CN109407388A - 一种显示面板的制程方法、显示面板及显示装置 - Google Patents
一种显示面板的制程方法、显示面板及显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109407388A CN109407388A CN201811350592.4A CN201811350592A CN109407388A CN 109407388 A CN109407388 A CN 109407388A CN 201811350592 A CN201811350592 A CN 201811350592A CN 109407388 A CN109407388 A CN 109407388A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- light shield
- shield layer
- substrate
- pixel
- data line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 132
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 41
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 241001080526 Vertica Species 0.000 description 1
- 229910001041 brightray Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 238000012163 sequencing technique Methods 0.000 description 1
- 230000001755 vocal effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133345—Insulating layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133371—Cells with varying thickness of the liquid crystal layer
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136209—Light shielding layers, e.g. black matrix, incorporated in the active matrix substrate, e.g. structurally associated with the switching element
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
- G02F2201/121—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode common or background
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
- G02F2201/123—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode pixel
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
本发明公开了一种显示面板的制程方法、显示面板及显示装置,显示面板包括第一基板和第二基板,所述第一基板和第二基板对盒设置;多条数据线和扫描线,设置在所述第一基板上;所述第一基板包括用于遮挡所述数据线或扫描线的第一遮光层;所述第二基板包括用于遮挡所述数据线或扫描线的第二遮光层;每条所述数据线和扫描线至少被所述第一遮光层和第二遮光层中的一种所遮挡。本发明可有效的防止显示面板漏光、提高了显示面板良率。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板的制程方法、显示面板及显示装置。
背景技术
随着科技的发展和进步,平板显示器由于具备机身薄、省电和辐射低等热点而成为显示器的主流产品,得到了广泛应用。平板显示器包括薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD)和有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Diode,OLED)显示器等。其中,薄膜晶体管液晶显示器通过控制液晶分子的旋转方向,以将背光模组的光线折射出来产生画面,具有机身薄、省电、无辐射等众多优点。
显示器的显示面板包括阵列基板和彩膜基板,在显示面板的制造过程中,阵列基板和彩膜基板在对盒时中易产生对盒偏差,导致漏光现象,影响显示效果,降低了显示面板的良率。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种防止显示面板漏光、提高显示面板良率的显示面板的制程方法、显示面板及显示装置。
为实现上述目的,本发明提供了一种显示面板,包括:
第一基板;
第二基板,与所述第一基板对盒设置;
多条数据线和扫描线,设置在所述第一基板上;
所述第一基板包括用于遮挡所述数据线或扫描线的第一遮光层;
所述第二基板包括用于遮挡所述数据线或扫描线的第二遮光层;
每条所述数据线和扫描线至少被所述第一遮光层和第二遮光层中的一种所遮挡。
可选的,所述第一遮光层与所有的所述数据线和扫描线一一对应遮挡设置;所述第二遮光层与所有的所述数据线和扫描线一一对应遮挡设置;所述第一遮光层和第二遮光层对应设置。
可选的,所述第一遮光层和第二遮光层的形状大小相当。
可选的,所述第二基板包括多个色阻,所述第二遮光层设置在所述相邻的两个色阻之间;所述第一基板包括多个像素,所述像素包括像素电极,所述数据线和扫描线设置在相邻两个所述像素电极之间;所述第二遮光层对应所述数据线或扫描线进行遮挡设置。
可选的,所述像素包括第一像素,其中一条所述数据线设置在所述第一像素外侧;
所述第一像素包括第一像素电极,以及设置在第一像素电极外侧的第一公共电极线,所述第一公共电极线与所述第一像素电极在不同层且部分重叠;
所述第一公共电极线设置在所述数据线的一侧,所述第一公共电极线和数据线之间设置第一间隙;
所述第一遮光层用于遮挡所述数据线、第一间隙、第一公共电极线,并超出所述第一公共电极线靠近所述第一像素电极的边缘。
可选的,所述像素包括与所述第一像素相邻的第二像素,所述第二像素包括第二像素电极,所述数据线设置在所述第一像素电极和第二像素电极之间;
所述第二像素还包括设置在所述第一像素电极和第二像素电极之间的第二公共电极线,所述第二公共电极线与所述第二像素电极在不同层且部分重叠;
所述第二公共电极线设置在所述数据线远离所述第一公共电极线的一侧,所述第二公共电极线和数据线之间设置有第二间隙;
所述第一遮光层还用于遮挡所述第二间隙、第二公共电极线,并超出所述第二公共电极线靠近所述第二像素电极的边缘。
可选的,所述第一基板包括多个像素,所述扫描线与所述像素对应设置,所述像素包括与所述扫描线连接的薄膜电晶体开关;
所述第一遮光层还用于遮挡所述扫描线和薄膜电晶体开关。
可选的,所述第一基板包括多条数据线和多条扫描线;
所述第一遮光层设置在所述第一基板侧,用于遮挡所述数据线;
所述第二遮光层设置在所述第二基板侧,用于遮挡所述扫描线。
为实现上述目的,本发明还提供了一种显示面板的制程方法,包括:
形成包括数据线和扫描线的第一基板;
在所述数据线和/或扫描线的上方形成第一遮光层;
形成包括第二遮光层的第二基板;
对盒固定所述第一基板和第二基板,使得所述第二遮光层对应遮挡所述数据线和/或扫描线。
为实现上述目的,本发明还提供了一种显示装置,包括以上所述显示面板
相对于仅在第一基板或第二基板上设置遮光层的方案,本申请在第一基板上设置第一遮光层,在第二基板上设置第二遮光层,且每条数据线和扫描线至少被第一遮光层和第二遮光层中的一种所遮挡,在第一基板和第二基板对盒时,第一基板上的第一遮光层可以对第一基板上需要遮光的部分遮光,第二基板上的第二遮光层可以对第二基板上需要遮光的部分遮光,可以避免因对盒误差使第一基板或第二基板上的部分需要遮光的结构与遮光层发生偏移产生的漏光,进而提高了显示装置的良率。
附图说明
所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解,其构成了说明书的一部分,用于例示本申请的实施方式,并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中:
图1是本发明实施例一种显示面板的截面示意图;
图2是本发明实施例一种单个像素的示意图;
图3是本发明实施例另一种单个像素的示意图;
图4是本发明实施例一种第二遮光层的示意图;
图5是本发明实施例另一种单个像素的示意图;
图6是本发明实施例另一种显示面板的截面示意图;
图7是本发明实施例一种两个像素的示意图;
图8是本发明实施例另一种两个像素的示意图;
图9是本发明实施例截面A-A’的示意图;
图10是本发明实施例另一种显示面板的截面示意图;
图11是本发明实施例另一种显示面板的截面示意图;
图12是本发明实施例一种薄膜电晶体开关的截面示意图;
图13是本发明实施例一种显示面板的制程方法的流程示意图;
图14是本发明实施例另一种显示面板的制程方法的流程示意图;
图15是本发明实施例另一种显示面板的制程方法的流程示意图;
图16是本发明实施例另一种显示面板的截面示意图;
图17是本发明实施例一种显示装置的示意图。
其中,100、显示装置;110、显示面板;120、第一基板;121、数据线;122、扫描线;123、第一遮光层;124、像素;125、像素电极;126、薄膜电晶体开关;127、第一基底;128、公共电极线;130、第一像素;131、第一像素电极;132、第一公共电极线;133、第一间隙;134、第二像素;135、第二像素电极;136、第二公共电极线;137、第二间隙;140、第二基板;141、第二遮光层;142、色阻;150、栅极;151、源极;152、漏极;153、栅极绝缘层;154、非晶硅层;155、钝化层。
具体实施方式
这里所公开的具体结构和功能细节仅仅是代表性的,并且是用于描述本申请的示例性实施例的目的。但是本申请可以通过许多替换形式来具体实现,并且不应当被解释成仅仅受限于这里所阐述的实施例。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。另外,术语“包括”及其任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
这里所使用的术语仅仅是为了描述具体实施例而不意图限制示例性实施例。除非上下文明确地另有所指,否则这里所使用的单数形式“一个”、“一项”还意图包括复数。还应当理解的是,这里所使用的术语“包括”和/或“包含”规定所陈述的特征、整数、步骤、操作、单元和/或组件的存在,而不排除存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。
传统液晶显示器生产过程,阵列基板有第一金属层/非晶硅层/地二金属层/钝化层/透明导电薄膜五道制程,需要五道光罩,彩膜基板有黑色矩阵层/红色色阻/绿色色阻/蓝色色阻/间隙粒子五道制程,需要五道光罩,其中彩膜基板的黑色矩阵层制程的作用有:遮挡液晶层杂乱散射光,防止亚像素之间混色和防止环境光照射到薄膜电晶体开关沟道;遮蔽由于数据线与扫描线附近电场紊乱导致的液晶导向紊乱所引起的漏光。但在实际生产制程中,特别是阵列基板和彩膜基板对盒组立极易导致黑色矩阵层与公共电极线发生错位,进而导致公共电极线与数据线之间的漏光,这对产品良率的提升有极大影响。增大黑色矩阵层的宽度,固然能够起到作用,但对产品穿透率有副作用。为了在保证穿透率的前提下,迫切需要新的像素架构设计。
下面参考附图和较佳的实施例对本发明作进一步说明。
如图1至图4所示,本发明实施例公布了一种显示面板110,包括第一基板120和与第一基板120对盒设置的第二基板140;多条数据线121和扫描线122,设置在第一基板120上;第一基板120包括用于遮挡数据线121或扫描线122的第一遮光层123;第二基板140包括用于遮挡数据线121或扫描线122的第二遮光层141;每条数据线121和扫描线122至少被第一遮光层123和第二遮光层141中的一种所遮挡。
具体的,第一基板120为阵列基板,第二基板140为彩膜基板。
示例性的方案,该用于遮挡数据线121或扫描线122的遮光层可能全部设置在第二基板140上,这种设计可能会在第一基板120和第二基板140对盒时,由于错位而使得遮光层没有起到遮挡数据线121或扫描线122的效果,从而出现漏光的问题,针对该问题若仅仅是将设置在第二基板140上的遮光层加宽或加长,则显示面板110的有效透光面积将减小,则光透过率也就减小,会影响到显示面板110的显示效果;本方案中,不仅在第二基板140侧设置有第二遮光层141,还在第一基板120处形成有第一遮光层123,无论该第一遮光层123是否与数据线121和扫描线122一一对应设置,由于该第一遮光层123能够达到较为精准的遮挡数据线121或扫描线122的效果,因而可以改善当第一基板120和第二基板140错位时,漏光的问题。
第一基板120包括用于遮挡数据线121或扫描线122的第一遮光层123,第二基板140包括用于遮挡数据线121或扫描线122的第二遮光层141,包括三种情况:其一是所有的数据线121或扫描线122同时被两种遮光层遮挡;其二是,一部分数据线121被第一遮光层123遮挡,另一部分被第二遮光层141遮挡;其三是,一部分数据线121或扫描线122被第一遮光层123遮挡,另一部分被第二遮光层141遮挡,还一部分被两种遮光层遮挡,只要数据线121和扫描线122至少被一种遮挡即可。
相对于仅在第一基板120或第二基板140上设置遮光层的方案,本申请在第一基板120上设置第一遮光层123,在第二基板140上设置第二遮光层141,且每条数据线121和扫描线122至少被第一遮光层123和第二遮光层141中的一种所遮挡,在第一基板120和第二基板140对盒时,第一基板120上的第一遮光层123可以对第一基板120上需要遮光的部分遮光,第二基板140上的第二遮光层141可以对第二基板140上需要遮光的部分遮光,可以避免因对盒误差使第一基板120或第二基板140上的部分需要遮光的结构与遮光层发生偏移产生的漏光,进而提高了显示装置100的良率。
本实施例可选的,第一遮光层123与所有的数据线121和扫描线122一一对应遮挡设置;第二遮光层141与所有的数据线121和扫描线122一一对应遮挡设置;第一遮光层123和第二遮光层141对应设置。
本方案中,第一遮光层123和第二遮光层141的位置大概对应,数据线121和扫描线122同时被两种遮光层遮挡,可以避免因对盒误差使数据线121或扫描线122与遮光层发生偏移产生漏光;但是由于该第一遮光层123的主要作用是用于遮挡数据线121和扫面线,该第二遮光层141的主要作用是用于设置在色阻142之间防止混色,次要才是遮挡数据线121和扫面线,因而,该第一遮光层123和第二遮光层141的形状大小可以有所差异,当然,一样也是可以的。
本实施例可选的,第一遮光层123和第二遮光层141的形状大小相当。第一遮光层123和第二遮光层141在设计时一般要求形状大小一致,但制程中可能会存在差异,但即便形状大小有少许差异,只要形状大小差异不超出阈值,则认为相当。第一遮光层123和第二遮光层141的形状大小相当即可以很好的遮挡数据线121和扫面线,也可以使第一遮光层123和第二遮光层141制程中使用的光罩共用,避免需要使用两个光罩,节省了生产成本。
作为本发明的另一实施例,参考图5至图11所示,与上述实施例不同在于,第二基板140包括多个色阻142,第二遮光层141设置在相邻的两个色阻142之间;第一基板120包括多个像素124,像素124包括像素电极125,数据线121和扫描线122设置在相邻两个像素电极125之间;第二遮光层141对应数据线121或扫描线122进行遮挡设置。
具体的,像素电极125由透明导电薄膜形成。
本方案中,第一遮光层123与数据线121和扫描线122都在第一基板120上,第一遮光层123且对应数据线121或扫描线122精准设置,可以很有效的避免数据线121或扫描线122的位置漏光;第二遮光层141对应准确设置在相邻两个色阻142之间的间隙处,可以起到防止混色等问题。
本实施例可选的,像素124包括第一像素130,其中一条数据线121设置在第一像素130外侧;第一像素130包括第一像素电极131、以及设置在第一像素电极131外侧的第一公共电极线132,第一公共电极线132与第一像素电极131在不同层且部分重叠;第一公共电极线132设置在数据线121的一侧,第一公共电极线132和数据线121之间设置第一间隙133;第一遮光层123用于遮挡数据线121、第一间隙133、第一公共电极线132,并超出第一公共电极线132靠近第一像素电极131的边缘。
本方案中,第一遮光层123遮挡数据线121、第一间隙133、第一公共电极线132,并超出第一公共电极线132靠近第一像素电极131的边缘,其中第一公共电极线132与第一像素电极131在不同层且部分重叠会产生电场屏蔽效应,对应的,该重叠区域的液晶不会发生偏转,为避免第一公共电极线132与第一像素电极131重叠区显示出现暗纹或亮纹,该重叠区需要用遮光层遮挡,故第一遮光层123遮挡第一公共电极线132并超出第一公共电极线132靠近第一像素电极131的边缘;第一间隙133易因第一基板120和第二基板140对盒错位而遮挡不到出现漏光的问题,因此,第一遮光层123遮挡第一公共电极线132和数据线121之间的第一间隙133,可以避免上述问题出现。
具体的,第一遮光层123可以设置在第一像素电极131的顶部,也可以设置在第一公共电极线132的下层,两种不同的结构对应的制程有所不同;第一遮光层123设置在第一公共电极线132的下层时,第一遮光层123仅具有遮光作用;第一遮光层123设置在第一像素电极131的顶部时,第一遮光层123除了具有遮光作用外,还有作为平坦层的作用,以及为第一基板120和第二基板140之间的支撑结构提供站立的位置。
本实施例可选的,像素124包括与第一像素130相邻的第二像素134,第二像素134包括第二像素电极135,数据线121设置在第一像素电极131和第二像素电极135之间;第二像素134还包括设置在第一像素电极131和第二像素电极135之间的第二公共电极线136,第二公共电极线136与第二像素电极135在不同层且部分重叠;
第二公共电极线136设置在数据线121远离第一公共电极线132的一侧,第二公共电极线136和数据线121之间设置有第二间隙137;第一遮光层123还用于遮挡第二间隙137、第二公共电极线136,并超出第二公共电极线136靠近第二像素电极135的边缘。
本方案中,第一公共电极线132和第二公共电极线136分别设在数据线121的两侧,且第一公共电极线132和数据线121之间设置有第一间隙133,第二公共电极线136和数据线121之间设置有第二间隙137,第一遮光层123除了遮挡第一间隙133、数据线121、第一公共电极线132外,还用于遮挡第二间隙137、第二公共电极线136,并分别超出第一公共电极线132靠近第一像素电极131的边缘和第二公共电极线136靠近第二像素电极135的边缘,该设计可以有效的遮挡第一像素130和第二像素134的可能漏光的位置以及因电场屏蔽或其他原因出现显示不均的位置。
具体的,第一公共电极线132和第二公共电极线136是第一基板120上的公共电级的对应像素124的一小段,互相是连通的。
作为本发明的另一实施例,参考图7至8所示,与上述实施例不同在于,第一基板120包括多个像素124,扫描线122与像素124对应设置,像素124包括与扫描线122连接的薄膜电晶体开关126;第一遮光层123还用于遮挡扫描线122和薄膜电晶体开关126。
本方案中,薄膜电晶体开关126一般设置在扫描线122上,设置薄膜电晶体开关126的地方的宽度可能与扫描线122宽度一致,也可能宽于扫描线122的宽度;若宽于扫描线122的宽度时,则第一遮光层123对应扫描线122处进行加宽以遮挡薄膜电晶体开关126。
作为本发明的另一实施例,与上述实施例不同在于,第一基板120包括多条数据线121和多条扫描线122;第一遮光层123设置在第一基板120侧,用于遮挡数据线121;第二遮光层141设置在第二基板140侧,用于遮挡扫描线122。
本方案中,数据线121处的漏光情况可能较为严重,特别是公共电极线128设置在像素电极125之间的架构漏光严重,在此设置第一遮光层123,可以有效减少漏光。对应扫描线122处漏光情况稍少,而由于阵列基板侧布线密集,额外增加结构可能引起产品良率降低问题故而需谨慎,不必要的结构,比如遮光层,设置在彩膜基板侧有利于提高产品良率;本方案,则可以将第二遮光层141设置在第二基板140处,以在保证较好的防漏光的情况下,减少第一基板120侧的结构,从而提高显示面板110的良率。
具体的,第一遮光层123设置在第一基板120侧,第一基板120上的像素124包括第一像素130、以及设置在第一像素130外侧的数据线121;第一像素130包括第一像素电极131、以及设置在第一像素电极131外侧的第一公共电极线132,第一公共电极线132与第一像素电极131在不同层且部分重叠;第一公共电极线132设置在数据线121的一侧,第一公共电极线132和数据线121之间设置第一间隙133;第一遮光层123用于遮挡数据线121、第一间隙133、第一公共电极线132,并超出第一公共电极线132靠近第一像素电极131的边缘。
第一基板120的像素124还包括与第一像素130相邻的第二像素134,第二像素134包括第二像素电极135,数据线121设置在第一像素电极131和第二像素电极135之间;第二像素134还包括设置在第一像素电极131和第二像素电极135之间的第二公共电极线136,第二公共电极线136与第二像素电极135在不同层且部分重叠;
第二公共电极线136设置在数据线121远离第一公共电极线132的一侧,第二公共电极线136和数据线121之间设置有第二间隙137;第一遮光层123还用于遮挡第二间隙137、第二公共电极线136,并超出第二公共电极线136靠近第二像素电极135的边缘。
作为本发明的另一实施例,参考图13所示,公开了一种显示面板110的制程方法,包括:
S131:形成包括数据线121和扫描线122的第一基板120;
S132:在数据线121和扫描线122的上方形成第一遮光层123;
S133:形成包括第二遮光层141的第二基板140;
S134:对盒固定第一基板120和第二基板140,使得第二遮光层141对应遮挡数据线121和扫描线122。
作为本发明的另一实施例,参考图1、图12和图14所示,公开了一种显示面板110的制程方法,包括形成第一基板120的制程,和形成第二基板140的制程;
第一基板120的制程包括:
S141:形成第一基底127,在第一基底127上形成栅极150、与栅极150同层且连接的扫描线122,以及公共电极线128;
S142:在栅极150上方形成栅极绝缘层153、非晶硅层154;
S143:在非晶硅层154的上方形成同层设置的源极151和漏极152,以及与源极151或漏极152连接的数据线121;
S144:在源极151和漏极152上方形成钝化层155,以及与公共电极线128部分重叠的像素电极125得到薄膜电晶体开关126;
S145:在像素电极125的上方形成遮挡扫描线122、数据线121、公共电极线128,超出公共电极线128靠近像素电极125的边缘的第一遮光层123;
第二基板140的制程包括:
S146:形成多个色阻142;
S147:在色阻142之间的间隙处形成第二遮光层141;
显示面板110的制程还包括:
S148:将第一基板120和第二基板140对盒,并使得第二遮光层141与第一遮光层123对应。
具体的,如图9和图10所示,第一遮光层123与数据线121之间可以设一层钝化层,也可以不设。
作为本发明的另一实施例,参考图12、图15和图16所示,公开了一种显示面板110的制程方法,包括形成第一基板120的制程,和形成第二基板140的制程;
第一基板120的制程包括:
S151:形成第一基底127,在第一基底127上形成第一遮光层123;
S152:在第一遮光层123上形成栅极150、与栅极150同层且连接的扫描线122,以及公共电极线128;
S153:在栅极150上方形成栅极绝缘层153、非晶硅层154;
S154:在非晶硅层154的上方形成同层设置的源极151和漏极152,以及与源极151或漏极152连接的数据线121;
S155:在源极151和漏极152上方形成钝化层155,以及与公共电极线128部分重叠的像素电极125得到薄膜电晶体开关126;
第二基板140的制程包括:
S156:形成多个色阻142;
S157:在色阻142之间的间隙处形成第二遮光层141;
显示面板110的制程还包括:
S158:将第一基板120和第二基板140对盒,并使得第二遮光层141与第一遮光层123对应。
作为本发明的另一实施例,与上述实施例不同在于,第一遮光层123遮挡数据线121、公共电极线128,以及超出公共电极线128靠近像素电极125的边缘,不遮扫描线122;
第二遮光层141,形成在部分色阻142之间;
对盒时,使得第二遮光层141与扫描线122对应,用于遮挡扫描线122。
作为本发明的另一实施例,参考图17所示,本发明公开了一种显示装置100,包括以上任意一项的显示面板110。
需要说明的是,本方案中涉及到的各步骤的限定,在不影响具体方案实施的前提下,并不认定为对步骤先后顺序做出限定,写在前面的步骤可以是在先执行的,也可以是在后执行的,甚至也可以是同时执行的,只要能实施本方案,都应当视为属于本发明的保护范围。
本发明的技术方案可以广泛用于TN面板(全称为Twisted Ne-matic,即扭曲向列型面板)、IPS面板(In-PaneSwitcing,平面转换)、VA面板(Multi-domain VerticaAignment,多象限垂直配向技术),当然,也可以是其他类型的面板,适用即可。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明,不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
第一基板;
第二基板,与所述第一基板对盒设置;
多条数据线和扫描线,设置在所述第一基板上;
所述第一基板包括用于遮挡所述数据线或扫描线的第一遮光层;
所述第二基板包括用于遮挡所述数据线或扫描线的第二遮光层;
每条所述数据线和扫描线至少被所述第一遮光层和所述第二遮光层中的一种所遮挡。
2.如权利要求1所述的一种显示面板,其特征在于,所述第一遮光层与所有的所述数据线和扫描线一一对应遮挡设置;所述第二遮光层与所有的所述数据线和扫描线一一对应遮挡设置;
所述第一遮光层和所述第二遮光层对应设置。
3.如权利要求2所述的一种显示面板,其特征在于,所述第一遮光层和所述第二遮光层的形状大小相当。
4.如权利要求2所述的一种显示面板,其特征在于,所述第二基板包括多个色阻,所述第二遮光层设置在所述相邻的两个色阻之间;
所述第一基板包括多个像素,所述像素包括像素电极,所述数据线和扫描线设置在相邻两个所述像素电极之间;
所述第二遮光层对应所述数据线或扫描线进行遮挡设置。
5.如权利要求4所述的一种显示面板,其特征在于,所述像素包括第一像素,其中一条所述数据线设置在所述第一像素外侧;
所述第一像素包括第一像素电极,以及设置在第一像素电极外侧的第一公共电极线,所述第一公共电极线与所述第一像素电极在不同层且部分重叠;
所述第一公共电极线设置在所述数据线的一侧,所述第一公共电极线和数据线之间设置第一间隙;
所述第一遮光层用于遮挡所述数据线、第一间隙、第一公共电极线,并超出所述第一公共电极线靠近所述第一像素电极的边缘。
6.如权利要求5所述的一种显示面板,其特征在于,所述像素包括与所述第一像素相邻的第二像素,所述第二像素包括第二像素电极,所述数据线设置在所述第一像素电极和第二像素电极之间;
所述第二像素还包括设置在所述第一像素电极和第二像素电极之间的第二公共电极线,所述第二公共电极线与所述第二像素电极在不同层且部分重叠;
所述第二公共电极线设置在所述数据线远离所述第一公共电极线的一侧,所述第二公共电极线和数据线之间设置有第二间隙;
所述第一遮光层还用于遮挡所述第二间隙、第二公共电极线,并超出所述第二公共电极线靠近所述第二像素电极的边缘。
7.如权利要求2所述的一种显示面板,其特征在于,所述第一基板包括多个像素,所述扫描线与所述像素对应设置,所述像素包括与所述扫描线连接的薄膜电晶体开关;
所述第一遮光层还用于遮挡所述扫描线和薄膜电晶体开关。
8.如权利要求1所述的一种显示面板,其特征在于,所述第一基板包括多条数据线和多条扫描线;
所述第一遮光层设置在所述第一基板侧,用于遮挡所述数据线;
所述第二遮光层设置在所述第二基板侧,用于遮挡所述扫描线。
9.一种显示面板的制程方法,其特征在于,包括:
形成包括数据线和扫描线的第一基板;
在所述数据线和/或扫描线的上方形成第一遮光层;
形成包括第二遮光层的第二基板;
对盒固定所述第一基板和第二基板,使得所述第二遮光层对应遮挡所述数据线和/或扫描线。
10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1至8任意一项所述显示面板。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811350592.4A CN109407388A (zh) | 2018-11-14 | 2018-11-14 | 一种显示面板的制程方法、显示面板及显示装置 |
PCT/CN2018/119673 WO2020098022A1 (zh) | 2018-11-14 | 2018-12-07 | 一种显示面板的制程方法、显示面板及显示装置 |
US17/042,072 US11112661B2 (en) | 2018-11-14 | 2018-12-07 | Method for manufacturing display panel, display panel, and display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811350592.4A CN109407388A (zh) | 2018-11-14 | 2018-11-14 | 一种显示面板的制程方法、显示面板及显示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109407388A true CN109407388A (zh) | 2019-03-01 |
Family
ID=65473274
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201811350592.4A Pending CN109407388A (zh) | 2018-11-14 | 2018-11-14 | 一种显示面板的制程方法、显示面板及显示装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11112661B2 (zh) |
CN (1) | CN109407388A (zh) |
WO (1) | WO2020098022A1 (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110082975A (zh) * | 2019-04-12 | 2019-08-02 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 阵列基板以及显示面板 |
WO2023050515A1 (zh) * | 2021-09-29 | 2023-04-06 | Tcl华星光电技术有限公司 | 显示面板的像素单元及显示面板 |
US11953795B2 (en) | 2021-09-29 | 2024-04-09 | Tcl China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Pixel unit of a display panel and display panel |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101177720B1 (ko) | 2005-09-20 | 2012-08-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치와 그 제조방법 |
KR101710574B1 (ko) | 2010-05-04 | 2017-02-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 이의 제조 방법 |
CN202522819U (zh) | 2012-02-21 | 2012-11-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种液晶面板以及显示装置 |
JP2016024304A (ja) * | 2014-07-18 | 2016-02-08 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
TWI572961B (zh) * | 2014-08-07 | 2017-03-01 | 友達光電股份有限公司 | 顯示面板 |
CN104465675B (zh) | 2014-12-31 | 2017-08-25 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 薄膜晶体管阵列基板、液晶面板以及液晶显示器 |
CN104865730A (zh) * | 2015-05-26 | 2015-08-26 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种液晶面板和阵列基板 |
KR102514320B1 (ko) * | 2015-12-24 | 2023-03-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
CN106200169B (zh) * | 2016-07-08 | 2019-12-17 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶显示面板及其制造方法 |
KR20180049420A (ko) * | 2016-11-01 | 2018-05-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 색변환 패널, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 장치 |
CN106707596A (zh) * | 2016-12-22 | 2017-05-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 显示面板及显示装置 |
JP2018136477A (ja) * | 2017-02-23 | 2018-08-30 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、電子機器 |
-
2018
- 2018-11-14 CN CN201811350592.4A patent/CN109407388A/zh active Pending
- 2018-12-07 US US17/042,072 patent/US11112661B2/en active Active
- 2018-12-07 WO PCT/CN2018/119673 patent/WO2020098022A1/zh active Application Filing
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110082975A (zh) * | 2019-04-12 | 2019-08-02 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 阵列基板以及显示面板 |
WO2023050515A1 (zh) * | 2021-09-29 | 2023-04-06 | Tcl华星光电技术有限公司 | 显示面板的像素单元及显示面板 |
US11953795B2 (en) | 2021-09-29 | 2024-04-09 | Tcl China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Pixel unit of a display panel and display panel |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11112661B2 (en) | 2021-09-07 |
US20210063828A1 (en) | 2021-03-04 |
WO2020098022A1 (zh) | 2020-05-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109491130A (zh) | 一种显示面板的制程方法、显示面板及显示装置 | |
US11036096B2 (en) | Liquid crystal display panel | |
CN104880871B (zh) | 显示面板和显示装置 | |
CN103309081B (zh) | 阵列基板及其制造方法、显示装置 | |
CN102236229B (zh) | 用于面内切换模式液晶显示装置的阵列基板 | |
JP5275861B2 (ja) | 液晶表示装置および電子機器 | |
CN104749805A (zh) | 显示装置 | |
CN109407388A (zh) | 一种显示面板的制程方法、显示面板及显示装置 | |
CN107121861A (zh) | 液晶显示面板及液晶显示设备 | |
WO2020258504A1 (zh) | 一种阵列基板及显示面板 | |
US10379405B2 (en) | Display device | |
CN102243401A (zh) | 液晶显示装置 | |
US8243235B2 (en) | Liquid crystal display device | |
KR20160032751A (ko) | 액정표시장치 | |
CN105093746A (zh) | 阵列基板及液晶显示面板 | |
CN203259747U (zh) | 阵列基板及显示装置 | |
CN102890380B (zh) | Tft阵列基板及其制作方法和液晶显示装置 | |
CN103914169A (zh) | 一种内嵌式触摸屏及其制作方法、显示装置 | |
CN201955591U (zh) | 一种显示面板 | |
CN104297995A (zh) | 显示基板及制备方法、显示装置 | |
KR20110076369A (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
KR20110028753A (ko) | 액정표시장치 | |
CN205787505U (zh) | 阵列基板及显示装置 | |
CN104360554B (zh) | 液晶显示面板及其阵列基板 | |
KR101811486B1 (ko) | 표시 패널 및 표시 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20190301 |