CN109207953B - 抗高温氧化ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层制备工艺 - Google Patents
抗高温氧化ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层制备工艺 Download PDFInfo
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 111
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 106
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 46
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 title claims abstract description 25
- 229910008328 ZrNx Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 20
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 118
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 55
- 229910001093 Zr alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 15
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims abstract description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 32
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 24
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 16
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 12
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 244000137852 Petrea volubilis Species 0.000 claims description 5
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 claims description 5
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 5
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 claims description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 claims 1
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 10
- 239000003758 nuclear fuel Substances 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- 238000001341 grazing-angle X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910010037 TiAlN Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 TiN Chemical class 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000010512 thermal transition Effects 0.000 description 1
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
- C23C14/352—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering using more than one target
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
- C23C14/0036—Reactive sputtering
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
- C23C14/022—Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
- C23C14/025—Metallic sublayers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
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Abstract
本发明公开了一种锆合金表面抗高温氧化ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层制备工艺，其中M是Ti，V，Nb任意两种金属元素。本发明采用多靶共溅技术，在锆合金基体表面制备了ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层。制备复合涂层分两个步骤进行：第一步骤制备ZrNx/(ZrAlFe)N梯度过渡层，首先在基底沉积Zr涂层；接着以流速为2sccm/min通入N2沉积ZrNx；然后连续过渡到(ZrAlFe)N；第二步骤制备(ZrAlFeM)N(M＝Ti,V,Nb任意两种金属)涂层。在(ZrAlFe)N过渡层中，Zr原子百分比沿厚度方向从100at％～30at％梯度变化，Al和Fe原子百分比沿厚度方向从0at％～35at％梯度变化；在(ZrAlFeM)N氮化物涂层中N原子百分比介于5at％～20at％，其他原子百分比介于10at％～35at％。本工艺通过设计涂层的梯度变化结构，具有缓解复合涂层内残余应力、耐高温抗氧化性能以及力学性能优异等特点。
Description
技术领域
本发明属于反应堆核燃料锆合金包壳表面改性技术领域，具体涉及一种采用多靶共溅射技术在锆合金表面制备出具有高温抗氧化性能、耐腐蚀和力学性能优异的ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层制备方法。
背景技术
核能作为一种高效清洁的能源，在解决能源危机以及保护环境问题等方面具有显著的优势。目前，锆合金具有机械加工性能好、小的中子吸收截面和良好的耐腐蚀性能、与铀燃料良好的相容性等一系列优点，因此被广泛应用于反应堆的核燃料包壳管以及结构材料等。锆合金在高温蒸汽环境中极易与水发生氧化反应形成氢气，在核反应堆失水事故工况下，锆合金管温度急剧上升并与水蒸气发生剧烈反应从而引起“氢爆”，见文献[杨忠波，赵文金．锆合金耐腐蚀性能及氧化特性概述[J]．材料导报，2010，24 (17): 120 - 125]。表明现有的燃料包壳已不能满足事故安全性的要求，因此，开发新型的抗高温氧化、耐腐蚀性能、力学性能优异的核燃料包壳材料或者发展锆合金包壳材料表面涂层技术已经刻不容缓。
材料表面涂覆金属或陶瓷涂层可以作为改善金属等材料表面耐腐蚀、抗高温氧化、力学性能的重要手段。自2011年福岛核事故发生之后，主要以提高锆合金事故容错能力为目标，抗水蒸气氧化性能是其最重要的性能评价指标之一，在锆合金表面沉积一层保护涂层，不仅可以提高其抗高温氧化性能，还能保护锆合金的整体性能。研究的涂层分别有金属涂层(FeCrAl)、碳化物(SiC、ZrC等)、氮化物(TiN)，其中氮化物如TiN、TiAlN、ZrN 等具有较高的硬度、熔点和高的热导率。研究的氮化物涂层逐渐从一元，二元发展至多元，如多元(AlCrNbSiTi) N 薄膜在900 ℃时表现出极好的抗氧化性，见文献[M. H. Hsieh，M. H.Tsai，W. H. Shen，et al, Surf Coat Technol，2013; 221: 118.]。Firstov 等将多元(TiVZrNbHf) N 薄膜进行高温退火处理，发现1000℃退火1 h 时该薄膜的硬度可达66GPa，1100℃退火10h 后，薄膜硬度仍可保持44 GPa 的高硬度，并表现出极好的强韧性和高温稳定性，见文献[S. A. Firstov，V. F. Gorban，N. I. Danilenko, Powder MetallMetal Ceram，2014，52 : 560.]。而且最新研究发现还具有耐辐照性能[A. D.Pogrebnjak, O. V. Bondar, S. O. Borba, et al, Nuclear Inst & Methods inPhysics Research B, 2016, 385:74-83.]。面对核燃料包壳合金材料具有耐高温氧化、高温稳定性、耐辐照等多种性能要求，以及应用于轻水反应堆冷却剂缺失事故（LOCA）中核燃料锆合金包壳材料表面改性技术面临严峻的挑战。本发明采用形成元素成分成梯度变化的复合梯度涂层不仅能有效地减小基底与涂层间的因热膨胀系数失配导致的内应力，而且还能提高复合涂层与锆合金基体的界面结合力，同时梯度结构涂层往往还表现出更为优越的韧性、抗高温氧化性能、抗热震性能。此外，复合梯度氮化物涂层的外层为多组元高熵合金氮化物涂层。研究发现，一些多元高熵合金氮化物涂层即使在1000℃时也能保持稳定单一相结构和较好的高温稳定性[P. K. Huang, J. W. Yeh, Scr Mater, 2010,62 (2):105]。其原因在于元素增加使得结构熵值增加，导致高熵合金氮化物涂层晶格严重畸变，减小了晶粒界面能，进而使得多元高熵氮化物涂层表现出良好的耐高温稳定性。
与传统表面处理技术相比，多靶共溅射技术作为一种具有沉积效率高、低成本、对环境无污染等优异特点的等离子体制备方法，采用多靶共溅射技术在锆合金表面沉积制备致密的复合梯度涂层在保护核燃料锆合金包壳表面抗高温氧化性能具有广阔的应用前景。
发明内容
本发明的目的在于提高核燃料锆合金包壳表面的高温抗氧化性能，提供一种在锆合金表面制备ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层的工艺。
本发明采用梯度复合涂层在改善抗高温氧化性能方面具有以下优势：第一点，本发明工艺操作简单，在工艺初始阶段，由Zr涂层过渡到ZrNx，再过渡到(ZrAlFe)N涂层。一方面，过渡复合涂层能有效地起到热过渡作用，可以缓解涂层与基底之间因热膨胀系数失配导致结合力减小，另一方面，过渡层的成分梯度变化可以改善复合涂层的力学性能。第二点，采用多靶共溅射技术制备复合梯度涂层能在室温条件下实现，有利于保持锆合金基体组织的稳定性。第三点，ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层在高温条件时，复合涂层中固溶的氮元素能有效抑制氧化物生成，而且复合涂层中的固溶体相结构能保持稳定存在。通过增加复合梯度涂层中的Al含量，在高温氧化实验过程涂层表面生成的致密Al2O3相能有效地阻止氧元素扩散进入涂层内部，从而提高了涂层耐高温氧化性能。
采用多靶共溅射技术，沉积的(ZrAlFe)N过渡层中，Zr元素原子百分比含量沿厚度方向从100at.% ~ 30at.% 梯度变化，Al和Fe元素原子百分比含量沿厚度方向从0 at.% ~35 at.% 梯度变化；沉积的(ZrAlFeM)N多元氮化物涂层中Zr、Al、Fe、M元素原子百分比介于10 at.% ~ 35 at.% ，N元素原子百分比含量介于5 at.% ~ 20 at.% 。通过优化沉积复合涂层的工艺参数以及选择M元素(M=Ti，V，Nb任意两种金属)，使得制备出的复合涂层相结构简单，结晶性良好且表面致密均匀。对复合涂层性能测试发现具有结合力较高，高强度、抗高温氧化以及耐辐照等优异性能，为当今改善锆合金包壳表面抗高温氧化性能提供了一种新的技术途径。
本发明提供的技术方案是：提供一种在锆合金表面制备ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlM)N复合梯度涂层的制备方法，其特征在于包含以下步骤：
a、清洗基体材料：
依次采用不同粗糙度的水砂纸对锆合金（Zr4合金）基体进行研磨抛光；随后采用丙酮和乙醇做溶剂在超声波仪中进行脱脂除油清洗；随后再用去离子水清洗，干燥后放入真空室内，抽真空度＜5.0×10-4 Pa；
b、沉积前对基体的处理：
保持真空室真空＜5.0×10-4 Pa条件下，采用偏压反溅射清洗15 min，目的是对锆合金基体进行反溅清洗；反溅射偏压电压为-450 V；反溅射气体为Ar；真空室内反溅射气压为3.5 Pa；
c、预溅射：
保持真空室真空＜5.0×10-4 Pa条件下，采用预溅射对各靶材清洗15 min，目的是去除靶材表面的杂质；预溅射功率为120 W；预溅射偏压为-120 V；预溅射气体为Ar；真空室内预溅射气压为0.30 Pa；
d、溅射沉积ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层：
采用超高真空多靶共溅射技术，向真空室内通入Ar气，在基底上沉积Zr涂层，Ar流量为50 sccm，偏压工作电压为-80 V，沉积3 min后接着向真空腔以通入N2流量沉积ZrNx涂层，通入N2流量过程以流速为2 sccm/min从0 sccm增加至6 sccm，然后同时开启Al靶、Fe靶开始共溅射沉积(ZrAlFe)N涂，溅射工作气压为0.30 Pa ~ 0.50 Pa层。在沉积过渡层过程中始终保持Zr的溅射功率为110 W，Al靶溅射功率从0 W以10 W/min速率逐渐增加到100 W，Fe靶溅射功率从0 W以10 W/min速率逐渐增加到100 W，沉积时间10 min；不间断真空的条件下，保持N2流量为6 ~ 12 sccm，接着沉积(ZrAlFeM)N多元氮化物涂层，同时再开启另外两个M靶，即Ti，V，Nb任意选用两种金属靶材，其中一个靶位为直流靶，溅射电流和电压分别为0.5 A和160 V ~ 180 V，另一个靶位为磁控靶且溅射功率为110 W ~ 120 W，沉积时间20min。
以上所述Zr、Al、Fe、Ti、V各靶材的纯度均为99.999%，氮气的纯度为99.99%。
沉积过程中，样品台旋转速度为20~30 rpm；涂层溅射沉积过程的靶基距为4.5 ~5.5 cm。
本发明与现有技术相比具有以下有益效果：
1、本发明采用多靶共溅射技术，在制备ZrNx/(ZrAlFe)N过渡涂层过程中，在初始阶段沉积Zr涂层后向真空腔以2 sccm/min流速通入N2流量从0 sccm增加至6 sccm，使其形成ZrNx涂层，紧接着开启Al和Fe靶，使涂层过渡到(ZrAlFe)N涂层。通过设计涂层呈梯度变化微结构，能有效地减小基底与涂层间的因热失配导致的内应力，同时调控元素成分成梯度变化的复合涂层来提高其与锆基体的界面结合力；
2、本发明制备的ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层为纳米复合结构，因此涂层具有很高的强度和硬度；同时涂层中的元素成分为梯度变化结构，这种梯度成分变化有助于改善复合涂层的自修复能力，使得涂层具有更为优越的韧性、抗热震性能；
3、本发明中已制备出的ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层中(ZrNbTa)N过渡层中，Zr元素原子百分比含量沿厚度方向从100 at.% ~ 30 at.% 梯度变化，Al和Fe元素原子百分比含量沿厚度方向从0 at.% ~ 35 at.% 梯度变化；
沉积的(ZrAlFeM)N多元氮化物涂层中Zr、Al、Fe、M元素原子百分比介于10 at.% ~35 at.% ，N元素原子百分比含量介于5 % ~ 20 at.% ，从而获得了稳定的物相结构。本发明将制备的ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层应用于材料高温抗氧化领域，能显著提高核燃料锆合金包壳表面的高温抗氧化性能；
4、本发明采用的是超高真空多靶共溅射技术，在室温条件下就能实现ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层的制备，具有沉积效率高，成本低，工艺稳定性强的特点。
附图说明
图1为溅射沉积ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeTiV)N复合梯度涂层沉积态GIXRD图谱。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本发明进行详细的说明，但不意味着对本发明保护内容的任何限定。
本发明提供一种采用超高真空多靶共溅射技术，采用超高真空多靶共溅射技术，向真空室内通入Ar气，在基底上沉积Zr涂层，Ar流量为50 sccm，偏压工作电压为-80 V，沉积3 min后接着向真空腔以通入N2流量沉积ZrNx涂层，通入N2流量过程以流速为2 sccm/min从0 sccm增加至6 sccm，然后同时开启Al靶、Fe靶开始共溅射沉积(ZrAlFe)N涂，溅射工作气压为0.30 Pa ~ 0.50 Pa层。在沉积过渡层过程中始终保持Zr的溅射功率为110 W，Al靶溅射功率从0 W以10 W/min速率逐渐增加到100 W，Fe靶溅射功率从0 W以10 W/min速率逐渐增加到100 W，沉积时间10 min；不间断真空的条件下，保持N2流量为6 ~ 12 sccm，
接着沉积(ZrAlFeM)N多元氮化物涂层，同时再开启另外两个M靶，即Ti，V，Nb任意选用两种金属靶材，其中一个靶位为直流靶，溅射电流和电压分别为0.5 A和160 V ~ 180V，另一个靶位为磁控靶且溅射功率为110 W ~ 120 W，沉积时间20 min。
实施例1
a、清洗基体材料：
依次采用不同粗糙度的水砂纸对锆合金（Zr4合金）基体进行研磨抛光；随后采用丙酮和乙醇做溶剂在超声波仪中进行脱脂除油清洗；随后再用去离子水清洗，干燥后放入真空室内，抽真空度＜5.0×10-4 Pa；
b、沉积前对基体的处理：
保持真空室真空＜5.0×10-4 Pa条件下，采用偏压反溅射清洗15 min，目的是对锆合金基体进行反溅清洗；反溅射偏压电压为-450 V；反溅射气体为Ar；真空室内反溅射气压为3.5 Pa；
c、预溅射：
保持真空室真空＜5.0×10-4 Pa条件下，采用预溅射对各靶材清洗15 min，目的是去除靶材表面的杂质；预溅射功率为120 W；预溅射偏压为-120 V；预溅射气体为Ar；真空室内预溅射气压为0.30 Pa；
d、溅射沉积ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeTiV)N复合梯度涂层：
采用超高真空多靶共溅射技术，向真空室内通入Ar气，在基底上沉积Zr涂层，Ar流量为50 sccm，偏压工作电压为-80 V，沉积3 min后接着向真空腔以通入N2流量沉积ZrNx涂层，通入N2过程以流速为2 sccm/min从0 sccm增加至6 sccm，然后同时开启Al靶、Fe靶开始共溅射沉积(ZrAlFe)N涂，溅射工作气压为0.30 Pa ~ 0.50 Pa层。在沉积过渡层过程中始终保持Zr的溅射功率为110 W，Al靶溅射功率从0 W以10 W/min速率逐渐增加到100 W，Fe靶溅射功率从0 W以10 W/min速率逐渐增加到100 W，沉积时间10 min；不间断真空的条件下，保持N2流量为6 ~ 12 sccm，接着沉积(ZrAlFeTiV)N多元氮化物涂层，同时再开启Ti和V靶，其中Ti靶位为直流靶，溅射电流和电压分别为0.5 A和160 V ~ 180 V，V靶为磁控靶且溅射功率为110 W ~ 120 W，沉积时间20 min。
对上述实施例1所述的ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeTiV)N复合梯度涂层样品采用小角度掠入射X射线衍射谱（GIXRD）对其结构进行测试。同时检测到沉积的沉积的(ZrAlFeTiV)N多元氮化物涂层中Zr、Al、Fe、Ti、V元素原子百分比介于10 at.% ~ 35 at.%，图1示出所制备的复合涂层的GIXRD衍射谱，从中可见所制备出的沉积态复合梯度涂层主要为面心立方（FCC）固溶体结构，少量氮化物(ZrN、TiN)。
实施例2
a、清洗基体材料：
依次采用不同粗糙度的水砂纸对锆合金（Zr4合金）基体进行研磨抛光；随后采用丙酮和乙醇做溶剂在超声波仪中进行脱脂除油清洗；随后再用去离子水清洗，干燥后放入真空室内，抽真空度＜5.0×10-4 Pa；
b、沉积前对基体的处理：
保持真空室真空＜5.0×10-4 Pa条件下，采用偏压反溅射清洗15 min，目的是对锆合金基体进行反溅清洗；反溅射偏压电压为-450 V；反溅射气体为Ar；真空室内反溅射气压为3.5 Pa；
c、预溅射：
保持真空室真空＜5.0×10-4 Pa条件下，采用预溅射对各靶材清洗15 min，目的是去除靶材表面的杂质；预溅射功率为120 W；预溅射偏压为-120 V；预溅射气体为Ar；真空室内预溅射气压为0.30 Pa；
d、溅射沉积ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeTiNb)N复合梯度涂层：
采用超高真空多靶共溅射技术，向真空室内通入Ar气，在基底上沉积Zr涂层，Ar流量为50 sccm，偏压工作电压为-80 V，沉积3 min后接着向真空腔以通入N2流量沉积ZrNx涂层，通入N2过程以流速为2 sccm/min从0 sccm增加至6 sccm，然后开启Al靶、Fe靶开始共溅射沉积(ZrAlFe)N涂，溅射工作气压为0.30 Pa ~ 0.50 Pa层。在沉积过渡层过程中始终保持Zr的溅射功率为110 W，Al靶溅射功率从0 W以10 W/min速率逐渐增加到100 W，Fe靶溅射功率从0 W以10 W/min速率逐渐增加到100 W，沉积时间10 min；不间断真空的条件下，保持N2流量为6 ~ 12 sccm，接着沉积(ZrAlFeTiNb)N多元氮化物涂层，同时再开启Ti和Nb靶，其中Ti靶位为直流靶，溅射电流和电压分别为0.5 A和160 V ~ 180 V，Nb靶为磁控靶且溅射功率为110 W ~ 120 W，沉积时间20 min。
此工艺条件下沉积的沉积的沉积的(ZrAlFeTiNb)N多元氮化物涂层中Zr、Al、Fe、Ti、Nb元素原子百分比介于10 at.% ~ 35 at.% ，通过改变靶材类型来实现制备出的ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeTiNb)N复合梯度涂层的结构和性能调控，以满足产品用途的使用需求。
实施例3
a、清洗基体材料：
依次采用不同粗糙度的水砂纸对锆合金（Zr4合金）基体进行研磨抛光；随后采用丙酮和乙醇做溶剂在超声波仪中进行脱脂除油清洗；随后再用去离子水清洗，干燥后放入真空室内，抽真空度＜5.0×10-4 Pa；
b、沉积前对基体的处理：
保持真空室真空＜5.0×10-4 Pa条件下，采用偏压反溅射清洗15 min，目的是对锆合金基体进行反溅清洗；反溅射偏压电压为-450 V；反溅射气体为Ar；真空室内反溅射气压为3.5 Pa；
c、预溅射：
保持真空室真空＜5.0×10-4 Pa条件下，采用预溅射对各靶材清洗15 min，目的是去除靶材表面的杂质；预溅射功率为120 W；预溅射偏压为-120 V；预溅射气体为Ar；真空室内预溅射气压为0.30 Pa；
d、溅射沉积ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeNbV)N复合梯度涂层：
采用超高真空多靶共溅射技术，向真空室内通入Ar气，在基底上沉积Zr涂层，Ar流量为50 sccm，偏压工作电压为-80 V，沉积3 min后接着向真空腔以通入N2流量沉积ZrNx涂层，通入N2过程以流速为2 sccm/min从0 sccm增加至6 sccm，然后开启Al靶、Fe靶开始共溅射沉积(ZrAlFe)N涂，溅射工作气压为0.30 Pa ~ 0.50 Pa层。在沉积过渡层过程中始终保持Zr的溅射功率为110 W，Al靶溅射功率从0 W以10 W/min速率逐渐增加到100 W，Fe靶溅射功率从0 W以10 W/min速率逐渐增加到100 W，沉积时间10 min；不间断真空的条件下，保持N2流量为6 ~ 12 sccm，接着沉积(ZrAlFeNbV)N多元氮化物涂层，同时再开启Nb和V靶，其中Nb靶位为直流靶，溅射电流和电压分别为0.5 A和160 V ~ 180 V，V靶为磁控靶且溅射功率为110 W ~ 120 W，沉积时间20 min。
此工艺条件下沉积的沉积的沉积的(ZrAlFeNbV)N多元氮化物涂层中Zr、Al、Fe、Nb、V元素原子百分比介于10 at.% ~ 35 at.% ，通过改变靶材类型来实现所制备出的ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeNbV)N复合梯度涂层的结构和性能调控，以满足产品用途的使用需求。
Claims (4)
1.一种锆合金包壳表面抗高温氧化ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层制备工艺，其特征在于包含以下步骤：
a、清洗基体材料：
依次采用不同粗糙度的水砂纸对锆合金基体进行研磨抛光；随后采用丙酮和乙醇做溶剂在超声波仪中进行脱脂除油清洗；随后再用去离子水清洗，干燥后放入真空室内，抽真空度＜5.0×10-4Pa；
b、沉积前对基体的处理：
保持真空室真空＜5.0×10-4Pa条件下，采用偏压反溅射清洗15min，目的是对锆合金基体进行反溅清洗；反溅射偏压电压为-450V；反溅射气体为Ar；真空室内反溅射气压为3.5Pa；
c、预溅射：
保持真空室真空＜5.0×10-4Pa条件下，采用预溅射对各靶材清洗15min，目的是去除靶材表面的杂质；预溅射功率为120W；预溅射偏压为-120V；预溅射气体为Ar；真空室内预溅射气压为0.30Pa；
d、溅射沉积ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层：
采用超高真空多靶共溅射技术，向真空室内通入Ar气，在基底上沉积Zr涂层，Ar流量为50sccm，偏压工作电压为-80V，沉积3min后接着向真空腔以通入N2流量沉积ZrNx涂层，通入N2流量过程以流速为2sccm/min从0sccm增加至6sccm，然后同时开启Al靶、Fe靶开始共溅射沉积(ZrAlFe)N涂层，溅射工作气压为0.30Pa～0.50Pa层；在沉积过渡层过程中始终保持Zr的溅射功率为110W，Al靶溅射功率从0W以10W/min速率逐渐增加到100W，Fe靶溅射功率从0W以10W/min速率逐渐增加到100W，沉积时间10min；不间断真空的条件下，保持N2流量为6～12sccm，接着沉积(ZrAlFeM)N多元氮化物涂层，同时再开启另外两个M靶，即Ti，V，Nb任意选用两种金属靶材，其中一个靶位为直流靶，溅射电流和电压分别为0.5A和160V～180V，另一个靶位为磁控靶且溅射功率为110W～120W，沉积时间20min。
2.根据权利要求1所述一种锆合金包壳表面抗高温氧化ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层制备工艺，其特征在于：所述M为Ti、V、Nb金属中任意两种金属，且以上所述Zr、Al、Fe、Ti、V、Nb各靶材的纯度均为99.999％，氮气的纯度为99.99％。
3.根据权利要求1所述一种锆合金包壳表面抗高温氧化ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层制备工艺，其特征在于：沉积过程中，保持样品台旋转速度为20～30rpm；涂层溅射沉积过程的靶基距为4.5～5.5cm；其中一个靶位为直流溅射靶，位于样品台正下方，而其余四个靶位为磁控溅射靶，四个磁控靶位与真空室中心轴线方向呈40°夹角。
4.根据权利要求1所述一种锆合金包壳表面抗高温氧化ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层制备工艺，其特征在于：沉积的(ZrAlFe)N过渡层中，Zr元素原子百分比含量沿厚度方向从100at％～30at％梯度变化，Al和Fe元素原子百分比含量沿厚度方向从0at％～35at％梯度变化；沉积的(ZrAlFeM)N多元氮化物涂层中Zr、Al、Fe、M元素原子百分比介于10at.% ～35at.% ，N元素原子百分比含量介于5at.% ～20at.% 。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201811268005.7A CN109207953B (zh) | 2018-10-29 | 2018-10-29 | 抗高温氧化ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层制备工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201811268005.7A CN109207953B (zh) | 2018-10-29 | 2018-10-29 | 抗高温氧化ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层制备工艺 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109207953A CN109207953A (zh) | 2019-01-15 |
| CN109207953B true CN109207953B (zh) | 2020-07-03 |
Family
ID=64997587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201811268005.7A Active CN109207953B (zh) | 2018-10-29 | 2018-10-29 | 抗高温氧化ZrNx/(ZrAlFe)N/(ZrAlFeM)N复合梯度涂层制备工艺 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN109207953B (zh) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115341186A (zh) * | 2021-05-13 | 2022-11-15 | 四川大学 | 一种耐高温辐照氧化钇掺杂TaTiNbZr多主元合金涂层制备工艺 |
| CN113987760B (zh) * | 2021-10-09 | 2023-03-28 | 武汉理工大学 | 原子自组装多元涂层的设计制备方法 |
| CN114540753B (zh) * | 2022-03-22 | 2024-01-26 | 西安工业大学 | 提高高熵氮化物膜膜基结合强度的梯度过渡层及制备方法 |
| CN115029677B (zh) * | 2022-06-27 | 2023-10-31 | 商丘市鸿大光电有限公司 | 高透氢同位素和耐高温TaVNbZr/(TaVNbZrM)Nx复合梯度阻挡层制备工艺 |
| CN115074685B (zh) * | 2022-06-27 | 2023-10-27 | 商丘市鸿大光电有限公司 | 钽/钯催化氢纯化用耐高温TaVNb/TaVNbHfZr复合梯度阻挡层制备工艺 |
| CN116372206B (zh) * | 2023-03-09 | 2024-03-19 | 株洲肯特硬质合金股份有限公司 | 一种刀具用纳米涂层及涂层刀具 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5244495B2 (ja) * | 2008-08-06 | 2013-07-24 | 三菱重工業株式会社 | 回転機械用の部品 |
| CN102787300A (zh) * | 2011-05-18 | 2012-11-21 | 中国核动力研究设计院 | 一种超临界水冷堆燃料包壳表面的Cr/CrAlN梯度涂层工艺 |
| CN102277554B (zh) * | 2011-07-29 | 2013-06-26 | 山推工程机械股份有限公司 | 梯度叠层涂层刀具及其制备方法 |
| CN102400099B (zh) * | 2011-11-04 | 2013-06-12 | 四川大学 | 核裂变堆燃料包壳表面CrAlSiN梯度涂层制备工艺 |
| CN102437145A (zh) * | 2011-12-06 | 2012-05-02 | 西安交通大学 | 一种自形成梯度Zr/ZrN双层扩散阻挡层及其制备方法 |
| CN102808161B (zh) * | 2012-05-29 | 2014-03-26 | 四川大学 | 口腔烤瓷用钛瓷TiN/ZrTiSiN复合过渡阻挡层制备工艺 |
| CN103132019B (zh) * | 2013-03-20 | 2015-03-11 | 洛阳理工学院 | 一种A1ZrCrN复合双梯度涂层刀具及其制备方法 |
| CN107201499B (zh) * | 2017-05-26 | 2019-09-17 | 东北大学 | 一种钛合金切削用成分梯度TiAlXN涂层刀具及其制备方法 |
-
2018
- 2018-10-29 CN CN201811268005.7A patent/CN109207953B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109207953A (zh) | 2019-01-15 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
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