CN109324408B - 光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法。光学设备包含反射镜和被配置为使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器。所述多个致动器中的至少一些被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆以当同心圆的位置被定位为越远离反射镜的反射表面的中心时同心圆被越致密地布置的方式被布置，并且，所述多个致动器中的至少一些沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置。

Description

光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法

技术领域

本发明涉及包括可变形反射镜的光学设备、投影光学系统、曝光装置和物品的制造方法。

背景技术

特别是在半导体曝光装置、平板曝光装置和天文望远镜中，使用包括可变形反射镜以校正波前误差或图像畸变的光学设备。近年，对曝光装置的分辨率的要求增加了。因此，对校正曝光像差的需要也增加了。作为响应，为了校正曝光像差，曝光装置包括可变形反射镜的装置配置得到讨论。并且，在天文领域中，为了抑制空气波动对安装于地面上的望远镜的影响，也越来越多地使用可变形反射镜。

为了减少空气波动对地面基天文望远镜的影响，M.Lloyd-Hart等人的"Adaptiveoptics for the 6.5m MMT",Proceedings of SPIE,USA,SPIE,2000,Vol.4007,p.167-174讨论了336个音圈马达被均等地布置于薄二次反射镜的后表面上作为用于使二次反射镜变形的致动器的配置。

为了减少当应用于曝光装置的可变形反射镜变形时由致动器产生的热的影响，日本专利申请公开No.2007-316132讨论了利用电磁体的可变形反射镜的配置，该电磁体可产生大的力并且产生相对少的热。

但是，在如M.Lloyd-Hart等人的"Adaptive optics for the 6.5m MMT",Proceedings of SPIE,USA,SPIE,2000,Vol.4007,p.167-174中那样均等且致密地布置致动器的配置中，致动器也会被布置在不必要的位置处。这不仅导致复杂的制造和控制，而且导致可变形反射镜的成本的增加。并且，日本专利申请公开No.2007-316132示出用于校正由泽尼克(Zernike)多项式表达的反射镜的2θ分量和3θ分量的致动器的布置例子。但是，日本专利申请公开No.2007-316132没有讨论存在于布置例子中的布置策略和布置原理。

发明内容

本公开针对用于以尽可能少的致动器在能够实现期望的精度的反射镜变形的反射镜上布置致动器的技术。

根据本公开的一个方面，一种光学设备包括：反射镜，和被配置为使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器，其中，所述多个致动器中的至少一些被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆被布置为使得越远离反射镜的反射表面的中心同心圆越致密，并且，所述多个致动器中的至少一些还沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置。

从参照附图对示例性实施例的以下描述，本发明的其它特征将变得清晰。

附图说明

图1A和图1B是示出根据第一示例性实施例的驱动点布置(致动器布置)的示图。

图2A、图2B、图2C、图2D、图2E和图2F是示出根据第一示例性实施例的例子1的计算结果的示图。

图3A和图3B是示出根据第二示例性实施例的驱动点布置(致动器布置)的示图。

图4是示出根据第二示例性实施例的用于沿径向方向布置驱动点的方法的示图。

图5A、图5B和图5C是示出根据第二示例性实施例的计算例子的示图。

图6是示出根据第三示例性实施例的驱动点布置(致动器布置)的示图。

图7是示出根据第五示例性实施例的曝光装置的示图。

图8是用于解释定义的术语的示图。

具体实施方式

根据本公开的一个方面，用于使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器中的至少一些被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆以当位置越远离反射镜的反射表面的中心时致动器被越致密地布置于同心圆上的方式被布置，并且，所述多个致动器中的至少一些也沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置。“致密”意味着沿径向方向越向外则同心圆之间的径向方向的距离越小。该布置策略意在找到用于校正反射镜的反射表面的形状的致动器的有效布置位置，由此实现高精度的反射镜变形和布置数量少的致动器两者。作为致动器的有效布置位置，参照表达反射镜的目标形状的表达式(例如，泽尼克多项式)搜索反射镜的径向方向的致动器的有效布置位置，并且在圆周方向上考虑反射镜的形状的旋转对称性。一般地，为了以高的精度规定反射镜的外周附近部分的形状，需要关于致动器的布置位置之间的距离的最大空间频率的概念，并且期望在反射镜的外周附近以最小驱动点间隔布置致动器。因此，期望以致动器随着位置越远离反射镜的中心被越致密地布置的方式布置致动器。另外，期望在反射镜的外周部分中最致密地布置致动器。在从垂直于反射表面的方向观看的反射镜的形状是具有对称数无限的旋转对称的圆形形状的情况下，沿同心圆的圆周方向以均等的间隔布置致动器是更有效的。并且，从该观点，期望多个致动器的总体布置应是旋转对称的。

以下将参照附图更详细地描述本公开的数个示例性实施例。首先，定义用于规定本公开的方面的术语。圆周方向的“相等间隔”被定义如下。在理想情况下，沿同一圆周方向布置的多个致动器以几何相等间隔La被布置。但是，出于诸如装置的加工和组装等的原因，存在难以在理想位置处精确地布置多个致动器的许多情况。因此，“相等间隔”也包括致动器的位置偏移量处于几何相等间隔La中的每一个的±30％内的情况。

并且，在本说明书中使用的“极值附近”和“拐点附近”中的“附近”指的是致动器沿径向方向从理想位置的位置偏移量处于彼此相邻的致动器之间的间隔Lb的30％内的事实。在描述示例性实施例之后，将参照图8，描述将术语“相等间隔”中的位置偏移量定义为在±30％内(在-30％与30％之间的范围内)的原因以及将术语“附近”中的位置偏移量定义为在30％内的原因。

图1A和图1B是示出根据第一示例性实施例的光学设备10的配置的示意图。图1A示出光学设备10的顶视图。图1B示出光学设备10的截面(前视)图。光学设备10是能够使反射镜1变形、具体而言将反射镜1的反射表面1a变形成期望的目标形状的可变形反射镜设备。光学设备10可以包括反射镜1、保持部件2、基座板(base plate)4和致动器3。

具有光轴A的反射镜1经由保持部件2被固定到基座板4。在反射镜1与基座板4之间，布置用于将反射镜1的反射表面1a的形状变形成期望的形状的多个致动器3。根据本示例性实施例的致动器3中的每一个可以包括附着到反射镜1的后表面1b的由磁体3a构成的音圈马达(VCM)和附着到基座板4的线圈3b。反射镜1具有当从垂直于反射表面1a的方向观看时为圆形的平面形状，并且穿过反射镜1的中心并且垂直于所述平面形状的中心轴是光轴A。作为替代方案，反射镜1可以是反射表面1a具有凹面形状的凹面反射镜，或者可以是反射表面1a具有凸面形状的凸面反射镜。换句话说，反射镜1能够以反射表面1a具有平面形状、凹面形状和凸面形状中的任一种的方式被配置。

驱动点5代表致动器3的位置。驱动点5被布置在反射镜1的多个同心圆上，并且所述多个同心圆以同心圆随着它们的位置越远离穿过反射镜1的中心的光轴A被越致密地布置的方式被布置。由最内的点划线表示的同心圆和由最外的点划线表示的同心圆分别代表内光学有效区域边界6和外光学有效区域边界7。并且，致动器3在相同的半径上沿圆周方向以相等间隔被布置。并且，致动器3沿径向方向以对准的方式被布置，并且多个致动器3的总体布置具有90度旋转对称性。

并且，反射镜1可以经由具有弹簧性能的弹性部件由例如环形中间部件保持。例如以120°间隔在反射镜1的外周部分的同一圆周的三个位置处设置弹性部件。中间部件具有高的刚性，并且在XYZ轴方向上或在围绕XYZ轴的旋转方向(倾斜方向)上通过与致动器3不同并且被设置在中间部件与基座板4之间的另一致动器被驱动。反射镜1的位置可以由诸如位移计的测量单元被测量，并且通过基于测量结果驱动另一致动器被调整。通过该配置，能够控制反射镜1的位置和取向。并且，还通过激光干涉计测量反射镜1的反射表面1a的形状，并且，通过基于测量值与目标形状值之间的差值驱动和控制致动器3使反射镜1的反射表面1a变形成目标形状。在这种情况下，基于测量值与目标形状值之间的差值，控制器(未示出)计算使反射表面1a变形所需要的力，并且向致动器3的线圈3b供给电流以产生计算出的力。并且，通过使用电流表(未示出)，控制器测量施加到各线圈3b的电流的电流值，并且基于测量结果执行反馈控制。

<例子1>

下面，通过使用计算例子，描述根据第一示例性实施例的例子1的效果。在表1中示出计算模型中的反射镜1的规范。在表1中，有效内径对应于内光学有效区域边界6，并且，有效外径对应于外有效区域边界。

表1计算模型的规范

在本示例性实施例中，基于通过校正获得的最大空间频率(实现期望的形状精度所需要的驱动点之间的最小间隔)，最小驱动点间隔为21mm。更具体而言，在用于下述的图2A～2F中的模拟例子中的、由泽尼克多项式的项Z1～Z16构成的目标形状中，最小驱动点间隔基于具有最大空间频率的项Z16被确定。例如，可以从图4中的虚线所示的曲线上的由最右实心圆表示的点与由右边第二实心圆表示的点之间的距离获得最小驱动点间隔。并且，要实现的目标在于，作为要通过校正获得的反射镜1的形状与校正驱动之后的形状之间的差值形状的误差形状在均方根(RMS)基础上处于10nm内。如上所述，一般地，需要最大空间频率以代表反射镜的外周附近的部分的形状。因此，本示例性实施例中的21mm的最小驱动点间隔也被假定为反射镜1的外周附近的间隔。

然后，考虑驱动点几乎以21mm间隔被均匀布置的比较例子。在比较例子中，从表2看出，驱动点的总数为168，并且需要168个致动器。通过从第一圆到第六圆合计沿圆周方向布置的致动器的数量，获得该数值。

表2均匀布置的比较例子：要布置的驱动点的位置和数量

另一方面，在应用本公开的布置思想的例子1中，从表3可以理解，布置致动器的驱动点的总数为136，并且需要136个致动器。通过从第一圆到第五圆合计沿圆周方向布置的致动器的数量，获得该数值。从表3可看出，随着位置沿径向方向越向外，致动器的布置位置逐渐变得越致密。

表3基于根据本示例性实施例的布置方法的布置的例子：布置的驱动点的位置和数量

图2A、图2B、图2C、图2D、图2E和图2F示出表2和表3中的变形驱动的模拟结果。图2A～2C示出168个点的致动器布置的例子(比较例子)的结果。图2D～2F示出136个点的致动器布置的例子(例子1)的结果。同行上的三个图示出通过校正获得的形状、校正驱动之后的形状和两个形状之间的差值形状。通过校正获得的形状(目标形状)是通过当在常用于光学领域中的泽尼克多项式中执行展开时随机生成系数而创建的形状。

泽尼克多项式是圆形区域形成完整系统的正交多项式，并且与常具有圆形形状的透镜和反射镜具有良好的匹配。出于这种原因，泽尼克多项式常用于光学领域中。但是在本说明书中，使用泽尼克多项式不是为了代表光学像差，而是为了代表反射镜的形状。因此，反射镜的形状可以由例如下式(1)代表。

S(r,θ)＝ΣCi·Zi...(1)

在式(1)中，Ci代表泽尼克多项式的各项的系数，Zi代表泽尼克多项式的各项，i代表泽尼克多项式的次数。泽尼克多项式的直到第36项的项在极坐标系r-θ中表示为下式(2)。

Z1＝1

Z2＝rcos(θ)

Z3＝rsin(θ)

Z4＝2r²-1

Z5＝r²cos(2θ)

Z6＝r²sin(2θ)

Z7＝(3r³-2r)cos(θ)

Z8＝(3r³-2r)sin(θ)

Z9＝(6r⁴-6r²+1)

Z10＝r³cos(3θ)

Z11＝r³sin(3θ)

Z12＝(4r⁴-3r²)cos(2θ)

Z13＝(4r⁴-3r²)sin(2θ)

Z14＝(10r⁵-12r³+3r)cos(θ)

Z15＝(10r⁵-12r³+3r)sin(θ)

Z16＝(20r⁶-30r⁴+12r²-1)

Z17＝r⁴cos(4θ)

Z18＝r⁴sin(4θ)

Z19＝(5r⁵-4r³)cos(3θ)

Z20＝(5r⁵-4r³)sin(3θ)

Z21＝(15r⁶-20r⁴+6r²)cos(2θ)

Z22＝(15r⁶-20r⁴+6r²)sin(2θ)

Z23＝(35r⁷-60r⁵+30r³-4r)cos(θ)

Z24＝(35r⁷-60r⁵+30r³-4r)sin(θ)

Z25＝(70r⁸-140r⁶+90r⁴-20r²+1)

Z26＝r⁵cos(5θ)

Z27＝r⁵sin(5θ)

Z28＝(6r⁶-5r²)cos(4θ)

Z29＝(6r⁶-5r²)sin(4θ)

Z30＝(21r⁷-30r⁵+10r³)cos(3θ)

Z31＝(21r⁷-30r⁵+10r³)sin(3θ)

Z32＝(56r⁸-105r⁶+60r⁴-10r²)cos(2θ)

Z33＝(56r⁸-105r⁶+60r⁴-10r²)sin(2θ)

Z34＝(126r⁹-280r⁷+210r⁵-60r³+5r)cos(θ)

Z35＝(126r⁹-280r⁷+210r⁵-60r³+5r)sin(θ)

Z36＝(252r¹⁰-630r⁸+560r⁶-210r⁴+30r²-1)...(2)

在图2A和图2D的例子中的每一个中，通过考虑泽尼克多项式的Z1～Z16、根据正态分布生成作为Z1～Z16的系数C1～C16的随机数并且将系数C1～C16的值代入式(1)中，创建目标形状S。更具体而言，从当正态分布的平均值为0、C1～C4的偏差值为100nm且C5～C16的偏差值为25nm时生成的随机数的值创建形状S。

在168个点的致动器布置的例子中，表示可变形反射镜的校正能力的误差形状基于RMS为2.6nm。在136个点的致动器布置的例子中，误差形状基于RMS为5.8nm。以这种方式，两个误差形状均满足目标值，即，作为目标值的10nm或更小。并且，两个误差形状也均满足前提条件，即，21mm的最小驱动点间隔。此时，136个点的致动器布置中的最小驱动点间隔为第五圆与第四圆之间的间隔，并且根据表3为(300-258)/2＝21mm。这意味着在168个点的致动器布置的例子(比较例子)中，布置了过多的驱动点，并因此附着额外的致动器。

通过使用根据本公开的第一示例性实施例或例子1的方法，能够减少驱动点的数量。结果，能够降低处理和组装的复杂性。并且，还能够降低控制系统的复杂性。并且，结果，还能够降低可变形反射镜的制造和操作的成本。在本示例性实施例中，描述了驱动点的布置的例子。但是，本公开不限于此。例如，虽然期望外周附近的致动器的布置应处于光学区域边界上，但是致动器可以被布置在光学区域边界附近。并且，虽然作为例子通过使用VCM描述了致动器，便是可以使用其它的致动器(例如，布置于反射镜的后表面上的双压电晶片(bimorphs))。

下面，参照图3A、图3B和图4，描述根据第二示例性实施例的用于布置驱动点的布置方法。图3A和图3B示出驱动点被布置在要通过校正获得的形状的光学区域边界上以及要通过校正获得的形状的极值处或附近的例子。还应注意，相同的符号在所有的附图中表示相同的部件或构件。已在第一示例性实施例中描述了相同的部件或构件，因此在这里不进行描述。在本示例性实施例中，为了校正形状，驱动点被布置在有效位置(极值)处或附近。但是，该布置与第一示例性实施例中的以致动器随着位置越接近外周被越致密地布置的方式布置致动器的思想一致。同样，在本示例性实施例中，多个致动器的总体布置具有90度的旋转对称性。

在图4中，两个曲线代表当在泽尼克多项式中展开反射镜1的形状时为旋转对称分量的项Z9和Z16。横轴r代表通过反射镜1的半径无量纲化的半径，纵轴代表关于泽尼克系数的值。由曲线上的最左边和最右边的实心圆表示的点代表内和外光学区域边界上或附近的位置。由其它实心圆表示的点代表曲线上的极值处或附近的点。根据由图4中的实心圆表示的点，确定径向方向上的驱动点的布置。并且，虽然在图4中没有示出，但是沿圆周方向，同样，尽可能地在极值处或附近布置驱动点。在这种情况下，驱动点可如表4中那样被布置，并且需要的致动器的数量为44。

表4基于根据本示例性实施例的布置方法的布置的例子：布置的驱动点的位置和数量

图5A、图5B和图5C是示出根据第二示例性实施例的计算例子的示图。图5A、图5B和图5C示出通过校正获得的形状、校正驱动之后的形状和误差形状。如图5C所示，如果如表4中那样基于驱动点的布置创建通过校正获得的形状，那么误差形状处于目标值内，即，基于RMS为9nm。并且，误差形状也满足前提条件，即，21mm的最小驱动点间隔。这表示，即使致动器的数量从表2中的168减少到44，也能够实现期望的目标。

同样，在本示例性实施例中，驱动点的布置不限于示出的例子。驱动点的数量可以根据需要的目标(校正精度)增加或减少。并且，存在难以根据实际的设计在极值处或者在光学区域边界上精确地布置或附着致动器的情况。在这种情况下，致动器可以被布置在极值附近或边界附近。并且，在一些情况下，由于空间限制，因此难以在所有的极值处布置驱动点。在这些情况下，可以在代表性的极值处或附近选择性地布置驱动点。

图6是示出根据本公开的第三示例性实施例的驱动点的布置的示图。第三示例性实施例是除了图3所示的第二示例性实施例中的驱动点5以外、驱动点还沿径向方向被布置在拐点附近的示例性实施例。在图6中，由空心圆表示的点代表拐点8。除了形状的极值以外，驱动点还被布置在拐点8处，由此能够更精确地创建期望的形状。

在本示例性实施例中，描述了沿径向方向进一步向拐点8添加驱动点的例子。作为替代方案，可以沿圆周方向向拐点8添加驱动点。并且，可以不在所有的拐点8上布置驱动点。更期望布置用于实现目标值的最少必要的驱动点。

在第四示例性实施例中，表面形状的极值和拐点是任何表面形状由泽尼克多项式的直到第n项代表时的泽尼克多项式的项(1、2、…、n)的极值和拐点。并且，一般地，关于影响光学设备的光学性能的表面形状，常常仅需要考虑泽尼克多项式中的直到第64项。因此，可以最多考虑直到第64项。更具体而言，考虑第4项到第9项、第4项到第10项、…、或第4项到第64项的布置形式是可能的。

参照图7，描述根据第五示例性实施例的曝光装置50。曝光装置50可以包括照射光学系统IL、投影光学系统PO、保持以移动掩模55的掩模台架MS、以及保持以移动基板56的基板台架WS。并且，曝光装置50包括中央处理单元(CPU)和存储器，并且还包括用于控制整个曝光装置50的控制单元51。

来自光源(未示出)的光通过包含于照射光学系统IL中的狭缝(未示出)在掩模55上形成例如长度沿Y轴方向的圆弧形状的照射区域。掩模55和基板56分别保持于掩模台架MS和基板台架WS上，并且经由投影光学系统PO被布置在几乎相互光学共轭的位置(投影光学系统PO的物面和像面的位置)处。投影光学系统PO具有预定的投影倍率(例如，1/2倍)，并且将在掩模55上形成的图案投影到基板56上。然后，投影光学系统PO以根据投影光学系统PO的投影倍率的速度比沿平行于投影光学系统PO的物面的方向(例如，图7中的X轴方向)扫描掩模台架MS和基板台架WS。通过该操作，投影光学系统PO可以将在掩模55上形成的图案转印到基板56上。

例如，如图7所示，投影光学系统PO可以包括平面镜52、凹面反射镜53和凸面反射镜54。从照射光学系统IL发射并且穿过掩模55的光被平面镜52的第一表面52a反射并且入射到凹面反射镜53的第一表面53a上。被凹面反射镜53的第一表面53a反射的光被凸面反射镜54反射并且入射到凹面反射镜53的第二表面53b上。被凹面反射镜53的第二表面53b反射的光被平面镜52的第二表面52b反射并且在基板56上形成图像。在投影光学系统PO中，凸面反射镜54是光瞳。

在曝光装置50中，根据上述的示例性实施例的光学设备10被用作例如用于使凹面反射镜53的反射表面变形为任意形状(即，使用凹面反射镜53作为反射镜1)的可变形反射镜设备。因此，能够抑制光学性能的下降。此时，曝光装置50的控制单元51可以包括根据上述的示例性实施例的光学设备10的控制单元(未示出)。

<物品的制造方法>

根据本公开的示例性实施例的物品的制造方法适于例如制造诸如微器件(例如，半导体器件)或具有微结构的元件的物品。根据本示例性实施例的物品的制造方法包括通过使用曝光装置50在施加于基板的感光剂上形成潜像图案的处理(使基板曝光的处理)和显影在以上的处理中形成了潜像图案的基板的处理。并且，该制造方法包括其它已知的处理(氧化、膜形成、沉积、掺杂、平坦化、蚀刻、抗蚀剂去除、切割、接合和封装)。与常规的方法相比，根据本示例性实施例的物品的制造方法与传统方法相比至少在物品的性能、质量、生产率和制造成本中的至少一个上具有优势。

最后，参照图8，描述在说明书中的术语“相等间隔”和“附近”中在±30％内限定范围以及在30％内限定范围的原因。首先，目标是实现当驱动点的位置从精确的位置偏移时反射表面的表面形状的劣化量落入20％内的状态。在驱动点的位置偏移约30％的情况下，表面形状的劣化量(误差增加量)变为约20％。如果偏移量超过30％，则表面形状的劣化量迅速增加。因此，位置偏移量被限定于±30％内和30％内。

虽然描述了本公开的示例性实施例，但是本公开不限于这些示例性实施例，并且可以在本公开的范围内以各种方式进行修改和改变。

根据本公开的一个方面，能够保持反射镜变形的期望的精度并且还减少致动器的数量。

虽然已参照示例性实施例描述了本发明，但应理解，本发明不限于公开的示例性实施例。所附权利要求的范围应被赋予最宽的解释以包含所有的修改以及等同的结构和功能。

Claims (11)

1.一种光学设备，其特征在于，包括：

反射镜；和

被配置为使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器，

其中，所述多个致动器被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆以当同心圆的位置被定位为越远离反射镜的反射表面的中心时同心圆被越致密地布置的方式被布置，并且，所述多个致动器中的至少一些沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置，

并且其中，所述多个致动器中的每个被布置在与在泽尼克多项式中展开要变形的反射表面的形状时的各项的极值对应的位置中的一个位置处。

2.根据权利要求1所述的光学设备，其中，所述多个致动器的总体布置是旋转对称的。

3.根据权利要求1所述的光学设备，还包括基座板，

其中，所述多个致动器被布置在反射镜的后表面与基座板之间。

4.根据权利要求1所述的光学设备，其中，所述多个致动器被布置在作为反射镜的光学有效区域的边界上或附近。

5.根据权利要求1所述的光学设备，其中，所述多个致动器被布置在与在泽尼克多项式中展开要变形的反射表面的形状时的各项的极值对应的位置处。

6.根据权利要求1所述的光学设备，其中，所述多个致动器被布置在与在泽尼克多项式中展开要变形的反射表面的形状时的至少第9项或第16项的极值对应的位置处。

7.根据权利要求1所述的光学设备，其中，当从垂直于中心处的反射表面的方向观看时，反射镜具有圆形形状。

8.根据权利要求1所述的光学设备，其中，反射镜的反射表面具有平面形状、凹面形状和凸面形状中的任一个。

9.一种用于将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统，其特征在于，投影光学系统包括反射镜和被配置为使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器，

其中，所述多个致动器被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆以当同心圆的位置被定位为越远离反射镜的反射表面的中心时同心圆被越致密地布置的方式被布置，并且，所述多个致动器中的至少一些沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置，

并且其中，所述多个致动器中的每个被布置在与在泽尼克多项式中展开要变形的反射表面的形状时的各项的极值对应的位置中的一个位置处。

10.一种用于使基板曝光的曝光装置，其特征在于，包括用于将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统，

其中，投影光学系统包括光学设备，光学设备包含反射镜和被配置为使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器，

其中，所述多个致动器被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆以当同心圆的位置被定位为越远离反射镜的反射表面的中心时同心圆被越致密地布置的方式被布置，并且，所述多个致动器中的至少一些沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置，

并且其中，所述多个致动器中的每个被布置在与在泽尼克多项式中展开要变形的反射表面的形状时的各项的极值对应的位置中的一个位置处。

11.一种物品的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

通过使用用于曝光基板的曝光装置将基板曝光；

将经曝光的基板显影；和

从经显影的基板制造物品，

其中，曝光装置包括用于将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统，

其中，投影光学系统包括反射镜和被配置为使反射镜的反射表面的形状变形的多个致动器，

其中，所述多个致动器被布置在多个同心圆上，所述多个同心圆以当同心圆的位置被定位为越远离反射镜的反射表面的中心时同心圆被越致密地布置的方式被布置，并且，所述多个致动器中的至少一些沿同心圆的圆周方向以均等的间隔被布置，

并且其中，所述多个致动器中的每个被布置在与在泽尼克多项式中展开要变形的反射表面的形状时的各项的极值对应的位置中的一个位置处。

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