CN103709571B - 一种光扩散改性pmma材料及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种光扩散改性PMMA材料及其制备方法,按照以下组分及重量百分比含量备料:PMMA88.2-97.7、光扩散剂2.0-10.0、抗氧剂0.1-0.5、光稳定剂0.1-0.3、分散剂0.1-1.0;将各组分放入高混机中混合,然后用双螺杆挤出机挤出造粒,得到光扩散改性PMMA材料。与现有技术相比,本发明的PMMA材料在制件厚度较大时具有优异的光扩散效果同时具有极好的光线穿透性;同时在制件较薄领域亦可做半透光扩散材料。本发明制备方法简单,可适用于家电、开关指示灯等领域。
Description
技术领域
本发明涉及一种PMMA材料及其制备方法,尤其是涉及一种光扩散改性PMMA材料及其制备方法。
背景技术
随着LED等冷光源的技术发展和普及,同时为改善此类光源发光点集中引发的诸多弊端,以及人们为满足对灯饰材料的外观设计上的要求,开发了具有光扩散效果的PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PC(聚碳酸酯)等材料。
PMMA材料具有化学稳定性好、尺寸稳定性好、透光性好的特点。由于其极佳的透光率,广泛用于灯具,灯箱等照明领域。光扩散PMMA材料也广泛用于灯罩等,光扩散PMMA材料在厚度较小(小于1cm)时其具有优异的透光率及扩散性,但是目前光扩散PMMA改性材料在厚度较大(如2cm)领域在具有较好的光扩散效果时其透光性较差、光线的穿透性较差;在具有较好的光线穿透性时光扩散效果又较差,对光源的隐蔽性不佳。
中国专利CN103012966A公布了一种光扩散改性聚丙烯材料及其制备方法,所述材料包括以下重量百分比含量的各组分:聚丙烯98.5-99%,光扩散剂0.3-0.8%,透明改性剂0.05-0.5%,抗氧剂0.1-0.5%,光稳定剂0.1-0.3%;本发明还涉及前述材料的制备方法,包括如下步骤:按重量百分数称取各组分,放入高混机中混合,出料,然后用双螺杆挤出机挤出造粒。
中国专利CN102702714A公布了一种光扩散PC/PMMA合金,按重量份计,由以下物质组成:PC50-100份、PMMA5-20份、PC与PMMA相容剂1-8份、光扩散剂0.01-2份、其他助剂0.3-1份,该发明通过相容剂的复配使用,改善了PC与PMMA的相容性,能够实现连续化生产,并且合金材料具有良好的力学性能;光扩散剂的加入,在遮住发光源以及刺眼光源的同时,又能使整个树脂发出更加柔和、美观、高雅的光,达到透光不透明,具备柔和的匀光效果,能够广泛应用于液晶显示器等领域。
发明内容
本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种光扩散改性PMMA材料及其制备方法。本发明的PMMA材料在制件厚度较大时具有优异的光扩散效果同时具有极好的光线穿透性;同时在制件较薄领域亦可做半透光扩散材料。本发明制备方法简单,可适用于家电、开关指示灯等领域。
本发明的目的可以通过以下技术方案来实现:
一种光扩散改性PMMA材料,该材料由以下组分及重量百分比含量的原料制成:
作为优选,该材料由以下组分及重量百分比含量的原料制成:
或者,该材料由以下组分及重量百分比含量的原料制成:
再或者,该材料由以下组分及重量百分比含量的原料制成:
所述的PMMA为透明度大于94%的PMMA。
所述的光扩散剂为无机类光扩散剂硫酸钡。
所述的抗氧剂为亚磷酸酯类抗氧剂和酚类抗氧剂的复配;其中,亚磷酸酯类抗氧剂与酚类抗氧剂的质量比为1∶1,亚磷酸酯类抗氧剂选自抗氧剂168,酚类抗氧剂选自抗氧剂1010。
所述的光稳定剂为受阻胺类光稳定剂,具体选自市售的氰特UV-3853S光稳定剂。
所述的分散剂为乙撑双硬脂酰胺。
一种光扩散改性PMMA材料的制备方法,包括以下步骤:
(1)按照以下组分及重量百分比含量备料:PMMA88.2-97.7、光扩散剂2.0-10.0、抗氧剂0.1-0.5、光稳定剂0.1-0.3、分散剂0.1-1.0;
(2)将各组分放入高混机中混合,然后用双螺杆挤出机挤出造粒,得到光扩散改性PMMA材料。
双螺杆挤出机的挤出温度为240~250℃,双螺杆挤出机的转速为250~300转/分。
作为优选,双螺杆挤出机的挤出温度为250℃,双螺杆挤出机的转速为300转/分;或者双螺杆挤出机的挤出温度为240℃,双螺杆挤出机的转速为250转/分;再或者双螺杆挤出机的挤出温度为245℃,双螺杆挤出机的转速为280转/分。
与现有技术相比,本发明通过使用合成的具有特殊的立方结构的硫酸钡晶体,硫酸钡折射率1.50,与PMMA折射率相近,通过本发明配方及工艺使光扩散剂硫酸钡在PMMA树脂中分散均匀。本发明制得的光扩散改性PMMA材料具有光扩散效果,透光率高,本发明制备工艺简单,适用于具有光扩散半透效果材料及厚型制件对光扩散及光线穿透率较高的家电等领域。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本发明,但不以任何形式限制本发明。应当指出的是,对本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进。这些都属于本发明的保护范围。
以下实施例中:PMMA为高透明PMMA,透光率为94%;光扩散剂为无机类光扩散剂硫酸钡;抗氧剂为亚磷酸酯类抗氧剂和受阻酚类抗氧剂按重量比1∶1复配,优选为抗氧剂168与抗氧剂1010的复配;光稳定剂为受阻胺类(光稳定剂3346);分散剂为乙撑双硬脂酰胺。
对比例1
对市售的光扩散PMMA奇美CM207进行透光率和雾度测试。
对比例2
对市售的光扩散效果的PC,帝人ML-3206进行透光率和雾度测试。
对比例3
按以下重量百分比含量称取原料:
PMMA84.3;光扩散剂15;抗氧剂0.2;光稳定剂0.2;分散剂0.3。
将原料一起放入高混机中混合2~5min,出料;再将该混合料放入双螺杆挤出机中挤出造粒,制得光扩散改性PMMA组合物。其中,工艺温度在250℃,螺杆转速在300转/分。
实施例1
按以下重量百分比含量称取原料:
PMMA:88.2%;光扩散剂:10.0%;抗氧剂:0.5%;光稳定剂:0.3%;分散剂:1.0%。
将原料一起放入高混机中混合2~5min,出料;再将该混合料放入双螺杆挤出机中挤出造粒,制得光扩散改性PMMA组合物。其中,工艺温度在250℃,螺杆转速在300转/分。
实施例2
按以下重量百分比含量称取原料:
PMMA:97.7%;光扩散剂:2.0%;抗氧剂:0.1%;光稳定剂:0.1%;分散剂:0.1%。
将原料一起放入高混机中混合2~5min,出料;再将该混合料放入双螺杆挤出机中挤出造粒,制得光扩散改性PMMA组合物。其中,工艺温度在240℃,螺杆转速在250转/分。
实施例3
按以下重量百分比含量称取原料:
PMMA:96.3%;光扩散剂:3.0%;抗氧剂:0.2%;光稳定剂:0.2%;分散剂:0.3%。
将原料一起放入高混机中混合2~5min,出料;再将该混合料放入双螺杆挤出机中挤出造粒,制得光扩散改性PMMA组合物。其中,工艺温度在245℃,螺杆转速在280转/分。
将对比例1~3和实施例1~3中制得的光扩散改性PMMA材料按GBT2410-2008标准进行透光率和雾度测试对比。
结果如表1所示:
表1光扩散改性PMMA材料的透光率与雾度
测试项目 | 实施例1 | 实施例2 | 实施例3 | 对比例1 | 对比例2 | 对比例3 |
透光率% | 90.2 | 91.3 | 90.8 | 88 | 82.0 | 70.8 |
雾度% | 94.5 | 95.1 | 94.6 | 99.0 | 99.0 | 99.0 |
由表1可知,本发明的制备的PMMA材料,具有优异的透光率,本发明制作简单,可适用于家电等领域。
实施例4
一种光扩散改性PMMA材料,该材料由以下组分及重量百分比含量的原料制成:PMMA88.2、光扩散剂10.0、抗氧剂0.5、光稳定剂0.3、分散剂1.0。
其中,PMMA为透明度大于94%的PMMA。光扩散剂为无机类光扩散剂硫酸钡。抗氧剂为亚磷酸酯类抗氧剂和酚类抗氧剂的复配;其中,亚磷酸酯类抗氧剂与酚类抗氧剂的质量比为1∶1,亚磷酸酯类抗氧剂选自抗氧剂168,酚类抗氧剂选自抗氧剂1010。光稳定剂为受阻胺类光稳定剂,具体选自市售的氰特UV-3853S光稳定剂。分散剂为乙撑双硬脂酰胺。
一种光扩散改性PMMA材料的制备方法,包括以下步骤:
(1)按照以下组分及重量百分比含量备料:PMMA88.2、光扩散剂10.0、抗氧剂0.5、光稳定剂0.3、分散剂1.0;
(2)将各组分放入高混机中混合,然后用双螺杆挤出机挤出造粒,得到光扩散改性PMMA材料。
双螺杆挤出机的挤出温度为250℃,双螺杆挤出机的转速为300转/分。
实施例5
一种光扩散改性PMMA材料,该材料由以下组分及重量百分比含量的原料制成:PMMA97.7、光扩散剂2.0、抗氧剂0.1、光稳定剂0.1、分散剂0.1。
其中,PMMA为透明度大于94%的PMMA。光扩散剂为无机类光扩散剂硫酸钡。抗氧剂为亚磷酸酯类抗氧剂和酚类抗氧剂的复配;其中,亚磷酸酯类抗氧剂与酚类抗氧剂的质量比为1∶1,亚磷酸酯类抗氧剂选自抗氧剂168,酚类抗氧剂选自抗氧剂1010。光稳定剂为受阻胺类光稳定剂,具体选自市售的氰特UV-3853S光稳定剂。分散剂为乙撑双硬脂酰胺。
一种光扩散改性PMMA材料的制备方法,包括以下步骤:
(1)按照以下组分及重量百分比含量备料:PMMA97.7、光扩散剂2.0、抗氧剂0.1、光稳定剂0.1、分散剂0.1;
(2)将各组分放入高混机中混合,然后用双螺杆挤出机挤出造粒,得到光扩散改性PMMA材料。
双螺杆挤出机的挤出温度为240℃,双螺杆挤出机的转速为250转/分。
实施例6
一种光扩散改性PMMA材料,该材料由以下组分及重量百分比含量的原料制成:PMMA94.3、光扩散剂5.0、抗氧剂0.2、光稳定剂0.2、分散剂0.3。
其中,PMMA为透明度大于94%的PMMA。光扩散剂为无机类光扩散剂硫酸钡。抗氧剂为亚磷酸酯类抗氧剂和酚类抗氧剂的复配;其中,亚磷酸酯类抗氧剂与酚类抗氧剂的质量比为1∶1,亚磷酸酯类抗氧剂选自抗氧剂168,酚类抗氧剂选自抗氧剂1010。光稳定剂为受阻胺类光稳定剂,具体选自市售的氰特UV-3853S光稳定剂。分散剂为乙撑双硬脂酰胺。
一种光扩散改性PMMA材料的制备方法,包括以下步骤:
(1)按照以下组分及重量百分比含量备料:PMMA94.3、光扩散剂5.0、抗氧剂0.2、光稳定剂0.2、分散剂0.3;
(2)将各组分放入高混机中混合,然后用双螺杆挤出机挤出造粒,得到光扩散改性PMMA材料。
双螺杆挤出机的挤出温度为245℃,双螺杆挤出机的转速为280转/分。
Claims (7)
1.一种光扩散改性PMMA材料,其特征在于,该材料由以下组分及重量百分比含量的原料制成:
所述的光扩散剂为无机类光扩散剂硫酸钡,所述的硫酸钡为立方结构,且硫酸钡折射率为1.50。
2.根据权利要求1所述的一种光扩散改性PMMA材料,其特征在于,所述的PMMA为透明度大于94%的PMMA。
3.根据权利要求1所述的一种光扩散改性PMMA材料,其特征在于,所述的抗氧剂为亚磷酸酯类抗氧剂和酚类抗氧剂的复配;其中,亚磷酸酯类抗氧剂与酚类抗氧剂的质量比为1:1,亚磷酸酯类抗氧剂选自抗氧剂168,酚类抗氧剂选自抗氧剂1010。
4.根据权利要求1所述的一种光扩散改性PMMA材料,其特征在于,所述的光稳定剂为受阻胺类光稳定剂,具体选自市售的氰特UV-3853S光稳定剂。
5.根据权利要求1所述的一种光扩散改性PMMA材料,其特征在于,所述的分散剂为乙撑双硬脂酰胺。
6.一种如权利要求1~5任一所述的光扩散改性PMMA材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)按照以下组分及重量百分比含量备料:PMMA88.2、光扩散剂10.0、抗氧剂0.5、光稳定剂0.3、分散剂1.0;
(2)将各组分放入高混机中混合,然后用双螺杆挤出机挤出造粒,得到光扩散改性PMMA材料。
7.根据权利要求6所述的一种光扩散改性PMMA材料的制备方法,其特征在于,双螺杆挤出机的挤出温度为240~250℃,双螺杆挤出机的转速为250~300转/分。
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C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
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Granted publication date: 20160706 Termination date: 20171220 |