CN109469678A - 一种压力平衡装置及应用其的吸盘 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及吸盘技术领域,具体涉及一种压力平衡装置及应用其的吸盘。该压力平衡装置,包括基座、容设于基座并能够被挤压发生形变的形变介质、盖设于基座的密封盖、以及多个与基座活动连接的密封件,所述基座开设有用于容设形变介质的储存槽,所述储存槽的底壁开设有容置通孔,所述密封件突伸出容置通孔的底部并与容置通孔的侧壁抵靠,所述储存槽的内壁、密封件与密封盖之间形成密闭的容腔;当形变介质被一部分密封件挤压时,形变介质发生形变以挤压另一部分密封件向外突伸。该压力平衡装置受压后,所有密封件与接触面的受力均相等,达到压力平衡的效果;该压力平衡装置应用于吸盘,吸盘在平面或曲面上均能稳定吸附。
Description
技术领域
本发明涉及吸盘技术领域,具体涉及一种压力平衡装置及应用其的吸盘。
背景技术
市场上的吸盘产品有吸附玻璃等光滑面的吸盘,近年来还出现了能吸附粗糙面的吸盘;但现有的吸盘只能在被吸附面为平面基础上达到吸附效果,而无法实现曲面吸附;原因之一在于缺少将被吸附面与吸盘本体之间达到密闭的装置。
发明内容
为了克服现有技术中存在的缺点和不足,本发明的目的在于提供一种压力平衡装置,当形变介质被一部分密封件挤压时,形变介质发生形变以挤压另一部分密封件向外突伸,使另一部分的密封件受力并沿着靠近接触面的方向移动,最终所有密封件均与接触面接触,此时该压力平衡装置的所有密封件与接触面的受力均相等,达到压力平衡的效果;该压力平衡装置应用于吸盘中,吸盘不仅能在平面上吸附,而且能在曲面上吸附,打破了传统的吸盘技术。
本发明的另一目的在于提供一种应用该压力平衡装置的吸盘,使用时,吸盘本体的底面与被吸附面接触,下压力平衡装置,所有密封件共同驱使吸盘本体弯曲,直至吸盘本体的弧度与曲面的弧度相同,此时,被吸附面与吸盘本体之间的空气被排出,且被吸附面与吸盘本体之间达到密闭的状态,再拉动连接杆使被吸附面与吸盘本体构成的密闭空间更大,吸附作用更强;本发明的吸盘不仅能在平面上吸附,而且能在曲面上吸附,打破了传统的吸盘技术。
本发明的目的通过下述技术方案实现:一种压力平衡装置,包括基座、容设于基座并能够被挤压发生形变的形变介质、盖设于基座的密封盖、以及多个与基座活动连接的密封件,所述基座开设有用于容设形变介质的储存槽,所述储存槽的底壁开设有容置通孔,所述密封件贯穿容置通孔的底部并与容置通孔的侧壁抵靠,所述储存槽的内壁、密封件与密封盖之间形成密闭的容腔;当形变介质被一部分密封件挤压时,形变介质发生形变以挤压另一部分密封件向外突伸。
优选的,所述密封件包括突伸出容置通孔的底部并与容置通孔的侧壁抵靠的密封柱,所述密封柱与基座活动连接。
优选的,所述密封件还包括套设于密封柱的第一密封圈,所述第一密封圈与容置通孔的侧壁抵靠。
优选的,所述密封柱的侧壁开设有第一凹槽,所述第一密封圈容设于第一凹槽内。
优选的,所述容置通孔包括第二凹槽以及开设于第二凹槽的底壁的第一通孔,所述密封件贯穿所述第一通孔。
优选的,所述压力平衡装置还包括用于驱动所述密封柱复位的复位弹性件,所述复位弹性件穿设于密封柱并容设于第二凹槽内。
优选的,所述压力平衡装置还包括用于密封第二凹槽与密封件之间的间隙的第二密封圈,所述第二密封圈设置于第二凹槽的底壁与复位弹性件之间。
优选的,所述压力平衡装置还包括设置于密封盖与基座之间的密封垫,所述基座的顶部开设有用于容设密封垫的第三凹槽。
本发明的另一目的通过下述技术方案实现:一种应用上述的压力平衡装置的吸盘,所述吸盘包括压力平衡装置、穿设于压力平衡装置的连接杆以及与连接杆连接的吸盘本体,所述密封件的底部与吸盘本体抵靠。
优选的,所述吸盘还包括销轴和设置于压力平衡装置的顶部的连动按键,所述连动按键通过销轴与连接杆连接。
本发明的有益效果在于:本发明的压力平衡装置,基座、密封盖和密封件的组合,使储存槽形成密闭的容腔,实际使用时,压力平衡装置的密封件靠近接触面的一面为压力平衡装置的底面,当压下压力平衡装置时,与接触面接触的一部分密封件受力压缩并沿着靠近密封盖的方向移动,一部分密封件受力压缩的同时形变介质受力,形变介质在密闭的储存槽中把力传递给另一部分的密封件,使另一部分的密封件受力并沿着靠近接触面的方向移动,最终所有密封件均与接触面接触,此时所有密封件与接触面的受力均相等,达到压力平衡的效果;应用于吸盘中,接触面为吸盘本体的顶面,被吸附面为曲面时,下压力平衡装置,由于上述原理,所有密封件共同驱使吸盘本体弯曲,直至吸盘本体的弧度与曲面的弧度相同,此时,被吸附面与吸盘本体之间的空气被排出,且被吸附面与吸盘本体之间达到密闭的状态,从而实现曲面吸附;当被吸附面为平面时,采用上述步骤同样可以实现被吸附面与吸盘本体之间的空气被排出,且被吸附面与吸盘本体之间达到密闭的状态。
本发明的吸盘,使用时,吸盘本体的底面与被吸附面接触,下压力平衡装置,所有密封件共同驱使吸盘本体弯曲,直至吸盘本体的弧度与曲面的弧度相同,此时,被吸附面与吸盘本体之间的空气被排出,且被吸附面与吸盘本体之间达到密闭的状态,再拉动连接杆使被吸附面与吸盘本体构成的密闭空间更大,吸附作用更强;本发明的吸盘不仅能在平面上吸附,而且能在曲面上吸附,打破了传统的吸盘技术。
附图说明
图1是本发明所述压力平衡装置的立体结构示意图;
图2是本发明所述压力平衡装置的分解结构示意图;
图3是本发明所述基座的结构示意图;
图4是本发明所述吸盘的立体结构示意图。
附图标记为:1、基座;2、密封盖;3、密封件;31、密封柱;32、第一密封圈;4、储存槽;5、容置通孔;51、第二凹槽;52、第一通孔;6、第一凹槽;7、复位弹性件;8、第二密封圈;9、密封垫;10、第三凹槽;11、连接杆;12、吸盘本体;13、销轴;14、连动按键。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员的理解,下面结合实施例及附图对本发明作进一步的说明,实施方式提及的内容并非对本发明的限定。
实施例1
如图1-4所示,一种压力平衡装置,包括基座1、容设于基座1并能够被挤压发生形变的形变介质、盖设于基座1的密封盖2、以及多个与基座1活动连接的密封件3,所述基座1开设有用于容设形变介质的储存槽4,所述储存槽4的底壁开设有容置通孔5,所述密封件3突伸出容置通孔5的底部并与容置通孔5的侧壁抵靠,所述储存槽4的内壁、密封件3与密封盖2之间形成密闭的容腔;当形变介质被一部分密封件挤压时,形变介质发生形变以挤压另一部分密封件向外突伸。
基座1、密封盖2和密封件3的组合,使储存槽4形成密闭的容腔,实际使用时,压力平衡装置的密封件3靠近接触面的一面为压力平衡装置的底面,当接触面为曲面时,向下压压力平衡装置后,与接触面接触的一部分密封件3受力被压缩并沿着靠近密封盖2的方向移动,一部分密封件3受力压缩的同时形变介质也受到挤压,形变介质发生形变,形变介质在密闭的储存槽4中把力传递给另一部分的密封件3,使另一部分的密封件3受力并沿着靠近接触面的方向移动(即当形变介质被一部分密封件挤压时,形变介质发生形变以挤压另一部分密封件向外突伸),最终所有密封件3均与接触面接触,此时所有密封件3与接触面的受力均相等,达到压力平衡的效果;应用于吸盘中,接触面为吸盘本体12的顶面,所述吸盘本体12采用软胶制成,被吸附面为曲面时,向下压压力平衡装置,由于上述原理,所有密封件3共同驱使吸盘本体12弯曲,直至吸盘本体12的弧度与曲面的弧度相同,此时,被吸附面与吸盘本体12之间的空气被排出,且被吸附面与吸盘本体12之间达到密闭的状态,从而实现曲面吸附;当被吸附面为平面时,采用上述步骤同样可以实现被吸附面与吸盘本体12之间的空气被排出,且被吸附面与吸盘本体12之间达到密闭的状态。优选的,所述密封盖2与基座1螺纹连接。所述形变介质的特性为在密闭的容腔中受挤压后发生形变并延伸;所述形变介质包括液体介质、膏体介质、流沙介质或半流动性的软胶介质。优选的,所述形变介质为液体介质。
所述密封件3包括贯穿容置通孔5的底部并与容置通孔5的侧壁抵靠的密封柱31,所述密封柱31与基座1活动连接,优选地,所述密封柱31与基座1滑动连接。
在本实施例中,采用密封柱31将容置通孔5密封,防止形变介质从容置通孔5流出而导致漏液或外界的空气从容置通孔5流入储存槽4而导致无法形成密闭的容腔,影响压力平衡装置的正常使用。当密封件3受力时,密封柱31相对于容置通孔5滑动,最终,密封柱31的底部与接触面抵靠。
所述密封件3还包括套设于密封柱31的第一密封圈32,所述第一密封圈32与容置通孔5的侧壁抵靠。
在本实施例中,设置的第一密封圈32与密封柱31组合,共同将容置通孔5密封,更有效的避免漏液或空气流通,密封效果更好,使压力平衡装置的使用效果更佳。当密封件3受力时,密封柱31与第一密封圈32同时相对于容置通孔5滑动。
所述密封柱31的侧壁开设有第一凹槽6,所述第一密封圈32容设于第一凹槽6内。
采用上述技术方案,第一凹槽6的侧壁对第一密封圈32起到限位的作用,一方面是便于第一密封圈32套设与密封柱31上,另一方面是避免第一密封圈32与第一凹槽6的侧壁摩擦而脱离密封柱31,保证了第一密封圈32的稳定性和位置精度。另外,第一凹槽6的侧壁抵触第一密封圈32,避免密封件3受力压缩时第一密封圈32被外力挤压而变形,从而防止漏液或空气流通。
所述容置通孔5包括第二凹槽51以及开设于第二凹槽51的底壁的第一通孔52,优选地,所述第一凹槽51和第一通孔52均为圆孔,所述第二凹槽51的孔径大于第一通孔52的孔径,所述密封件3贯穿所述第一通孔52,所述密封柱31的形状与容置通孔5凹凸适配。
在本实施例中,密封件3组装于基座1时,所述密封件3从第二凹槽51穿过第一通孔52,并且密封件3的顶部限定在第二凹槽51内,防止密封件3从容置通孔5中脱落,提高压力平衡装置的工作稳定性。
所述压力平衡装置还包括用于驱动所述密封柱31复位的复位弹性件7,所述复位弹性件7穿设于密封柱31并容设于第二凹槽51内。
在本实施例中,压下压力平衡装置时,一部分的密封件3被压缩并沿靠近密封盖2的方向移动,该部分的密封件3的顶部与第二凹槽51之间的距离扩大,该部分对应的复位弹性件7处于伸展状态;而另一部分的密封件3沿靠近接触面的方向移动,该部分的密封件3的顶部与第二凹槽51之间的距离缩小,该部分对应的复位弹性件7被压缩。若压力平衡装置的外力消失,被压缩的复位弹性件7恢复原状并驱动该部分对应的密封件3复位,该部分对应的密封件3受力并通过形变介质传递给复位弹性件7处于伸展状态所对应的密封件3,使复位弹性件7处于伸展状态所对应的密封件3沿远离密封盖2的方向移动并复位,从而实现压力平衡装置整体复位的效果,便于循环利用。本实施例的复位弹性件7为压缩弹簧,所述压缩弹簧的一端抵触密封柱31的顶部,压缩弹簧的另一端抵触第二凹槽51的底壁。
所述压力平衡装置还包括用于密封第二凹槽51与密封件3之间的间隙的第二密封圈8,所述第二密封圈8设置于第二凹槽51的底壁与复位弹性件7之间。
采用上述技术方案,进一步密封所述容置通孔5,为实现密封容置通孔5提供第二重密封保障。优选的,所述第二密封圈8套设于密封柱31的侧壁。
所述压力平衡装置还包括设置于密封盖2与基座1之间的密封垫9,所述基座1的顶部开设有用于容设密封垫9的第三凹槽10。
采用上述技术方案,进一步提高基座1顶部的密封效果,增强了基座1与密封盖2的密封稳定性,提高密封效果,避免形变介质从基座1和密封盖2之间流出或空气从基座1和密封盖2之间流入。在本实施例中,所述密封垫9由内密封圈和外密封圈组成,所述第三凹槽10由用于容设内密封圈的第一容置槽和用于容设外密封圈的第二容置槽组成;在其他实施例中,所述密封垫9为一个,覆盖于储存槽4的顶面,所述密封垫9的内侧壁与外侧壁均与第三凹槽10抵靠。
一种应用上述的压力平衡装置的吸盘,所述吸盘包括压力平衡装置、穿设于压力平衡装置的连接杆11以及与连接杆11连接的吸盘本体12,所述密封件3的底部与吸盘本体12抵靠。
使用时,吸盘本体12的底面与被吸附面接触,下压力平衡装置,所有密封件3共同驱使吸盘本体12弯曲,直至吸盘本体12的弧度与曲面的弧度相同,此时,被吸附面与吸盘本体12之间的空气被排出,且被吸附面与吸盘本体12之间达到密闭的状态,再拉动连接杆11使被吸附面与吸盘本体12构成的密闭空间更大,吸附作用更强;本发明的吸盘不仅能在平面上吸附,而且能在曲面上吸附,打破了传统的吸盘技术。本发明应用压力平衡装置的吸盘在曲面吸附时,吸盘本体12弯曲的弧度与密封件3的高度有关,密封件3的高度越高,吸盘本体12可弯曲的弧度越大。
所述吸盘还包括销轴13和设置于压力平衡装置的顶部的连动按键14,所述连动按键14通过销轴13与连接杆11连接。
采用上述技术方案,按压连动按键14即可拉动连接杆11使被吸附面与吸盘本体12构成的密闭空间更大,吸附作用更强,本发明的吸盘使用过程更方便。进一步的,所述连接杆11远离吸盘本体12的一端开设有第二通孔,所述连动按键14开设有与第二通孔连通的第三通孔,所述销轴13穿设于第二通孔和第三通孔,从而使连动按键14与连接杆11连接。在本实施例中,采用按压的方式拉伸所述连接杆11;在其他实施例中,还可应用现有技术中螺旋的方式以及其它方式拉伸所述连接杆11。
所述密封盖2可通过螺纹连接、销连接、焊接等连接方式应用于手机支架中,方便手机支架在接触面为曲面的条件下使用。本实施例中,所述密封盖2的顶面为平面,在其他实施例中,所述密封盖的顶面为曲面。
在本实施例中所述储存槽4为一个,在其他实施例中可以在储存槽4内通过复数个隔板将所述储存槽4分隔为至少两个容腔。
实施例2
本实施例与实施例1的不同之处在于:
所述密封件3为密封柱31,所述密封柱31为软胶密封柱,所述软胶密封柱31贯穿容置通孔5的底部并与容置通孔5的侧壁抵靠。采用软胶密封柱,其扩展能力强,与容置通孔5抵靠更加紧密,避免了增设并组装密封圈带来的麻烦,节约原料成本和劳动力。
上述实施例为本发明较佳的实现方案,除此之外,本发明还可以其它方式实现,在不脱离本发明构思的前提下任何显而易见的替换均在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种压力平衡装置,其特征在于:包括基座、容设于基座并能够被挤压发生形变的形变介质、盖设于基座的密封盖、以及多个与基座活动连接的密封件,所述基座开设有用于容设形变介质的储存槽,所述储存槽的底壁开设有容置通孔,所述密封件突伸出容置通孔的底部并与容置通孔的侧壁抵靠,所述储存槽的内壁、密封件与密封盖之间形成密闭的容腔;当形变介质被一部分密封件挤压时,形变介质发生形变以挤压另一部分密封件向外突伸。
2.根据权利要求1所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述密封件包括突伸出容置通孔的底部并与容置通孔的侧壁抵靠的密封柱,所述密封柱与基座活动连接。
3.根据权利要求2所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述密封件还包括套设于密封柱的第一密封圈,所述第一密封圈与容置通孔的侧壁抵靠。
4.根据权利要求3所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述密封柱的侧壁开设有第一凹槽,所述第一密封圈容设于第一凹槽内。
5.根据权利要求1所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述容置通孔包括第二凹槽以及开设于第二凹槽的底壁的第一通孔,所述密封件贯穿所述第一通孔。
6.根据权利要求5所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述压力平衡装置还包括用于驱动所述密封柱复位的复位弹性件,所述复位弹性件穿设于密封柱并容设于第二凹槽内。
7.根据权利要求6所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述压力平衡装置还包括用于密封第二凹槽与密封件之间的间隙的第二密封圈,所述第二密封圈设置于第二凹槽的底壁与复位弹性件之间。
8.根据权利要求1所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述压力平衡装置还包括设置于密封盖与基座之间的密封垫,所述基座的顶部开设有用于容设密封垫的第三凹槽。
9.一种应用权利要求1-8任意一项所述的压力平衡装置的吸盘,其特征在于:所述吸盘包括压力平衡装置、穿设于压力平衡装置的连接杆以及与连接杆连接的吸盘本体,所述密封件的底部与吸盘本体抵靠。
10.根据权利要求9所述的一种吸盘,其特征在于:所述吸盘还包括销轴和设置于压力平衡装置的顶部的连动按键,所述连动按键通过销轴与连接杆连接。
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