CN109239967B - 量子点彩膜的制备方法、彩膜基板、显示面板和显示装置 - Google Patents

量子点彩膜的制备方法、彩膜基板、显示面板和显示装置 Download PDF

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Abstract

本公开涉及一种量子点彩膜的制备方法、彩膜基板、显示面板和显示装置。量子点彩膜的制备方法包括：对第一透明层上的第一指定区域进行疏液处理，所述第一透明层包括与多个像素区对应的区域，每个像素区包括第一子像素区和除所述第一子像素区以外的区域，所述第一指定区域与除所述第一子像素区以外的区域对应；在所述第一透明层上制备亲液的第一量子点溶液，以便在与所述第一子像素区对应的、未经疏液处理的区域形成第一彩膜子层。

Description

量子点彩膜的制备方法、彩膜基板、显示面板和显示装置
技术领域
本公开涉及显示技术领域，特别涉及量子点彩膜的制备方法、彩膜基板、显示面板和显示装置。
背景技术
随着显示技术的快速发展，人们对显示产品的性能要求越来越高。量子点材料由于较窄的光谱半峰宽，发出的光色纯度较高，可提升显示产品的色域，因此受到广泛的关注和研究。
目前，量子点技术的主要应用为在彩膜基板中使用量子点彩膜，搭配背光源实现显示。在相关制备工艺中，量子点彩膜的图案化通过打印或者光刻来实现。打印工艺的精度有限，较难实现高分辨率的显示面板。光刻工艺是将量子点掺入到光阻材料中，通过曝光显影形成图案，或者通过光阻掩膜刻蚀形成图案。由于量子点材料比较敏感，在光刻工艺中需要使用酸性或者碱性的溶液，易使量子点发生猝灭。
发明内容
本公开提出一种量子点彩膜图案化的技术方案，能够提高量子点彩膜的质量。
根据本公开实施例的第一方面，提供了一种量子点彩膜的制备方法，包括：量子点彩膜的制备方法包括：对第一透明层上的第一指定区域进行疏液处理，所述第一透明层包括与多个像素区对应的区域，每个像素区包括第一子像素区和除所述第一子像素区以外的区域，所述第一指定区域与除所述第一子像素区以外的区域对应；在所述第一透明层上制备亲液的第一量子点溶液，以便在与所述第一子像素区对应的、未经疏液处理的区域形成第一彩膜子层。
在一些实施例中，除第一子像素区以外的区域包括第二子像素区。所述制备方法还包括：在形成所述第一彩膜子层后，形成第二透明层；对所述第二透明层上的第二指定区域进行疏液处理，所述第二指定区域与除第二子像素区以外的区域对应；在所述第二透明层上制备亲液的第二量子点溶液，以便在与所述第二子像素区对应的、未经疏液处理的区域形成第二彩膜子层。
在一些实施例中，除第一子像素区以外的区域还包括第三子像素区，所述第二子像素区位于所述第一子像素区和所述第三子像素区之间。
在一些实施例中，所述制备方法还包括：对所述第一子像素区上的第一量子点溶液进行干燥处理，以便形成所述第一量子点彩膜；对所述第二子像素区上的第二量子点溶液进行干燥处理，以便形成所述第二量子点彩膜。
在一些实施例中，所述制备方法还包括：在形成所述第一量子点彩膜后、形成所述第二透明层之前，对所述第一透明层进行亲液处理。
在一些实施例中，利用掩膜板进行疏液处理。
在一些实施例中，所述第一透明层和第二透明层的材料相同，包括光阻材料。
在一些实施例中，所述制备方法还包括：在衬底基板上形成所述第一透明层。
在一些实施例中，利用CFx等离子体进行疏液处理。
在一些实施例中，利用O2等离子体或N2等离子体进行亲液处理。
在一些实施例中，通过喷墨打印、旋涂或丝网印刷，涂布所述第一量子点溶液和所述第二量子点溶液。
在一些实施例中，所述第一量子点溶液包括第一醇醚类溶剂、第一水溶性配体和多个第一量子点，所述第二量子点溶液包括第二醇醚类溶剂、第二水溶性配体和多个第二量子点。
在一些实施例中，所述第一量子点和所述第二量子点的尺寸不同但材料相同，包括CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgTe、GaN、GaAs、InP、InAs中的至少一种。
在一些实施例中，所述光阻材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚酯、环氧树酯中的至少一种。
根据本公开实施例的第二方面，提供了一种彩膜基板，包括根据前述任一制备方法形成的量子点彩膜。
在一些实施例中，所述量子点彩膜包括：第一彩膜层，包括第一彩膜子层和位于所述第一彩膜子层两侧的第一透明子层；第二彩膜层，包括第二彩膜子层、位于所述第二彩膜子层和衬底基板之间的第二透明子层；第三彩膜层，包括第三透明子层。
在一些实施例中，所述第一透明子层、所述第二透明子层和所述第三透明子层的材料相同，包括光阻材料。所述第一彩膜层还包括第一疏液层，所述第一疏液层位于更远离所述衬底基板的第一透明子层的、远离所述第一彩膜子层一侧。所述第三彩膜层还包括第三疏液层，所述第三疏液层位于所述第三透明子层远离所述衬底基板一侧。
根据本公开实施例的第三方面，提供了一种包括前述彩膜基板的显示面板。
根据本公开实施例的第四方面，提供了一种包括前述显示面板的显示装置。
在上述实施例中，通过透明光阻层疏液区域的设置，不需要光刻工艺即可实现不同量子点彩膜的图案化，可以显著改善形成的量子点彩膜的质量。
通过以下参照附图对本公开的实施例的详细描述，本公开的其它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
构成说明书的一部分的附图描述了本公开的实施例，并且连同说明书一起用于解释本公开的原理。
参照附图，根据下面的详细描述，可以更加清楚地理解本公开，其中：
图1是示出根据本公开一些实施例的量子点彩膜的制备方法的流程图；
图2是示出根据本公开另一些实施例的量子点彩膜的制备方法的流程图；
图3A是示出根据本公开一些实施例在形成第一透明层后的截面图；
图3B是示出根据本公开一些实施例在第一次疏液处理后的截面图；
图3C是示出根据本公开一些实施例在形成第一彩膜子层后的截面图；
图4A是示出根据本公开一些实施例在形成第二透明层后的截面图；
图4B是示出根据本公开一些实施例在第二次疏液处理后的截面图；
图4C是示出根据本公开一些实施例在形成第二彩膜子层后的截面图。
应当明白，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。此外，相同或类似的参考标号表示相同或类似的构件。
具体实施方式
现在将参照附图来详细描述本公开的各种实施例。对实施例的描述仅仅是说明性的，决不作为对本公开及其应用或使用的任何限制。本公开可以以许多不同的形式实现，不限于这里所述的实施例。提供这些实施例是为了使本公开透彻且完整，并且向本领域技术人员充分表达本公开的范围。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置应被解释为仅仅是示意性的，而不是作为限制。
本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的部分。“包括”等类似的词语意指在该词前的要素涵盖在该词后列举的要素，并不排除也涵盖其他要素的可能。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
在本公开中，当描述到特定元件位于第一元件和第二元件之间时，在该特定元件与第一元件或第二元件之间可以存在居间元件，也可以不存在居间元件。
本公开使用的所有术语(包括技术术语或者科学术语)与本公开所属领域的普通技术人员理解的含义相同，除非另外特别定义。还应当理解，在诸如通用字典中定义的术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。
对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
根据本公开一些实施例，提供一种量子点彩膜的制备方法，包括：对第一透明层上的第一指定区域进行疏液处理，所述第一透明层包括与多个像素区对应的区域，每个像素区包括第一子像素区和除所述第一子像素区以外的区域，所述第一指定区域与除所述第一子像素区以外的区域对应；在所述第一透明层上制备亲液的第一量子点溶液，以便在与所述第一子像素区对应的、未经疏液处理的区域形成第一彩膜子层。
在一些实施例中，制备方法还包括：在衬底基板上形成所述第一透明层。
图1是示出根据本公开一些实施例的量子点彩膜的制备方法的流程图。图1所示的量子点彩膜的制备方法包括步骤S1-S3。
图3A至图3C是示出根据图1的方法在各个阶段得到的结构的截面图。下面参考图1所示出的流程图描述图3A至图3C所示的根据本公开一些实施例的方法在各个阶段得到的结构的截面图。
在步骤S1，在衬底基板100上形成第一透明层110。
图3A示出根据本公开一些实施例在形成第一透明层后的截面图。如图3A所示，衬底基板100包括多个像素区，每个像素区包括多个子像素区，例如第一子像素区101和除第一子像素区101之外的区域。在一些实施例中，除第一子像素区以外的区域包括第二子像素区102。除第一子像素区以外的区域还可以包括第三子像素区103。在每个像素区中，各个子像素区之间还可以设置遮光层，例如黑矩阵。
图3A示出每个像素区包括第一子像素区101、第二子像素区102和第三子像素区103。第二子像素区102位于第一子像素区101和第三子像素区103之间。第一透明层110覆盖基板100的多个像素区，包括与多个像素区对应的区域。
如图3A所示，第一透明层110包括区域111、112和113，其中，区域112和113的位置与第二子像素区102和第三子像素区103的位置对应。这里，“对应”可以理解为：区域112与第二子像素区102在基板平面上的投影至少部分重叠；区域113与第三子像素区103在基板平面上的投影至少部分重叠。图3A示出投影完全重叠的情形。
在一些实施例中，在基板上通过溶液制备工艺，例如喷墨打印、旋涂或丝网印刷，结合干燥工艺来形成第一透明层。衬底基板的材料可以选择玻璃。第一透明层的材料可以是光阻材料，例如选自聚甲基丙烯酸甲酯、聚酯、环氧树酯、或其任意组合。
应当理解，第一透明层也可以不形成在单独的衬底基板上，例如，第一透明层可以是光源结构的一部分。
在步骤S2，对第一透明层110上的第一指定区域进行疏液处理。第一指定区域与除第一子像素区以外的区域对应。例如，可以对第一透明层110上、与第二子像素区102和第三子像素区103对应的区域进行疏液处理。
图3B示出根据本公开一些实施例在第一次疏液处理后的截面图。
在一些实施例中，利用掩膜板对第一透明层110上的区域112和113进行疏液处理。与相关技术中的图案化工艺相比，本实施例中掩膜的开孔可放大到两个子像素的面积，这样可以降低工艺难度。
作为示例，可以利用CFx等离子体对第一透明层上的指定区域进行疏液处理，使得指定区域的上表面具有疏液性。例如，在区域112和113上表面分别形成疏液层112S和113S，如图3B所示。
在步骤S3，在第一透明层110上制备亲液的第一量子点溶液，以便在与第一子像素区101对应的、未经疏液处理的区域形成第一彩膜子层210。
图3C示出根据本公开一些实施例在形成第一彩膜子层后的截面图。如图3C所示，区域111的位置与第一子像素区101的位置对应。这里，“对应”可以理解为：区域111与第一子像素区101在基板平面上的投影至少部分重叠。图3C示出投影完全重叠的情形。
作为示例，制备量子点溶液可以通过喷墨打印、旋涂或丝网印刷等溶液制备工艺来实现。由于第一透明层110的区域112和113的上表面具有疏液性，即由于疏液层112S和113S的存在，涂布的亲液的第一量子点溶液将流动到未经疏液处理的区域111上表面。
在一些实施例中，第一量子点溶液包括醇醚类溶剂、水溶性配体和多个第一量子点。另外，在量子点溶液的制备工艺中，可以将水溶性的量子点分散在有机酮中，以防止量子点团聚。
醇醚类溶剂可以选自乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丙醚、乙二醇丁醚、丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇正丙醚、丙二醇异丙醚、丙二醇正丁醚、丙二醇叔丁醚、二乙二醇醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇丁醚、二乙二醇二丁醚、二乙二醇己醚、二丙二醇甲醚、二丙二醇二甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇二乙醚、二丙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇甲醚、三丙二醇丁醚、或其任意组合。
水溶性配体所带基团可以选自：羧酸基团、胺基团、硫醇基团、膦酸基团、或其任意组合。可以利用巯基有机硅聚合物将量子点材料修饰上水溶性配体，得到水溶性的量子点。
在一些实施例中，第一量子点的材料为红色量子点材料。在另一些实施例中，第一量子点的材料为绿色量子点材料。量子点材料可以选自CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgTe、GaN、GaAs、InP、InAs、或其任意组合。可以通过调节量子点的尺寸，来实现不同颜色的量子点发光。以CdTe量子点为例，当粒径从2.5nm变化到4.0nm时，量子点的发射波长可以从510nm红移到660nm，即能够实现从绿光到红光的不同颜色的量子点发光。
作为示例，流动到区域111上表面的第一量子点溶液经过干燥处理后，形成第一彩膜子层210。在一些实施例中，可以在50-100℃条件下，对第一量子点溶液进行烘烤处理0.5-2小时。
以第一子像素区101、第二子像素区102和第三子像素区103分别对应红色子像素区、绿色子像素区和蓝色子像素区为例，通过图1的方法可以形成红色彩膜子层。
具体地，通过对第一透明层上、与绿色子像素区和蓝色子像素区对应的区域进行疏液处理，使得仅在未经疏液处理的区域(即红色子像素区的对应区域)形成红色彩膜子层。
应当理解，也可以对第一透明层上、与蓝色子像素区和红色子像素区对应的区域进行疏液处理，使得仅在未经疏液处理的区域(即绿色子像素区的对应区域)形成绿色彩膜子层。
图2是示出根据本公开另一些实施例的彩膜子层的制备方法的流程图。图2与图1的不同之处在于，还包括步骤S4-S6。下面将仅描述不同之处，相同之处不再赘述。
图4A至图4C是示出根据图2的方法在各个阶段得到的结构的截面图。下面参考图2所示出的流程图描述图4A至图4C所示的根据本公开一些实施例的方法在各个阶段得到的结构的截面图。
在步骤S4，在形成第一彩膜子层210后，形成第二透明层120。
图4A示出根据本公开一些实施例在形成第二透明层后的截面图。如图4A所示，第二透明层120覆盖第一透明层110和第一彩膜子层210。
如图4A所示，第二透明层120包括区域121、122和123，其中区域123和121的位置与第三子像素区103和第一子像素区101的位置对应。这里，“对应”可以理解为：区域123与第三子像素区103在基板平面上的投影至少部分重叠；区域121与第一子像素区101在基板平面上的投影至少部分重叠。图4A示出投影完全重叠的情形。
第二透明层120可以采用与第一透明层110相同的材料，并且可以采用相同的工艺形成。即，第二透明层的材料也可以是光阻材料，例如选自聚甲基丙烯酸甲酯、聚酯、环氧树酯、或其任意组合。第二透明层也可以采用例如喷墨打印、旋涂或丝网印刷的溶液制备工艺，结合干燥工艺来形成。
第二透明层的厚度可以根据实际需要来选择，例如可以大于第一透明层。在第二透明层较厚的情形下，由于溶液的流动性，可以使得第二透明层的表面较平坦，从而省去平坦化工艺，简化流程。
在一些实施例中，在形成第二透明层120之前，可以对第一透明层110进行亲液处理，以避免之前的疏液处理的影响。例如，可以利用O2等离子体或N2等离子体对第一透明层110进行亲液处理。这样的亲液处理可以改变第一透明层110上表面疏液层112S和113S的性质，使其恢复亲液性，但对第一彩膜子层210几乎不产生影响。
在步骤S5，对第二透明层120上的第二指定区域进行疏液处理。第二指定区域与除第二子像素区以外的区域对应。例如，可以对第二透明层120上、与第三子像素区103和第一子像素区101对应的区域进行疏液处理。
图4B示出根据本公开一些实施例在第二次疏液处理后的截面图。
可以采用与第一透明层110相同的工艺对第二透明层120进行疏液处理。即，也可以利用CFx等离子体对第二透明层上的指定区域进行疏液处理，使得指定区域的上表面具有疏液性。例如，在区域123和121上表面分别形成疏液层123S和121S，如图4B所示。
在一些实施例中，也可以利用掩膜板对第二透明层120上的区域123和121进行疏液处理。这样，两次疏液处理可使用同一张掩膜板，从而可以简化工艺、降低成本。
在步骤S6，在第二透明层120上涂布亲液的第二量子点溶液，以便在与第二子像素区102对应的、未经疏液处理的区域形成第二彩膜子层220。
图4C示出根据本公开一些实施例在形成第二彩膜子层后的截面图。如图4C所示，区域122的位置与第二子像素区102的位置对应。这里，“对应”可以理解为：区域122与第二子像素区102在基板平面上的投影至少部分重叠。图4C示出投影完全重叠的情形。
第二彩膜子层220可以采用与第一彩膜子层210相似的工艺形成。即，第二彩膜子层220也可以采用例如喷墨打印、旋涂或丝网印刷的溶液制备工艺，结合干燥工艺来形成。与第一量子点溶液类似，第二量子点溶液包括醇醚类溶剂、水溶性配体和多个第二量子点。并且，也可以利用有机酮对量子点的稳定作用，将量子点分散在有机酮中，以防止量子点团聚。
在一些实施例中，第二量子点溶液与第一量子点溶液使用相同的醇醚类溶剂、水溶性配体，并且使用同种材料的量子点。即第二量子点溶液与第一量子点溶液的区别仅在于量子点的尺寸不同，使形成的第二彩膜子层220与第一彩膜子层210的性能不同，发射不同颜色的光。
应当理解，第二量子点溶液也可以与第一量子点溶液使用不同的醇醚类溶剂，不同的水溶性配体，或不同的量子点材料。
仍以第一子像素区101、第二子像素区102和第三子像素区103分别对应红色子像素区、绿色子像素区和蓝色子像素区为例，通过图2的方法可以依次形成红色彩膜子层和绿色彩膜子层。
具体地，首先，通过对第一透明层上与绿色子像素区和蓝色子像素区对应的区域进行疏液处理，使得仅在未经疏液处理的区域(即红色子像素区的对应区域)形成红色彩膜子层；然后，通过对第二透明层上与蓝色子像素区和红色子像素区对应的区域进行疏液处理，使得仅在未经疏液处理的区域(即绿色子像素区的对应区域)形成绿色彩膜子层。
应当理解，也可以先形成绿色彩膜子层再形成红色彩膜子层。形成红色彩膜子层和绿色彩膜子层的先后顺序不限于本公开实施例描述的顺序。
在上述实施例中，通过透明层疏液区域的设置，不需要光刻工艺即可实现不同彩膜子层的图案化。量子点的发光不会因接触到光刻工艺中的酸性或者碱性溶剂而发生猝灭，由此可以显著改善形成的量子点彩膜的质量。
根据本公开实施例，还提供了一种彩膜基板，包括根据前述任一制备方法形成的量子点彩膜。
在一些实施例中，彩膜基板包括：第一彩膜层、第二彩膜层和第三彩膜层。下面结合图4C描述根据本公开一些实施例各个彩膜层的结构。
如图4C所示，第一彩膜层包括第一彩膜子层210和位于第一彩膜子层210两侧的第一透明子层。在第一彩膜子层210上、下的第一透明子层111、121分别是第一透明层110和第二透明层120的一部分。
第二彩膜层包括第二彩膜子层220、位于第二彩膜子层210和衬底基板100之间的第二透明子层。第二透明子层可以为两层112和122，分别是第一透明层110和第二透明层120的一部分。
第三彩膜层包括第三透明子层。第三透明子层可以包括两层113和123，分别是第一透明层110和第二透明层120的一部分。
在一些实施例中，第一彩膜层还包括第一疏液层121S。第一疏液层121S位于更远离衬底基板的第一透明子层121的、远离第一彩膜子层210一侧。如图4C所示，第一疏液层121S位于第一透明子层121上方。
在另一些实施例中，第三彩膜层还包括第三疏液层123S。第三疏液层123S位于第三透明子层远离衬底基板100一侧。如图4C所示，第一疏液层123S位于123上方。
彩膜基板与背光源结合使用，可以实现彩色显示。根据本公开实施例，还提供了一种包括前述彩膜基板的显示面板。在一些实施例中，显示面板包括：彩膜基板和蓝色背光源，其中彩膜基板包括透明层、红色彩膜层和绿色彩膜层。显示面板可以是例如液晶显示面板。蓝色背光源可以为蓝色LED光源或者蓝色OLED光源。
根据本公开实施例，提供了一种包括前述显示面板的显示装置。在一些实施例中，显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
至此，已经详细描述了本公开的各种实施例。为了避免遮蔽本公开的构思，没有描述本领域所公知的一些细节。本领域技术人员根据上面的描述，完全可以明白如何实施这里公开的技术方案。
虽然已经通过示例对本公开的一些特定实施例进行了详细说明，但是本领域的技术人员应该理解，以上示例仅是为了进行说明，而不是为了限制本公开的范围。本领域的技术人员应该理解，可在不脱离本公开的范围和精神的情况下，对以上实施例进行修改或者对部分技术特征进行等同替换。本公开的范围由所附权利要求来限定。

Claims (16)

1.一种量子点彩膜的制备方法，包括：
对第一透明层上的第一指定区域进行疏液处理，所述第一透明层包括与多个像素区对应的区域，每个像素区包括第一子像素区和除所述第一子像素区以外的区域，除第一子像素区以外的区域包括第二子像素区，所述第一指定区域与除所述第一子像素区以外的区域对应；
在所述第一透明层上制备亲液的第一量子点溶液，以便在与所述第一子像素区对应的、未经疏液处理的区域形成第一彩膜子层；
在形成所述第一彩膜子层后，形成第二透明层；
对所述第二透明层上的第二指定区域进行疏液处理，所述第二指定区域与除第二子像素区以外的区域对应；
在所述第二透明层上制备亲液的第二量子点溶液，以便在与所述第二子像素区对应的、未经疏液处理的区域形成第二彩膜子层。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其中，除第一子像素区以外的区域还包括第三子像素区，所述第二子像素区位于所述第一子像素区和所述第三子像素区之间。
3.根据权利要求1所述的制备方法，还包括：
对所述第一子像素区上的第一量子点溶液进行干燥处理，以便形成所述第一彩膜子层；
对所述第二子像素区上的第二量子点溶液进行干燥处理，以便形成所述第二彩膜子层。
4.根据权利要求1所述的制备方法，还包括：
在形成所述第一彩膜子层后、形成所述第二透明层之前，对所述第一透明层进行亲液处理。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其中，利用掩膜板进行疏液处理。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述第一透明层和第二透明层的材料相同，包括光阻材料。
7.根据权利要求1所述的制备方法，还包括：在衬底基板上形成所述第一透明层。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其中，通过喷墨打印、旋涂或丝网印刷，涂布所述第一量子点溶液和所述第二量子点溶液。
9.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述第一量子点溶液包括第一醇醚类溶剂、第一水溶性配体和多个第一量子点，所述第二量子点溶液包括第二醇醚类溶剂、第二水溶性配体和多个第二量子点。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其中，所述第一量子点和所述第二量子点的尺寸不同但材料相同，包括CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgTe、GaN、GaAs、InP、InAs中的至少一种。
11.根据权利要求6所述的制备方法，其中，所述光阻材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚酯、环氧树酯中的至少一种。
12.一种彩膜基板，包括根据权利要求1至11中任一项所述的制备方法形成的量子点彩膜。
13.根据权利要求12所述的彩膜基板，其中，所述量子点彩膜包括：
第一彩膜层，包括第一彩膜子层和位于所述第一彩膜子层两侧的第一透明子层；
第二彩膜层，包括第二彩膜子层、位于所述第二彩膜子层和衬底基板之间的第二透明子层；
第三彩膜层，包括第三透明子层。
14.根据权利要求13所述的彩膜基板，其中：
所述第一透明子层、所述第二透明子层和所述第三透明子层的材料相同，包括光阻材料；
所述第一彩膜层还包括第一疏液层，所述第一疏液层位于更远离所述衬底基板的第一透明子层的、远离所述第一彩膜子层一侧；
所述第三彩膜层还包括第三疏液层，所述第三疏液层位于所述第三透明子层远离所述衬底基板一侧。
15.一种显示面板，包括根据权利要求14所述的彩膜基板。
16.一种显示装置，包括根据权利要求15所述的显示面板。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109239967B (zh) * 2018-10-29 2020-08-25 京东方科技集团股份有限公司 量子点彩膜的制备方法、彩膜基板、显示面板和显示装置
CN109786431B (zh) * 2019-02-25 2021-10-22 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、和显示装置
CN111403443B (zh) * 2020-03-23 2023-07-04 京东方科技集团股份有限公司 显示背板及其制作方法、显示装置
KR20210122406A (ko) * 2020-03-31 2021-10-12 삼성디스플레이 주식회사 표시패널 및 그 제조방법
CN112666751B (zh) 2020-12-25 2023-07-18 厦门扑浪半导体有限公司 一种量子点显示面板及其制备方法、显示装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080058909A (ko) * 2006-12-22 2008-06-26 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광표시장치 및 그 제조방법
CN106158916A (zh) * 2016-08-26 2016-11-23 纳晶科技股份有限公司 量子点膜、其制作方法及显示器件

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004258252A (ja) * 2003-02-25 2004-09-16 Sharp Corp カラーフィルタ基板およびその製造方法、並びに製造装置
JP2007178532A (ja) * 2005-12-27 2007-07-12 Seiko Epson Corp カラーフィルタ基板の製造方法および液晶表示装置の製造方法
JP2009087781A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Dainippon Printing Co Ltd エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
JP5446056B2 (ja) * 2010-05-24 2014-03-19 株式会社村田製作所 発光素子、及び発光素子の製造方法、並びに表示装置
TWI581017B (zh) * 2014-09-30 2017-05-01 鴻海精密工業股份有限公司 顏色轉換膜、使用顏色轉換膜的顯示裝置及製造該顏色轉換膜的方法
JP6905339B2 (ja) * 2014-10-24 2021-07-21 Ａｇｃ株式会社 隔壁の製造方法および隔壁の修復方法
CN105242442B (zh) * 2015-10-08 2018-05-01 深圳市华星光电技术有限公司 量子点彩膜的制备方法
CN105259694B (zh) * 2015-11-13 2019-01-15 深圳市华星光电技术有限公司 彩色滤光片的制作方法及彩色滤光片
KR102387760B1 (ko) * 2016-08-26 2022-04-15 나징 테크놀로지 코포레이션 리미티드 발광 디바이스의 제조 방법, 발광 디바이스 및 하이브리드 발광 디바이스
CN106707610A (zh) * 2017-03-28 2017-05-24 青岛海信电器股份有限公司 量子点彩色滤光片及制备方法、液晶面板、液晶显示设备
CN107248523B (zh) * 2017-07-31 2020-03-10 深圳市华星光电技术有限公司 像素界定层及其制造方法
CN110874978B (zh) * 2018-08-31 2021-12-10 成都辰显光电有限公司 光转换基板及显示面板
CN109239967B (zh) * 2018-10-29 2020-08-25 京东方科技集团股份有限公司 量子点彩膜的制备方法、彩膜基板、显示面板和显示装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080058909A (ko) * 2006-12-22 2008-06-26 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광표시장치 및 그 제조방법
CN106158916A (zh) * 2016-08-26 2016-11-23 纳晶科技股份有限公司 量子点膜、其制作方法及显示器件

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