CN109563616A - 成膜装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的成膜装置为对被处理基板进行成膜的成膜装置，包括：供给装置，配置在能够真空排气的腔室内且用于供给成膜材料；和保持装置，用于在成膜时保持所述被处理基板。所述保持装置具有：防着板，用于覆盖所述保持装置中所述成膜材料所附着的区域；保持部，用于保持所述被处理基板；和位置设定部，在由所述防着板和所述保持部夹持并保持所述被处理基板时设定所述被处理基板的位置。所述位置设定部具有与所述被处理基板的周边端面部抵接的辊。

Description

成膜装置
技术领域
本发明涉及一种成膜装置，特别是涉及一种适于在溅射或化学气相沉积(CVD)等的成膜过程中使用的技术。
本申请基于2017年6月29日在日本申请的专利申请2017-127092号要求优先权，并且在此援引其内容。
背景技术
在半导体器件领域或平板显示器(FPD)领域中，将溅射装置作为形成各种薄膜的装置使用。
对于一般的溅射装置来说，在腔室内设置有溅射用阴极，在减压后的腔室内以与安装于阴极的靶隔开规定间隔相对的方式配置有被处理体(基板)。
接着，在向腔室内导入Ar气体(惰性气体)且将被处理体接地的状态下对靶施加负电压而进行放电，并且使通过放电从Ar气体电离出的Ar离子与靶碰撞。
并且，通过使从靶飞出的粒子附着到被处理体而进行成膜处理。
作为这种装置的一例，如专利文献1的记载，已知有在利用夹紧机构来定位并支撑基板的状态下进行成膜的技术。
专利文献1：日本专利第5309150号公报
专利文献2：日本专利第5869560号公报
然而，例如像专利文献2的记载，有时实施连续进行多种成膜处理等成膜量多的处理。在该情况下，在成膜室内的作为可动部分的夹紧机构上堆积附着物，并且附着物的量增加，该附着物成为引起成膜缺陷的颗粒发生源。因此，要求不设置夹紧机构。
但是，在未设置夹紧机构的情况下，虽然能够降低颗粒发生，但会出现无法充分维持成膜处理过程中的基板对准的准确性的问题。
发明内容
本发明是鉴于上述情况而提出的，其欲实现以下目的。
1、即使在成膜量增加的情况下也能降低颗粒发生。
2、能够维持成膜处理过程中的基板对准的准确性。
本发明的一方式所涉及的成膜装置为对被处理基板进行成膜的成膜装置，包括：供给装置，配置在能够真空排气的腔室内且用于供给成膜材料；和保持装置，用于在成膜时保持所述被处理基板。所述保持装置具有：防着板，用于覆盖所述保持装置中所述成膜材料所附着的区域；保持部，用于保持所述被处理基板；和位置设定部，在由所述防着板和所述保持部夹持并保持所述被处理基板时设定所述被处理基板的位置。所述位置设定部具有与所述被处理基板的周边端面部抵接的辊。
在本发明的一方式所涉及的成膜装置中，在所述保持装置中所述位置设定部也可以设置在与位于彼此相反的位置的所述被处理基板的各个边缘部抵接的位置上。
在本发明的一方式所涉及的成膜装置中，也可以在所述腔室的外侧设置有驱动装置，所述驱动装置在由所述防着板和所述保持部夹持并保持所述被处理基板时，使所述防着板和所述保持部彼此远离及靠近。
在本发明的一方式所涉及的成膜装置中，所述辊也可以设置于所述防着板上。
在本发明的一方式所涉及的成膜装置中，所述辊也可以设置于所述保持部上。
在本发明的一方式所涉及的成膜装置中，所述保持装置也可以具有与所述被处理基板的周边端面部抵接的支撑部件。
在本发明的一方式所涉及的成膜装置中，所述支撑部件也可以设置于所述防着板上。
在本发明的一方式所涉及的成膜装置中，所述支撑部件也可以具有与所述被处理基板的至少周边端面部接触的基板支撑部，所述基板支撑部能够在沿所述被处理基板的表面的方向上沿所述周边端面部的法线方向移动，并且朝向所述被处理基板的中心施力。
本发明的一方式所涉及的成膜装置为对被处理基板进行成膜的成膜装置，包括：供给装置，配置在能够真空排气的腔室内且用于供给成膜材料；和保持装置，用于在成膜时保持所述被处理基板。所述保持装置具有：防着板，用于覆盖所述保持装置中所述成膜材料所附着的区域；保持部，用于保持所述被处理基板；和位置设定部，在由所述防着板和所述保持部夹持并保持所述被处理基板时设定所述被处理基板的位置。所述位置设定部具有与所述被处理基板的周边端面部抵接的辊。由此，在由防着板和保持部夹持被处理基板时，通过防着板和保持部彼此靠近的动作，被处理基板的周边端面部与辊抵接，被处理基板被定位为相对于防着板处于规定位置。由此，能够只通过防着板和保持部彼此靠近的动作，由旋转的辊轮在不破损通过周边端面部抵接的被处理基板的情况下进行定位。因此，能够对已准确定位的状态下的被处理基板进行成膜处理。
在本发明的一方式所涉及的成膜装置中，所述位置设定部在所述保持装置中设置在与位于彼此相反的位置的所述被处理基板的各个边缘部抵接的位置上。由此，位置设定部与位于彼此相反的位置的被处理基板的各个边缘部抵接，从而将被处理基板定位为相对于防着板处于规定位置。此外，在本发明的一方式所涉及的成膜装置中，优选以位置设定部与位于彼此交叉的被处理基板的边上的各个边缘部抵接的方式，在保持装置中设置有多个位置设定部。在该情况下，能够在被处理基板的面内方向的多个方向上进行被处理基板的定位。
在本发明的一方式所涉及的成膜装置中，在所述腔室的外侧设置有驱动装置，所述驱动装置在由所述防着板和所述保持部夹持并保持所述被处理基板时，使所述防着板和所述保持部彼此远离及靠近。由此，无需在作为被处理空间的腔室内配置作为颗粒发生源的驱动源等，从而能够防止被处理空间中的污染发生，并能削减腔室容积。
另外，在本发明的一方式所涉及的成膜装置中，所述辊设置于所述防着板。由此，能够通过在夹持被处理基板时防着板和保持部彼此靠近的动作，在与防着板中的辊的配置位置对应的部位准确地设定被处理基板的位置。
另外，在本发明的一方式所涉及的成膜装置中，所述辊设置于所述保持部。由此，能够通过在夹持被处理基板时防着板和保持部彼此靠近的动作，在与保持部中的辊的配置位置对应的部位设定被处理基板的位置，并且进行被处理基板相对于与保持部对应地设定的防着板的位置设定。
另外，所述保持装置具有与所述被处理基板的周边端面部抵接的支撑部件。由此，即使在通过支撑部件与被处理基板的周边端面部的接触来支撑被处理基板的情况下，也能够防止在被处理基板的边缘部发生破损等。
另外，所述支撑部件设置于所述防着板。由此，能够在与防着板中的支撑部件的配置位置对应的部位支撑被处理基板。此外，可以以在成膜处理过程中被处理基板相对于防着板的位置不会发生变动的方式支撑被处理基板。
在本发明的一方式所涉及的成膜装置中，所述支撑部件具有与所述被处理基板的至少周边端面部接触的基板支撑部，所述基板支撑部能够在沿所述被处理基板的表面的方向上沿所述周边端面部的法线方向移动，并且朝向所述被处理基板的中心施力。由此，能够防止在被处理基板边缘部上发生裂纹及缺损。此外，朝向被处理基板的中心施力是指能够支撑施加到基板支撑部的被处理基板的荷载的方向。
根据本发明的方式，能够实现如下的效果：即，在成膜量增加的情况下，也能够降低颗粒发生，并且能够维持成膜处理过程中的基板对准的准确性。
附图说明
图1是表示本发明的第一实施方式所涉及的成膜装置的示意性俯视图。
图2是表示本发明的第一实施方式所涉及的成膜装置中的装载及卸载室的示意性侧视图。
图3是表示本发明的第一实施方式所涉及的成膜装置中的成膜室的示意性侧视图。
图4是表示本发明的第一实施方式所涉及的成膜装置中的保持装置的立体图。
图5是表示本发明的第一实施方式所涉及的成膜装置中的保持装置的图，是图4中的沿V-V线的剖视图，是表示在防着板与保持部之间夹持有玻璃基板的状态的图。
图6是表示本发明的第一实施方式所涉及的成膜装置中的保持装置的图，是图4中的沿VI-VI线的剖视图，是表示在防着板与保持部之间夹持有玻璃基板的状态的图。
图7是说明现有的成膜装置中的夹紧件的剖视图。
图8是表示本发明的第二实施方式所涉及的成膜装置中的保持装置的立体图。
具体实施方式
下面，基于附图对本发明的第一实施方式所涉及的成膜装置进行说明。此外，本实施方式是为了更好地理解本发明的主旨而具体说明的内容，在没有特别指定的情况下，并不限定本发明。
图1是表示本实施方式所涉及的成膜装置的示意性俯视图。图2是表示本实施方式所涉及的成膜装置的装载及卸载室的示意性侧视图。图3是表示本实施方式所涉及的成膜装置的成膜室的示意性侧视图。图4是表示本实施方式所涉及的成膜装置的保持装置的立体图。在附图中，附图标记1为成膜装置。
本实施方式所涉及的成膜装置1(溅射装置)为例如在液晶显示器的制造工艺中在由玻璃等形成的被处理基板(玻璃基板、基板)的上面形成薄膜晶体管(Thin filmtransistor，TFT)的情况等对由玻璃或树脂形成的被处理基板在真空环境下进行加热处理、成膜处理和蚀刻处理等的往复式或直列式真空处理装置。
如图1及图2所示，成膜装置1包括：装载及卸载室2，用于运入和运出由大致矩形的玻璃形成的玻璃基板11(被处理基板)；耐压的成膜室4(腔室)，利用溅射法在玻璃基板11上形成例如ZnO类或In2O3类的透明导电膜等的被膜；和运送室3(腔室)，位于成膜室4与装载及卸载室2(腔室)之间。如图2所示，虽然将底部溅射式溅射装置作为本实施方式所涉及的成膜装置1来采用，但也可以采用侧面溅射式或顶部溅射式溅射装置。
此外，虽然未图示，但也可以在成膜装置1中设置有多个成膜室4(腔室)和多个装载及卸载室2(腔室)。在该情况下，多个腔室也可以被形成为包围运送室3的周围。这种腔室例如由彼此相邻形成的两个装载及卸载室(腔室)和多个处理室(腔室)构造即可。例如，也可以将两个装载及卸载室中的一个装载及卸载室设为从外部向真空处理装置(成膜装置1)运入玻璃基板11的装载室，并将另一个装载及卸载室设为从成膜装置1向外部运出玻璃基板11的卸载室。
可在这种各个腔室2、4与运送室3之间以及在装载及卸载室2(腔室)与外部之间分别形成有闸阀。
如图2所示，在装载及卸载室2的内部配置有定位部件2a，该定位部件2a能够设定从成膜装置1的外部运入的玻璃基板11的载置位置并进行对准。
在装载及卸载室2中还设置有用于对该装载及卸载室2内进行粗抽真空的旋转泵等的粗抽排气装置2b(低真空排气装置)。
如图1所示，在运送室3的内部配置有运送装置3a(运送机器人)。
运送装置3a具有旋转轴、安装于该旋转轴的机械臂、形成于机械臂的一端的机械手及用于使机械手上下运动的上下运动装置。机械臂由能够彼此弯曲的第一及第二主动臂和第一及第二从动臂构造。运送装置3a能够使作为被运送物的玻璃基板11在各个腔室2、4与运送室3之间移动。
如图3所示，在成膜室4的内部设置有保持装置10，该保持装置10在成膜过程中保持玻璃基板11。保持装置10也可以具备用于加热玻璃基板11的加热器。另外，在成膜室4中设置有：竖立设置在与加热器相对的位置上且作为供给成膜材料的供给装置发挥功能的衬板6(阴极电极、溅射阴极)、对衬板6施加负电位溅射电压的电源7、向该成膜室4内导入气体的气体导入部8和对成膜室4的内部进行高抽真空的涡轮分子泵等的高真空排气装置9。在衬板6的与玻璃基板11大致平行地相对的前面侧固定有靶。
在成膜室4的外侧设置有用于使构造保持装置10的防着板15和保持部13彼此远离及靠近的驱动装置30。在图3所示的例中，驱动装置30与防着板15连接，通过驱动装置30控制防着板15与保持部13之间的相对距离。驱动装置30也可以不与防着板15连接，而是与保持部13连接。另外，驱动装置30也可以与防着板15及保持部13这两个部件连接。
图5是表示本实施方式中的保持装置的位置设定部附近的结构的剖视图。图6是表示本实施方式中的保持装置的基板导向件的剖视图。图5是图4中的沿V-V线的剖视图，是表示在防着板与保持部之间夹持有玻璃基板的状态的图。图6是图4中的沿VI-VI线的剖视图，是表示在防着板与保持部之间夹持有玻璃基板的状态的图。
如图3～图5所示，保持装置10具备：保持部13，用于保持玻璃基板11的后面11L；防着板15，用于覆盖玻璃基板11的边缘部11E及保持装置10中成膜材料所附着的区域R；辊16(位置设定部)，在由防着板15和保持部13夹持并保持玻璃基板11时设定玻璃基板11的位置；和基板导向件100(支撑部件)，通过与玻璃基板11的周边端面部11b抵接来支撑玻璃基板11。
保持部13具有在玻璃基板11的成膜处理时从被处理面11a(表面)的后面11L支撑玻璃基板11的周边部(边缘部11E)的结构，并且具有比玻璃基板11的外形轮廓稍大的框体形状。在框状的保持部13的内侧配置有未图示的加热器。加热器能够从后面11L加热支撑在保持部13的玻璃基板11。
保持部13具备多个支撑凸部19，该多个支撑凸部19通过与玻璃基板11的后面11L抵接而支撑玻璃基板11。多个支撑凸部19从保持部13的表面(与防着板15相对的面)朝向玻璃基板11的后面11L(支撑侧)突出。多个支撑凸部19被配置成与玻璃基板11的外形轮廓形状对应。
支撑凸部19与后述的辊16同样对溅射等处理具有耐热性及耐真空性，并且由具有能够支撑玻璃基板11的强度的树脂形成。这种树脂例如可列举Vespel(杜邦公司制造、注册商标)等的聚酰亚胺树脂。
设置于保持部13的多个辊16中的每一个具有与形成保持部13的框架的直线部13X(第一直线部、边)或直线部13Y(第二直线部、边)的延伸方向平行的轴线。各个辊16可以以其轴线为中心进行旋转。具体而言，如图4及图5所示，多个辊16以各辊16的旋转曲面16F的切线TL(与轴线正交且与保持部13平行的切线)朝向保持部13的中央延伸的方式配置在保持部13的直线部13X、13Y上。由此，在多个辊16能够绕与由保持部13保持的玻璃基板11的周边端面部11b平行的轴线旋转的状态下，辊16的旋转曲面16F能够与玻璃基板11的周边端面部11b抵接。
另外，多个辊16中的每一个可设置于角部C附近的位置(角部C的两侧)上，该角部C为矩形的保持部13中的直线部13X、13Y所交叉(连接)的部分。由此，对于保持部13来说，在彼此相对的两组直线部(边)即两个直线部13X及两个直线部13Y中的每一个上设置有辊16。此外，可根据玻璃基板11的外形轮廓形状、大小及处理时的玻璃基板11的支撑状态等，适当设定多个辊16在保持部13中的配置及多个辊16的数量。
具体而言，在保持部13的相邻的两个边所连接的角部C的两侧即在与直线部13X、13Y所连接的角部C相邻的位置上可配置有两个或四个辊16。即，在构造保持部13的四个角部区域可配置有总计8～16个辊16。另外，辊16可以在保持部13的直线部13X、13Y所延伸的方向上配置在支撑凸部19的两侧位置上。
如图4及图5所示，辊16通过辊16的旋转曲面16F与玻璃基板11的周边端面部11b抵接而设定玻璃基板11相对于保持部13的面内方向的支撑位置。另外，以辊16的旋转轴线16a位于由呈支撑状态的玻璃基板11的表面11a延伸而成的平面11Va与由后面11L延伸而成的平面11VL之间的方式设定辊16及支撑凸部19的位置。即，辊16的旋转轴线16a的位置在呈支撑状态的玻璃基板11的厚度方向上位于以玻璃基板11的厚度尺寸的一半左右的距离与支撑凸部19的前端19T隔开的位置上。
辊16的径向尺寸(直径)可以大于玻璃基板11的厚度尺寸，例如辊16的直径可以是玻璃基板11的厚度尺寸的三倍以上。
辊16对溅射等处理具有耐热性及耐真空性，并且由具有能够支撑玻璃基板11的强度的树脂形成。作为这种树脂，例如可列举Vespel(杜邦公司制造、注册商标)等的聚酰亚胺树脂。
如图4及图5所示，防着板15与保持部13相对，并且与该保持部13一同夹持并保持玻璃基板11。防着板15被形成为用于覆盖保持装置10中不希望成膜材料附着的区域R和支撑在保持部13的玻璃基板11周边的非成膜区域(边缘部11E)的矩形框状。如此，防着板15被设置为覆盖从保持装置10的外周部分至玻璃基板11的外周部分为止的部分，并且防着板15被设置为覆盖从衬板6的靶撞击出的粒子除玻璃基板11以外所附着的区域。
如图4及图5所示，在防着板15的中央部形成有开口部15a，为了使成膜材料到达玻璃基板11的被处理面11a(表面)，该开口部15a沿防着板15的厚度方向贯通。在该开口部15a的边缘部(内端)上形成有倾斜部15b。倾斜部15b具有倾斜部15b的厚度在从玻璃基板11的外侧朝向中心的方向上减小的倾斜面。即，开口部15a被形成为开口部15a的开口面积在从防着板15的表面侧朝向后面侧的方向上缩小，由此在开口部15a的内周面上形成有倾斜部15b。
如图5所示，在防着板15的后面侧15L(后面)上形成有与辊16的形状对应的凹部15c。由于在支撑玻璃基板11的状态下辊16的与防着板15相对的面位于该凹部15内，因此辊16不会与防着板15接触。
如图4所示，防着板15被设置为与保持部13并排的状态，并且被设置为通过使防着板15和保持部13彼此远离及靠近而防着板15和保持部13之间的隔开距离可变。此时，虽然防着板15和保持部13彼此维持并排状态，但在图4的箭头B所示的方向上改变隔开距离。
保持装置10能够以改变防着板15和保持部13之间的隔开距离的方式驱动，并且能够利用防着板15和保持部13来夹持玻璃基板11并保持及释放玻璃基板11。
如上所述，在本实施方式所涉及的保持装置10中设置有用于驱动防着板15的驱动装置30。该用于驱动防着板15的驱动装置30设置于成膜室4(腔室)的外侧位置。例如，可通过沿防着板15和保持部13的法线方向延伸的驱动销(驱动装置)等来设定保持部13与防着板15之间的距离。该驱动销可设置为通过配置在成膜室4(腔室)的外侧的驱动电动机等的驱动装置30来进行进退的结构。驱动销、驱动装置30能够在维持腔室4的密闭的状态下驱动防着板15。
防着板15例如可以是被构造为相对于保持部13能够装卸且由钛或陶瓷等形成的矩形板状。
作为防着板15的装卸结构，例如可以在防着板15的后面侧15L(靠近玻璃基板11的面)设置有沿框状的防着板15的法线方向延伸的装卸杆。装卸杆可通过连接部件连接到用于限制保持装置10的防着板15的移动的位置限制部件。装卸杆为沿防着板15的法线方向设置的圆柱形状的部件，并且被收容到设置于位置限制部件的收容部。
由此，能够使用运送室3的运送装置3a(运送机器人)来将防着板15取出到腔室2、3、4的外侧。另外，能够使用运送装置3a(运送机器人)来安装从装载及卸载室2运送来的新的防着板15。
另外，在防着板15的后面侧15L设置有位于开口部15a的周边的多个基板导向件100(支撑部件)。
如图6所示，基板导向件100具有基座110、基板支撑部120和螺旋弹簧140(施力部件)。
基座110及基板支撑部120对溅射等处理具有耐热性及耐真空性，并且由具有能够支撑玻璃基板11的强度的树脂形成。这种树脂例如可列举Vespel(杜邦公司制造、注册商标)等的聚酰亚胺树脂。
基座110被安装在防着板15的后面侧15L，并且在基座110中收纳有与玻璃基板11抵接的基板支撑部120。
基板支撑部120以支撑平面部121从基座110的中央向玻璃基板11的周边端面部11b的法线方向突出的方式收纳到基座110。基板支撑部120的支撑平面部121与保持在保持装置10中的玻璃基板11的周边端面部11b大致平行地接触。基板支撑部120以能够在沿玻璃基板11的表面11a及后面11L的面内方向即周边端面部11b的法线方向上移动的方式安装到基座110。
基板支撑部120在收纳到基座110的状态下通过螺旋弹簧140沿玻璃基板11的周边端面部11b的法线方向即防着板15的开口部15a的法线方向对基座110施力。
如图6所示，基座110具有大致长方体形状。在基座110的内部形成有收纳基板支撑部120的内部空间111。
基座110的内部空间111具有开口111a、111b。开口111a在安装到防着板15的后面侧15L的背面110a上开口。开口111b在防着板15的开口部15a的内侧开口。在基座110的背面110a上竖立设置有板状的抵接部112，该板状的抵接部112被形成为沿背面110a的延伸方向延伸。
在后视观察时，基座110的内部空间111具有大致矩形的剖面。该剖面为大约整个内部空间111在背面110a上开口的大致矩形的剖面。在基座110的图6的上下方向上，内部空间111被形成为具有比背面110a中的内部空间111的尺寸的约一半还小的尺寸。
基座110的内部空间111通过开口111a开口，并且残留抵接部112的在图6的相对于纸面的铅直方向上的两端。换言之，基座110以包围开口111a的方式与抵接部112连接。基座110在图6的右侧的表面上形成有上槽113。在图6的相对于纸面的铅直方向上，上槽113的宽度尺寸与内部空间111的尺寸相等。上槽113以沿图6中的上下方向延伸的方式形成在基座110上。
对于内部空间111来说，基座110的位于图6的下侧的面为移动位置限制滑动面116。移动位置限制滑动面116通过与基板支撑部120抵接而限制基板支撑部120的移动位置。在图6的相对于纸面的铅直方向上形成有位于大致同一平面上的两个移动位置限制滑动面116。
在基座110的内部空间111中沿图6的左右方向收纳有具有伸缩轴线的螺旋弹簧140。基座110除抵接部112以外具有远离由基板支撑部120的支撑平面部121载置的玻璃基板11的轮廓形状。
从背面110a侧观察时，抵接部112呈大致矩形的轮廓形状，并且被设为载置在基板导向件100上的玻璃基板11不会与防着板15的后面侧15L直接抵接的大小。具体而言，抵接部112从基座110的背面110a中的端部朝向图6的右方向竖立设置，并且具有与基座110的在图6的相对于纸面的铅直方向上的尺寸相等的宽度。
基板支撑部120具有支撑平面部121和收纳部122。当在支撑平面部121的位于图6的右侧的面上载置有玻璃基板11时，支撑平面部121与周边端面部11b抵接。收纳部122被收纳到图6的左端侧的内部空间111中。
收纳部122位于基座110的背面110a侧，并且沿内部空间111在图6的左右方向上延伸。收纳部122的厚度尺寸与内部空间111的图6的上下方向的尺寸相等。另外，作为开口111a的上端侧的支撑平面部121具有载置部123。载置部123沿上槽113朝向图6的下侧延伸，并且被形成为覆盖基座110的图6的上下方向的全长。如图6所示，收纳部122和载置部123具有剖面呈L字状的形状。
如图6所示，在俯视观察时，收纳部122具有与内部空间111大致相等的剖面形状。对于收纳部122来说，在图6的相对于纸面的铅直方向上的收纳部122的两端侧形成有能够与基座110的位置限制面对应抵接的位置限制面。对于收纳部122来说，在图6的相对于纸面的铅直方向上形成有位于大致同一平面上的两个位置限制面。
在收纳部122中，沿图6的左右方向延伸设置有收纳螺旋弹簧140的收纳凹部124。
在图6所示的收纳部122的下侧面上形成有移动位置限制滑动面，该移动位置限制滑动面相对于基座110的移动位置限制滑动面116能够滑动。该移动位置限制滑动面为沿图6的左右方向延伸的平面。此外，由于收纳部122的移动位置限制滑动面与收纳凹部124重叠，因此在图6中未图示该移动位置限制滑动面。
由于收纳部122的移动位置限制滑动面和移动位置限制滑动面116滑动，因此能够沿图6的左右方向限制基板支撑部120相对于基座110的移动方向。
在载置部123中位于背面110a附近的部位为与图6的上下方向平行的平面即支撑平面部121。在图6中的支撑平面部121的下侧形成有倾斜面123a。该倾斜面123a与支撑平面部121连接，并且从支撑平面部121与倾斜面123a之间的连接点朝向图6的下方而向左侧倾斜。倾斜面123a被形成为在从支撑平面部121向图6的下侧端部的方向上朝向防着板15的开口部15a的外侧倾斜。即，倾斜面123a被设置为在从防着板15向保持部13的方向上以及在载置于保持部13的玻璃基板11的表面11a的面内方向上逐渐远离支撑平面部121。
在当玻璃基板11与基板导向件100抵接时，利用移动位置限制滑动面116及收纳部122的移动位置限制滑动面来限制基板支撑部120在图6的左右方向上的移动方向的状态下，通过施加到基板支撑部120的荷载来压缩螺旋弹簧140，从而使螺旋弹簧的长度缩小，并且如图6的箭头D所示，基板支撑部120向图6的左方向移动。
通过该基板保持部120的移动，能够缓解起因于施加到基板支撑部120的荷载的对玻璃基板11的周边端面部11b的反力以及对玻璃基板11的周边端面部11b的冲击。
基板导向件100的抵接部112和支撑凸部19以能够夹持并保持玻璃基板11的方式配置在彼此相对的位置上。支撑凸部19配置为与基板导向件100的抵接部112的中心位置对应。
此外，支撑凸部19可以也配置在作为未设置基板导向件100的位置的保持部13。特别是，优选在作为辊16的两侧的位置上配置支撑凸部19。
另外，基板导向件100的支撑平面部121可以在防着板15的法线方向上配置在与辊16的外周大致相同的位置上。
此外，基板导向件100的支撑平面部121可以在防着板15的法线方向上配置在比辊16的外周稍微靠近防着板15的开口部15a的外侧的位置上。在该情况下，基板导向件100的倾斜面123a在其倾斜方向上的规定位置可以在防着板15的法线方向上配置在与辊16的外周大致相同的位置上。
接着，说明在本实施方式所涉及的成膜装置1中对由保持装置10保持玻璃基板11的状态下的玻璃基板11进行成膜的情况。
首先，对在成膜室4内执行的成膜工序进行说明。
从气体导入部8向成膜室4内供给溅射气体和反应气体，并且由外部的电源7对衬板6(阴极电极)施加溅射电压。在成膜室4内由等离子体激发的溅射气体离子与衬板6的靶碰撞并飞出成膜材料粒子。并且，在飞出的粒子与反应气体结合之后，粒子附着到玻璃基板11，从而在玻璃基板11的表面上形成规定的膜。如本实施方式那样，往复式反应性溅射装置(成膜装置1)也可以构造为通过驱动保持装置10来使被保持的玻璃基板11相对于衬板6进行相对移动。
接着，对玻璃基板11的成膜前的工序特别是对运入到成膜装置1内的玻璃基板11进行对准的工序进行说明。
首先，从成膜装置1的外部运入到内部的玻璃基板11被载置在装载及卸载室2内的定位部件2a上。此时，玻璃基板11在定位部件2a上被对准到规定位置。
接着，由运送装置3a(运送机器人)的机械手支撑载置在装载及卸载室2的定位部件2a上的玻璃基板11，并且从装载及卸载室2取出该玻璃基板11。并且，经由运送室3向成膜室4运送玻璃基板11。
如图3所示，在成膜室4中保持装置10处于防着板15通过驱动装置30远离保持部13的状态(准备位置)。
在该状态下，到达成膜室4的玻璃基板11通过运送装置3a(运送机器人)被载置在保持装置10的保持部13上。
首先，如图4的箭头A所示，由运送装置3a(运送机器人)支撑为与防着板15及保持部13大致并排状态的玻璃基板11沿与保持部13水平的方向插入到彼此远离的保持部13与防着板15之间。之后，玻璃基板11到达图4的虚线所示的位置上。
此时，玻璃基板11在保持部13的面上的X方向及Y方向的位置(面内位置)被设定为由定位部件2a及运送装置3a(运送机器人)的移动而规定的状态。然而，在该状态下有可能X方向及Y方向的位置上出现数毫米左右的偏差。
接着，就玻璃基板11来说，运送装置3a(运送机器人)的机械手靠近保持部13，从而如图4的箭头B所示，玻璃基板11下降至玻璃基板11的周边部(边缘部11E)的后面11L与多个支撑凸部19抵接的位置。
此时，伴随玻璃基板11的移动，玻璃基板11的周边端面部11b与所靠近的辊16抵接。与玻璃基板11的周边端面部11b抵接的辊16通过移动的玻璃基板11的动作而旋转，并且对准玻璃基板11在X方向及Y方向上的位置。
如上所述，多个辊16设置在保持部13的直线部13X、13Y上。因此，当在保持部13上载置玻璃基板11时，多个辊16配置在矩形的玻璃基板11的外形轮廓的各个边的两端位置即矩形的玻璃基板11的靠近角部的位置。因此，能够准确地规定在设置于彼此相对的直线部上的辊16之间所配置的玻璃基板11的位置。即，能够准确地规定在设置于彼此相对的两个直线部13X上的辊16之间所配置的玻璃基板11的位置。另外，能够准确地规定在设置于彼此相对的两个直线部13Y上的辊16之间所配置的玻璃基板11的位置。
同时，能够通过设置于彼此正交的直线部13X、13Y上的辊16来准确地规定玻璃基板11在X方向及Y方向上的位置。
由此，载置在保持部13上的玻璃基板11在只与多个支撑凸部19及多个辊16抵接的状态下处于准确地定位在保持部13上的状态。
接着，如图6的箭头G所示，通过驱动装置30，防着板15朝向保持部13下降并靠近。
此时，玻璃基板11的周边端面部11b与设置于靠近的基板导向件100的基板支撑部120上的倾斜面123a及支撑平面部121抵接。周边端面部11b与支撑平面部121抵接的玻璃基板11相对于防着板15被保持在成膜处理过程中所需要的位置上。
倾斜面123a被形成为从支撑平面部121朝向开口部15a所扩大的方向倾斜。因此，如图6的箭头D所示，与倾斜面123a抵接的周边端面部11b受到朝向支撑平面部121的引导且进行玻璃基板11的最终位置设定。
在玻璃基板11的表面11a与抵接部112抵接的位置上结束防着板15的下降。
通过停止防着板15的移动，从而如图5所示利用抵接部112和支撑凸部19来夹持玻璃基板11的表面11a及后面11L。在该状态下，玻璃基板11配置在成膜处理位置上且被保持在保持装置10中，从而结束对准。
然后，配置于成膜处理位置上且被保持于保持装置10上的玻璃基板11被保持为玻璃基板11的表面11a和衬板6的表面大致平行的状态，并且进行上述成膜工序。
此外，在对玻璃基板11完成对准的状态下，防着板15处于最靠近保持部13的位置时，如图5所示，与防着板15相对的辊16的部分处于位于防着板15的凹部15c内的状态，辊16不会与防着板15接触。
利用运送装置3a(运送机器人)从通过驱动装置30上升的防着板15与保持部13之间沿与图6的箭头A相反的方向取出完成成膜处理的玻璃基板11，并且经由运送室3最终从装载及卸载室2运出到外部。此外，也可以在其他腔室中进行其他处理。
根据本实施方式所涉及的成膜装置1，能够在不使用如图7所示的夹紧件K的情况下准确地进行玻璃基板11的对准。此外，如图7的虚线所示，夹紧件K为通过转动动作进行玻璃基板11的对准的部件。在该情况下，由于是具备夹紧件K的结构，在成膜空间即处理室4内配置可动部件，因此有可能产生因颗粒发生带来的不良情况。
相对于此，在成膜装置1中能够基本上消除因具备夹紧件K的结构引起的颗粒产生的不良情况。
在图7中，该夹紧件K为夹持基板W的外周部分并将基板W保持在载置部52上的部件。
另外，在成膜处理之后从处理室4取出附着有多余成膜材料的防着板150并更换基板W时，具有夹紧件K的结构需要破坏处理室4的密闭而将其释放到大气中。
相对于此，本实施方式所涉及的保持装置10能够利用运送装置3a(运送机器人)来取出处理后的防着板15，无需将处理室4释放到大气中。
另外，根据本实施方式所涉及的成膜装置1，如图5所示，能够通过可旋转的辊16与玻璃基板11的周边端面部11b的抵接来进行玻璃基板11的对准。因此，不会对玻璃基板11的周边端面部11b施加不必要的冲击和负载。由此，能够进一步降低玻璃基板11的裂纹及缺损的发生。
同时，能够通过基板导向件100来保持玻璃基板11的周边端面部11b，其中所述基板导向件100具有能够在玻璃基板11受力的状态下使玻璃基板11移动的基板支撑部120。因此，不会对玻璃基板11的周边端面部11b施加不必要的冲击和负载。由此，能够进一步降低玻璃基板11的裂纹及缺损的发生。
而且，当玻璃基板11与基板导向件100抵接时，已经成为由辊16对准玻璃基板11的状态。因此，只要设置有倾斜面123a，就能够处于几乎不会发生对准中的玻璃基板11的裂纹及缺损的状态。
另外，根据本实施方式所涉及的成膜装置1，未设置如图7所示的夹紧件K，因此能够缩短玻璃基板11的被处理面11a与防着板15的开口部15a之间的距离，并且减小防着板15与玻璃基板11之间的间隙。
同时，根据本实施方式所涉及的成膜装置1，未设置如图7所示的夹紧件K，因此能够在对准时减少与玻璃基板11的被处理面11a接触的面积，基本上没有在被处理面11a上发生划痕的可能性。
下面，基于附图对本发明的第二实施方式所涉及的成膜装置进行说明。
图8是表示本实施方式所涉及的成膜装置的保持装置的立体图，第二实施方式在辊的配置这一点上与上述一实施方式不同。在图8中对与第一实施方式相同的部件使用相同的附图标记，并且省略或简化其说明。
如图8所示，在本实施方式所涉及的保持装置10中，辊16与基板导向件100同样地配置在防着板15上。
如图8所示，在本实施方式所涉及的保持装置10中，辊16和基板导向件100可相邻配置在防着板15的角部C附近。
根据本实施方式，能够取得与上述第一实施方式同样的效果。
此外，在该情况下也可以将辊16和基板导向件100的配置及设置数量设为与第一实施方式相同。
以上对本发明的优选实施方式进行了说明，但应理解这些实施方式为本发明的举例说明，并不能认为限定本发明。在不脱离本发明的范围的情况下可进行附加、省略、置换及其他变更。因此，并不能认为本发明由前述说明来限定，本发明由权利要求书的范围来限制。
产业上的可利用性
作为本发明的应用例，可列举溅射装置或CVD装置等。
附图标记说明
1 成膜装置(溅射装置) 2 装载及卸载室(腔室)
2a 定位部件 2b 粗抽排气装置
3 运送室(腔室) 3a 运送装置(运送机器人)
4 成膜室(腔室、处理室) 6 衬板(阴极电极)
7 电源 8 气体导入部
9 高真空排气装置 10 保持装置
11 玻璃基板(被处理基板) 11a 被处理面
11a 被处理面(表面) 11a 表面
11b 周边端面部 11E 边缘部
11L 后面 11Va、11VL 平面
13 保持部 13X、13Y 直线部
15、150 防着板 15a 开口部
15b 倾斜部 15c 凹部
15L 后面侧 16 辊(位置设定部)
16a 旋转轴线 16F 旋转曲面
19 支撑凸部 19T 前端
30 驱动装置 52、123 载置部
100 基板导向件(支撑部件) 110 基座
111 内部空间 112 抵接部
113 上槽 116 移动位置限制滑动面
120 基板支撑部 121 支撑平面部
122 收纳部 124 收纳凹部
140 螺旋弹簧(施力部件) 110a 背面
111a 开口 123a 倾斜面
C 角部 K 夹紧件
L 剖面 R 区域 W 基板

Claims (8)

1.一种成膜装置，对被处理基板进行成膜，所述成膜装置包括：
供给装置，配置在能够真空排气的腔室内且用于供给成膜材料；和
保持装置，用于在成膜时保持所述被处理基板，
所述保持装置具有：
防着板，用于覆盖所述保持装置中所述成膜材料所附着的区域；
保持部，用于保持所述被处理基板；和
位置设定部，在由所述防着板和所述保持部夹持并保持所述被处理基板时设定所述被处理基板的位置，
所述位置设定部具有与所述被处理基板的周边端面部抵接的辊。
2.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，
在所述保持装置中所述位置设定部设置在与位于彼此相反的位置的所述被处理基板的各个边缘部抵接的位置上。
3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其中，
在所述腔室的外侧设置有驱动装置，所述驱动装置在由所述防着板和所述保持部夹持并保持所述被处理基板时，使所述防着板和所述保持部彼此远离及靠近。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的成膜装置，其中，
所述辊设置于所述防着板上。
5.根据权利要求1至3中的任一项所述的成膜装置，其中，
所述辊设置于所述保持部上。
6.根据权利要求1至5中的任一项所述的成膜装置，其中，
所述保持装置具有与所述被处理基板的周边端面部抵接的支撑部件。
7.根据权利要求6所述的成膜装置，其中，
所述支撑部件设置于所述防着板上。
8.根据权利要求6或7所述的成膜装置，其中，
所述支撑部件具有与所述被处理基板的至少周边端面部接触的基板支撑部，所述基板支撑部能够在沿所述被处理基板的表面的方向上沿所述周边端面部的法线方向移动，并且朝向所述被处理基板的中心施力。
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