JPH04348515A - ウェーハ保持機構 - Google Patents

ウェーハ保持機構

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Publication number
JPH04348515A
JPH04348515A JP3120612A JP12061291A JPH04348515A JP H04348515 A JPH04348515 A JP H04348515A JP 3120612 A JP3120612 A JP 3120612A JP 12061291 A JP12061291 A JP 12061291A JP H04348515 A JPH04348515 A JP H04348515A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
mounting table
hook
holding mechanism
main body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3120612A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhiko Ueno
和彦 上野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP3120612A priority Critical patent/JPH04348515A/ja
Publication of JPH04348515A publication Critical patent/JPH04348515A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板であるウェ
ーハに不純物を注入するイオン注入装置におけるウェー
ハを保持するウェーハ保持機構に関する。
【0002】
【従来の技術】図2は従来の一例を示すウェーハ保持機
構の断面図である。従来、この種のイオン注入装置にお
けるウェーハ保持機構は、例えば、図2に示すように、
回転するとともに内部に冷却水用経路3が形成された円
形状の本体2と、この本体2に載置されるとともにウェ
ーハ1を搭載する載置台5と、この載置台5と本体2と
を貫通する穴内を上下摺動してウェーハ1を突き上げる
エジェクタピン13と、本体2の穴を摺動し、先端に引
掛け部をもち、ウェーハ1を押さえるフック7と、この
フック7に押圧力を与えるコイルスプリング8とを有し
ていた。
【0003】このウェーハ保持機構の動作は、まず、フ
ック7を押し上げ、フック7の引掛け部と載置台5の間
を拡げ、この間にウェーハ1を挿入してウェーハ1を載
置台5に乗せる。次に、フック7の上昇機構を下し、コ
イルスプリング8の反揆力でウェーハ1を載置台5に押
しつけ保持する。次に、イオンをウェーハに照射すると
と同時に本体2を回転させる。そして本体2に取付けら
れた多数のウェーハにイオンを注入する。注入后、チャ
ンバを大気に戻し、フック7を上昇させると同時にエジ
ェクタピン13を突き上げウェーハ1を載置台5より上
に上げる。次に、フォークにてウェーハ1を取外す。
【0004】このように本体2に載置台5を取付け、複
数のウェーハ1を載置台5に乗せフック7で押さえ保持
してから本体2を回転させ、多数のウェーハにイオンを
走査することによりイオン注入を行っていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この従来のイオン注入
装置では、本体の高速回転による遠心力がウェーハを外
周方向に押し出す力として作用し、ウェーハ裏面と載置
台との密着する力を弱め、ウェーハへの熱伝達効率が下
がり、イオン注入によるウェーハの温度が上昇するとい
った問題がある。この問題は所要の不純物注入不良をも
たらし、歩留りを低下させていた。
【0006】本発明の目的は、かかる問題を解消すべて
、密着力をより確保し、ウェーハの温度上昇を抑制する
ウェーハ保持機構を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明のウェーハ保持機
構は、ウェーハを載置する載置台と、このウェーハを載
置台と恊動して挾み保持するフックと、このフックと載
置台の複数対を円周上に配置する回転円板とを有するウ
ェーハ保持機構において、前記円板の回転に伴う遠心力
により移動する板カムと、この板カムで従動することに
よって前記載置台を前記フック側に移動させるアームと
を備えている。
【0008】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明する
【0009】図1は本発明の一実施例を示すウェーハ保
持機構の断面図である。このウェーハ保持機構は、図1
に示すように、載置台5aの下部に取付けられるアーム
9と、このアーム9をローラ11を介して上下動させる
板カム14と、板カム14を移動させる移動軸10の一
端に取付けられるおもり12と、アーム9に反揆力を与
えるスプリング6と、板カム14に遠心力に抗する力を
与えるスプリング14aと、載置台5aの経水路と本体
2aの冷却水用経路3とを接続するベローズ4とを設け
たことである。すなわち、回転により発生する遠心力を
利用してウェーハを自己保持する機構を設けたことであ
る。次に、このウェーハ保持機構の動作を説明する。ま
ず、フック7を押し上げ、フック7の引掛け部と載置台
5aとの間にウェーハ1を挿入し、ウェーハ1を載置台
5aのに乗せる。次に、フック7のディスク2停止時に
ウェーハ1と受け台5上昇機構より取外し、コイルスプ
リング8の反揆力で引掛部でウェーハ1を押さえる。次
に、複数枚のウェーハ1を載置する本体2aを高速回転
する。このことにより回転時に発生する遠心力によって
、おもり12は本体2aの外周方向へ移動する。おもり
12と接続された移動軸10及び板カム14も本体2a
の外周方向へ移動する。この板カム14の移動によりロ
ーラ11は上昇し、本体2aを垂直方向に押し上げ、ア
ーム9介して載置台5aをスプリング6を抗して上昇さ
せる。そして押し上げられた載置台5aのウェーハ1は
フックの引掛部に押し付けられる。
【0010】このように、回転速度が増加するにつれて
、ウェーハを押さえる力を増大させることによって、よ
り密着力を大きくし、温度伝達率を向上させ、ウェーハ
1のイオン注入による温度上昇を防ぐことが出来る。
【0011】また、本体2aの回転停止時には、おもり
12には遠心力が働かないので、スプリング14aの復
元力により、板カム14は本体2aの中心方向へ移動し
、同時に載置台5a及びウェーハも本体2aの垂直方向
に下がり、フック7を上昇させることにより、ウェーハ
1を載置台5aより取外すことが出来る。
【0012】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、本体の回
転による遠心力により移動する板カムと、この板カムに
接触して載置台を移動させるアームと、載置台の移動に
伴ってウェーハを挾み保持する力を増大させるフック部
とを設けることによって、本体の回転に伴い、ウェーハ
の保持力の増大を図れるので、ウェーハの温度上昇を抑
制するウェーハ保持機構が得られるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示すウェーハ保持機構の断
面図である。
【図2】従来の一例を示すウェーハ保持機構の断面図で
ある。
【符号の説明】
1    ウェーハ 2,2a    本体 3    冷却水用経路 4    ベローズ 5,5a    載置台 6,14a    スプリング 7    フック 8    コイルスプリング 9    アーム 10    移動軸 11    ローラ 12    おもり 13    エジェクタピン

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  ウェーハを載置する載置台と、このウ
    ェーハを載置台と恊動して挾み保持するフックと、この
    フックと載置台の複数対を円周上に配置する回転円板と
    を有するウェーハ保持機構において、前記円板の回転に
    伴う遠心力により移動する板カムと、この板カムで従動
    することによって前記載置台を前記フック側に移動させ
    るアームとを備えることを特徴とするウェーハ保持機構
JP3120612A 1991-05-27 1991-05-27 ウェーハ保持機構 Pending JPH04348515A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3120612A JPH04348515A (ja) 1991-05-27 1991-05-27 ウェーハ保持機構

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3120612A JPH04348515A (ja) 1991-05-27 1991-05-27 ウェーハ保持機構

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04348515A true JPH04348515A (ja) 1992-12-03

Family

ID=14790558

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3120612A Pending JPH04348515A (ja) 1991-05-27 1991-05-27 ウェーハ保持機構

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JP (1) JPH04348515A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109563616A (zh) * 2017-06-29 2019-04-02 株式会社爱发科 成膜装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109563616A (zh) * 2017-06-29 2019-04-02 株式会社爱发科 成膜装置
CN109563616B (zh) * 2017-06-29 2021-07-23 株式会社爱发科 成膜装置
US11842887B2 (en) 2017-06-29 2023-12-12 Ulvac, Inc. Film formation apparatus

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