进一步地，在本发明所述光反射板的A材料层中，所述抗静电剂能够为阳离子抗静电剂、阴离子类抗静电剂或者非离子类抗静剂，其中，所述阳离子抗静电剂优选为烷基季铵、磷或鏻盐，所述阴离子类抗静电剂优选为烷基磺酸的碱金属盐、磷酸的碱金属盐或二硫代氨基甲酸的碱金属盐，所述非离子类抗静电剂优选为硅酮类抗静电剂、乙氧基化脂肪族烷基胺或者硬脂酸甘油酯。

进一步地，在上述A材料层、B材料层及C材料层的各组分的质量配比范围内，根据实际生产需要，还能够添加其他辅助抗氧剂、辅助光稳定剂等助剂。

本发明还进一步地提供了一种制备上述光反射板的方法，包括如下步骤：

（1）各材料层母粒的制备

1.1按A材料层的重量配比称取基体树脂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒，得A材料层母粒；

1.2按B材料层的重量配比称取基体树脂、钛白粉、抗氧剂、光稳定剂、荧光增白剂和分散剂，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒，得B材料层母粒；

1.3按C材料层的重量配比称取基体树脂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒,得C材料层母粒；

（2）光反射板的制备

2.1将所述步骤（1）中制得的A材料层母粒和B材料层母粒分别加入到单螺杆挤出机中，通过共挤出成型，制得初成型光反射板；或者，将所述步骤（1）中制得的A材料层母粒、B材料层母粒和C材料层母粒分别加入到单螺杆挤出机中，通过共挤出成型，制得成型光反射板。

进一步地，为在光反射板表面设置利于增强漫反射效果的微结构，在所述步骤（2）中，完成步骤（2.1）后，还需进行步骤（2.2），因此，在所述步骤（2）中，还包括如下步骤2.2，将所述步骤（2.1）中制得的初成型光反射板通过微结构辊压印机进行压印，得表面带有微结构的光反射板。

优选地，在所述步骤（2.2）中，所述微结构辊压印的辊压温度为30℃～150℃，驱动辊的驱动辊压速度为2m/min～10m/min。

较佳地，在所述步骤（1）中，所述各双螺杆挤出机的加工温度控制在165℃～285℃，所述各双螺杆挤出机的螺杆转速为100r/min～400r/min；在所述步骤（2.1）中，所述各单螺杆挤出机的加工各段温度均设置为：加料段温度为165℃～240℃，熔融段温度为180℃～280℃，计量段温度为195℃～285℃，机头温度为200℃～290℃；在所述步骤（2.1）中，所述各单螺杆挤出机的螺杆转速为10r/min～70r/min。

进一步地，在所述步骤（1）中，各材料层的组分在混合时，为达到充分均匀，优选地，在搅拌机中高速搅拌混合，为接着进行的混炼熔融造粒做好准备，也保障所得材料均一。

进一步地，在所述步骤（1）中，所述各双螺杆挤出机的加工温度设置优选为：一区温度为185℃～225℃、二区温度为190℃～230℃、三区温度为195℃～235℃、四区温度为195℃～245℃、五区温度为195℃～260℃，所述各双螺杆挤出机的螺杆转速为250r/min～350r/min。

进一步地，在所述步骤（2.1）中，所述各单螺杆挤出机的加工各段温度优选设置为：加料段温度为185℃～220℃、熔融段温度为190℃～250℃、计量段温度为195℃～265℃、机头温度为200℃～275℃。

优选地，在所述步骤2.1结束后，为在光反射板表面设置利于增强漫反射效果的微结构，需进行步骤（2.2），使所得初成型光反射板以最快的速度进入步骤2.2的处理程序，因为当所得初成型光反射板在高温时，易在其表层形成稳固的微结构，即让步骤2.1所得的初成型光反射板直接进入所述微结构辊压印机中，使微结构辊压印机的压辊表面上的微结构转印至初成型光反射板上，从而得到表层具有微结构的成型光反射板。

优选地，在所述步骤（2）中，所述单螺杆挤出机的数量优选为两台或者三台，其中，使用两台时，使相同材料层的母粒进入同一台单螺杆挤出机中运行；当使用三台时，使反射板各层所对应使用的材料层母粒分别进入各不同单螺杆挤出机中运行。

优选地，在所述步骤（2）中，所述微结构辊压印机能够采用两个或三个压辊进行压印微结构，其中，采用两个压辊压印时，一个压辊为表面上带有微结构模具的压辊，另一个压辊为驱动辊，两者上下相对设置；当采用三个压辊压印时，三者呈上中下排布设置，带有微结构模具的压辊为位于中间的压辊时，位于上下两边的压辊为驱动辊，当上下两边的压辊为带有微结构模具的压辊时，位于中间的压辊为驱动辊。

在本发明光反射板中，所述A材料层因其组分中含有抗静电剂，在配比范围内各组分的相互作用下，实现了在保障光反射效果的同时，还表现出了良好抗静电效果；因此在制备本发明光反射板时，将A材料层置于表面，能够产生光反射和抗静电兼具增强的效果，从而利于增强光反射板的自洁性能，利于保持光反射板表面清洁，避免吸附积聚大量灰尘而影响长期使用效果，进而也为本发明光反射板的各项功能效果的长期稳定发挥提供了保障。

对于本发明光反射板，能够用来制备LED灯具及其他照明用具的反射罩、反射墙等用于改善光反射的产品。

本发明所述的光反射板制备，还能够通过共挤出法外的镀膜、共注塑、注塑吹膜、层压、粘合等方法进行相复合制备；其中，所述光反射板的表面微结构设置除了通过上述微结构辊压印机微压印外，还能够通过微结构注塑、微结构模压等方法实现。

在本发明光反射板中所应用的各组分如基体树脂、抗静电剂、钛白粉、抗氧剂、光稳定剂、荧光增白剂和分散剂等均能通过商业途径获得，如基体树脂能够选用市售的台湾奇美公司生产的高抗冲聚苯乙烯HIPS PH-88、韩国晓星公司生产的聚丙烯树脂PP R301、巴斯夫公司的酚系抗氧剂1076、爱塑源塑胶原料公司的荧光增白剂OB-1等。

本发明所述光反射板的反射率测试按照国家标准GB9270-88进行测试，表面电阻率按照GB/T1410-2006标准进行检验。检测结果表明，本发明反射板的反射率达到90%以上、漫反射率达到87%以上、表面电阻率达到10⁸Ω以上，充分表明本发明反射板以低经济成本投入实现了提高反射率、增强漫反射的效果，能够有效提高灯具尤其是LED灯具的照明舒适度，而且，高表面电阻率表面本发明光反射板自身的强抗静电性，自洁功能被充分提高，为相关灯具保持长期的照明强度及舒适度提供稳定性的保障。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

1、本发明所提供的光反射板，表现出高反射率、高漫反射率、强抗静电自洁性能，使光反射板表面避免了静电吸附导致的灰尘划痕及灰尘积聚而得到有效保护，从而增强了透光效果的长期稳定性，进而利于有效提升使用本发明光反射板的相关灯具的照明舒适度效果，适于在LED灯具及其他相关照明领域推广应用；

2、本发明提供的光反射板的制备方法，工艺高度优化整合，操作简单，可控性强，适于连续生产制造，而且经济成本低，适于推广应用。

附图说明

图1为实施例1中本发明光反射板的立体结构示意图；

图2为实施例1中本发明光反射板的俯视图；

图3为实施例1中本发明光反射板的侧视图；

图4为实施例1中本发明光反射板的微结构表层的显微镜测试下的放大结构示意图；

图5为实施例1中本发明光反射板的制备系统结构示意图（一）；

图6为实施例1中本发明光反射板的制备系统结构示意图（二）；

图7为实施例1中本发明光反射板的制备系统结构示意图（三）；

图8为实施例1中本发明光反射板的制备系统结构示意图（四）；

图9为实施例2中本发明光反射板的侧视图；

图10为实施例2中本发明光反射板的俯视图。

图中所示：1-电机；2-连接轴；3-料斗；4-螺杆；5-压辊；6-初成型光反射板；7-加热圈；8-驱动辊；9-牵引轮；10-三层复合机；11-第一层；12-第二层；13-第三层。

具体实施方式

下面结合附图以及具体实施例对本发明作进一步的说明，但本发明的保护范围并不限于此。

下述实施例中所使用的实验方法如无特殊说明，均为常规方法。

下述实施例中所用的材料、试剂等，如无特殊说明，均可从商业途径得到。

实施例1

如图1至图4所示，本发明一种光反射板，由第一层11、第二层12和第三层13自外而内依次复合构成，其中，第一层11和第三层13作为外层均由A材料层构成，第二层12作为内层由B材料层构成，在第一层11的表面分布设置有若干个半球形微结构。

上述实施例中，所述A材料层、B材料层由表1所示各原料组分构成；

所示半球形微结构的直径是15μm，相邻两半球的中心距是300μm，也能够根据实际需求进行设计，较佳的增强反射效果的特征尺寸范围为0.1微米～1000微米；

在所述光反射板的总厚度中，内层即第二层12的厚度所占的比例为80%，外层即第一层11和第三层13的厚度所占的比例为20%，其中第一层11的厚度所占的比例为12%；也能够根据实际的抗静电和反射效果需求进行设计，较佳的抗静电和反射效果均表现良好的厚度比例范围是：内层即第二层12的厚度所占的比例为65%～90%，外层中A材料层的厚度所占的比例为10%～35%。

如图5所示，本发明上述光反射板的具体制备方法包括如下步骤：

（1）各材料层母粒的制备

1.1按表1所示称取A材料层的各组分，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒，得A材料层母粒；

1.2按表1所示称取B材料层的各组分，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒，得B材料层母粒；

（2）光反射板的制备

2.1将所述步骤（1）中制得的A材料层母粒、B材料层母粒分别加入到单螺杆挤出机中，通过共挤出成型，制得初成型光反射板；

2.2将所述步骤2.1中制得的初成型光反射板通过微结构辊压印机进行压印，得成型的光反射板。

在上述本发明光反射板的制备中：

在所述步骤（1）中，所述各双螺杆挤出机的加工各区温度设置为：一区温度为185℃、二区温度为190℃、三区温度为195℃、四区温度为195℃、五区温度为195℃，所述各双螺杆挤出机的螺杆转速为300r/min；

在所述步骤（2.1）中，所述各单螺杆挤出机的加工各段温度优选设置为：加料段温度为185℃、熔融段温度为190℃、计量段温度为195℃、机头温度为200℃，所述各单螺杆挤出机的螺杆4的转速为40r/min；

在所述步骤（2.2）中，所述微结构辊压印机包括压辊5和压辊的驱动辊8，所述压辊5表面上设有多个半球形微结构，所述压辊5的辊压温度为90℃，驱动辊8的驱动辊压速度为6m/min，压辊的转速为150r/min；

在所述步骤2.1结束后，为在光反射板表面设置利于增强漫反射效果均匀分布的微结构，需使所得初成型光反射板以最快的速度进入步骤2.2的处理程序，因为当所得初成型光反射板在高温时，易在其表层形成稳固的微结构，即让步骤2.1所得的初成型光反射板直接进入所述微结构辊压印机中，使微结构辊压印机的压辊表面上的微结构转印至初成型光反射板上，从而得到表层具有均匀分布的微结构的成型光反射板；

此外，所述微结构辊压印机的压辊表面上设置的微结构模还能够根据实际需要进行其他形状设置，从而使所述光反射板的表层具有不同的微结构，所述微结构的形状无特别要求，能够为槽型、椭球型、抛物面和双曲面中之一或者两种及两种以上的组合，或者为六边形等各种多边形或者与上述各形状的组合等各种所需的形状。

具体地，本发明上述步骤（2）中光反射板的制备系统如图5所示，包括两个单螺杆挤出机、三层复合机10、微结构辊压印机，其中，所述两个单螺杆挤出机分别与所述三层复合机10相连接，所述三层复合机10与所述微结构辊压印机相连接，所述每个单螺杆挤出机包括相连接的料斗3和料筒以及依次相连接的电机1、连接轴2、螺杆4，所述料筒外设有加热圈7。如图5所示，在上述制备系统中，所述微结构辊压印机包括驱动辊8和由所述驱动辊8进行牵引驱动的压辊5，所述压辊5表面上设有微结构模具，所述压辊5表面上的微结构模具为球形，还能够根据实际需要设置为其他形状；所述螺杆4的外围设置有螺旋槽；所述三层复合机10利于形成三层式光反射板；本发明制备系统还包括牵引轮9，作为牵引光反射板的收集装置。

如图5所示，具体地，应用上述本发明光反射板制备系统进行光反射板的制备流程如下：各单螺杆挤出机由电机1通过连接轴2进行驱动控制螺杆4转动，随着螺杆4的旋转，由料斗3加入料筒的物料沿螺杆4的螺旋槽方向被持续地向前输送，在此输送过程中，前进的物料不断地被料筒外围的加热圈7加热，同时，螺杆4与物料、料筒与物料间还不断地因摩擦而产生剪切摩擦热，从而使物料在输送过程中逐渐熔融呈粘流态；接着，各单螺杆机的物料汇集到三层复合机10中进行挤出成型，制得初成型光反射板6；然后，随着初成型光反射板6进入微结构辊压印机，当初成型光反射板6进入驱动辊8和压辊5之间的间隙时，调整调距螺母，驱动辊8推动压辊5向驱动辊8靠近，由此压辊5向初成型光反射板6施压，从而使压辊5上的微结构模具图案转印至初成型光反射板6上，经冷却后，成型的光反射板由牵引轮9进行收卷，所得产品为表面具有半球形微结构的三层式光反射板。

对于本发明上述步骤（2）中光反射板的制备还能够通过如图6、图7或图8所示的制备系统完成，基本结构设置以及制备流程同如图5所进行的描述，不同的是：对于单螺杆挤出机的数量为三台时，需使反射板各层所对应使用的材料层母粒即第一层11的材料层母粒、第二层12的材料层母粒和第三层13的材料层母粒分别进入各不同单螺杆挤出机中运行，具体三层复合结构的反射板制备过程同据图5所述的三层复合结构的反射板初成型过程；对于所述微结构辊压印机采用三个压辊进行压印微结构时，三者呈上中下排布设置，带有微结构模具的压辊5为位于中间的压辊时，位于上下两边的压辊为驱动辊8，而当上下两边的压辊为带有微结构模具的压辊时，位于中间的压辊为驱动辊，压印过程同据图5所述的压印过程。

对本发明光反射板进行性能检测，具体检测方法如下：

反射率：光反射性能测试是利用分光测色计CM-3600A，选择照明光源：脉冲氙灯；选择照明口径LAV：直径φ25.4cm；在波长范围为360～740nm之间，测试试样的反射率、漫反射率，测量波长间隔10nm；

表面电阻率：按照GB/T1410-2006标准进行；

对所制备的光反射板进行性能检测的结果见表1。

实施例2

如图9和图10所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例1，其原料组分及性能检测结果见表1，不同的还有：在第一层11和第三层13的表面均分布设置有若干个半球形微结构。

上述实施例中，所示半球形微结构的直径是0.1μm，相邻两半球的中心距是5μm；在所述光反射板的总厚度中，内层即第二层12的厚度所占的比例为65%，外层即第一层11和第三层13的厚度所占的比例为35%，其中第一层11的厚度所占的比例为20%。

如图5至图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例1，其中：

在所述步骤（1）中，所述各双螺杆挤出机的加工各区温度设置为：一区温度为165℃、二区温度为180℃、三区温度为190℃、四区温度为195℃、五区温度为200℃，所述各双螺杆挤出机的螺杆转速为100r/min；

在所述步骤（2.1）中，所述各单螺杆挤出机的加工各段温度优选设置为：加料段温度为165℃、熔融段温度为180℃、计量段温度为195℃、机头温度为200℃，所述各单螺杆挤出机的螺杆4的转速为40r/min；

在所述步骤（2.2）中，所述压辊5的辊压温度为30℃，驱动辊8的驱动辊压速度为2m/min，压辊的转速为100r/min。

实施例3

如图1至图4所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例1，其原料组分及性能检测结果见表1。

上述实施例中，所示半球形微结构的直径是1000μm，相邻两半球的中心距是2500μm；在所述光反射板的总厚度中，内层即第二层12的厚度所占的比例为90%，外层即第一层11和第三层13的厚度所占的比例为10%，其中第一层11的厚度所占的比例为6%。

如图5至图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例1，其中：

在所述步骤（1）中，所述各双螺杆挤出机的加工各区温度设置为：一区温度为225℃、二区温度为235℃、三区温度为255℃、四区温度为275℃、五区温度为285℃，所述各双螺杆挤出机的螺杆转速为400r/min；

在所述步骤（2.1）中，所述各单螺杆挤出机的加工各段温度优选设置为：加料段温度为240℃、熔融段温度为280℃、计量段温度为285℃、机头温度为290℃，所述各单螺杆挤出机的螺杆4的转速为70r/min；

在所述步骤（2.2）中，所述压辊5的辊压温度为200℃，驱动辊8的驱动辊压速度为10m/min，压辊的转速为200r/min。

实施例4

如图1至图4所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例1，其原料组分及性能检测结果见表1。

上述实施例中，所示半球形微结构的直径是500μm，相邻两半球的中心距是1400μm；在所述光反射板的总厚度中，内层即第二层12的厚度所占的比例为70%，外层即第一层11和第三层13的厚度所占的比例为30%，其中第一层11的厚度所占的比例为18%。

如图5至图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例1，其中：

在所述步骤（1）中，所述各双螺杆挤出机的加工各区温度设置为：一区温度为200℃、二区温度为205℃、三区温度为215℃、四区温度为225℃、五区温度为240℃，所述各双螺杆挤出机的螺杆转速为350r/min；

在所述步骤（2.1）中，所述各单螺杆挤出机的加工各段温度优选设置为：加料段温度为230℃、熔融段温度为240℃、计量段温度为255℃、机头温度为270℃，所述各单螺杆挤出机的螺杆4的转速为50r/min；

在所述步骤（2.2）中，所述压辊5的辊压温度为170℃，驱动辊8的驱动辊压速度为8m/min，压辊的转速为160r/min。

实施例5

如图9和图10所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例2，其原料组分及性能检测结果见表2。

如图5至图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例1。

实施例6

如图9和图10所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例2，其原料组分及性能检测结果见表2。

如图5至图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例1。

实施例7

如图9和图10所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例2，其原料组分及性能检测结果见表2。

如图5至图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例1。

实施例8

如图9和图10所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例2，其原料组分及性能检测结果见表2。

如图5至图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例1。

实施例9

如图1至图4所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例1，其原料组分及性能检测结果见表3。

如图5至图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例1。

实施例10

如图1至图4所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例1，其原料组分及性能检测结果见表3。

如图5至图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例1。

实施例11

如图1至图4所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例1，其原料组分及性能检测结果见表3。

如图5至图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例1。

实施例12

如图1至图4所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例1，其原料组分及性能检测结果见表3。

如图5至图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例1。

实施例13

如图1至图4所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例1，不同的是,：第三层13作为外层由C材料层构成，具体地，其原料组分及性能检测结果见表4。

如图7和图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例1，不同的是，在制备方法中，还包括如下步骤：

（1.3）C材料层母粒的制备

按C材料层的重量配比称取基体树脂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒,得C材料层母粒；

（2.1）初成型光反射板的制备

将所述步骤（1）中制得的A材料层母粒、B材料层母粒和C材料层母粒分别加入到单螺杆挤出机中，通过共挤出成型，制得初成型光反射板；

在具体的制备系统中，采用的是如图7或图8所示的制备系统完成。

实施例14

如图1至图4所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例2，不同的是,：第三层13作为外层由C材料层构成，具体地，其原料组分及性能检测结果见表4。

如图7和图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例2，不同的是，在制备方法中，还包括如下步骤：

（1.3）C材料层母粒的制备

按C材料层的重量配比称取基体树脂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒,得C材料层母粒；

（2.1）初成型光反射板的制备

将所述步骤（1）中制得的A材料层母粒、B材料层母粒和C材料层母粒分别加入到单螺杆挤出机中，通过共挤出成型，制得初成型光反射板；

在具体的制备系统中，采用的是如图7或图8所示的制备系统完成。

实施例15

如图1至图4所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例3，不同的是,：第三层13作为外层由C材料层构成，具体地，其原料组分及性能检测结果见表4。

如图7和图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例2，不同的是，在制备方法中，还包括如下步骤：

（1.3）C材料层母粒的制备

按C材料层的重量配比称取基体树脂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒,得C材料层母粒；

（2.1）初成型光反射板的制备

将所述步骤（1）中制得的A材料层母粒、B材料层母粒和C材料层母粒分别加入到单螺杆挤出机中，通过共挤出成型，制得初成型光反射板；

在具体的制备系统中，采用的是如图7或图8所示的制备系统完成。

实施例16

如图1至图4所示，一种光反射板，其基本结构及性能检测方法同实施例4，不同的是,：第三层13作为外层由C材料层构成，具体地，其原料组分及性能检测结果见表4。

如图7和图8所示，本发明上述光反射板的具体制备方法、以及采用的制备系统同实施例2，不同的是，在制备方法中，还包括如下步骤：

（1.3）C材料层母粒的制备

按C材料层的重量配比称取基体树脂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒,得C材料层母粒；

（2.1）初成型光反射板的制备

将所述步骤（1）中制得的A材料层母粒、B材料层母粒和C材料层母粒分别加入到单螺杆挤出机中，通过共挤出成型，制得初成型光反射板；

在具体的制备系统中，采用的是如图7或图8所示的制备系统完成。

由表1至表4的检测结果可知，本发明光反射板的高反射率和高漫反射率都高达87%以上，说明本发明光反射板能够有效调整光线的分布，使应用本发明的相关灯具表现出使用户体验高舒适度的效果；本发明的光反射板的高表面电阻率相同，说明本发明的光反射板具有优良的抗静电性能，因此，能够使所述光反射板表现出强抗静电吸附和自洁的功效，从而在高抗静电吸附的基础上进一步避免了灰尘的影响，使本发明光反射板得到充分保护，进而实现效果的长期稳定性，进一步利于环保节能。

本发明不限于上述实施方式，本领域技术人员所做出的对上述实施方式任何显而易见的改进或变更，都不会超出本发明的构思和所附权利要求的保护范围。

表1

表2

表3

表4

Claims (9)

1.一种光反射板，由内层和外层复合构成，其特征在于，所述内层由B材料层构成，所述外层由A材料层单独构成或者由A材料层与C材料层共同构成；其中，所述A材料层的原料组分包括基体树脂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂；

所述B材料层的原料组分包括基体树脂、钛白粉、抗氧剂、光稳定剂、荧光增白剂和分散剂；

所述C材料层的原料组分包括基体树脂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂；

所述A材料层的原料组分按重量份如下：基体树脂85～98份，抗静电剂0.4～1.2份，抗氧剂0.1～0.5份，光稳定剂0.5～3份，分散剂0.5～5份；

所述B材料层的原料组分按重量份如下：基体树脂85～98份，钛白粉2～15份，抗氧剂0.1～0.5份，光稳定剂0.5～3份，荧光增白剂0.01～0.15份，分散剂0.5～5份；

所述C材料层的原料组分按重量份如下：基体树脂85～98份，抗氧剂0.1～0.5份，光稳定剂0.5～3份，分散剂0.5～5份。

2.如权利要求1所述的光反射板，其特征在于，所述光反射板为由A材料层和B材料层组成的三层复合光反射板；所述三层复合光反射板的内层的数量为一个，由B材料层构成；所述三层复合光反射板的外层的数量为两个，均由A材料层构成。

3.如权利要求1所述的光反射板，其特征在于，所述光反射板为由A材料层、B材料层和C材料层组成的三层复合光反射板；所述三层复合光反射板的内层的数量为一个，由B材料层构成；所述三层复合光反射板的外层的数量为两个，分别由A材料层和C材料层各构成其中一个。

4.如权利要求1、2或3所述的光反射板，其特征在于，在所述光反射板总厚度中，所述内层的厚度所占的比例为65％～90％，所述外层中A材料层的厚度所占的比例为10％～35％。

5.如权利要求4所述的光反射板，其特征在于，在所述光反射板的外表面上设有微结构，所述微结构的特征尺寸为0.1微米～1000微米。

6.一种制备如权利要求1至5中任一项所述的光反射板的方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)各材料层母粒的制备

1.1按A材料层的重量配比称取基体树脂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒，得A材料层母粒；

1.2按B材料层的重量配比称取基体树脂、钛白粉、抗氧剂、光稳定剂、荧光增白剂和分散剂，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒，得B材料层母粒；

1.3按C材料层的重量配比称取基体树脂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒,得C材料层母粒；

(2)光反射板的制备

2.1将所述步骤(1)中制得的A材料层母粒和B材料层母粒分别加入到单螺杆挤出机中，通过共挤出成型，制得初成型光反射板；或者，将所述步骤(1)中制得的A材料层母粒、B材料层母粒和C材料层母粒分别加入到单螺杆挤出机中，通过共挤出成型，制得成型光反射板。

7.如权利要求6所述的光反射板的制备方法，其特征在于，在所述步骤(2)中，还包括步骤2.2，将所述步骤(2.1)中制得的初成型光反射板通过微结构辊压印机进行压印，得表面带有微结构的光反射板。

8.如权利要求7所述的光反射板的制备方法，其特征在于：在所述步骤(2.2)中，所述微结构辊压印的辊压温度为30℃～150℃，驱动辊的驱动辊压速度为2m/min～10m/min。

9.如权利要求6、7或8所述的光反射板的制备方法，其特征在于：在所述步骤(1)中，所述各双螺杆挤出机的加工温度控制在165℃～285℃，所述各双螺杆挤出机的螺杆转速为100r/min～400r/min；

在所述步骤(2.1)中，所述各单螺杆挤出机的加工各段温度均设置为：加料段温度为165℃～240℃，熔融段温度为180℃～280℃，计量段温度为195℃～285℃，机头温度为200℃～290℃；

在所述步骤(2.1)中，所述各单螺杆挤出机的螺杆转速为10r/min～70r/min。