CN103102668A - 一种聚合物漫反射材料的配方及制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种聚合物漫反射材料的配方及制备方法涉及光学材料领域,尤其涉及一种应用于照明装置的漫反射材料的配方及其生产制备方法。一种聚合物漫反射材料,其特征在于,所述漫反射材料的组分及重量配比为:聚合物PC 85-97份,钛白粉3-15份 , 抗氧剂0.1-0.5份、光稳定剂0.5-2份,荧光增白剂0.01-0.05份,分散剂0.5-5份;所述的聚合物为聚丙烯PP、聚对苯二甲酸乙二醇酯PET、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物ABS、耐冲击聚苯乙烯HIPS、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA或聚碳酸酯PC。本发明工艺简单,可以连续生产,而且所制备的反射材料最高反射率达到102%,其中漫反射为96%。
Description
技术领域
本发明涉及光学材料领域,尤其涉及一种应用于照明装置的漫反射材料的配方及其生产制备方法。
背景技术
随着科学技术的进步,生活水平的提高,人们对环境的舒适要求也越来越高,目前应用较多的反射材料多为铝、铜、镍、铬等金属材料或塑料表面镀金属材料,在这种情况下,如果光源是点光源,这种反射材料形成镜面反射,容易产生眩光、光照不均匀等问题。而且金属材料的氧化也会使其反射效率下降。一般照明反射材料的设计仅仅是利用表层带有光泽的金属(如薄铝、或不锈钢),或涂上具有反射能力的化学物质(如氧化铝等物质),作为光源反射器之用。但是,任何金属或涂上化学物质的反射器一旦与空气接触日久后,均会氧化变质或被空气中的酸、碱等化学物质腐蚀,或因温度及氧化而剥落,丧失反射能力。美国专利4104102号对反光膜生产有详细说明,其采用聚集层复合工艺,但其在大规模生产中很难实现,且成品率低;中国专利CN201020032939.3号采用堆叠方法复合而成的层状结构的反光材料,其制备工艺复杂,专利CN201010151111.4 号先将反光材料涂覆在基体上,然后再在反光材料上涂覆紫外吸收剂,制备过程包括多层涂覆工艺,很难高效率连续生产。
现有对反光材料的研究和应用大多集中在液晶显示器及工程标识领域方面,面对照明领域的漫反射材料的研究则很少。由此可见,在照明领域急需对反射材料,漫反射材料及制备方法的研究。
为此需研究新型反射材料提高高强度点光源的反射效率和漫反射效果,本发明正是基于上述背景提出,本发明可用于LED照明及对漫反射要求较高的照明场合,可以推广LED在照明领域的应用。本发明将高分子材料的加工与微纳制造相结合,从材料本身以及材料表面的微结构制作工艺出发,提出了通过将反射材料与微结构光学设计相结合实现良好的漫反射效果。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种漫反射效果良好的反光材料配方及其生产制备方法。
为解决上述问题,本发明提供一种聚合物漫反射材料,其特征在于,所述漫反射材料的组分及重量配比为:
聚合物PC 85-97份
钛白粉3-15份 ,
抗氧剂0.1-0.5份、
光稳定剂0.5-2份,
荧光增白剂0.01-0.05份,
分散剂0.5-5份;
所述的钛白粉为微米级或纳米级,所述的抗氧剂为受阻酚类抗氧剂和辅助抗氧剂;所述的荧光增白剂为噁唑类荧光增白剂,所述分散剂为石蜡、高分子蜡或硬脂酸皂;所述的聚合物为聚丙烯PP、聚对苯二甲酸乙二醇酯PET、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物ABS、耐冲击聚苯乙烯HIPS、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA或聚碳酸酯PC。
所述的一种聚合物漫反射材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)制备漫反射板专用料或者预混料
将聚合物 85-97份、钛白粉3-15份 , 抗氧剂0.1-0.5份、光稳定剂0.5-2份,荧光增白剂0.01-0.05份,分散剂0.5-5份,在搅拌机中混合均匀后,加入双螺杆挤出机中,熔融混合制得专用料,或者先将钛白粉、抗氧剂、光稳定剂、荧光增白剂、分散剂与部分聚合物加入双螺杆挤出机中先制备预混料,双螺杆挤出机的温度为:一区温度:165-230℃、二区温度:170-240℃、三区温度:175-250℃、四区温度:180-250℃、五区温度:180-250℃,六区温度:180-260℃,七区温度:185-270℃,八区温度:185-270℃,九区温度:185-285℃,十区温度:185-285℃;双螺杆转速为100-400r/min;
2)制备漫反射板
将所制备的专用料或剩余聚合物与上述预混料的混合物加入单螺杆挤出机的料斗,挤出温度为一区温度:165-265℃,二区温度:180-280℃,三区温度:190-290℃,机头温度为185-295℃;螺杆转速为10-70r/min;压印滚的温度设定为30-150℃,牵引速度为2-10m/min;利用单螺杆挤出成型制造聚合物片材,让其直接进入滚轮微压印设备,把滚轮上的微结构转印至聚合物片材表面上。
上述漫反射材料的配方及制备方法与现有的反射材料制备方法相比,工艺简单,可以连续生产,而且所制备的反射材料最高反射率达到102%,其中漫反射为96%。
压印滚筒可以为两个或三个,当三个滚筒时,微结构滚筒在中间。
附图说明
图1 漫反射板挤出压印示意图。
1电机 2联轴器 3料斗 4螺杆 5平板机头 6微印滚轮模具
7聚合物薄板 8加热圈 9驱动滚轮 10牵引滚轮。
图2金属镜面反射板出光效果图。
图3本发明的漫反射板出光效果图。
图4全反射率对比图。
图5漫反射率对比图。
具体实施方式:
实施例1
配方: PP 90份、钛白粉(TiO2)5份 , 抗氧剂 0.1份(1010和168质量比例为1:1)、光稳定剂(JC-790A)1份,荧光增白剂(OB)0.03份,石蜡2份。钛白粉的粒径为0.31微米。没有特殊说明,以下提到的比例都是质量比,分散剂是指石蜡,钛白粉的粒径为0.31微米。
制备方法:
1)制备聚丙烯漫反射板专用料
将聚丙烯、钛白粉、抗氧剂、光稳定剂、荧光增白剂、石蜡按照90份、5份、0.1份(1010和168比例为1:1)、1份、0.03份、2份重量配比在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒。双螺杆挤出机一区温度:175℃,二区温度:180℃,三区温度:185℃,四区温度:185℃,五区温度:190℃,六区温度:195℃,七区温度:195℃,八区温度:200℃,九区温度:200℃,十区温度:200℃,双螺杆转速为350r/min。
2)漫反射板的制备过程
首先,设定挤出机各段温度,一区温度:185℃、二区温度:195℃、三区温度:200℃,机头温度为205℃,螺杆转速为30r/min。微压印双滚的温度设定为30℃,牵引速度6.5m/min。制备漫反射板的工艺流程见图1,将烘干的聚合物母粒放入单螺杆挤出机的加料漏斗3中,使聚合物粒料能够直接进入挤出机螺杆中,启动挤出机电机1开关,并设定其转速。螺杆转速为30r/min。在旋转的挤出机螺杆4的作用下,聚合物物料沿挤出机螺杆的螺旋槽方向持续地向前输送。在此过程中,聚合物物料不断地接受来自料筒的外加热圈8加热、螺杆与聚合物物料以及料筒与聚合物物料的剪切摩擦热,逐渐熔融呈粘流态。最后从机头5中挤出成型,形成聚合物薄板后被挤出来。设定滚轮微压印设备驱动滚轮的牵引速度6.8m/min,待聚合物薄板通过两滚轮之间的间隙时,调整调距螺母,推动微印滚轮模具 6往驱动滚轮9方向靠近施压,此时微结构滚轮上的图案结构就可以转印至聚合物薄板的表面上,达到连续地复制微结构。冷却之后,表面带有微结构的聚合物薄板就被制作出来,最后利用牵引轮10将制备的漫反射材料收卷。所制备的反射板的各组分如表一所示.
表一
实施例2
配方: PET 90份、钛白粉(TiO2)5份 , 抗氧剂 0.1份(1076和168比例为1:1)、光稳定剂(JC-790A)1份,荧光增白剂(OB-1)0.03份,石蜡2份。
制备方法:
制备PET漫反射板专用料
将PET、钛白粉、抗氧剂1076、抗氧剂168、光稳定剂、荧光增白剂及分散剂按照重量配比90份、5份、0.05份、0.05份、1份、0.03份、2份,在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒。双螺杆挤出机一区温度:220℃,二区温度:230℃,三区温度:240℃,四区温度:250℃,五区温度:250℃,六区温度:250℃,七区温度:250℃,八区温度:255℃,九区温度:255℃,十区温度:255℃,双螺杆转速为294r/min。
2)漫反射板的制备过程
首先,设定单螺杆挤出机各段温度,一区温度:240℃、二区温度:250℃、三区温度:255℃,机头温度为260℃,螺杆转速为25r/min。微压印双滚的温度设定为50℃,牵引速度6m/min。制备漫反射板的工艺流程见图1,利用单螺杆挤出成型制造所需的光学聚合物薄板,让其直接进入滚轮微压印设备,把滚轮上的微结构转印至聚合物薄板表面上。反射板的各组分如表二所示.
表二
PET(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
90 | 5 | 0.1 | 1 | 0.03 | 2 |
实施例3
将聚丙烯PP、钛白粉TiO2、抗氧剂(1076和168比例为1:1)、光稳定剂JC-790B、荧光增白剂OB、分散剂按照83.5份、12份、0.4份、2份、0.12份、2份重量配比在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼制备预混料,双螺杆转速为100r/min。将制备预混料,再与聚合物PP按照1:3混合,经单螺杆挤出稀,单螺杆的转速为70r/min,微压印双滚的温度设定为30℃,牵引速度10m/min。其他制备反射板加工工艺步骤与实施例1相同。所制备的反射板的各组分如表三所示.
表三
PP(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
97 | 3 | 0.1 | 0.5 | 0.03 | 0.5 |
实施例4
将聚丙烯PP、钛白粉TiO2、抗氧剂1010、抗氧剂168、光稳定剂(JC-790B)1份,荧光增白剂(OB)、分散剂按照89份、11份、0.25份、0.25份、1份、0.03份、4份重量配比在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒,双螺杆转速为400r/min。制备反射板加工工艺步骤与实施例1相同。所制备的反射板的各组分如表四所示.
表四
PP(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
89 | 11 | 0.5 | 1 | 0.03 | 4 |
实施例5
将聚丙烯PP、钛白粉TiO2、抗氧剂(1010和168比例为1:1)、光稳定剂JC-790B、荧光增白剂OB、分散剂石蜡按照85份、15份、0.1份、2份、0.03份、5份重量配比在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒,双螺杆转速为350r/min。制备反射板时,单螺杆挤出机的转速为10r/min,微压印双滚的温度设定为30℃,牵引速度2m/min。其他制备反射板加工工艺步骤与实施例1相同。所制备的反射板的各组分如表五所示.
表五
PP(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
85 | 15 | 0.1 | 2 | 0.03 | 5 |
实施例6
将PET、钛白粉TiO2、抗氧剂(1076和168比例为1:1)、光稳定剂JC-790A、荧光增白剂OB-1、分散剂石蜡按照97份、3份、0.1份、1份、0.03份、2份重量配比在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒。其他加工工艺步骤与实施例2相同。所制备的反射板的各组分如表六所示.
表六
PET(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
97 | 3 | 0.1 | 1 | 0.03 | 2 |
实施例7
将PET、钛白粉TiO2、抗氧剂1076、抗氧剂168、光稳定剂JC-790A、荧光增白剂OB-1、分散剂按照89份、11份、0.05份、0.05份、1份、0.03份、4份重量配比在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒。其他加工工艺步骤与实施例2相同。所制备的反射板的各组分如表七所示.
表七
PET(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
89 | 11 | 0.1 | 1 | 0.03 | 4 |
实施例8
将PET、钛白粉TiO2、抗氧剂(1076和168比例为1:1)、光稳定剂JC-790A、荧光增白剂OB-1、分散剂按照85份、15份、0.1份、1份、0.03份、5份重量配比在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒。其他加工工艺步骤与实施例2相同。所制备的反射板的各组分如表八所示.
表八
PET(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
85 | 15 | 0.1 | 1 | 0.03 | 5 |
实施例9
将聚丙烯、钛白粉TiO2、抗氧剂(1010和168比例为1:1)、光稳定剂JC-790A、荧光增白剂OB、分散剂按照90份、5份、0.1份、1份、0.01份、2份重量配比在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒。与实施例1不同的是荧光增白剂的添加分数是0.01份,其他加工工艺步骤与实施例1相同。所制备的反射板的各组分如表九所示.
表九
PP(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
90 | 5 | 0.1 | 1 | 0.01 | 2 |
实施例10
将聚丙烯、钛白粉TiO2、抗氧剂1010、抗氧剂168光稳定剂JC-790A、荧光增白剂OB、分散剂按照90份、5份、0.05份、0.05份、1份、0.02份、2份重量配比在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒。与实施例1不同的是荧光增白剂的添加分数是0.02份,其他加工工艺步骤与实施例1相同。所制备的反射板的各组分如表十所示.
表十
PP(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
90 | 5 | 0.1 | 1 | 0.02 | 2 |
实施例11
将聚丙烯、钛白粉TiO2、抗氧剂(1010和168比例为1:1)、光稳定剂JC-790A、荧光增白剂OB、分散剂按照90份、5份、0.1份、1份、0.05份、2份重量配比在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒。与实施例1不同的是荧光增白剂的添加分数是0.05份,其他加工工艺步骤与实施例1相同。所制备的反射板的各组分如表十一所示.
表十一
PP(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
90 | 5 | 0.1 | 1 | 0.05 | 2 |
实施例12
配方: ABS 90份、钛白粉(TiO2)5份 , 抗氧剂 0.2份(1010和168比例为1:1)、光稳定剂(JC-790B)1份,荧光增白剂(OB)0.03份,石蜡2份。
制备方法:
制备ABS漫反射板专用料
将ABS、钛白粉、抗氧剂1010、抗氧剂168、光稳定剂、荧光增白剂及分散剂按照重量配比90份、5份、0.1份、0.1份、1份、0.03份、2份,在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒。双螺杆挤出机一区温度:175℃,二区温度:180℃,三区温度:180℃,四区温度:180℃,五区温度:180℃,六区温度:185℃,七区温度:185℃,八区温度:185℃,九区温度:185℃,十区温度:185℃,双螺杆转速为200r/min。
2)漫反射板的制备过程
首先,设定单螺杆挤出机各段温度,一区温度:175℃、二区温度:180℃、三区温度:190℃,机头温度为185℃,单螺杆转速为30r/min。微压印双滚的温度设定为30℃,牵引速度7m/min。制备漫反射板的工艺流程见图1,利用单螺杆挤出成型制造所需的光学聚合物薄板,让其直接进入滚轮微压印设备,把滚轮上的微结构转印至聚合物薄板表面上。所制备的反射板的各组分如表十二所示.
表十二
ABS(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
90 | 5 | 0.2 | 1 | 0.03 | 2 |
实施例13
配方: PC 90份、钛白粉(TiO2)5份 , 抗氧剂 0.1份(1010和168比例为1:1)、光稳定剂(JC-UV1)1份,荧光增白剂(OB-1)0.03份,石蜡2份。
制备方法:
制备PC漫反射板专用料
将PC、钛白粉、抗氧剂1010、抗氧剂168、光稳定剂JC-UV1、荧光增白剂及分散剂按照重量配比90份、5份、0.05份、0.05份、1份、0.03份、2份,在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒。双螺杆挤出机一区温度:230℃,二区温度:240℃,三区温度:250℃,四区温度:250℃,五区温度:250℃,六区温度:260℃,七区温度:270℃,八区温度:270℃,九区温度:285℃,十区温度:285℃,双螺杆转速为150r/min。
2)漫反射板的制备过程
首先,设定单螺杆挤出机各段温度,一区温度:265℃、二区温度:280℃、三区温度:290℃,机头温度为295℃,单螺杆转速为30r/min。微压印双滚的温度设定为150℃,牵引速度7m/min。制备漫反射板的工艺流程见图1,利用单螺杆挤出成型制造所需的光学聚合物薄板,让其直接进入滚轮微压印设备,把滚轮上的微结构转印至聚合物薄板表面上。所制备的反射板的各组分如表十三所示.
表十三
PC(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
90 | 5 | 0.1 | 1 | 0.03 | 2 |
实施例14
配方: PMMA 90份、钛白粉(TiO2)5份 , 抗氧剂 0.1份(1010和168比例为1:1)、光稳定剂(JC-UV1)1份,荧光增白剂(OB-1)0.03份,石蜡2份。
制备方法:
制备PMMA漫反射板专用料
将PMMA、钛白粉、抗氧剂1010、抗氧剂168、光稳定剂JC-UV1、荧光增白剂及分散剂按照重量配比90份、5份、0.05份、0.05份、1份、0.03份、2份,在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒。双螺杆挤出机一区温度:220℃,二区温度:230℃,三区温度:240℃,四区温度:250℃,五区温度:250℃,六区温度:250℃,七区温度:250℃,八区温度:250℃,九区温度:250℃,十区温度:245℃,双螺杆转速为294r/min。
2)漫反射板的制备过程
首先,设定单螺杆挤出机各段温度,一区温度:240℃、二区温度:250℃、三区温度:255℃,机头温度为250℃,单螺杆转速为30r/min。微压印双滚的温度设定为120℃,牵引速度5m/min。制备漫反射板的工艺流程见图1,利用单螺杆挤出成型制造所需的光学聚合物薄板,让其直接进入滚轮微压印设备,把滚轮上的微结构转印至聚合物薄板表面上。所制备的反射板的各组分如表十四所示.
表十四
PMMA(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
90 | 5 | 0.1 | 1 | 0.03 | 2 |
实施例15
配方:HIPS95份、钛白粉(TiO2)5份 , 抗氧剂 0.1份(1010和168比例为1:1)、光稳定剂(JC-790A)1份,荧光增白剂(OB-1)0.03份,石蜡2份。
制备方法:
制备HIPS漫反射板专用料
将HIPS、钛白粉、抗氧剂1010、抗氧剂168、光稳定剂、荧光增白剂及分散剂按照重量配比95份、5份、0.05份、0.05份、1份、0.03份、2份,在搅拌机中混合均匀后,于双螺杆挤出机中熔融混炼造粒。双螺杆挤出机一区温度:165℃,二区温度:170℃,三区温度:175℃,四区温度:180℃,五区温度:180℃,六区温度:180℃,七区温度:185℃,八区温度:185℃,九区温度:185℃,十区温度:185℃,双螺杆转速为190r/min。
2)漫反射板的制备过程
首先,设定单螺杆挤出机各段温度,一区温度:165℃、二区温度:180℃、三区温度:190℃,机头温度为195℃,单螺杆转速为30r/min。微压印双滚的温度设定为30℃,牵引速度7m/min。制备漫反射板的工艺流程见图1,利用单螺杆挤出成型制造所需的光学聚合物薄板,让其直接进入滚轮微压印设备,把滚轮上的微结构转印至聚合物薄板表面上。所制备的反射板的各组分如表十五所示.
表十五
HIPS(份) | TiO2(份) | 抗氧剂(份) | 光稳定剂(份) | 荧光增白剂(份) | 分散剂(份) |
95 | 5 | 0.1 | 1 | 0.03 | 2 |
取实施例1-15中所制备的漫反射板,光反射性能测试是利用分光测色计CM-3600A,选择照明光源:脉冲氙灯;选择照明口径LAV:直径φ25.4cm;在波长范围为360~740nm之间,测试试样的反射率、漫反射率,测量波长间隔10nm。实施例所得漫反射材料的性能检测结果见表16。
表十六
当使用本发明反射板时,可以最大化利用光的能量。当同样的LED光源分别照射在金属反射板和微压印漫反射板上,反射出光效果见图2、图3,在图2中金属反射出光某些区域有些亮点,某些区域很暗,给人感觉不舒服,从图3中,可以看出本发明的漫反射板可以消除从LED灯发出的不均匀的光,而且更加明亮,光可以均匀地反射出来,可以提供一种更加舒适的照明环境。
Claims (2)
1.一种聚合物漫反射材料,其特征在于,所述漫反射材料的组分及重量配比为:
聚合物PC 85-97份
钛白粉3-15份 ,
抗氧剂0.1-0.5份、
光稳定剂0.5-2份,
荧光增白剂0.01-0.05份,
分散剂0.5-5份;
所述的钛白粉为微米级或纳米级,所述的抗氧剂为受阻酚类抗氧剂和辅助抗氧剂;所述的荧光增白剂为噁唑类荧光增白剂,所述分散剂为石蜡、高分子蜡或硬脂酸皂;所述的聚合物为聚丙烯PP、聚对苯二甲酸乙二醇酯PET、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物ABS、耐冲击聚苯乙烯HIPS、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA或聚碳酸酯PC。
2.根据权利要求1所述的一种聚合物漫反射材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)制备漫反射板专用料或者预混料
将聚合物 85-97份、钛白粉3-15份 , 抗氧剂0.1-0.5份、光稳定剂0.5-2份,荧光增白剂0.01-0.05份,分散剂0.5-5份,在搅拌机中混合均匀后,加入双螺杆挤出机中,熔融混合制得专用料,或者先将钛白粉、抗氧剂、光稳定剂、荧光增白剂、分散剂与部分聚合物加入双螺杆挤出机中先制备预混料,双螺杆挤出机的温度为:一区温度:165-230℃、二区温度:170-240℃、三区温度:175-250℃、四区温度:180-250℃、五区温度:180-250℃,六区温度:180-260℃,七区温度:185-270℃,八区温度:185-270℃,九区温度:185-285℃,十区温度:185-285℃;双螺杆转速为100-400r/min;
2)制备漫反射板
将所制备的专用料或剩余聚合物与上述预混料的混合物加入单螺杆挤出机的料斗,挤出温度为一区温度:165-265℃,二区温度:180-280℃,三区温度:190-290℃,机头温度为185-295℃;螺杆转速为10-70r/min;压印滚的温度设定为30-150℃,牵引速度为2-10m/min;利用单螺杆挤出成型制造聚合物片材,让其直接进入滚轮微压印设备,把滚轮上的微结构转印至聚合物片材表面上。
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PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130515 |